成像設備和處理盒的製作方法

2023-05-23 15:38:16 2

專利名稱：：成像設備和處理盒的製作方法
技術領域：
：本發明涉及成像設備和處理盒。
背景技術：
：已知採用電子照相方法的成像設備可作為複印機和印表機中所用的形成彩色圖像或黑白圖像的成像設備。在這種類型的成像設備中，通過下述方法在記錄介質上形成圖像通過充電單元向感光體的表面充電；將充電錶面以成像方式曝光從而在感光體上形成靜電潛像；以調色劑將靜電潛像顯影從而形成調色劑圖像;將所述調色劑圖像直接或通過中間轉印單元轉印到記錄介質上。完成調色劑圖像的轉印後，通過充電單元將感光體表面再次充電，並重複形成靜電潛像和調色劑圖像的前述步驟。在採用電子照相方法的成像設備中，有導致所謂重影的圖像缺陷的問題，所述重影是由在調色劑圖像轉印完成後殘留在感光體表面上的電荷導致的、在前一圖像形成過程中形成的曝光記錄出現在新形成的圖像上的現象。為了克服諸如圖像缺陷等前述問題，已經提出提供除電單元的技術，該除電單元在調色劑圖像被轉印後以光照射感光體的表面，從而去除感光體上殘留的電荷(參見，例如，日本特開2001-142365號公報、特開2006-030856號公報和特開2006-178002號公報)根據日本特開2001-142365號公報，沿著感光體的長邊設置一個棒狀光導器，所述光導器通過將從光源照至光導器的一端或兩端的除電用光朝著感光體的表面方向反射，從而以除電用光照射所述感光體。根據日本特開2006-030856號公報，將除電單元設置在感光體的旋轉方向上的轉印單元的下遊且位於清潔單元的上遊位置，該除電單元從感光體的長度方向的側面方向以除電用光照射感光體。根據日本特開2006-178002號公報，顯示了作為重影抑制技術的感光體底塗層的製備方法。具體而言，製備導電性金屬氧化物顆粒、固化性樹脂、固化劑和溶劑的混合溶液，從而使所得溶液固化形成的塗膜對波長為950nm的光具有70X以上(本文中的"以上"或"以下"均包含本數)的透光率。在這種情況下，將導電性金屬氧化物顆粒分散在底塗層中，從而有利於電荷遷移並抑制感光體殘留電位的增加。
發明內容本發明的一個方面是提供一種成像設備，所述成像設備包括被旋轉驅動的圖像承載體，所述圖像承載體包含基體上的底塗層和感光層；充電單元，其向圖像承載體的表面充電；潛像形成單元，其通過對已由充電單元充電的圖像承載體的表面進行曝光從而在圖像承載體上形成靜電潛像；顯影單元，其通過以調色劑使靜電潛像顯影而在圖像承載體上形成與靜電潛像對應的調色劑圖像；轉印單元，其用於將調色劑圖像轉印到圖像接受體上；以及除電單元，其包含光源，在調色劑圖像轉印後，所述光源在圖像承載體的旋轉軸方向上從圖像承載體的一側以除電用光照射圖像承載體的表面，從而去除圖像承載體表面的電荷，其中，所述底塗層的體積電阻值在所述圖像承載體的旋轉軸方向上從該圖像承載體的所述光源側的一個端部向該圖像承載體的另一個端部逐漸降低。考慮到上述問題而進行了本發明，並提供了成像設備和處理盒。本發明的第一方案是提供一種成像設備，所述成像設備包括被旋轉驅動的圖像承載體，所述圖像承載體包含基體上的底塗層和感光層；充電單元，其用於給圖像承載體的表面充電；潛像形成單元，其通過對已由充電單元充電的圖像承載體的表面進行曝光從而在圖像承載體上形成靜電潛像；顯影單元，其通過以調色劑使靜電潛像顯影而在圖像承載體上形成與靜電潛像對應的調色劑圖像；轉印單元，其用於將調色劑圖像轉印到圖像接受體上；以及除電單元，其包括光源，在調色劑圖像轉印後，所述光源在圖像承載體的旋轉軸方向上從圖像承載體的一側以除電用光照射圖像承載體的表面，從而去除圖像承載體表面的電荷；其中，所述底塗層的體積電阻值在所述圖像承載體的旋轉軸方向上從該圖像承載體的所述光源側的一個端部向該圖像承載體的另一個端部逐漸降低。與將除電用光從圖像承載體的旋轉軸方向上的兩端發射的成像設備相比，在本發明的該方案中，即使採用較簡單的成像設備結構也能抑制重影和圖像劣化。本發明的第二方案提供了第一方案的成像設備，其中所述底塗層的厚度在圖像承載體的旋轉軸方向上從圖像承載體的光源側的一個端部向圖像承載體的另一個端部逐漸降低。在本發明的該方案中，可以抑制重影，同時可以提高圖像承載體的生產率。本發明的第三方案提供第一方案的成像設備，其中，所述底塗層在所述圖像承載體的旋轉軸方向上的兩個端部的厚度與該底塗層在圖像承載體的旋轉軸方向上的平均厚度之差均為底塗層平均厚度的10%50。％。在本發明的該方案中，可以以更為簡單的結構容易地抑制重影。本發明的第四方案提供了第一方案的成像設備，其中底塗層的體積電阻率為1.0xio8Q'cm1.0xl015Q'cm。在本發明的該方案中，可以以更為簡單的結構容易地抑制重影。本發明的第五方案提供了第一方案的成像設備，其中底塗層包含第一底塗層和第二底塗層，其中第一底塗層的厚度在圖像承載體的旋轉軸方向上從圖像承載體的光源側的一個端部向圖像承載體的另一個端部逐漸降低；第二底塗層形成於第一底塗層之上，所述第二底塗層的厚度在圖像承載體的旋轉軸方向上從圖像承載體的光源側的一個端部向圖像承載體的另一個端部逐漸升高；以及第一底塗層在光源側的端部的厚度大於第二底塗層在光源側的端部的厚度，而且第一底塗層在所述另一個端部的厚度小於第二底塗層在所述另一個端部的厚度。在本發明的該方案中，可以通過將底塗層設計成具有在旋轉軸方向上體積電阻率相異和厚度結構相異的兩層來抑制圖像缺陷。本發明的第六方案提供了第一方案的成像設備，其中第一底塗層的體積電阻率為1.0xl082Q'cm1.0xl014'8Q'cm，第二底塗層的體積電阻率為1.0x10148Q'cm1.0xlO8'2Q'cm。在本發明的該方案中，可以更有效地抑制重影。本發明的第七方案提供了第一方案的成像設備，其中第一底塗層和第二底塗層含有相同金屬元素的金屬氧化物顆粒。在本發明的該方案中，可以以較低的成本抑制重影，同時可以提高圖像承載體的生產率。本發明的第八方案提供了第七方案的成像設備，其中第一底塗層和第二底塗層具有基本相同的組成，但金屬氧化物顆粒的分散狀態不同。在本發明的該方案，可以以較低的成本抑制重影，同時可以提高圖像承載體的生產率。本發明的第九方案提供了第一方案的成像設備，其中以來自光源的除電用光直接照射圖像承載體。在本發明的該方案，由於可以省去光導器，所以可以進一步簡化成像設備的結構。本發明的第十方案提供處理盒，所述處理盒包括被旋轉驅動的圖像承載體，所述圖像承載體包含基體上的底塗層和感光層；選自由下述單元組成的組中的至少一個單元向圖像承載體的表面充電的充電單元；通過對已由充電單元充電的圖像承載體的表面進行曝光從而在圖像承載體上形成靜電潛像的潛像形成單元；通過以調色劑使靜電潛像顯影而在圖像承載體上形成與靜電潛像對應的調色劑圖像的顯影單元；以及將殘留在圖像承載體表面上的調色劑去除的調色劑去除單元；和除電單元，其包括光源，在調色劑圖像轉印後，所述光源在圖像承載體的旋轉軸方向上從圖像承載體的一側以除電用光照射圖像承載體的表面，從而去除圖像承載體表面的電荷，其中，所述底塗層的體積電阻值在所述圖像承載體的旋轉軸方向上從該圖像承載體的所述光源側的一個端部向該圖像承載體的另一個端部逐漸降低。與將除電用光從圖像承載體的旋轉軸方向上的兩端發射的處理盒相比，在本發明的該方案中，即使採用較簡單的處理盒結構也可以抑制重影和圖像劣化。本發明的第十一方案提供了第十方案的處理盒，其中所述底塗層的厚度在圖像承載體的旋轉軸方向上從圖像承載體的光源側的一個端部向圖像承載體的另一個端部逐漸降低。在本發明的該方案中，可以抑制重影，同時可以提高圖像承載體的生產率。本發明的第十二方案提供了第十方案的處理盒，其中，所述底塗層在所述圖像承載體的旋轉軸方向上的兩個端部的厚度與該底塗層在圖像承載體的旋轉軸方向上的平均厚度之差均為底塗層平均厚度的10%50%。在本發明的該方案中，可以以更為簡單的結構容易地抑制重影。本發明的第十三方案提供了第十方案的處理盒，其中所述底塗層的體積電阻率是1.0xl08Q'cm1.0xl015Q'cm。在本發明的該方案，可以以更為簡單的結構容易地抑制重影。本發明的第十四方案提供了第十方案的處理盒，其中底塗層包含第一底塗層和第二底塗層，其中第一底塗層的厚度在圖像承載體的旋轉軸方向上從圖像承載體的光源側的一個端部向圖像承載體的另一個端部逐漸降低；第二底塗層形成於第一底塗層之上，所述第二底塗層的厚度在圖像承載體的旋轉軸方向上從圖像承載體的光源側的一個端部向圖像承載體的另一個端部逐漸升高；以及第一底塗層在光源側的端部的厚度大於第二底塗層在光源側的端部的厚度，而且第一底塗層在所述另一個端部的厚度小於第二底塗層在所述另一個端部的厚度。在本發明的該方案中，可以通過將底塗層設計成具有在旋轉軸方向上體積電阻率相異和厚度結構相異的兩層來抑制圖像缺陷。本發明的第十五方案提供了第十四方案的處理盒，其中第一底塗層的體積電阻率為1.0x1082Q'cm1.0xl0148Q'cm，第二底塗層的體積電阻率為1.0x10148Q.cm1.0xl082Q.cm。在本發明的該方案中，可以更有效地抑制重影。本發明的第十六方案提供了第十四方案的處理盒，其中第一底塗層和第二底塗層含有相同金屬元素的金屬氧化物顆粒。在本發明的該方案中，可以以更低的成本抑制重影，同時可以提高圖像承載體的生產率。本發明的第十七方案提供了第十六方案的處理盒，其中第一底塗層和第二底塗層具有基本相同的組成，但金屬氧化物顆粒的分散狀態不同。在本發明的該方案中，可以以更低的成本抑制重影，同時可以提高圖像承載體的生產率。本發明的第十八方案提供了第十方案的處理盒，其中以來自光源的除電用光直接照射圖像承載體。在本發明的該方案，由於可以省去光導器，所以可以進一步簡化成像設備的結構。將在下述附圖的基礎上詳細描述本發明的示例性實施方式，其中圖1是第一示例性實施方式的成像設備的示例性實施方式的示意圖。圖2是描述第一示例性實施方式的成像設備的感光體和除電光源的位置關係的示意圖。圖3是描述第一示例性實施方式的成像設備的感光體和除電光源的位置關係，以及感光體的示意性結構的示意圖。圖4是第二示例性實施方式的成像設備的示例性實施方式的示意圖。圖5是描述第二示例性實施方式的成像設備的感光體和除電光源的位置關係，以及感光體的示意性結構的示意圖。具體實施例方式下面將對本發明的第一示例性實施方式的成像設備進行描述。(第一示例性實施方式)如圖1所述，第一示例性實施方式的成像設備10包括感光體12。感光體12為圓筒狀，而且以可旋轉的方式配置成可圍繞旋轉軸X在特定的方向上(圖1中箭頭A的方向)轉動。充電單元14、曝光單元18、顯影單元20、轉印單元24、清潔單元26和除電單元28沿感光體12的旋轉方向(圖1中箭頭A的方向)依次排列在感光體12周圍。在第一示例性實施方式中，成像設備IO相當於本發明的成像設備；充電單元14相當於本發明的成像設備的充電單元；感光體12相當於本發明的成像設備的圖像承載體；曝光單元18相當於本發明的成像設備的潛像形成單元；顯影單元20相當於本發明的成像設備的顯影單元；除電單元28相當於本發明的成像設備的除電單元。