目的物位置和斜度控制裝置的製作方法
2023-05-14 22:50:21
專利名稱：目的物位置和斜度控制裝置的製作方法
技術領域：
本發明一般涉及一種目的物位置和斜度控制裝置，更具體地涉及一種將例如晶片或基片等目的物的位置和斜度保持在一投影透鏡焦距範圍內的控制裝置，該基片通過用於製造半導體和液晶顯示器件(LCDs)的曝光設備進行檢測。
通常，在半導體器件製造過程中使用的曝光設備包括投影透鏡和基片承載件。將一個已經形成圖形的掩模置於投影透鏡的上部，然後使掩模的上部曝光。光線透過掩模、穿過投影透鏡到達在基片承載件上的半導體基片。必須將基片嚴格置於投影透鏡的聚焦平面內，並處於水平狀態。假如目的物稍微離開焦點或稍微傾斜，由於刻在掩模上的圖形是非常微小的，因為不能恰當地使基片曝光，所以生產的半導體器件質量低劣。由於已經在基片上形成圖形使基片形變或錯列，或由於投影透鏡的變形，都可能引起偏差。
因此，對這種類型的曝光設備，重要的是通過精確調節基片的位置和斜度，將基片水平放置並嚴格處於聚焦平面內。
迄今為止所知道的利用光學方法控制目的物的位置和角度(斜度)的操作控制裝置的基本原理實際上是相同的。作為基片的任一物體反射的光通過一個固定的光路。假如該物體從基準位置改變它的位置，在物體移動位置之後反射的光線通過與物體移動位置之前不同的光路。通過檢測反射光光路的變化，可以檢測物體的移動位置。
通常採用幾種類型的光接收器檢測上述反射光的光路變化。例如，在光接收器的前方形成一個針孔，根據光路變化引起部分或全部光線被截斷來檢測反射光的光路變化，或者利用位置靈敏檢測器(PSD)直接檢測反射光的光路變化。
圖1是用於檢測一個基片的位置以便將一半導體基片置於投影透鏡的聚焦位置的常規系統的示意圖。
該系統結構左右配置，以投影透鏡100為中心，該透鏡是曝光設備的一部分，一個基片承載件200在其下方。其中，作為曝光對象的基片300放在基片承載件200上。在投影透鏡100的一側設置有一個發光光源400，一個使來自光源400的光平行的第一透鏡410，一個反射經第一透鏡410射出的平行光的第一平面鏡420，以及將由第一平面鏡420反射的光聚在基片300上的一個第二透鏡430。
在投影透鏡100的另一側設置有對由基片300反射的光進行聚光的一個第三透鏡440，反射由第三透鏡440會聚的光的一個第二平面鏡450，以及一個位置靈敏檢測器460，該檢測器利用由第二反射鏡450反射的光檢測基片的位置。
該檢測基片位置的系統工作如下假如使用者合上電源，由光源400發光。光源400發出的光經過第一透鏡410時轉變成平行光。該光由第一平面鏡420反射，通過第二透鏡430，並會聚在基片300的表面上。
被會聚的光被基片300的表面所反射，通過第三透鏡440會聚後由第二平面鏡450反射，最終達到位置靈敏檢測器460上。
假如基片300沿著光軸移動，到達位置靈敏檢測器460的光點也改變。由投射在基片300上的光的入射角可以計算基片300的位置變化△Z和出現在位置靈敏檢測器460上的光點的位置變化△X之間的相互關係。因此，在通過擊中位置靈敏檢測器460的光點的位置變化來確定基片300的位置變化之後，使用者可以通過驅動基片承載件200選擇基片300的位置。
圖2是表示在製造半導體基片的曝光設備中使用的檢測基片位置的另一種常規系統的示意圖。
在曝光設備投影透鏡100的一側包括一個發光光源500。第一透鏡510使由光源500發出的光平行。光分束器600導引通過第一透鏡510的光，並由第一平面鏡520反射該光。第四透鏡570對由光分束器600反射的光進行會聚。板580有一針孔，由第四透鏡570會聚的光通過該針孔。光接收器560檢測通過板580的針孔的光。第一平面鏡520反射通過光分束器600的光，第二透鏡570對由上述第一平面鏡520反射的先進行會聚。