充電單元14將感光體12的表面充電至預定電位。已知的充電設備都可用作充電單元14。可用的充電設備的實例包括諸如輥式、刷式、磁刷式和刮刀式充電器等接觸型充電設備；以及諸如電暈管充電器和柵極式電暈管(scorotron)充電器等非接觸型充電設備。在接觸型充電方法中，通過向與感光體12的表面接觸的導電性部件施加電壓，從而給感光體12的表面充電。導電性部件的形狀可以是刷狀、刮刀、針形電極和輥形等中的任何一種，特別優選的是輥形。從其外部開始，輥形部件通常由電阻層、支撐電阻層的彈性層以及芯材組成。如果必要，也可以在電阻層的外表面上設置保護層。在本示例性實施方式中，術語"導電性"指體積電阻率為101QQ，Cm以下。通過將電壓施加於導電性部件而以導電性部件給感光體12充電。所施加的電壓優選為直流電壓，或者在直流電壓上疊加了交流電壓的直流電壓。帶電時的感光體12的表面電位優選為-400V-200V。曝光單元18利用感光體12對其靈敏的光(曝光用的光)對已由充電單元14充電的感光體12進行曝光，從而在感光體12上形成與有待由成像設備IO形成的圖像的圖像數據對應的靜電潛像。曝光單元18可以是己知的曝光單元，只要其能夠利用曝光用的光對感光體12進行曝光即可。曝光單元18可以是例如能以所需的圖像形式發射光的光學單元，以及在光學單元中所用的光源的實例包括半導體雷射器、LED(發光二極體)和液晶光閘等。在將LED用作光源的情況下，曝光用的光優選具有500nm800nm的波長。使用LED作為光源時，在感光體12中不會形成幹涉光，可以避免木紋狀濃度變化的出現。顯影單元20以調色劑(詳情將在後文中描述)使靜電潛像顯影，從而在感光體12上形成與靜電潛像對應的調色劑圖像。顯影單元20由顯影輥20B和顯影偏壓施加單元(未示出)組成，其中顯影輥20B保持所貯留的調色劑並將所保持的調色劑供應到感光體12的表面上；所述顯影偏壓施加單元向顯影輥20B施加顯影偏壓。顯影單元20可以是已知的顯影單元20。顯影方法可以是下述方法的任何一種使用載體和調色劑的雙成分顯影法；僅使用調色劑的單成分顯影法；以及為了改善顯影性質和其他性質而添加額外成分的上述方法的改進方法等。轉印單元24將調色劑圖像從感光體12轉印到記錄介質27上。轉印單元24可以是已知的轉印單元，其實例包括諸如輥、刷和刮刀等接觸型轉印單元；以及包括電暈管、柵極式電暈管和針式電暈管(pincorotron)轉印單元等非接觸型轉印單元。轉印可以通過壓力來進行或通過壓力和熱的組合來進行。轉印電壓優選為+300V+700V。轉印單元24可具有使轉印在恆定電壓控制系統下進行的結構。通過例如傳送輥(未示出)將貯留在記錄介質供給單元(未示出)中的記錄介質27傳送到感光體12和轉印單元24彼此面對的部分，然後感光體12和轉印單元24以將其夾持在兩者之間的方式傳送記錄介質27，從而將調色劑圖像從感光體12轉印到記錄介質27上。在該示例性實施方式中，感光體12和轉印單元24以將其夾持在兩者之間的方式傳送記錄介質27，從而將調色劑圖像從感光體12轉印到記錄介質27上。然而，成像設備10並不局限於此形式，可以將在感光體12上形成的調色劑圖像轉印到諸如中間轉印帶等中間轉印部件(未示出)上，然後再轉印到記錄介質27上。中間轉印部件可以由已知的導電熱塑性樹脂製成。導電熱塑性樹脂的實例包括含有導電劑的那些樹脂，例如聚醯亞胺樹脂、聚碳酸酯樹脂(PC)、聚偏氟乙烯(PVDF)、聚對苯二甲酸亞垸基酯(PAI)，以及諸如乙烯-四氟乙烯共聚物(ETFEyPC、ETFE/PAT和PC/PAT等共混材料。其中，從優異的機械強度的觀點考慮，包含分散在其中的導電劑的聚醯亞胺樹脂是優選的。導電劑可以是炭黑、金屬氧化物或諸如聚苯胺等導電聚合物。中間轉印部件可以具有表面層。在將調色劑圖像轉印到記錄介質27上之後，清潔單元26(調色劑去除單元)將殘留的調色劑或例如紙粉等異物從感光體12上去除。清潔單元26優選具有諸如磁刷、導電纖維刷或刮刀等清潔部件。清潔刮刀的材料可以是，例如聚氨酯橡膠、氯丁橡膠或矽橡膠。通過轉印單元24將保持在感光體12上的調色劑圖像轉印到記錄介質27上之後，進一步旋轉感光體12，從而通過清潔單元26將異物從感光體12的表面去除。除電單元28去除感光體12的殘留電荷。如圖2所示，除電單元28包含可發射用於從感光體12的外周面上去除電荷的除電用光的除電光源28A。將除電單元28的除電光源28A設置在感光體12的旋轉軸X方向(下文中稱為旋轉軸方向Y，見圖2)上的一個端部，從而使得所述光源能發射至少可照射感光體12的從旋轉軸方向Y上的一端到另一端的區域中需要去除電荷的區域(該區域至少包括感光體12的全部表面區域中可由顯影單元20形成調色劑圖像的部分)的除電用光。更具體而言，如圖2所示，將除電單元28的除電光源28A設置在這樣的位置上除電光源28A能在該位置以除電用光從感光體12的旋轉軸方向Y上的一端到另一端照射感光體12的表面。因此，將除電單元28的除電光源28A設置在感光體12的要去除電荷的區域的外側(將其設置在旋轉軸方向Y上遠離感光體12中心的一側)，並從上述位置起，從感光體12表面的旋轉軸方向Y上的一側到另一側，對需要去除電荷的區域發射除電用光。在除電單元28以除電用光在感光體12的旋轉軸方向Y上照射感光體12的同時，感光體12圍繞旋轉軸X旋轉，從而通過從除電單元28發射出的除電用光將感光體12表面的電荷去除。除電光源28A可以是任何形式的光源，只要它能夠基於電子照相理論去除電荷即可，其具體實例包括LED和滷素燈。除電單元28可配備遮光部件(未示出)以防止除電光源28A朝著感光體12表面發射的除電用光照射到作為需要去除電荷的區域之外的區域的感光體12的旋轉軸方向Y上的兩個端部。在表面上的異物已被清潔單元26去除之後，感光體12繼續在旋轉方向上(圖1中的箭頭A的方向)旋轉，從而使殘留電荷被除電單元28去除。然後，再次通過充電單元14給感光體12充電。成像設備10包括將轉印的調色劑圖像定影在記錄介質27上的定影單元30。定影單元30可以是任何已知的定影單元。在已通過轉印單元24將調色劑圖像轉印到記錄介質27上之後，接下來將記錄介質27通過例如傳送輥(未示出)傳送到定影單元30。將記錄介質27上的調色劑圖像通過定影單元30定影，從而在記錄介質27上形成圖像。在圖像形成在記錄介質27上之後，將記錄介質27通過例如傳送輥(未示出)送出成像設備IO。(感光體)下文中將進一步詳細描述設置在該示例性實施方式的成像設備10中的感光體12。如圖3所示，感光體12至少包括導電性基體1和依次層積在導電性基體1上的底塗層2和感光層3。感光體12的詳細結構將在後文中進行描述。如圖3所示的感光體12是功能分離型的感光體，其中感光層3由電荷產生層31和電荷輸送層32組成。導電性基體1可以是例如由鋁、銅、鐵、不鏽鋼、鋅、鎳等製成的金屬鼓；或通過沉積諸如鋁、銅、金、銀、鉑、鈀、鈦、鎳-鉻、不鏽鋼和銦等金屬或諸如氧化銦或氧化錫等導電性金屬化合物，或通過以金屬箔層積，或通過以分散有炭黑、氧化銦、氧化錫、氧化銻粉末、金屬粉末、碘化銅等的粘合劑樹脂塗布而被賦予導電性的片材、紙、塑料或玻璃。導電性基體1的形狀並不局限於鼓，可以是片、板等。當導電性基體1是金屬管形式時，基體表面可以通過例如鏡面切削、蝕刻、陽極電鍍、粗切削、無心磨削、噴砂或溼式珩磨進行處理，也可以不進行該處理。當將金屬鼓用於導電性基體1，外部表面(形成底塗層2的一側)可以通過例如鏡面切削、蝕刻、陽極電鍍、粗切削、無心磨削、噴砂、溼式珩磨或著色進行處理，也可以不進行該處理。當使用雷射束等相干光源時會在感光體內出現幹涉光，進行粗糙化處理能防止作為底塗層2的形成側的基體表面形成因所述幹涉光而導致的木紋狀濃度變化。(底塗層)底塗層2具有改善電學性質、圖像品質、圖像品質維持性、對感光層3的粘著性、抗洩漏性等多種功能。底塗層2是通過將下述底塗層形成用塗布溶液塗布在導電性基體1上而形成的。在底塗層2被包含在感光體12中並被設置在成像設備10上的情況下，底塗層2的體積電阻值在旋轉軸方向Y上從除電光源28A側的端部向另一個端部逐漸降低(更具體而言，在從鄰近除電光源28A側的端部向遠離除電光源28A的端部的方向上逐漸降低)。在該示例性實施方式中，"體積電阻值"的測定在底塗層2的每個試驗片中進行。在底塗層2被包含在感光體12中的情況下，通過從位於底塗層2的旋轉軸方向Y上的一端到另一端的至少五處分別剪切出1cmx1cm的正方形而獲得所述試驗片。具體而言，根據JISK6911通過下述方法來確定每個試驗片的體積電阻值在溫度24"C、相對溼度50%的環境下，將經調節能提供1000V/cm(施加電壓/組合物片材的厚度)電場的電壓在試驗片上施加30秒，用施加的電壓值除以電壓施加30秒後的電流值，從而計算體積電阻值。使用測定工具(R12702A/BResistivityChamber,AdvantestCorporation帝lj)和高電阻測定器(R8340A數字高電阻/微電流計，AdvantestCorporation制)進行測定。如後文所述，在該示例性實施方式中，"體積電阻率"由下述方法確定製備片材形式的底塗層2，使用測定工具(R12702A/BResistivityChamber,AdvantestCorporation制)和高電阻測定器(R8340A數字高電阻/微電流計，AdvantestCorporation制)將經調節能提供1000V/cm(施加電壓/組合物片材的厚度)電場的電壓在底塗層2上施加30秒，然後在施加電壓和電壓施加後的電流值的基礎上根據下述公式計算體積電阻率。體積電阻率(acm)=(19.63x施加電壓(V))/(電流值(A)x組合物片材厚度(cm))與體積電阻值較低的部分相比，底塗層2在體積電阻值較高的部分顯示出對導電性基體更高的阻隔性能。因此，當與體積電阻值較高的部分對應的部分構成感光體12時，與在體積電阻值較低的部分對除電用光的靈敏度相比，底塗層2在該部分對除電用光的靈敏度較低。另一方面，與體積電阻值較高的部分相比，底塗層2在體積電阻值較低的部分顯示出對導電性基體更低的阻隔性能。因此，當與體積電阻值較低的部分對應的部分構成感光體12時，與在體積電阻值較高的部分對除電用光的靈敏度相比，底塗層2在該部分對除電用光的靈敏度較低。由於除電單元28的除電光源28A設置在感光體12的旋轉軸方向Y上的一個端部，並至少朝著感光體12的旋轉軸方向Y上的需要去除電荷的區域發射除電用光，因此，隨著在旋轉軸方向Y上離除電光源28A的距離的增加，從除電光源28A發射出的除電用光在感光體12的表面上的強度逐漸降低。如此設置除電單元28從而滿足前述位置關係。如上所述，在本示例性實施方式的成像設備10中，將除電光源28A設置在感光體12的旋轉軸方向Y上的一個端部，因此，在旋轉軸方向Y上遠離除電光源28A的感光體12表面上的部分，從除電光源28A發射出的除電用光的強度變弱。然而，如上所述，由於底塗層2的體積電阻值在旋轉軸方向Y上從鄰近除電光源28A的端部向另一個端部逐漸降低，因此感光體12的靈敏度在旋轉軸方向Y上從鄰近除電光源28A的端部向另一個端部逐漸增加，可以避免向感光體12發射的除電用光的強度在旋轉軸方向Y上不均勻。因此，可以抑制重影的出現，並且可以避免圖像品質的劣化。術語"重影"指由於前面的圖像形成過程的曝光記錄所致，在新形成的圖像上形成殘留圖像而導致的圖像缺陷。下文中，適當時可將該圖像缺陷稱為"重影"。底塗層2在旋轉軸方向Y上離除電光源28A最遠的部分處的體積電阻值優選為底塗層2在旋轉軸方向Y上離除電光源28A最近的部分處的體積電阻值的1/1001/10，更優選為1/901/20，特別優選為1/751/25。如果底塗層2在旋轉軸方向Y上離除電光源28A最遠的部分處的體積電阻值大於底塗層2在旋轉軸方向Y上離除電光源28A最近的部分處的體積電阻值的1/10，則有效感光區域端部的圖像濃度會顯著降低，如果小於1/100，則在該端部的圖像濃度會顯著增加。如圖3所示，在該示例性實施方式中，為了調節底塗層2的體積電阻值以使其從除電光源28A側的端部向另一個端部逐漸降低，提供了特定結構底塗層2的厚度在旋轉軸方向Y上從除電光源28A側的端部向另一個端部逐漸減小。在底塗層2被包含在感光體12中並被設置在成像設備10上的情況下，通過如上所述調節底塗層2的厚度可以調節底塗層2的體積電阻值從而使其在旋轉軸方向Y上從鄰近除電光源28A的端部向另一個端部逐漸降低。在底塗層2被包含在感光體12中並被設置在成像設備10上的情況下，可將底塗層2的體積電阻率調整為在旋轉軸方向Y上保持恆定值或基本恆定值。體積電阻率的詳情將在後文描述。在底塗層2被包含在感光體12中並被設置在成像設備10上的情況下，底塗層2在旋轉軸方向Y上具有最大厚度的部分(離除電光源28A最近的部分)的厚度和在旋轉軸方向Y上具有最小厚度的部分(離除電光源28A最遠的部分)的厚度與底塗層2在感光體12的旋轉軸方向Y上的平均厚度之差優選為底塗層2在感光體12的旋轉軸方向Y上的平均厚度的10%50%，或約10%約50%。如果底塗層2具有最大厚度部分的厚度和/或具有最小厚度部分的厚度與底塗層2的平均厚度之差小於10%或小於約10%，則從大規模生產的觀點考慮，成膜會比較困難，如果上述厚度與底塗層2的平均厚度之差大於50%或大於約50%，則體積電阻率會難以控制，從而難以實現本發明的目的。在底塗層2被包含在感光體12中並被設置在成像設備10上的情況下，為了形成其厚度在旋轉軸方向Y上從鄰近除電光源28A的端部向另一個端部逐漸減小的底塗層2，適用的方法是對將底塗層形成用塗布溶液(詳情將在後文描述)塗布在導電性基體1上的速度進行調節，從而使底塗層2的厚度在旋轉軸方向Y上有所變化。該示例性實施方式中，在底塗層2被包含在感光體12中並被設置在成像設備10上的情況下，底塗層12的厚度可以以階梯方式變化，或者以連續方式變化，只要它在旋轉軸方向Y上從鄰近除電光源28A的端部向另一個端部降低即可。然而，更優選的是該厚度以連續方式降低，因為可以得到沒有階梯式變化的圖像濃度。如上所述，在該示例性實施方式中，在底塗層2被包含在感光體12中並被設置在成像設備10上的情況下，將底塗層2的厚度調整為在旋轉軸方向Y上從鄰近除電光源28A的端部向另一個端部逐漸降低，從而使得在底塗層2被包含在感光體12中並被設置在成像設備10上的情況下可將底塗層2的體積電阻值調節為在旋轉軸方向Y上從鄰近除電光源28A的端部向另一個端部逐漸降低。底塗層2包含金屬氧化物顆粒。通過在底塗層2中包含金屬氧化物顆粒，即使以較小的厚度也可以抑制所述層的電阻的增加，可以避免因重複使用導致的感光體12的電學性質的劣化，並可以降低底塗層2中的樹脂比例從而使所述層不易被短波長光損傷。為了得到足夠的電阻以獲得抗洩漏性，金屬氧化物顆粒的粉末電阻必須為約l(^dcm約10"acm。特別說來，從電學性質穩定性和長期重複使用過程中的圖像品質的觀點考慮，優選採用電阻值在上述預定範圍內的選自氧化鈦、氧化鋅、氧化錫和氧化鋯中的至少一種金屬氧化物顆粒。其中，特別優選的是具有較高的電子遷移率的氧化鋅和氧化鈦顆粒，從而獲得良好的電子照相特性。如果金屬氧化物顆粒的電阻值低於上述範圍的下限，則可能無法提供充足的抗洩漏性，而且如果高於上述範圍的上限，則會導致殘留電位的增加。可以組合使用兩種以上經過不同的表面處理、具有不同粒徑等的金屬氧化物顆粒。金屬氧化物顆粒的比表面積經BET法測定優選為10m2/g以上。比表面積小於10m2/g的那些顆粒易導致充電能力下降，從而難以獲得良好的電子照相特性。金屬氧化物顆粒的體積平均粒徑優選為50nm200nm。優選將金屬氧化物顆粒進行表面處理。表面處理劑可以是任何己知的試劑，只要它提供預定的特性即可，其實例包括矽垸偶聯劑、鈦酸酯偶聯劑、鋁偶聯劑和表面活性劑。特別而言，由於其能提供良好的電子照相特性，所以優選矽烷偶聯劑。此外，從例如使底塗層具有良好的阻隔性質、防止由於光照射引起的金屬氧化物顆粒劣化的觀點考慮，優選的是具有氨基的矽烷偶聯劑和具有不飽和基團的矽垸偶聯劑。具有氨基的矽烷偶聯劑可以任意選擇，只要其提供預定的感光體特性即可，其具體實例包括但不局限於Y-氨丙基三乙氧基矽垸、N-P-(氨乙基)個氨丙基三甲氧基矽烷、N-P-(氨乙基)於氨丙基甲基甲氧基矽烷和N，N-二(P-羥基乙基)-Y-氨丙基三乙氧基矽烷。所述矽烷偶聯劑可以與其他一種或多種矽烷偶聯劑組合使用。與前述具有氨基的矽垸偶聯劑組合使用的矽烷偶聯劑的實例包括但不局限於乙烯基三甲氧基矽烷、y-甲基丙烯醯氧基丙基-三((3-甲氧基乙氧基)矽烷、卩-(3,4-環氧環己基)乙基三甲氧基矽烷、Y-縮水甘油氧基丙基三甲氧基矽烷、乙烯基三乙醯氧基矽烷、Y-巰基丙基三甲氧基矽烷、Y-氨丙基三乙氧基矽烷、N-P-(氨乙基)個氨丙基三甲氧基矽烷、N-(3-(氨乙基)個氨丙基甲基甲氧基矽垸、N，N-二((3-羥基乙基)個氨丙基三乙氧基矽烷和Y-氯丙基三甲氧基矽烷。具有不飽和基團的矽垸偶聯劑的實例包括但不局限於乙烯基三甲氧基矽烷、乙烯基三乙氧基矽烷、y-甲基丙烯醯氧基丙基甲基二甲氧基矽垸、y-甲基丙烯醯氧基丙基三乙氧基矽烷和Y-甲基丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷。表面處理方法可以是任何己知的方法，可以舉出幹法和溼法。在通過幹法進行表面處理的情況下，在具有高剪切力的混合器等中攪拌顆粒的過程中通過滴落或以乾燥空氣或氮氣噴霧，從而直接以矽烷偶聯劑均勻地處理金屬氧化物顆粒或以將矽烷偶聯劑溶解在有機溶劑中而得到的溶液均勻地處理金屬氧化物顆粒。添加或噴霧優選在等於或低於所述溶劑沸點的溫度下進行。如果在高於所述溶劑沸點的溫度進行噴霧，則顆粒被均勻攪拌之前溶劑就揮發了，並且矽烷偶聯劑會局部凝結從而阻礙均勻的表面處理。矽烷偶聯劑的添加或噴霧之後，將所述顆粒在10(TC以上的溫度焙燒。焙燒處理的溫度和時間可以任意選擇，只要能提供預定的電子照相特性即可。在溼法中，通過攪拌或採用超聲波、砂磨機、超微磨碎機、球磨機等將金屬氧化物顆粒分散在溶劑中，在將矽垸偶聯劑溶液加入並將所述溶液攪拌或分散之後，將溶劑從中去除從而得到經均勻處理的顆粒。通過過濾或蒸發去除溶劑。溶劑去除之後，可在10(TC以上的溫度焙燒顆粒。焙燒處理的溫度和時間可以任意確定，只要能提供預定的電子照相特性即可。在溼法中，可在添加表面處理劑之前去除金屬氧化物顆粒中所含的水分。可通過例如加熱和攪拌含有顆粒的表面處理用溶劑，或進行與溶劑的共沸蒸餾來去除水分。相對於底塗層2中的金屬氧化物顆粒的量，矽烷偶聯劑的量可以任意選擇，只要其能提供預定的電子照相特性即可。底塗層2優選包含受體化合物(電子接受性化合物)(通過混合或分散在顆粒中)以及前述的金屬氧化物顆粒，所述受體化合物具有能與所述金屬氧化物顆粒反應的基團。在受體化合物經由金屬氧化物顆粒而被包含在底塗層2中的情況下，可通過底塗層2在導電性基體1和電荷產生層31之間有效地輸送電荷，而且即使在高品質、高速度成像的情況下，感光體仍能長期使用。所述受體化合物可以任意選擇，只要其具有能與提供預定特性的金屬氧化物顆粒反應的基團即可。受體化合物的優選實例包括諸如茈系顏料、二苯並咪唑芘顏料、多環醌類顏料、靛青類顏料和喹吖啶酮類顏料等日本特開昭47-30330號公報所描述的有機顏料；以及具有諸如氰基、硝基、亞硝基、滷素等吸電子取代基的顏料，例如雙偶氮類顏料和酞菁類顏料。在這些顏料中，從較高的電子接受性的觀點考慮，優選的是茈系顏料、二苯並咪唑茈系顏料和多環醌類顏料，從更有效防止重影的觀點考慮，特別優選的是多環醌類顏料。為了控制分散性和電荷接受性，可以以偶聯劑、粘合劑等對這些顏料進行表面處理。受體化合物的含量可以任意選擇，只要能提供預定的特性即可，但相對於金屬氧化物顆粒的量，其優選為0.01重量％20重量％，更優選為0.05重量％10重量％。如果上述含量低於0.01重量％，則可能無法向底塗層2提供可改善電荷蓄積的充足的接受性，從而容易導致諸如重複使用過程中殘留電位增加等維持性的惡化。如果上述含量大於20重量％，則金屬氧化物顆粒容易凝集，從而無法在底塗層2的形成過程中在底塗層2內形成良好的導電通路，結果在重複使用過程中容易出現諸如黑點等圖像缺陷，以及諸如殘留電位增加等維持性的惡化。受體化合物的添加量可以任意選擇，只要能提供預定的特性即可，但相對於金屬氧化物顆粒的量，其優選為0.01重量％20重量％，更優選為0.05重量％10重量％。如果受體化合物的添加量低於0.01重量％，則不能在底塗層2內提供可降低電荷蓄積的充足的接受性，從而容易導致諸如重複使用過程中殘留電位增加等維持性的惡化。如果添加量大於20重量Q/^，則金屬氧化物顆粒容易凝集，從而不能在底塗層2的形成過程中在底塗層2內形成良好的導電通路。結果在重複使用過程中容易出現諸如殘留電位增加等維持性的惡化，以及諸如黑點等圖像缺陷。在例如具有高剪切力的混合器中攪拌顆粒的同時，通過例如滴落在顆粒上或以乾燥空氣或氮氣在顆粒上噴霧來將受體化合物添加到金屬氧化物顆粒中。受體化合物的添加或噴霧優選在不高於溶劑沸點的溫度下進行。如果在高於溶劑沸點的溫度進行噴霧，則在顆粒被均勻攪拌之前溶劑就揮發了，由此受體化合物會局部凝結從而阻礙均勻的表面處理。添加或噴霧操作之後，可將顆粒在高於溶劑沸點的溫度乾燥。作為選擇，可通過例如攪拌、超聲波或諸如砂磨機、超微磨碎機或球磨機等設備將金屬氧化物顆粒分散在有機溶劑中，然後將含有受體化合物的有機溶劑溶液加入其中，並回流或在不高於所述有機溶劑沸點的溫度攪拌或分散。然後將溶劑去除，所述顆粒被均勻添加在受體化合物中。可以通過過濾、蒸發或在加熱下乾燥將溶劑去除。所述有機溶劑可以任意選擇，只要其能溶解樹脂並且在混合和分散無機金屬化合物和受體化合物的過程中不導致膠凝和凝集即可。這樣的有機溶劑的實例包括諸如甲醇、乙醇、正丙醇、正丁醇、苯甲醇、甲基溶纖劑、乙基溶纖劑、丙酮、甲基乙基酮、環己酮、乙酸甲酯、乙酸正丁酯、二噁烷、四氫呋喃、二氯甲垸、氯仿、氯苯和甲苯等常規有機溶劑。這些溶劑可以單獨使用，也可以兩種以上組合使用。