投影透鏡100的另一側有一第三透鏡540，它對由基片反射的光進行會聚。第二平面鏡550反射由第三透鏡540會聚的光，並且第三平面鏡590再次朝著第二平面鏡反射由第二反射鏡550反射的光。
這種類型的基片位置檢測系統的工作如下假如使用者合上電源，光源500發光。由光源發出的光通過第一透鏡510時形成平行光。該光在經過光分束器600後被第一平面鏡520反射，並且經過第二透鏡530後會聚在置於基片承載件200上的基片300的表面上。該被會聚的光由基片300的表面反射，通過第三透鏡540被會聚，然後由第二平面鏡550反射並達到第三平面鏡590。到達第三平面鏡590的光被反射，行進到第二平面鏡550，在該處再次被反射，最後由第三透鏡540會聚在基片300的表面上。會聚在基片300表面上由基片300反射的反射光行進到第二透鏡530。第二透鏡530在將該光形成平行光之後將該反射光傳輸到第一平面鏡520。該光由第一平面鏡520反射後行進到光分束器600，在由光分束器600反射後行進到第四透鏡570。第四透鏡570將該光會聚，然後將其傳輸到具有針孔的板580。通過該針孔的光到達光接收器560。
這時，假如基片300沿投影透鏡100的光軸移動，即沿圖1的△Z的方向移動，到達光接收器560的光點的位置也相應變化，如同圖1所示，從投射在基片300上的光的入射角可以計算出在基片300的位置變化和出現在光接收器560上的光點的位置變化之間的相互關係。因此，在通過顯示於位置靈敏檢測器560上的光點的位置變化確定基片300的位置變化之後，使用者可以通過調節基片承載件200將基片300移動到預期的位置。
然而，由上述可看出，這些系統具有幾個缺點，它們僅能夠檢測基片相對於投影透鏡的光軸的位置，並且為了檢測基片的斜度不得不使用另一個裝置，因此需要大量經費和時間。
因此，本發明的一個目的是通過使用一個裝置來檢測目的物的位置和斜度，這樣將目的物移動到正確的位置上，這些是常規裝置沒有實現的。
為了實現上述目的，根據本發明，作為一個具體體現和概括描述的控制系統包含發光光源，它為一固定形式的光源，發射的光傳輸到目的物並為其所反射；第一掩模，由光源發出的光經其通過，並且其上記錄有不對稱的圖形；第一和第二光接收器，檢測由目的物反射的光；以及控制裝置，根據從光接收器接收的信號調整目的物的位置和斜度。
根據本發明的另一個方面，一個控制系統包含一光源，其發射的光傳輸到目的物並由目的物所反射；一掩模，由光源發出的光在由目的物反射之前經其通過，並且其上記錄有不對稱的圖形；一平面鏡，將已由目的物反射的光反射回該目的物上；第一和第二光接收器，對來自一光分配器即光分束器的光進行檢測，該光分束器位於由平面鏡然後由目的物反射後的光的光路中。
可以理解，上面一般的介紹和下面的詳細描述都是示例性和解釋性的，目的在於按照權利要求對本發明提供更進一步的解釋。
包含的附圖供用於進一步理解本發明，其歸入本說明書並作說明書為的一部分介紹本發明的各實施例，它與說明書一起用於解釋本發明的原理。
圖1是表示在半導體器件製造過程中使用的曝光設備中檢測基片位置的常規系統的示意圖；圖2是表示在半導體器件製造過程中使用的曝光設備中檢測基片位置的另一種常規系統的示意圖；圖3和4是表示根據本發明第一優選實施例的目的物位置和斜度控制裝置的示意圖；圖5是表示根據本發明第二優選實施例的在曝光設備中的目的物位置和斜度控制裝置的示意圖；圖6是表示在本發明一個優選實施例中使用的第一掩模圖形的示意圖7是根據本發明優選實施例的目的物位置和斜度控制裝置中的分布信號的強度分布所形成的曲線的示意圖；以及圖8是表示用於根據本發明一個優選實施例的曝光裝置中的目的物位置和斜度控制裝置的第一和第二電荷耦合器件(CCDs)的像素結構的示意圖。
下面解釋本發明的一般原理。