通過將含有上述金屬氧化物顆粒和添加劑以及下述固化性樹脂、固化劑、添加劑、溶劑等的底塗層形成用塗布溶液塗布在導電性基體1上以提供具有上述厚度的層，然後固化所述塗層，從而形成底塗層2。底塗層形成用塗布溶液中的金屬氧化物顆粒和固化性樹脂的比例可以任意選擇，只要能提供感光體12的預定特性即可。從降低光照射對底塗層損害的觀點考慮，金屬氧化物顆粒與粘合劑樹脂(金屬氧化物顆粒/固化性樹脂)的體積比優選為10/9090/10，更優選為15/8560/40。底塗層形成用塗布溶液可以包含用於改善電學特性、環境穩定性和圖像品質的各種添加劑。所述添加劑的實例包括已知的材料，例如諸如四氯苯醌和四溴苯醌等醌類化合物；四氰基醌二甲垸類化合物；諸如2,4，7-三硝基芴酮和2，4,5，7-四硝基-9-芴酮等芴酮類化合物；諸如2-(4-聯苯基)-5-(4-叔丁基苯基)-l,3，4-噁二唑、2,5-二(4-萘基)-1，3，44惡二唑和2,5-二(4-二乙基氨基苯基)-l,3，4-噁二唑等噁二唑類化合物；咕噸酮類化合物；噻吩類化合物；電子輸送性物質，例如，諸如3，3'，5，5'-四叔丁基聯苯醌等聯苯醌類化合物；多環稠合或偶氮類電子輸送性顏料；鋯螯合物；鈦螯合物；鋁螯合物；烷氧基鈦類化合物；有機鈦類化合物；和矽烷偶聯劑。所述矽烷偶聯劑可以用作氧化鋅的表面處理，並且可被包含在所述塗布溶液中作為添加劑。所述矽垸偶聯劑的具體實例包括乙烯基三甲氧基矽烷、Y-甲基丙烯醯氧基丙基-三(P-甲氧基乙氧基)矽烷、P-(3，4-環氧環己基)乙基三甲氧基矽垸、Y-縮水甘油氧基丙基三甲氧基矽垸、乙烯基三乙醯氧基矽烷、Y-巰基丙基三甲氧基矽烷、Y-氨丙基三乙氧基矽垸、N-P-(氨乙基)-Y-氨丙基三甲氧基矽烷、N-P-(氨乙基)-y-氨丙基甲基甲氧基矽烷、N，N-二(P-羥基乙基)-Y-氨丙基三乙氧基矽烷和Y-氯丙基三甲氧基矽烷。鋯螯合物的實例包括丁氧基鋯、乙醯乙酸乙酯鋯、三乙醇胺鋯、乙醯丙酮丁氧基鋯、乙醯乙酸乙酯丁氧基鋯、乙酸鋯、草酸鋯、乳酸鋯、磷酸鋯、辛酸鋯、環烷酸鋯、月桂酸鋯、硬脂酸鋯、異硬脂酸鋯、甲基丙烯酸丁氧基鋯、硬脂酸丁氧基鋯和異硬脂酸丁氧基鋯。鈦螯合物的實例包括鈦酸四異丙酯、鈦酸四正丁酯、鈦酸丁酯二聚體、四(2-乙基己基)鈦酸酯、乙醯丙酮鈦、多乙醯丙酮鈦、亞辛基羥乙酸鈦(titaniumoctyleneglycolate)、乳酸鈦銨鹽、乳酸鈦、乳酸鈦乙酯、三乙醇鈦胺化物和多羥基硬脂酸鈦。鋁螯合物的實例包括異丙醇鋁、單丁氧基二異丙醇鋁、丁醇鋁、二(乙醯乙酸乙酯)二異丙醇鋁和三(乙醯乙酸乙酯)鋁。這些化合物可以單獨使用，或作為它們的混合物或縮聚物使用。底塗層形成用塗布溶液優選包含樹脂顆粒作為添加劑。所述樹脂可用以防止導電性支持體的光反射。包含在底塗層形成用塗布溶液中的樹脂顆粒優選具有l.O^rn以上的平均粒徑。所述樹脂顆粒的具體實例包括矽樹脂顆粒和氟樹脂顆粒。在採用含有樹脂顆粒的底塗層形成用塗布溶液形成底塗層的情況下，可以抑制因幹涉光而導致的木紋狀濃度變化，所述幹涉光是當將諸如雷射束等相干光源用作用於圖像形成的曝光用光源時會在感光體內出現的幹涉光。從更有效地得到抑制效果的觀點考慮，所述樹脂顆粒的平均粒徑優選為0.05lam5.0^im。當固化性樹脂在固化劑的存在下被固化時，其在底塗層中起粘合劑樹脂的作用。所述固化性樹脂(粘合劑樹脂)可以是用於底塗層的任何常規的粘合劑樹脂，並且可以與諸如乙烯基三氯矽烷、乙烯基三甲氧基矽烷、乙烯基三乙氧基矽垸、乙烯基三-2-甲氧基乙氧基矽垸、乙烯基三乙醯氧基矽烷、Y-縮水甘油氧基丙基三甲氧基矽烷、Y-甲基丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷、Y-氨丙基三乙氧基矽烷、Y-氯丙基三甲氧基矽垸、Y-2-氨乙基氨丙基三甲氧基矽垸、Y-巰基丙基三甲氧基矽烷、Y-脲基丙基三乙氧基矽垸或P-3，4-環氧環己基三甲氧基矽垸等矽烷偶聯劑一起使用。所述粘合劑樹脂可以是用於底塗層的任何已知的粘合劑樹脂，粘合劑樹脂的實例包括聚乙烯醇、聚乙烯基甲基醚、聚-N-乙烯基咪唑、聚環氧乙烷、乙基纖維素、甲基纖維素、乙烯-丙烯酸共聚物、聚醯胺、聚醯亞胺、酪蛋白、明膠、聚乙烯、聚酯、酚醛樹脂、氯乙烯-乙酸乙烯酯共聚物、環氧樹脂、聚乙烯吡咯烷酮、聚乙烯吡啶、聚氨酯、聚穀氨酸和聚丙烯酸。對固化劑不作特別限定，只要其能使固化性樹脂固化從而得到粘合劑樹脂即可，但特別優選的是異氰酸酯。在通過將多異氰酸酯化合物與作為封端劑的含活性氫的化合物反應而得到的異氰酸酯中，優選的是在常溫(15°C25°C)穩定且在預定條件(例如5(TC20(TC)下加熱時能通過封端劑的離解再生成異氰酸酯基團的異氰酸酯。多異氰酸酯化合物的實例包括亞苄基二異氰酸酯、二苯基甲烷-4,4，-二異氰酸酯、1，6-亞己基二異氰酸酯、異佛樂酮二異氰酸酯、二環己基甲烷二異氰酸酯和聚亞甲基聚苯基多異氰酸酯。封端劑的實例包括諸如己內醯胺等內醯胺類；諸如甲基乙基酮肟和丙酮肟等肟類；和諸如丙二酸二乙酯和乙醯乙酸二乙酯等P-二酮類。製備底塗層形成用塗布溶液所用的溶劑可以從諸如醇類、芳烴類、滷代烴類、酮類、酮醇類、醚類和酯類等已知有機溶劑中任意選擇。有機溶劑的實例包括諸如甲醇、乙醇、正丙醇、異丙醇、正丁醇、苄醇、甲基溶纖劑、乙基溶纖劑、丙酮、甲基乙基酮、環己酮、乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸正丁酯、二噁垸、四氫呋喃、二氯甲烷、氯仿、氯苯和甲苯等常規有機溶劑。分散所用的溶劑可以單獨使用，或者兩種以上組合使用。混合溶劑可以任意選擇，只要其能溶解固化性樹脂(粘合劑樹脂)即可。可以通過任何已知工具來分散金屬氧化物顆粒，例如輥磨機、球磨機、振動球磨機、超微磨碎機、砂磨機、膠磨機或塗料振動器等。通過塗布底塗層形成用塗布溶液從而形成底塗層2的方法可以是任何常規方法，例如刮刀塗布法、繞線棒塗布法、噴霧塗布法、浸漬塗布法、珠塗法(beadcoating)、氣刀塗布法或幕塗法等。在導電性基體上形成的底塗層2優選具有35以上的維氏(Vickers順度。如上所討論，在底塗層2被包含在感光體12中並被設置在成像設備10上的情況下，將底塗層2的體積電阻值調節為在旋轉軸方向Y上從鄰近除電光源28A的端部向另一個端部逐漸降低。另一方面，在底塗層2被包含在感光體12中並被設置在成像設備10上的情況下，底塗層2的體積電阻率在旋轉軸方向Y上保持不變或基本保持不變。底塗層2的體積電阻率優選為108dcm1015r2《m，或約108acm約1015Q.cm，更優選為1010Q.cm1013Q.cm，或約1010Q'cm約1013Q-cm。如果體積電阻率低於108Q《m或低於約108Q，cm，則充電電壓不足或者可能發生洩漏。相反，如果體積電阻率大於1015Q.cm或大於約1015D.cm，則在重複使用過程中底塗層2內的殘留電位會升高從而阻礙獲得穩定的電壓特性。可通過例如控制形成底塗層形成用塗布溶液的製備條件，將底塗層2的體積電阻率調整在上述範圍內。更具體而言，例如，在製備底塗層形成用塗布溶液時，調整金屬氧化物顆粒的混合條件使得可得到上述範圍內的預定體積電阻率。混合條件會隨例如混合設備或混合溶液的組成而不同。例如，在用砂磨機混合所述顆粒的情況下，可以在下述條件下製備底塗層2從而使其具有上述範圍內的體積電阻率玻璃珠的填充率為60體積％80體積％，流速是1000ml/分鐘2500ml/分鐘，混合時間是0.5小時以上，優選為0.8小時1.5小時。通過滿足上述混合條件，可以調整底塗層2中的金屬氧化物顆粒的分散狀態，從而獲得所得底塗層2的預定體積電阻率。為了更可靠地控制上述混合條件從而給出上述範圍內的體積電阻率，例如，優選的是通過下述方法確定混合時間在混合過程中，在預定時間間隔內採集底塗層形成用塗布溶液的樣品，並測定由每個樣品溶液得到的塗膜的體積電阻率，從而檢驗塗膜的體積電阻率是否已達到預定範圍。因此，可將體積電阻率用作顯示底塗層2中的金屬氧化物顆粒的分散狀態的指標。在底塗層具有上述範圍內的體積電阻率的情況下，在顯示上述範圍內的體積電阻率的底塗層2的形成中，也可以通過下述方法獲得顯示金屬氧化物顆粒的分散狀態的指標將用於底塗層2的底塗層形成用塗布溶液塗布在諸如玻璃板等板狀物上從而得到厚度為20|iim(固化時)的塗層；將所述塗層乾燥以去除溶劑，並固化以形成塗膜；通過分光光度計在950nm波長測定塗膜的透光率。用於測定上述透光率的光的950nm波長對應於被金屬氧化物顆粒吸收的光的波長。因此，塗膜的透光率的測定結果也可用作顯示金屬氧化物顆粒的電荷傳導通道的形成狀態的指標，以及顯示包含在底塗層2中的金屬氧化物顆粒的分散狀態和底塗層2的體積電阻率的指標。為了防止波紋圖像的出現，將底塗層2的表面粗糙度調整為曝光所用的雷射波長X的1/4n(n為上層的折射率)l/2n。為了調整底塗層的表面粗糙度，可將諸如樹脂顆粒等顆粒添加到底塗層中。樹脂顆粒的實例包括矽樹脂顆粒和交聯PMMA樹脂顆粒等。為了調整表面粗糙度，可將底塗層進行拋光。拋光的方法可以是例如拋光輪研磨、噴砂、溼式珩磨或研削處理。為了例如改善電學特性、圖像品質、圖像品質維持性和對感光層的粘附性，可在底塗層2和感光層3之間設置中間層(未示出)。中間層可由聚合物樹脂化合物和有機金屬化合物組成。聚合物樹脂化合物的實例包括諸如聚乙烯醇縮丁醛、聚乙烯醇類樹脂、酪蛋白、聚醯胺類樹脂、纖維素類樹脂、明膠、聚氨酯類樹脂、聚酯類樹脂、甲基丙烯酸類樹脂、丙烯酸類樹脂、聚氯乙烯類樹脂、聚乙酸乙烯酯類樹脂、氯乙烯-乙酸乙烯酯-馬來酸酐類樹脂、矽樹脂、矽-醇酸樹脂、酚醛類樹脂和三聚氰胺類樹脂等乙縮醛類樹脂。有機金屬化合物的實例包括含有鋯、鈦、鋁、鎂、矽等的那些化合物。這些化合物可以單獨使用，或作為它們的混合物或縮聚物使用。其中，由於含有鋯或矽的有機金屬化合物顯示殘留電位較低、因環境而導致的電位變化很小且重複使用過程中的電位變化很小，所以能提供優異的性能。矽化合物的實例包括乙烯基三甲氧基矽烷、y-甲基丙烯醯氧基丙基-三((3-甲氧基乙氧基)矽烷、卩-(3，4-環氧環己基)乙基三甲氧基矽垸、y-縮水甘油氧基丙基三甲氧基矽垸、乙烯基三乙醯氧基矽烷、y-巰基丙基三甲氧基矽烷、y-氨丙基三乙氧基矽烷、n-(3-(氨乙基)-y-氨丙基三甲氧基矽垸、n-(3-(氨乙基)個氨丙基甲基甲氧基矽垸、n,n-二(P-羥基乙基)卞氨丙基三乙氧基矽垸和y-氯丙基三甲氧基矽垸。其中，特別優選的矽化合物包括諸如乙烯基三乙氧基矽烷、乙烯基三(2-甲氧基乙氧基矽烷)、3-甲基丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽垸、3-縮水甘油氧基丙基三甲氧基矽垸、2-(3，4-環氧環己基)乙基三甲氧基矽垸、n-2-(氨乙基)3-氨丙基三甲氧基矽垸、n-2-(氨乙基)3-氨丙基甲基二甲氧基矽垸、3-氨丙基三乙氧基矽烷、n-苯基-3-氨丙基三甲氧基矽垸、3-巰基丙基三甲氧基矽烷和3-氯丙基三甲氧基矽烷等矽垸偶聯劑。有機鋯化合物的實例包括丁氧基鋯、乙醯乙酸乙酯鋯、三乙醇胺鋯、乙醯丙酮丁氧基鋯、乙醯乙酸乙酯丁氧基鋯、乙酸鋯、草酸鋯、乳酸鋯、磷酸鋯、辛酸鋯、環垸酸鋯、月桂酸鋯、硬脂酸鋯、異硬脂酸鋯、甲基丙烯酸丁氧基鋯、硬脂酸丁氧基鋯和異硬脂酸丁氧基鋯。有機鈦化合物的實例包括鈦酸四異丙酯、鈦酸四正丁酯、鈦酸丁酯二聚體、四(2-乙基己基)鈦酸酯、乙醯丙酮鈦、多乙醯丙酮鈦、亞辛基羥乙酸鈦、乳酸鈦銨鹽、乳酸鈦、乳酸鈦乙酯、三乙醇鈦胺化物和多羥基硬脂酸鈦。有機鋁化合物的實例包括異丙醇鋁、單丁氧基二異丙醇鋁、丁醇鋁、二(乙醯乙酸乙酯)二異丙醇鋁和三(乙醯乙酸乙酯)鋁。中間層也起電阻擋層的作用，並且改善上層的塗布性。然而，如果中間層過厚，則電屏障變得過強，因而導致重複使用過程中的靈敏度下降或電位上升。因此，將中間層的厚度設定為0.1^im5iiim。(感光層)感光層3包括電荷產生層31和層積在電荷產生層31上的電荷輸送層32。可在電荷輸送層32上進一步層積保護層(未示出)。通過進行電荷產生物質的真空沉積或塗布含有電荷產生物質的分散液來形成電荷產生層31。在通過塗布分散液形成電荷產生層的情況下，電荷產生層31是通過塗布含有分散在其中的電荷產生物質以及有機溶劑、粘合劑樹脂、添加劑等的分散液而形成的。電荷產生材料優選為金屬酞菁顏料，特別優選的是具有下述特定晶體的鎵酞菁。在該示例性實施方式中所用的氯鎵酞菁可通過任何已知的方法製備，例如，在日本特開平5-263007和5-279591中公幵的那些方法。在電荷產生層31中所用的粘合劑樹脂可選自廣泛的絕緣樹脂或諸如聚-N-乙烯基咔唑、聚乙烯基蒽、聚乙烯基芘和聚矽烷等有機光導電性聚合物。粘合劑樹脂的優選實例包括但不局限於諸如聚乙烯醇縮乙醛類樹脂、聚芳酯類樹脂(例如，雙酚A與鄰苯二甲酸的縮聚物)、聚碳酸酯類樹脂、聚酯類樹脂、苯氧類樹脂、氯乙烯-乙酸乙烯酯類共聚物、聚醯胺類樹脂、丙烯酸類樹脂、聚丙烯醯胺類樹脂、聚乙烯基吡啶類樹脂、纖維素類樹脂、聚氨酯類樹脂、環氧類樹脂、酪蛋白、聚乙烯醇類樹脂和聚乙烯吡咯烷酮類樹脂等絕緣樹脂。這些粘合劑樹脂可以單獨使用或者兩種以上組合使用。其中，特別優選的是聚乙烯醇縮乙醛類樹脂。在電荷產生層形成用塗布溶液中，電荷產生物質和粘合劑樹脂的混合比(重量比)優選為10:11:10。用於製備所述塗布溶液的溶劑可以從諸如醇類、芳烴類、滷代烴類、酮類、酮醇類、醚類和酯類等已知有機溶劑中任意選擇。有機溶劑的實例包括諸如甲醇、乙醇、正丙醇、異丙醇、正丁醇、苄醇、甲基溶纖劑、乙基溶纖劑、丙酮、甲基乙基酮、環己酮、乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸正丁酯、二噁烷、四氫呋喃、二氯甲烷、氯仿、氯苯和甲苯等常規有機溶劑。分散液用溶劑可以單獨使用，或者兩種以上組合使用。混合溶劑可以任意選擇，只要其作為混合溶劑能溶解粘合劑樹脂即可。分散所用的工具可以是任何常規工具，例如輥磨機、球磨機、振動球磨機、超微磨碎機、砂磨機、膠磨機或塗料振動器等。形成電荷產生層所用的塗布方法可以是諸如刮刀塗布法、繞線棒塗布法、噴霧塗布法、浸漬塗布法、珠塗法、氣刀塗布法或幕塗法等任何常用方法。在上述方法中被分散的顆粒的粒徑優選為0.5|iim以下，更優選為0.3jam以下，進一步優選為0.15nm以下，以獲得較高的靈敏度和較高的穩定性。為了改善電學特性、防止圖像缺陷等，可將電荷產生材料進行表面處理。進行表面處理可改善電荷產生材料的分散性以及電荷產生層形成用塗布溶液的塗布性，從而容易並可靠地形成具有高水平的平滑性和分散均一性的電荷產生層31。結果可以抑制諸如霧化或重影等圖像缺陷的發生，可以改善圖像品質維持性。此外，可以顯著提高電荷產生層形成用塗布溶液的儲存穩定性，從而有效地延長貯存期(potlife)，因此實現感光體製備的成本降低。表面處理劑可以是具有可水解基團的有機金屬化合物或矽垸偶聯劑。具有可水解基團的有機金屬化合物或矽烷偶聯劑優選為式(A):Rp-M-Yq(其中R代表有機基團，M代表除鹼金屬之外的金屬原子或矽原子，Y代表可水解基團，p和q各自獨立地是l4的整數，p和q的和等於M的原子價)所表示的化合物。在式(A)中，R所表示的有機基團包括諸如甲基、乙基、丙基、丁基、辛基等烷基；諸如乙烯基和烯丙基等烯基；諸如環己基等環垸基；諸如苯基和萘基等芳基；諸如甲苯基等垸芳基；諸如苄基和苯乙基等芳烷基；諸如苯乙烯基等芳烯基；諸如呋喃基、噻吩基、吡咯垸基、吡啶基和咪唑基等雜環殘基。這些有機基團可以具有一種以上的取代基。在式(A)中，Y所表示的可水解的基團的實例包括諸如甲氧基、乙氧基、丙氧基、丁氧基、環己氧基、苯氧基和苯甲氧基等醚類基團；諸如乙醯氧基、丙醯氧基、丙烯醯氧基、甲基丙烯醯氧基、苯甲醯氧基、甲垸磺醯氧基、苯磺醯氧基和苯甲氧羰基等酯類基團；諸如氯原子等滷素原子。在式(A)中，對M不作特別限定，只要其不是鹼金屬即可，但優選的是鈦原子、鋁原子、鋯原子或矽原子。更具體而言，在本發明中，優選使用被如上所述的有機基團或可水解官能團取代的有機鈦化合物、有機鋁化合物、有機鋯化合物和矽烷偶聯劑。矽烷偶聯劑的實例包括乙烯基三甲氧基矽烷、Y-甲基丙烯醯氧基丙基-三(P-甲氧基乙氧基)矽烷、P-(3,4-環氧環己基)乙基三甲氧基矽烷、Y-縮水甘油氧基丙基三甲氧基矽烷、乙烯基三乙醯氧基矽烷、Y-巰基丙基三甲氧基矽烷、Y-氨丙基三乙氧基矽垸、N-P-(氨乙基)-Y-氨丙基三甲氧基矽垸、N-P-(氨乙基)個氨丙基甲基甲氧基矽烷、N,N-二(P-羥基乙基)卞氨丙基三乙氧基矽垸和Y-氯丙基三甲氧基矽烷。其中更優選的是乙烯基三乙氧基矽烷、乙烯基三(2-甲氧基乙氧基矽烷)、3-甲基丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽垸、3-縮水甘油氧基丙基三甲氧基矽垸、2-(3,4-環氧環己基)乙基三甲氧基矽垸、N-2-(氨乙基)-3-氨丙基三甲氧基矽垸、N-2-(氨乙基)-3-氨丙基甲基二甲氧基矽烷、3-氨丙基三乙氧基矽烷、N-苯基-3-氨丙基三甲氧基矽垸、3-巰基丙基三甲氧基矽垸和3-氯丙基三甲氧基矽垸。也可以使用如下有機鋯化合物丁氧基鋯、乙醯乙酸乙酯鋯、三乙醇胺鋯、乙醯丙酮丁氧基鋯、乙醯乙酸乙酯丁氧基鋯、乙酸鋯、草酸鋯、乳酸鋯、磷酸鋯、辛酸鋯、環烷酸鋯、月桂酸鋯、硬脂酸鋯、異硬脂酸鋯、甲基丙烯酸丁氧基鋯、硬脂酸丁氧基鋯和異硬脂酸丁氧基鋯。也可以使用如下有機鋯化合物鈦酸四異丙酯、鈦酸四正丁酯、鈦酸丁酯二聚體、四(2-乙基己基)鈦酸酯、乙醯丙酮鈦、多乙醯丙酮鈦、亞辛基羥乙酸鈦、乳酸鈦銨鹽、乳酸鈦、乳酸鈦乙酯、三乙醇鈦胺化物和多羥基硬脂酸鈦。可以使用如下有機鋁化合物異丙醇鋁、單丁氧基二異丙醇鋁、丁醇鋁、二(乙醯乙酸乙酯)二異丙醇鋁和三(乙醯乙酸乙酉旨)鋁。從前述有機金屬化合物和矽烷偶聯劑得到的水解產物也是可用的。水解產物的實例包括在式(A)所表示的有機金屬化合物中，通過與基團M(除鹼金屬之外的金屬原子或矽原子)連接的基團Y(可水解基團)或作為基團R(有機基團)的取代基的可水解基團的水解而得到的那些產物。在有機金屬化合物或矽烷偶聯劑具有兩個以上可水解基團的情況下，無需將其全部水解。這些有機金屬化合物和矽垸偶聯劑可以單獨使用，或兩種以上組合使用。以具有可水解基團的有機金屬化合物和/或矽垸偶聯劑(下文中統稱為"有機金屬化合物")塗布酞菁顏料的方法的實例包括在調整酞菁顏料晶體的過程中塗布酞菁顏料的方法；在將顏料分散在粘合劑樹脂中之前塗布酞菁顏料的方法；在將顏料分散在粘合劑樹脂中的過程中將有機金屬化合物與酞菁顏料混合的方法；以及將酞菁顏料分散在粘合劑樹脂中，然後將有機金屬化合物分散在其中的方法。更具體而言，在調整顏料晶體的過程中預先塗布酞菁顏料的方法的實例包括在調整晶體之前將有機金屬化合物和酞菁顏料的混合物加熱的方法；在調整晶體之前將有機金屬化合物與酞菁顏料混合，然後通過幹法將所述混合物機械研磨的方法；在調整晶體之前，將有機金屬化合物、水或水和有機溶劑的混合物與酞菁顏料混合，然後通過溼法研磨混合物的方法。將顏料分散在粘合劑樹脂中之前塗布酞菁顏料的方法的實例包括將有機金屬化合物、水或水和有機溶劑的混合物以及酞菁顏料的混合物加熱的方法；直接將有機金屬化合物噴射在酞菁顏料上的方法；將有機金屬化合物與酞菁顏料混合，然後將混合物研磨的方法。在將顏料分散在粘合劑樹脂中的過程中將有機金屬化合物與酞菁顏料混合的方法的實例包括在混合的同時依次將有機金屬化合物、酞菁顏料和粘合劑樹脂添加到分散溶劑中的方法；以及將這些成分同時添加並混合的方法。為了改善電學特性和圖像品質，電荷產生層形成用塗布溶液可以包含各種添加劑。添加劑的實例包括已知的材料，例如諸如四氯苯醌、四溴苯醌和蒽醌等醌類化合物；四氰基醌二甲烷類化合物；諸如2,4，7-三硝基芴酮和2，4,5,7-四硝基-9-芴酮等芴酮類化合物；諸如2-(4-聯苯基)_5-(4-叔丁基苯基)-1,3,4-噁二唑、2，5-二(4-萘基)-1,3，4-噁二唑和2,5-二(4-二乙基氨基苯基)-1,3,4-噁二唑等噁二唑類化合物；咕噸酮類化合物；噻吩類化合物；電子輸送性物質，例如，諸如3，3',5,5'-四叔丁基聯苯醌等聯苯醌類化合物；多環稠合或偶氮類電子輸送性顏料；鋯螯合物；鈦螯合物；鋁螯合物；烷氧基鈦類化合物；有機鈦類化合物；和矽垸偶聯劑。矽烷偶聯劑的實例包括乙烯基三甲氧基矽烷、Y-甲基丙烯醯氧基丙基-三(P-甲氧基乙氧基)矽烷、(3-(3,4-環氧環己基)乙基三甲氧基矽垸、縮水甘油氧基丙基三甲氧基矽烷、乙烯基三乙醯氧基矽垸、Y-巰基丙基三甲氧基矽垸、Y-氨丙基三乙氧基矽垸、N-P-(氨乙基)-Y-氨丙基三甲氧基矽垸、N-(3-(氨乙基)-y-氨丙基甲基甲氧基矽垸、N，N-二(P-羥基乙基)-Y-氨丙基三乙氧基矽烷和Y-氯丙基三甲氧基矽垸。鋯螯合物的實例包括丁氧基鋯、乙醯乙酸乙酯鋯、三乙醇胺鋯、乙醯丙酮丁氧基鋯、乙醯乙酸乙酯丁氧基鋯、乙酸鋯、草酸鋯、乳酸鋯、磷酸鋯、辛酸鋯、環垸酸鋯、月桂酸鋯、硬脂酸鋯、異硬脂酸鋯、甲基丙烯酸丁氧基鋯、硬脂酸丁氧基鋯和異硬脂酸丁氧基鋯。鈦螯合物的實例包括鈦酸四異丙酯、鈦酸四正丁酯、鈦酸丁酯二聚體、四(2-乙基己基)鈦酸酯、乙醯丙酮鈦、多乙醯丙酮鈦、亞辛基羥乙酸鈦、乳酸鈦銨鹽、乳酸鈦、乳酸鈦乙酯、三乙醇鈦胺化物和多羥基硬脂酸鈦。鋁螯合物的實例包括異丙醇鋁、單丁氧基二異丙醇鋁、丁醇鋁、二(乙醯乙酸乙酯)二異丙醇鋁和三(乙醯乙酸乙酯)鋁。這些化合物可以單獨使用，或作為兩種以上化合物的混合物或縮聚物使用。形成電荷產生層31的塗布方法可以是任何常規方法，例如刮刀塗布法、繞線棒塗布法、噴霧塗布法、浸漬塗布法、珠塗法、氣刀塗布法或幕塗法。塗布溶液可以包含少量的矽油作為流平劑以改善塗膜的平滑性。電荷產生層31的厚度優選為0.1|Lim5|Lim，更優選為0.2|_im2.0^im。可通過任何已知技術形成電荷輸送層32。電荷輸送層包含電荷輸送材料和粘合劑樹脂，或電荷輸送聚合物。