由光源發出的光經過由透鏡、平面鏡等構成的光學部件投射到目的物上，由目的物反射後再投射到光接收器上。這時，利用投射在光接收器上的光路的變化表示目的物的位置變化。然而，為了探測光路的變化，將一個掩模置於光源和目的物之間，在這個掩模上刻成的圖形經過透鏡在目的物的表面上形成圖像，並再次被反射並投射到光接收器上。這時，由光分束器分成兩個光通道中的每一個分別投射到不同的光接收器上，刻制在掩模上的各圖形在光接收器的表面上形成圖像。目的物的位置變化表現為掩模上錄製的圖形的位置變化，光接收器通過感知這一位置變化來感知目的物位置和斜度的變化並調節目的物的位置。
如圖4所示，通過利用在上述裝置中的兩個光接收器(11、12)，能夠同時感知目的物的斜度和沿投影透鏡100的光軸方向的位置變化。
當目的物所處位置在位置或斜度沒有任何變化時，用粗實線表示由目的物和平面鏡5反射的光的方向。當目的物僅沿投影透鏡100的光軸方向改變它的位置而在斜度方面沒有任何變化時，用細實線表示由目的物和平面鏡5反射的光的方向。當目的物的位置僅僅傾斜，即斜度改變而在沿投影透鏡100的光軸方向沒有任何位置變化時，用虛線表示由目的物和平面鏡5反射的光的方向。
假如目的物僅僅改變位置，那麼由目的物反射的光與用粗實線表示的光平行地行進，並且最後投射在兩個光接收器(11、12)上的光(細實線表示)的位置變化具有相同的數值A。然而，假如目的物的斜度改變而目的物的位置不變，由目的物反射的光不再以平行的方式行進，而是傾斜的(代表目的物的斜度)。因此，假如二透鏡(33、34)的焦距彼此不同，那麼投射在兩個光接收體(11、12)上的光的每個位置變化也分別具有兩個不同的數值B1、B2。因此，通過感知在兩個光接收器上投射的光的每個位置變化與基準光(粗實線)之間具有相同的長度或不同的長度，就可以使目的物的傾斜和位置變化被彼此區分地感知。
在由目的物反射的光再次行進到目的物、並且再次在目的物上反射之後，這種裝置也可以利用以上兩個光接收器檢測目的物的傾斜和位置變化。此外，這種裝置還可以包括一個將由目的物反射的光傳輸到光分配器上的裝置。
發光裝置包括一發光光源和一第一掩模，該掩模上刻有使光通過的固定圖形。對於第一掩模上刻的圖形，不對稱的圖形適於確定目的物的位置和斜度。該發光裝置還可以包括一平行傳輸裝置，以使由光源發出的光平行並傳輸到上述第一掩模。該發光裝置還可以包含一第一會聚裝置，以使通過該掩模的光會聚。
該第一會聚裝置可以包括將通過第一掩模的光會聚的一會聚透鏡以及一將由透鏡會聚的光反射到目的物上的平面鏡。此外，這種裝置還可以包括將由光分束器分出的光會聚到第一光接收器上的第二會聚裝置，以及將由光分束器分出的光會聚在第二光接收器上的第三會聚裝置。
第一和第二光接收器可以是電荷耦合器件(CCDs)，或者為由具有與上述掩模相同結構的一個掩模和一光電二極體的組合物，由第一光分束器分出的光通過光電二極體。該掩模和光電二極體的組合物進一步包括一會聚裝置，它將通過構成上述第一和第二光接收器的每個掩模的光會聚到所述光接收器上；或者一個透鏡，它利用由第一光分配器分出的光在形成圖像之後，將圖像傳輸到構成第一和第二光接收器的每個掩模上。
這種裝置還可以包括第三光接收器，用以校正來自發光裝置的光強。在這種情況下，這種裝置還可以包括第二光分束器，以便在將發光裝置產生的光進行光路分離之後，將其中一個光路導引到第一掩模並將其中另一個光路導引到第三光接收器上。
這種裝置可以另外包括一個控制部分，以便通過讀取在第一和第二光接收器中顯示的信號檢測目的物的位置和斜度；一個驅動部分，以便在由控制部分提供的指令作用下移動目的物，以在檢測目的物的位置和斜度之後將目的物定位。
下面參照在附圖中表示的一個實例，詳細介紹本發明的一個優選實施例。對於相同或相似的部分，儘可能使用相同的字符表示。