可包含在電荷輸送層32中的電荷輸送物質的實例包括但不局限於諸如對苯醌、四氯苯醌、四溴苯醌和蒽醌等醌類化合物；諸如四氰基醌二甲烷和2,4,7-三硝基芴酮等芴酮類化合物；咕噸酮類化合物；二苯甲酮類化合物；氰乙烯類化合物；乙烯類化合物，以及諸如三芳基胺類化合物、聯苯胺類化合物、芳垸烴類化合物、芳基取代的乙烯類化合物、二苯乙烯類化合物、蒽類化合物和腙類化合物等空穴輸送化合物。電荷輸送物質可以單獨使用，或者兩種以上組合使用，但從遷移率的觀點考慮，優選的是式(B-l)(B-3)所表示的那些物質。formulaseeoriginaldocumentpage34在式(B-1)中，Rm代表甲基；n'代表02的整數；A嚴和ARB2各自獨立地代表具有取代基或不具有取代基的芳基，其中取代基是滷素原子、具有15個碳原子的垸基、具有15個碳原子的烷氧基或被具有l3個碳原子的烷基取代的氨基。在式(B-2)中，R^和RB"可以彼此相同或不同，並各自代表氫原子、滷原子、具有15個碳原子的烷基或具有15個碳原子的烷氧基；RB3、rb3'、rM和R^可以彼此相同或不同，並各自代表氫原子、滷素原子、具有15個碳原子的垸基或具有15個碳原子的垸氧基、被具有l2個碳原子的垸基取代的氨基、具有取代基或不具有取代基的芳基或-C(RB5)=C(RB6)(RB7)，其中R85、R^和R^各自獨立地代表氫原子、具有取代基或不具有取代基的烷基、或具有取代基或不具有取代基的芳基；m'和n"各自獨立地表示02的整數。在(B-3)中，RB8代表氫原子、具有15個碳原子的垸基、具有l5個碳原子的烷氧基、具有取代基或不具有取代基的芳基或-CH=CH-CH=C(ArB3)2，其中ArB3代表具有取代基或不具有取代基的芳基；Rb8和RBw可以彼此相同或不同，並各自代表氫原子、卣原子、具有l5個碳原子的烷基、具有15個碳原子的烷氧基、被具有12個碳原子的烷基取代的氨基、或具有取代基或不具有取代基的芳基。電荷輸送層32中的粘合劑樹脂可以任意選自任何已知的粘合劑樹脂，但優選的是能形成絕緣膜的樹脂。粘合劑樹脂的實例包括但不局限於諸如聚碳酸酯類樹脂、聚酯類樹脂、聚芳酯類樹脂、甲基丙烯酸類樹脂、丙烯酸類樹脂、聚氯乙烯類樹脂、聚偏二氯乙烯樹脂、聚苯乙烯類樹脂、丙烯腈-苯乙烯共聚物、丙烯腈-丁二烯共聚物、聚乙酸乙烯酯類樹脂、苯乙烯-丁二烯共聚物、偏二氯乙烯-丙烯腈共聚物、氯乙烯-乙酸乙烯酯共聚物、氯乙烯-乙酸乙烯酯-馬來酸酐共聚物、矽樹脂、矽酮-醇酸類樹脂、酚醛類樹脂、苯乙烯-醇酸類樹脂、聚-N-咔唑、聚乙烯醇縮丁醛、聚乙烯醇縮甲醛、聚碸、酪蛋白、明膠、聚乙烯醇、乙基纖維素、酚樹脂、聚醯胺、聚丙烯醯胺、羧甲基纖維素、偏二氯乙烯聚合物蠟和聚氨酯等絕緣樹脂；以及諸如聚乙烯咔唑、聚乙烯蒽、聚乙烯芘、聚矽烷以及在日本特開平8-176293和8-208820中描述的聚酯類電荷輸送聚合物等有機光導電性聚合物。這些粘合劑樹脂可以單獨使用，或者兩種以上組合使用。特別優選的是聚碳酸酯類樹脂、甲基丙烯酸類樹脂和丙烯酸類樹脂，這是因為它們可提供與電荷輸送材料的優異的相容性、溶劑中的優異溶解性和優異的強度。電荷輸送物質和粘合劑樹脂的混合比(重量比)優選為10:11:5。有機光導電性聚合物可以單獨使用。有機光導電性聚合物可以是任何已知的具有電荷輸送性的聚合物，例如聚-N-乙烯基咔唑和聚矽烷。由於其優異的電荷輸送性，特別優選在日本特開平8-176293和8-208820中描述的聚酯類高分子電荷輸送材料。這些高分子電荷輸送材料可以單獨使用或者與前述粘合劑樹脂混合使用以形成電荷輸送層32。在將電荷輸送層32配置為電子照相感光體的表面層(感光層的離導電性基體最遠的那一層)的情況下，電荷輸送層32優選包含提供潤滑性的顆粒(例如，二氧化矽類顆粒、氧化鋁類顆粒、諸如聚四氟乙烯(PTFE)等氟樹脂顆粒，以及矽樹脂顆粒)以使表面更耐磨損和刮擦，並改善清潔性，便於去除附著在感光體表面上的顯影劑。這些潤滑性顆粒可以兩種以上組合使用，特別優選的是氟樹脂顆粒。所述氟樹脂顆粒優選為下述一種或多種樹脂顆粒由選自四氟乙烯樹脂、氯三氟乙烯樹脂、六氟丙烯樹脂、氟乙烯樹脂、偏二氟乙烯樹脂、二氯二氟乙烯樹脂及其共聚物的樹脂(特別優選的是四氟乙烯樹脂和偏二氟乙烯樹脂)製得的樹脂顆粒。氟樹脂顆粒的初級粒徑優選為0.05pmlnm，更優選為0.1pm0.5pm。如果氟樹脂顆粒的初級粒徑小於0.05pm，則在分散過程中或分散之後顆粒容易導致凝集。另一方面，如果氟樹脂顆粒的初級粒徑大於lpm，則圖像缺陷的發生率會增加。相對於電荷輸送層的總量，氟樹脂在電荷輸送層中的含量優選為0.1重量％40重量％，特別優選為1重量％30重量％。如果上述含量小於1重量％，則由氟樹脂顆粒的分散液帶來的改性效果會不足。另一方面，如果上述含量大於40重量％，則光透過性會降低且重複使用過程中的殘留電位會升高。電荷輸送層32可通過塗布電荷輸送層形成用塗布溶液，然後將其乾燥而形成，所述電荷輸送層形成用塗布溶液是通過將電荷輸送物質、粘合劑樹脂和其他材料溶解在合適的溶劑中得到的。形成電荷輸送層32所用的溶劑的實例包括諸如甲苯和氯苯等芳烴類溶劑；諸如甲醇、乙醇和正丁醇等脂肪醇類溶劑；諸如丙酮、環己酮和2-丁酮等酮類溶劑；諸如二氯甲烷、氯仿和二氯乙烯等滷代烴類溶劑；諸如四氫呋喃、二噁烷、乙二醇和乙醚等環狀或直鏈醚類溶劑；以及這些溶劑的混合物。電荷輸送物質和粘合劑樹脂的混合比(重量比)優選為10:11:5。電荷輸送層形成用塗布溶液可以包含諸如矽油等流平劑以改善塗膜的平滑性。將氟樹脂分散在電荷輸送層32中所用的裝置的實例包括輥磨機、球磨機、振動球磨機、超微磨碎機、砂磨機、高壓均質器、超聲波分散器、膠磨機、碰撞型無介質分散器或滲透型無介質分散器。可通過例如將氟樹脂顆粒分散在含溶解在溶劑中的粘合劑樹脂和電荷輸送材料的溶液中來將氟樹脂分散在用於形成電荷輸送層32的塗布溶液中。在製備用於形成電荷輸送層32的塗布溶液的過程中，優選將塗布溶液的溫度控制在0°C50°C。在製備塗布溶液的過程中將塗布溶液的溫度控制在0"C5(TC的方法的實例包括以水、空氣或冷卻介質冷卻所述溶液；在製備過程中控制室溫(通常15'C25。C);以熱水、熱空氣或加熱器溫熱所述溶液；以及以生熱較少的材料、易散熱的材料或易蓄熱的材料構建塗布溶液的製造設備。塗布溶液包含少量的分散助劑以改善分散液的分散穩定性並防止塗膜形成過程中的分散液凝集，這種方法也是有效的。分散助劑的實例包括氟類表面活性劑、氟類聚合物、矽酮聚合物和矽油。將氟樹脂和分散助劑分散在少量溶劑中，預先攪拌並混合，然後將所得物與溶解有電荷輸送材料、粘合劑樹脂和分散溶劑的溶液在攪拌下混合，然後根據前述方法分散，這也是一種有效的方法。形成電荷輸送層32的塗布方法的實例包括浸漬塗布法、擠出塗布法、噴霧塗布法、輥塗機塗布法、繞線棒塗布法、凹版塗布法、珠塗法、幕塗法、刮刀塗布法和氣刀塗布法。電荷輸送層32的厚度優選為5|am50|am，更優選為10^im40nm。感光體12可在感光層13中進一步包含諸如抗氧化劑和光穩定劑等其他添加劑以防止由電子照相裝置中產生的臭氧、氧化性氣體、光或熱造成的感光體12的劣化。抗氧化劑的實例包括位阻酚、位阻胺、對苯二胺、芳烷烴、對苯二酚、螺色滿(spirochromane)、螺茚酮(spiroindanone)及其衍生物、有機硫化合物和有機磷化合物。酚類抗氧化劑的具體實例包括2,6-二叔丁基-4-甲基苯酚、苯乙烯化苯酚、正十八烷基-3-(3，，5，-二叔丁基-4-羥基苯基)丙酸酯、2,2，-亞甲基-二_(4_甲基_6_叔丁基苯酚)、2-叔丁基-6-(3-叔丁基-5，-甲基-2，-羥基苯基)-4-甲基苯基丙烯酸酯、4,4'-亞丁基-二-(3-甲基-6-叔丁基苯酚)、4,4，-硫-二-(3-甲基-6-叔丁基苯酚)、1，3，5-三(4-叔丁基-3-羥基-2，6-二甲基苄基)異氰脲酸酯、四[亞甲基-3-(3',5-二叔丁基-4-羥基苯基)丙酸酯]甲烷和3,9-二[2-[3-(3-叔丁基-4-羥基-5-甲基苯基)丙醯氧基]-l，l-二甲基乙基]-2,4,8，10-四氧螺[5.5]i^—垸。位阻胺類抗氧化劑的具體實例包括二(2,2，6，6-四甲基-4-哌啶基)癸二酸酯、二(l，2,2，6，6-五甲基-4-哌啶基)癸二酸酯、1-[2-[3-(3,5-二叔丁基-4-羥基苯基)丙醯氧基]乙基]-4-[3-(3，5-二叔丁基-4-羥基苯基)丙醯氧基]-2,2，6，6-四甲基哌啶、8-節基-7，7,9,9-四甲基-3-辛基-1,3,8-三氮雜螺[4.5]H-—烷-2，4-二酮、4-苯甲醯氧基-2，2，6,6-四甲基哌啶、琥珀酸二甲基酯-1-(2-羥基乙基)-4-羥基-2，2,6,6-四甲基哌啶縮聚物、聚[{6-(1,1,3，3-四甲基丁基)亞氨基-1，3,5-三嗪-2,4-二戊基)}{(2，2，6,6-四甲基-4-哌啶基)亞氨基}六亞甲基{(2，3，6，6-四甲基-4-哌啶基)亞氨基}]、2-(3,5-二叔丁基-4-羥基苄基)-2-正丁基丙二酸酯二(l,2,2,6，6-五甲基-4-哌啶基)禾口N，N，-二(3-氨丙基)乙二胺-2,4-二[N-丁基-N-(l,2,2，6,6-五甲基-4-哌啶基)氨基]-6-氯-l，3，5-三嗪縮合物。有機硫類抗氧化劑的實例包括二月桂基-3,3，-硫代二丙酸酯、二肉豆蔻基-3,3-硫代二丙酸酯、二硬脂基-3，3'-硫代二丙酸酯、季戊四醇-四-((3-月桂基-硫代丙酸酯)、二(十三垸基)-3，3，-硫代二丙酸酯和2-巰基苯並咪唑。有機磷類抗氧化劑的實例包括三壬基苯基亞磷酸酯、三苯基亞磷酸酯和三(2,4-二叔丁基苯基)-亞磷酸酯。有機硫類抗氧化劑和有機磷類抗氧化劑被稱為二級抗氧化劑，當與諸如酚類抗氧化劑或胺類抗氧化基等一級抗氧化劑組合使用時可產生協同作用。光穩定劑的實例包括二苯甲酮、苯並三唑、二硫代氨基甲酸鹽和四甲基哌啶的衍生物。二苯甲酮類光穩定劑的實例包括2-羥基-4-甲氧基二苯甲酮、2-羥基-4-辛氧基二苯甲酮和2,2，-二羥基-4-甲氧基二苯甲酮。苯並三唑類光穩定劑的實例包括2-(2，-羥基-5，-甲基苯基)-苯並三唑、2-[2，-羥基-3，-(3",4"，5",6，，-四氫鄰苯二甲醯亞氨基-甲基)-5，-甲基苯基]-苯並三唑、2-(2，-羥基-3，-叔丁基-5，-甲基苯基)-5-氯苯並三唑、2-(2，-羥基-3，-叔丁基-5，-甲基苯基)-5-氯苯並三唑、2-(2，-羥基-3，，5，-叔丁基苯基)-苯並三唑、2-(2，-羥基-5，-叔辛基苯基)-苯並三唑和2-(2，-羥基-3，,5，隱二叔戊基苯基)-苯並三唑。其他化合物的實例包括2，4-二叔丁基苯基-3'，5'-二叔丁基-4'-羥基苯甲酸酯和二丁基-二硫代氨基甲酸鎳。感光體12可進一步包含至少一種電子接受性物質以改善靈敏度、降低殘留電位、降低重複使用所產生的疲勞等。電子接受性物質的實例包括琥珀酸酐、馬來酸酐、二溴馬來酸酐、鄰苯二甲酸酐、四溴鄰苯二甲酸酐、四氰乙烯、四氰醌二甲烷、鄰二硝基苯、間二硝基苯、四氯苯醌、二硝基蒽醌、三硝基芴酮、苦味酸、鄰硝基苯甲酸、間硝基苯甲酸和鄰苯二甲酸。其中，特別優選具有諸如C1、CN或N02等吸電子取代基的芴酮類、醌類和苯類衍生物。