圖3和4是表示根據本發明第一實施例的用於控制目的物位置的控制系統的示意圖。在中心處設置有一個作為曝光設備一部分的投影透鏡100。在投影透鏡100的下方設置一個承載件200，以便其上放置目的物300。目的物可以是一個半導體晶片或基片，在其上可以形成一個顯微電路的投影圖像。承載件200連接到一個利用控制部分350調整的驅動裝置250上。
在投影透鏡100的一側，放有一發光裝置，其發射固定形式的光並將其傳輸到目的物上。該發光裝置由如下幾個組成部分構成。
首先，為了發送固定形式的光，需要一個刻有圖形2的第一掩模，光源1發出的光經其通過。光源例如可以是發光二極體、汞弧燈、滷素燈或雷射。上述的第一掩模2由於刻有如圖6所示的不對稱的圖形，可以辨別在光接收器上檢測的圖像的位置變化。在圖6中，用斜線標誌的部分是不能透光的不透明部分。掩模的其餘部分是可透光部分。
第一透鏡31將來自光源1的光轉變為平行光。在第一掩模2的下方， 第二透鏡32利用通過第一掩模2的光形成一個圖像。第一平面鏡4將經過第二透鏡32的光導向目的物。
此外，可以安裝輔助裝置，以便校正從上述光源發出的光強度的波動。例如，第二光分束器22將由光源1發出的光分成兩個光路，第三光接收器13檢測由光分束器22分出的光。一種半透明鏡或類似物可以用於光分束器22。
在投影透鏡100的另一側設置有用於檢測光的裝置，該光是由目的物300反射後被分為兩路的光。它由光分束器21、第一光接收器11以及第二光接收器21所組成。光分束器21將由目的物300反射的光分成兩個光路；第一光接收器11輸出一個與由上述第一分束器21分出的光相對應的信號；第二光接收器12輸出一個與由第一分束器21分出的另一個光路相對應的信號，這個光路沒有輸入到第一光接收器11。此外，在第一和第二光接收器(11、12)的前方分別設置有兩個透鏡(33、34)，以便對在目的物對圖形進行反射之後經上述光分束器21分束的光聚光。此外，還設置有一個將由目的物300反射的光導引到第一光分束器21上的平面鏡5。
對於第一和第二光接收器(11、12)可採用一電荷耦合器件(CCD)，或一個掩模和一光電二極體的組合物，該掩模上形成有與第一掩模2相同的圖形。該掩模-光電二極體組合物可以另外包括利用來自上述光分配器的光形成圖像的一個透鏡，以及將通過該掩模的光會聚的一個透鏡。
最後，通過讀取由第三光接收器13檢測的信號，控制部分350校正由第一和第二光接收器(11、12)檢測的信號的強度變化，該強度變化是由於光強波動而產生的。通過讀取由第一和第二光接收器(11、12)檢測的信號，控制部分確定目的物300的位置和斜度，並且利用包括電動機等的驅動裝置250移動其上放有目的物300的基片承載體200，來調整目的物300的位置和斜度。
假如使用者合上電源，光源1發光。在經過第二光分束器22分光之後，光源發出的光的一部分投射到第三光接收器13。第三光接收器13輸出的信號與感知的由光源1發出的光強的波動相對應。控制部分調整增益，以便使在第一和第二光接收器上出現的信號強度具有一恰當的數值。
光源1發的光的另一部分穿過第二光分束器22經第一透鏡31轉變為平行光。經過第一掩模2的光形成在掩模2上刻制的圖形確定的圖像，然後行進到第一平面鏡4並被反射，由目的物300反射的圖像在平面鏡5上反射，然後到達第一光分束器21。由第一光分束器21分出的光的某一部分經過透鏡33在第一光接收器11上形成圖像。未行進到第一光接收器11的另外光路上的光經過透鏡34在第二光接收器12上形成圖像。
置入上述第一和第二光接收器(11、12)中的基準圖像與第一掩模2的圖形相同。在將基準圖像和在光接收器上形成的圖像相比較之後，兩個光接收器(11、12)輸出與該比較結果對應的信號。另一方面，由光接收器(11、12)接收的基準圖像可以存儲在控制部分350中。在工作過程中，將由光接收器(11、12)接收的圖像輸出到控制部分350，用來與它們各自的基準圖像相比較。控制部分在分析這些信號之後，通過指令控制驅動裝置250來調整目的物的位置和斜度。
圖7是表示在由第一和第二光接收器(11、12)輸出之後再經運算處理的信號分布形式的曲線圖。它的X軸表示沿投影透鏡的光軸所測的距離，而它的Y軸表示光的強度。它們可以由分布的光的強度分布函數以及指定像素得到。假如目的物移出投影透鏡100的固定焦距之外或向光軸傾斜，由相關函數確定的分布信號的數值具有一個小於最大值的數值，而假如目的物嚴格地處在投影透鏡100的固定焦距上或者沒有傾斜，則具有最大值。
控制部分350通過利用驅動裝置250驅動其上放有目的物300的承載件200來改變承載件200的位置和斜度，並將該分布信號的數值調整到最大值。
圖5是表示根據本發明第二優選實施例的用於目的物位置和斜度控制裝置的示意圖。
如圖5所示，根據本發明第二優選實施例的目的物的位置和斜度控制裝置具有兩個光接收器(11、12)，它們與第一實施例不同，而是置於光源1的同一側。下面詳細說明這一實施例。
在投影透鏡100的一側，設置有一個發光裝置，其發出固定形式的光，並將光導引到目的物300。還設置有一個用於檢測每一路光的裝置，這種檢測是在將經目的物300兩次反射後光的光路分成兩個光路之後進行的。
發光裝置由如下幾個部分構成首先，為了發出具有固定形式的光，需要一個第一掩模2，光源1發的光經其通過，並且在其上刻有圖形。上述第一掩模2由於在其上刻有例如圖6所示的不對稱圖形，使得在光接收器上可以辨別所檢測圖像的位置變化。在圖6中，用斜線標誌的部分是不能透過光的不透明部分，其它的部分是可以透光的部分。
設置有一第一透鏡31，它用於將來自光源1的光轉變為平行光。在第一掩模2的下方設有一個第二透鏡32，它利用通過第一掩模2的光形成一個圖像。還設有一第一平面鏡4，它將通過第二透鏡32的光導向目的物。
此外，還使用了校正裝置、一第二分束器22和一第三光接收器13，該校正裝置校正由於光源發出的光的強度波動所引起的在第一和第一光接收器上產生的信號強度的波動，第二光分束器22將一個光路分成兩個，第三光接收器13檢測由光分束器22所分出的光。對於光分束器22可以採用半透明反射鏡等。
另外，設有一個檢測裝置，它檢測在將由目的物300所反射的光的光路分為兩個光路之後的每一個光路。光分束器21將由目的物300反射的光分成兩個或多個光束。第一光接收器11輸出一個與由第一光分配器21分出的光相對應的信號。第二光接收器12輸出一個與由上述第一光分配器21分出的另一光路，即未朝向第一光接收器11的光路相對應的信號。由光源1發出的光應當按照這種方式投射，因為第一光分束器可以裝在光經其行進的光路上。此外，還可以設置一個第三光分束器7，它將經過第一光分束器21的光導入第二光接收器12。由上述光源1發出的光應當這樣投射，因為可以將第三光分束器7裝在光經其行進的通道中。
分別在第一和第二光接收器(11、12)的前方設有透鏡(33、34)，它們利用由目的物300反射後經由光分束器21分束的光形成圖像。第二透鏡32在將由目的物300反射兩次的光進行聚光之後把光導向第一光分束器21。
對於第一和第二光接收器(11、12)可以採用電荷耦合器件(CCD)或者由一掩模和一光電二極體的組合物，在該掩模上刻有與第一掩模相同的圖形。該掩模-光電二極體組合物另外還可包括利用來自上述光分配器的光形成一個圖像的一透鏡以及對通過該掩模的光進行聚光的一透鏡。
在投影透鏡100的另一側設有一個反射裝置，它將由發光裝置發出後由目的物300反射的光再次反射到目的物。