在該示例性實施方式中，可在電荷輸送層32上設置保護層(未示出)。所述保護層可防止帶電時的電荷輸送層32的化學變化，並改善感光層13的機械強度。在具有層積結構的感光體12中，保護層可防止帶電時的電荷輸送層32的化學變化，並改善感光體12的機械強度，從而改善表面層對磨損或刮擦的耐受性。保護層由粘合劑樹脂(包括固化性樹脂)和電荷輸送化合物組成。保護層為含有固化性樹脂或電荷輸送化合物的固化性樹脂膜、由含有導電性材料的適當的粘合劑樹脂形成的膜等形態。固化性樹脂可以是任何已知的樹脂，其實例包括酚醛樹脂、聚氨酯樹脂、三聚氰胺樹脂、鄰苯二甲酸二烯丙基酯樹脂和矽氧垸樹脂。電荷輸送化合物可以是電荷輸送層32中所用的前述電荷輸送物質200810090219.X說明書第36/59頁或電荷輸送樹脂。導電性材料的實例包括但不局限於諸如二甲基二茂鐵等金屬茂，以及諸如氧化銻、氧化錫、氧化鈦、氧化銦和ITO(氧化銦錫)等金屬氧化物。保護層的電阻率優選為109acm1014dcm。如果電阻率大於lO"acm,則殘留電位會升高；另一方面，如果電阻率小於109^cm，則在沿表面方向上的電荷洩漏會超過可忽略不計的水平，從而導致解析度下降。保護層的厚度優選為0.5|am20jam，更優選為2(im10^im。在設置保護層的情況下，如果必要，可以在感光層3和保護層之間設置阻隔層以避免電荷從保護層到感光層3的洩漏。阻隔層可由與可包含在保護層中的那些材料相同的已知材料組成。所述保護層可包含含氟原子的化合物以具有表面潤滑性。表面潤滑性的改善起降低對清潔部件的摩擦係數的作用，從而改善耐磨損性。此外，所述化合物能防止放電產物、顯影劑或紙粉附著在感光體表面上，並實現更長的感光體使用壽命。可將含氟化合物以諸如聚四氟乙烯等含氟原子的聚合物的形式直接添加，或者以其顆粒的形式添加。保護層中含氟化合物的含量優選為20重量％以下。如果含量不在該範圍內，則會對交聯固化膜的成膜性有不利的影響。雖然前述保護層具有足夠的耐氧化性，但所述層可包含抗氧化劑以進一步增強耐氧化性。所述抗氧化劑優選為位阻酚或位阻胺，也可以是諸如有機硫抗氧化劑、有機磷抗氧化劑、二硫代氨基甲酸鹽抗氧化劑、硫脲抗氧化劑或苯並咪唑抗氧化劑等已知的抗氧化劑。保護層中的抗氧化劑的含量優選為15重量％以下，更優選為10重量％以下。位阻酚抗氧化劑的實例包括2，6-二叔丁基-4-甲基苯酚、2,5-二叔丁基氫醌、N，N，-六亞甲基二(3，5-二叔丁基-4-羥基氫-肉桂醯胺、3,5-二叔丁基-4-羥基-苄基膦酸-二乙基酯、2，4-二[(辛基硫代)甲基]-鄰甲酚、2,6-二叔丁基-4-乙基苯酚、2,2，-亞甲基二(4-甲基-6-叔丁基苯酚)、2,2'-亞甲基二(4-乙基-6-叔丁基苯酚)、4,4'-亞丁基二(3-甲基-6-叔丁基苯酚)、2,5-二叔戊基41氫醌、2-叔丁基-6-(3-丁基-2-羥基-5-甲基苄基)-4-甲基苯基丙烯酸酯和4,4'-丁叉基二(3-甲基-6-叔丁基苯酚)等。保護層可進一步包含其他用於形成塗膜的己知添加劑，例如流平劑、紫外線吸收劑、光穩定劑和表面活性劑。保護層可通過下述方法形成-將上述材料和添加劑的混合物塗布在感光層上，將所述塗層加熱以促進三維交聯反應，從而形成強固化膜。對加熱處理的溫度不作特別限定，只要下層感光層3不被破壞即可，但優選的是室溫至20(TC，特別優選的是100。C160。C。在採用交聯性材料的情況下，在形成保護層時，可在有或沒有適當催化劑存在下進行交聯反應。所述催化劑的實例包括諸如鹽酸、硫酸、磷酸、甲酸、乙酸和三氟乙酸等酸催化劑；諸如氨水和三乙胺等鹼類；諸如二乙酸二丁基錫、二辛酸二丁基錫和辛酸錫等有機錫化合物；諸如鈦酸四正丁基酯和鈦酸四異丙酯等有機鈦化合物；有機羧酸的鐵鹽、鎂鹽、鈷鹽、鋅鹽和鋯鹽；以及鋁螯合物。所述保護層可包含溶劑以使塗布過程容易進行。所述溶劑的具體實例包括諸如水、甲醇、乙醇、正丙醇、異丙醇、正丁醇、苄醇、甲基溶纖劑、乙基溶纖劑、丙酮、甲基乙基酮、環己酮、乙酸甲酯、乙酸正丁酯、二噁烷、四氫呋喃、二氯甲烷、氯仿、二甲基醚和二丁基醚等常規有機溶劑。這些溶劑可以單獨使用，或者兩種以上組合使用。在形成保護層時，塗布方法可以是任何常規方法，例如刮刀塗布法、繞線棒塗布法、噴霧塗布法、浸漬塗布法、珠塗法、氣刀塗布法或幕塗法等。在本示例性實施方式的感光體12中，可設置在電荷產生層之上以實現高解析度的該功能層的厚度可以任意選擇，只要得到所需的特性即可，但優選為50pm以下。在功能層為薄膜的情況下，特別有效的是含有金屬氧化物顆粒和受體化合物的底塗層2與高強度的保護層的組合。感光體12的結構不局限於前述結構。例如，在感光體12中，中間層或者保護層或者兩者都可以省略。更具體而言，感光體12可具有這樣的結構將底塗層2和感光層3依次層積在導電性基體1上；將底塗層2、中間層和感光層3依次層積在導電性基體1上；或者將底塗層2、感光層3和保護層依次層積在導電性基體1上。電荷產生層31和電荷輸送層32可以以相反的順序層積。感光層3可具有單層結構，在這種情況下，感光層之上可具有保護層，或者可具有底塗層2和保護層。如上所述，可將中間層設置在底塗層上。(顯影劑)在本發明的成像設備中，可以採用由調色劑單獨組成的單成分顯影劑或者由調色劑和載體組成的雙成分顯影劑。對可用於本發明的調色劑的形狀不作特別限定，但從獲得環境適應性和高品質圖像的觀點考慮，優選的是球形。考慮到獲得高轉印效率，球形調色劑的平均形狀係數(SF1)為100150，優選為100140。如果所述平均形狀係數(SF1)大於140，則轉印效率會下降，且在印刷樣品中的圖像品質劣化會變得肉眼可見。球形調色劑至少包含粘合劑樹脂和著色劑。球形調色劑主要由直徑優選為2|um12|Lim、更優選為3|iim9^im的顆粒組成。粘合劑樹脂的實例包括苯乙烯類、單烯烴類、乙烯基酯類、a-亞甲基脂肪單羧酸酯類、乙烯基醚類和乙烯基酮類的均聚物和共聚物。粘合劑樹脂的代表性實例包括聚苯乙烯、苯乙烯-丙烯酸烷基酯共聚物、苯乙烯-甲基丙烯酸烷基酯共聚物、苯乙烯-丙烯腈共聚物、苯乙烯-丁二烯共聚物、苯乙烯-馬來酸酐共聚物、聚乙烯和聚丙烯。其他實例包括聚酯、聚氨酯、環氧樹脂、矽樹脂、聚醯胺、改性松香和石蠟。著色劑的典型代表性實例包括諸如磁鐵礦和鐵氧體等磁性粉末、炭黑、苯胺藍、Calco油藍、鉻黃、群青、杜邦(DuPont)油紅、喹啉黃、氯化亞甲基藍、酞菁藍、孔雀綠草酸鹽、燈黑、玫瑰紅、C.I.(染料索引)顏料紅48:1、C.I.顏料紅122、C.I.顏料紅57:1、C.I.顏料黃97、C丄顏料黃17、C.I.顏料藍15:1和C.I.顏料藍15:3。可以將諸如電荷控制劑、防粘劑和其它無機顆粒等已知的添加劑以內部添加或外部添加的方式添加到所述球形調色劑中。防粘劑的代表性實例包括低分子量聚乙烯、低分子量聚丙烯、費託(Fischer-Tropsch)蠟、褐煤蠟、巴西棕櫚蠟、米糠蠟或小燭樹蠟。電荷控制劑可以是任何已知的電荷控制劑，其實例包括偶氮金屬絡合物、水楊酸的金屬絡合物和具有極性基團的樹脂型電荷控制劑。為了控制充電性質和粉末的流動性等，可以使用平均初級粒徑小至40nm以下的其他無機顆粒。如果必要，它們可以與具有更大粒徑的無機顆粒或有機顆粒組合使用以降低粘附力。這些無機顆粒可以選自已知的無機顆粒。對較小的無機顆粒進行表面處理可有效提高可分散性、改善粉末流動性。可以通過任何已知方法生產球形調色劑，對此沒有特殊限制。所述方法的具體實例包括捏合粉碎法；通過向由捏合粉碎法製造的顆粒施加機械衝擊或熱能來改變顆粒形狀的方法；乳液聚合凝集法或溶解懸浮法。此外，通過使凝集顆粒附著在由上述方法獲得的作為核的球形調色劑上，然後加熱熔合，可使調色劑具有核-殼結構。在將外部添加劑加入到球形調色劑中的情況下，可在亨舍爾(Henschel)混合機或V型混合機等中將其混合。在使用溼法製造球形調色劑的情況下，可通過溼法添加外部添加劑。(成像設備)在下文中，將對本示例性實施方式的成像設備10的機制進行描述。在本示例性實施方式的成像設備10中，充電單元14給感光體12的表面充電以達到預定電位。感光體12繞著旋轉軸X旋轉，當感光體12的表面上由充電單元14充電的部分到達裝有曝光單元18的位置時，由曝光單元18對所述部分進行光照射。結果，在感光體12上形成了與圖像數據對應的靜電潛像。感光體12繞著旋轉軸X繼續旋轉，當感光體12上的具有靜電潛像的部分到達裝有顯影單元20的位置時，以調色劑對靜電潛像進行顯影從而在感光體12上形成了與圖像數據對應的靜電潛像。感光體12繼續旋轉，當具有調色劑圖像的部分到達裝有轉印單元24的位置時，轉印單元24將調色劑圖像轉印到記錄介質27上。在已通過感光體12圍繞旋轉軸X的旋轉將調色劑圖像從感光體12的外表面轉印到記錄介質27上之後，當形成調色劑圖像的部分到達裝有除電單元28的位置時，除電單元28的除電光源28A朝著感光體12的表面發射除電用光，從而將感光體12表面上的電荷去除。然後，再次通過充電單元14對所述部分充電。如上所述，除電單元28的除電光源28A從感光體12的旋轉軸方向Y上的一個端部向另一個端部發射除電用光。將除電光源28A設置在感光體12的旋轉軸方向Y上的一個端部，使得除電用光的強度從感光體12的在旋轉軸方向Y上鄰近除電光源28A的端部向另一個端部逐漸降低。然而，如上所述，在底塗層2被包含在感光體12中並被設置在成像設備10上的情況下，本示例性實施方式的感光體12的底塗層2具有下述結構體積電阻值從感光體12的旋轉軸方向Y上鄰近除電光源28A的端部向另一個端部逐漸降低，因此感光體對除電用光的靈敏度從感光體12的旋轉軸方向Y上鄰近除電光源28A的端部向另一個端部逐漸升高。因此，在本示例性實施方式的成像設備10中，從感光體12表面去除電荷可以在感光體12的旋轉軸方向上的整個表面區域均一或基本均一地進行，因此可以抑制在圖像形成過程中曝光歷史(所謂的重影)在感光體12上的殘留。此外，在本示例性實施方式的成像設備10中，將向感光體12表面發射除電用光的除電光源28A設置在感光體12的旋轉軸方向上的一個端部，這樣，與在另一部分(例如，在旋轉軸方向Y上的另一個端部)設置有另一個除電光源28A的結構相比，成像設備10可具有更簡單的結構。因此，本發明的成像設備10即使以較簡單的結構也能抑制重影(在前面的圖像形成循環中產生的曝光歷史所導致的感光體12上的圖像缺陷)的出現。圖1顯示用於形成單色圖像的成像設備。本發明的成像設備不局限於這種形式，它可以是包含多個圖像形成單元的串列式彩色成像設備或旋轉式顯影裝置(也稱之為旋轉顯影機)。此處旋轉式顯影裝置指包含多個顯影單元的顯影裝置，所述顯影單元能依次旋轉移動，使得只有所需的顯影單元位於與感光體相對的位置，從而在感光體上依次形成每種目標顏色的調色劑圖像。此外，可將選自感光體、充電單元、潛像形成單元、顯影單元和清潔單元中的至少一種與除電單元一體化從而構成可從成像設備中拆除的處理盒。