上述反射裝置包括一透鏡35及一平面鏡，透鏡35將從目的物300來的光聚光，平面鏡將通過透鏡35的光再次反射到目的物300上。此外，該裝置還可以包括一平面鏡5，它反射由目的物300發出的光。
最後，控制部分350通過讀取來自第三光接收器13的信號來調整增益，以便使出現在第一和第二光接收器(11、12)上的信號強度具有適當的數值，通過讀取來自第一和第二光接收器(11、12)的信號，確定目的物300的位置和斜度，並且利用例如電動機等驅動裝置250，通過移動其上放有目的物300的基片承載件200來調整目的物300的位置和斜度。
假如使用者合上電源，光源1發光。在利用第二光分束器22分光之後，來自光源的一部分光投射到第三光接收器13上。第三光接收器13輸出的信號與感知的由光源1發出的光的強度波動相對應。控制部分調節增益，以便使在第一和第二光接收器上出現的信號強度具有適當的數值。
由光源1發出經過第二光分束器22分束的另一部分光由第一透鏡31轉變為平行的光。經過第一掩模2的光形成一個在所述掩模2上刻制的圖形的圖像，在由第二透鏡32聚光後再行進到第一平面鏡4，在由第一平面鏡4反射之後在放在承載件200上的目的物300的表面上形成一個圖像，同時被反射。由目的物300反射的圖像在平面鏡5處被反射，然後到達第一光分束器21。由第一光分束器21分出的一部分光經透鏡33在第一光接收器11上形成圖像。未行進到第一光接收器11的另一光路的光經過透鏡34在第二光接收器12上形成圖像。
置入在上述第一和第二光接收器(11、12)中的基準圖像與第一掩模2的圖形是相同的。在將基準圖像和在第一和第二光接收器上形成的圖像比較之後，兩個光接收器(11、12)輸出與該比較結果相對應的信號。另一方面，可以將由光接收器(11、12)接收的基準圖像存儲在控制部分350中。在工作過程中，由光接收器(11、12)接收的圖像輸出到控制部分350，以便與它們各自的基準圖像相比較。控制部分350在分析這些信號之後，通過指令控制驅動裝置250來調整目的物的位置和斜度。
控制部分350通過利用驅動裝置250驅動其上放有目的物300的承載件200來改變承載件200的位置和斜度，並將分布信號的數值調整到最大值。
在上述優選實施例中，圖像被反射兩次，以便提高在光接收器上檢測的信號的解析度。
如上所述，本發明採用兩個或多個光接收器，按照檢測的變化來調整目的物的位置和斜度，並且通過利用電荷耦合器件(CCD)或者一個光電二極體、一個透鏡和一掩模的組合物對感知的光路變化進行補償。
上述的裝置和方法包含了本發明的優選實施例。然而，對於本技術領域的技術人員來說很明顯，在不脫離本發明的構思和保護範圍的前提下可以對本發明的裝置和方法進行各種改進和變化。本發明覆蓋了在所附權利要求的保護範圍內的這些改進和變化，以及它們的等同物。
權利要求
1.一種用於控制目的物的位置和斜度的控制系統，包含一光源，其發光被傳輸到目的物並由目的物反射，一第一掩模，由光源發出的光經其通過，並且在其上刻有不對稱的圖形；第一和第二光接收器，它們檢測由目的物反射的光；以及控制裝置，根據由光接收器接收的信號調整目的物的位置和斜度。
2.如權利要求1所述的控制系統，還包含一光分束器，置於所述光源和所述第一掩模之間；一特定的光接收器，與所述光分束器耦合，用於測量由所述光分配器反射的光的強度的變化；以及一個調整裝置，根據所述特定光接收器的輸出，對取自所述光接收器的信號的增益進行調整。
3.如權利要求1所述的控制系統，還包含一透鏡，置於所述第一掩模和所述目的物之間，其中該透鏡利用所述掩模的圖形在所述目的物上形成一個圖像。
4.如權利要求1所述的控制系統，還包含一光分束器，位於所述目的物和所述光接收器之間，用於將發射的光分成第一光路和第二光路，其中第一光路經過一第一透鏡導向所述第一光接收器，第二光路經過第二透鏡導向所述第二光接收器。
5.如權利要求1所述的控制系統，其中所述光接收器包含一電荷耦合器件。
6.如權利要求1所述的控制系統，其中所發射的波長的光不對覆鍍在所述目的物表面上的敏感材料曝光。
7.如權利要求1所述的控制系統，其中利用雷射來作為光源。
8.如權利要求1所述的控制系統，其中利用發光二極體(LED)作為光源。
9.如權利要求1所述的控制系統，其中利用汞弧燈作為光源。
10.如權利要求1所述的控制系統，其中利用滷素燈作為光源。
11.如權利要求1所述的控制系統，其中所述光接收器還包含一第二掩模和一光電二極體，所述第二掩模具有與所述第一掩模相同的結構。
12.如權利要求1所述的控制系統，其中所述控制裝置包括一裝置，用於原始存儲當該目的物處於校正定位時在所述光接收器上形成的與所述第一掩模上不對稱圖形相對應的基準圖像；以及一裝置，用於將由所述第一和第二光接收器接收的掩模圖像與所述基準圖像相比較。
13.如權利要求4所述的控制系統，其中所述光接收器還包含一第二掩模和一光電二極體，該第二掩模具有與所述第一掩模相同的結構。
14.一種用於控制目的物的位置和斜度的控制系統，包含一光源，其發光被傳輸到目的物上並由目的物反射；一掩模，由光源發出的光在被目的物反射之前經其通過，且其上刻有不對稱的圖形；一平面鏡，將已由所述目的物反射的光反射回到所述目的物；第一和第二光接收器，檢測來自一光分配器的光，該光分束器位於在由所述平面鏡然後由所述目的物反射後的光的光路中。
15.如權利要求14所述的控制系統，其中一直角稜鏡用於將由所述目的物反射的光反射到所述目的物所在的位置。
16.如權利要求14所述的控制系統，還包含一第二光分束器，位於所述光源和所述掩模之間；一特定的光接收器，與所述第二光分束器耦合，用於測量由所述第二光配器反射的光強度的變化； 以及一調整裝置，根據來自所述特定光接收器的輸出調整取自所述光接收器的信號的增益。
17.如權利要求14所述的控制系統，還包含一透鏡，位於所述掩模和所述目的物之間，其中該透鏡利用所述掩模的圖形在所述目的物上形成一個圖像。
18.如權利要求14所述的控制系統，其中每一個所述光接收器包含一個電荷耦合器件。
19.如權利要求14所述的控制系統，其中所發射的波長的光不對覆鍍在所述目的物表面上的敏感材料曝光。
20.如權利要求14所述的控制系統，其中利用雷射作為光源。
21.如權利要求14所述的控制系統，其中利用發光二極體(LED)作為光源。
22.如權利要求14所述的控制系統，其中利用汞弧燈作為光源。
23.如權利要求14所述的控制系統，其中利用滷素燈作為光源。
24.如權利要求14所述的控制系統，還包含光分束器，位於所述目的物和所述光接收器之間，用於將發射的光分成第一光路和第二光路，其中所述第一光路經過一第一透鏡導向所述第一光接收器，所述第二光路經過所述第二透鏡導向所述第二光接收器。
25.如權利要求14所述的控制系統，其中所述光接收器還包含一第二掩模和一光電二極體，該第二掩模具有與所述第一掩模相同的結構。
26.如權利要求24所述的控制系統，其中所述光接收器還包含一第二掩模和一光電二極體，該第二掩模具有與所述第一掩模相同的結構。
全文摘要
本發明一般涉及一種用於控制目的物位置和斜度的控制裝置，更具體地涉及一種將例如晶片或基片等目的物的位置和斜度保持在投影透鏡的焦距限值內的控制裝置。該控制裝置包含一光源，其發光被傳輸到目的物並由目的物反射；一第一掩模，來自光源的光經其通過，且其上刻有不對稱的圖形；第一和第二光接收器，檢測由目的物反射的光；以及控制裝置，根據由光接收器接收的信號調整目的物的位置和斜度。
文檔編號H01L21/027GK1150660SQ95116359
公開日1997年5月28日 申請日期1995年8月23日 優先權日1994年8月24日
發明者金相哲 申請人:三星航空產業株式會社