(第二示例性實施方式)在第一示例性實施方式中，描述了這樣的示例性結構底塗層2由單層組成，且其厚度從感光體12的旋轉軸方向Y上鄰近除電光源28A的端部向另一個端部逐漸降低，這樣，在底塗層2被包含在感光體12中並被設置在成像設備10上的情況下，可將底塗層2的體積電阻值調整為在旋轉軸方向Y上從鄰近除電光源28A的端部向另一個端部逐漸降低。在第二示例性實施方式中，將描述這樣的示例性結構底塗層2由兩層組成，為了在底塗層2被包含在感光體12中並被設置在成像設備10上的情況下使底塗層2的體積電阻值在旋轉軸方向Y上從鄰近除電光源28A的端部向另一個端部逐漸降低，對在導電性基體1側的底塗層以及在感光層3側的底塗層的各自的厚度進行調整。如圖4所示，本示例性實施方式的成像設備11包含感光體13。感光體13具有圓筒狀結構，並被設置成能圍繞旋轉軸X向特定方向(圖4中箭頭A的方向)旋轉。在感光體13周圍，沿著感光體13的旋轉方向(圖4中箭頭A的方向)依次配置有充電單元14、曝光單元18、顯影單元20、轉印單元24、清潔單元26和除電單元28。除了用感光體13代替感光體12外，本示例性實施方式的成像設備11具有與第一示例性實施方式的成像設備10相同的結構。因此，以相同的附圖標記表示同一單元，並省略其詳細說明。如圖5所示，感光體13至少由導電性基體1、依次層積在導電性基體1上的底塗層9和感光層3組成。感光體13的詳細結構將在後文進行描述。圖5所示的感光體13是功能分離型感光體，其中感光層3由電荷產生層31和電荷輸送層32組成。除了用底塗層9代替底塗層2夕卜，本示例性實施方式的感光體13具有與第一示例性實施方式的感光體12相同的結構。因此，以相同的附圖標記表示同一要素，並省略其詳細說明。如同第一示例性實施方式的底塗層2的情況一樣，通過將底塗層形成用塗布溶液塗布在導電性基體1上而形成底塗層9。如圖5所示，底塗層9由依次層積在導電性基體1上的底塗層9A和底塗層9B組成。在底塗層9被包含在感光體13中並被設置在成像設備10上的情況下，將底塗層9的體積電阻值調整為在旋轉軸方向Y上從鄰近除電光源28A的端部向另一個端部逐漸降低。測量體積電阻值的方法與在第一示例性實施方式中所述的方法相同，因此省略其詳細描述。與對感光體12的描述相同，在底塗層9被包含在感光體13中的情況下，與體積電阻值較低的部分的阻隔性能相比，底塗層9在體積電阻值較高的部分對導電性基體的阻隔性能更高。因此，在底塗層9被包含在感光體13中的情況下，在體積電阻值較高的部分，底塗層9對除電用光的靈敏度更低。相反，在底塗層9被包含在感光體13中的情況下，與體積電阻值較高的部分的阻隔性能相比，底塗層9在體積電阻值較低的部分對導電性基體的阻隔性能更低。因此，在底塗層9被包含在感光體13中的情況下，在體積電阻值較低的部分，底塗層9對除電用光的靈敏度更高。除電單元28的除電光源28A被設置在感光體13的旋轉軸方向Y上的一個端部，並至少向感光體13的旋轉軸方向Y上的需要去除電荷的區域發射除電用光。因此，從除電單元28的除電光源28A向感光體13表面發射的除電用光的強度，從感光體13表面的旋轉軸方向Y上鄰近除電單元28的端部向另一個端部，隨著離除電光源28A的距離的增加而逐漸降低。如此設置除電單元28從而滿足上述位置關係。如上所述，在本示例性實施方式的成像設備ll中，將除電光源28A設置在感光層13的旋轉軸方向上的一個端部，使得從除電光源28A向感光體13表面發射的除電用光的強度從感光體13表面的旋轉軸方向Y上鄰近除電光源28A的端部向另一個端部逐漸降低。另一方面，底塗層9的體積電阻值在旋轉軸方向Y上從鄰近除電光源28A的端部向另一個端部逐漸降低，因此感光體13的靈敏度在旋轉軸方向Y上從鄰近除電光源28A的端部向另一個端部逐漸升高，從而避免向感光體13發射的除電用光的強度在旋轉軸方向Y上不均勻。底塗層9的在旋轉軸方向Y上的鄰近除電光源28A的端部(鄰近除電光源28A的部分)的體積電阻值與在第一示例性實施方式的底塗層2的情況中所描述的體積電阻值的範圍相同。在本示例性實施方式中，為了如上所述調節底塗層9的體積電阻值以使其在旋轉軸方向Y上從鄰近除電光源28A的一端向另一端逐漸降低，如圖5所示，底塗層9具有兩層結構，其中底塗層9B層積在底塗層9A上，底塗層9A的厚度在旋轉軸方向Y上從鄰近除電光源28A的一端向另一端逐漸降低，底塗層9B的厚度在旋轉軸方向Y上從鄰近除電光源28A的一端向另一端逐漸增加。在鄰近除電光源28A的一側，底塗層9A比底塗層9B厚；而在另一側，底塗層9A比底塗層9B薄。底塗層9A的體積電阻率為l.OxlO8'2dcm1.0x10148acm。底塗層9B的體積電阻率為1.0x10148Q'cm1.0x1082Q'cm。如果底塗層9A的體積電阻率小於1.0x1082dcm，則擔心圖像濃度會顯著下降；如果其大於1.0xl0R8^cm，則擔心圖像濃度會升高。底塗層9B的體積電阻率也是一樣。底塗層9A和底塗層9B分別對應於本發明的成像設備的第一底塗層和第二底塗層。在本示例性實施方式中，底塗層9A和9B的"在旋轉軸方向上最靠近除電光源28A"的部分指在旋轉軸方向Y上離除電光源28A最近的部分，此處底塗層9A具有最大厚度，底塗層9B具有最小厚度。此外，在本示例性實施方式中，底塗層9A和9B的"在旋轉軸方向Y上最遠離除電光源28A"的部分指在旋轉軸方向Y上離除電光源28A最遠的部分，此處底塗層9A具有最小厚度，底塗層9B具有最大厚度。具有底塗層9A和層積在底塗層9A上的底塗層9B的雙層結構的底塗層9自身的厚度在旋轉軸方向Y上優選為近似均一或基本均一。如果上述厚度不均一，則感光層整體的膜厚度會變得不均勻並會導致難以與其他部件相互作用，從而造成設備不穩定。另一方面，底塗層9的厚度在旋轉軸方向Y上均一或基本均一的情況下，可以避免曝光單元18的曝光和顯影單元20的顯影的不均勻，從而進一步抑制圖像品質的劣化。可以將用於底塗層9A的底塗層塗布溶液塗布在導電性基體1上，然後將用於底塗層9B的底塗層塗布溶液塗布在底塗層9A上，從而形成由底塗層9A和底塗層9B組成的底塗層9。可以以與第一示例性實施方式的底塗層2的厚度中相同的方式調整底塗層9A和9B的厚度。可以以與第一示例性實施方式的底塗層2中相同的方式形成底塗層9A和9B，即，將含有金屬氧化物顆粒、添加劑、固化性樹脂、固化劑和溶劑的底塗層形成用塗布溶液塗布在導電性基體1上，從而得到所需厚度，然後固化所述塗層。底塗層9A和9B優選包含相同金屬元素的金屬氧化物顆粒。此外，底塗層9A和9B優選以相同的混合比包含相同的材料，並具有相同或基本相同的組成。如上所述，在底塗層9A和9B包含相同金屬元素的金屬氧化物顆粒並具有相同組成的情況下，可以降低感光體13的生產成本並提高其生產性。可以通過以與在第一示例性實施方式中所述的相同的方式調整金屬氧化物顆粒的混合條件，從而將底塗層9A和9B的體積電阻率調整到預定範圍內。更具體而言，可通過例如製備底塗層形成用塗布溶液以使其體積電阻率落入預定範圍內，從而將底塗層9A和9B的體積電阻率調整到預定範圍內，其中所述底塗層9A和9B構成本示例性實施方式的設置在成像設備11上的感光體13的底塗層9。(成像設備)在下文中，將對本示例性實施方式的成像設備ll的機制進行描述。在本示例性實施方式的成像設備11中，充電單元14給感光體13的表面充電以達到預定電位。感光體13繞著旋轉軸X旋轉，當感光體13表面上的由充電單元14充電的部分到達裝有曝光單元18的位置時，曝光單元18對所述部分進行光照射。結果，在感光體13上形成了與圖像數據對應的靜電潛像。感光體13繞著旋轉軸X繼續旋轉，當具有靜電潛像的感光體13上的部分到達裝有顯影單元20的位置時，以調色劑對靜電潛像進行顯影從而在感光體13上形成了與靜電潛像對應的調色劑圖像。感光體13繼續旋轉，當具有調色劑圖像的部分到達裝有轉印單元24的位置時，轉印單元24將調色劑圖像轉印到記錄介質27上。在已通過感光體13圍繞旋轉軸X的旋轉將調色劑圖像從感光體13的外表面轉印到記錄介質27上之後，當形成調色劑圖像的部分到達裝有除電單元28的位置時，除電單元28的除電光源28A朝著感光體13的表面發射除電用光，從而將感光體13表面上的電荷去除。然後，再次通過充電單元14對所述部分充電。如上所述，除電單元28的除電光源28A從感光體13的旋轉軸方向Y上的一個端部向另一個端部發射除電用光。將除電光源28A設置在感光體13的旋轉軸方向Y上的一個端部，使得除電用光的強度從感光體13的旋轉軸方向Y上鄰近除電光源28A的端部向另一個端部逐漸降低。然而，如上所述，在底塗層9被包含在感光體13中並被設置在成像設備11上的情況下，本示例性實施方式的感光體13的底塗層9具有下述結構體積電阻值從感光體13的旋轉軸方向Y上鄰近除電光源28A的端部向另一個端部逐漸降低，因此感光體對除電用光的靈敏度從感光體13的旋轉軸方向Y上鄰近除電光源28A的端部向另一個端部逐漸增加。因此，在本示例性實施方式的成像設備11中，從感光體13表面去除電荷可以在感光體13的旋轉軸方向上的全部表面區域均一或基本均一地進行，因此可以抑制在圖像形成過程中曝光歷史(所謂的重影)在感光體13上的殘留。此外，在本示例性實施方式的成像設備11中，將向感光體13表面發射除電用光的除電光源28A設置在感光體13的旋轉軸方向上的一個端部，這樣，與在另一部分(例如，在旋轉軸方向Y上的另一個端部)設置有另一個除電光源28A的結構相比，成像設備11可具有更簡單的結構。因此，本發明的成像設備ll即使以較簡單的結構也能抑制重影(在前面的圖像形成循環中產生的曝光歷史所導致的感光體13上的圖像缺陷)的出現。圖4顯示用於形成單色圖像的成像設備。本發明的成像設備不局限於這種形式，它可以是包含多個圖像形成單元的串列式彩色成像設備或旋轉式顯影裝置(也稱之為旋轉顯影機)。此處旋轉式顯影裝置指包含多個顯影單元的顯影裝置，所述顯影單元能依次旋轉移動，使得只有所需的顯影單元位於與感光體相對的位置，從而在感光體上依次形成每種目標顏色的調色劑圖像。此外，可將選自感光體、充電單元、潛像形成單元、顯影單元和清潔單元中的至少一種單元與除電單元一體化從而構成可從成像設備中拆除的處理盒。在下文中，將參照實施例和比較例提供本發明的進一步的細節。但本發明決不局限於這些實施例。(實施例Al)將100重量份氧化鋅顆粒(金屬氧化物顆粒，平均粒徑為70mn，BET比表面積為15m2/g，TAYCACorporation的試驗產品)與500重量份甲苯攪拌混合，然後向其中加入1.25重量份矽垸偶聯劑(信越化學社生產的KBM603)，將該混合物繼續攪拌2小時。然後減壓蒸餾除去甲苯，並在12(TC焙燒3小時。這樣製得經矽垸偶聯劑處理的氧化鋅顏料。將60重量份上述經表面處理的氧化鋅、0.3重量份茜素(SIGMA-ALDRICHJAPANK.K.生產)、13.5重量份作為固化劑的封端異氰酸酯(SumitomoBayerUrethaneCo.,Ltd.生產的SUMIJULE3175)、15重量份丁醛樹脂(積水化學社生產的BM-1)溶解在85重量份甲基乙基酮中，將38重量份的該溶液與25重量份甲基乙基酮混合，並在砂磨機中用粒徑為1mm的玻璃珠將該混合物分散。將所得的分散液樣品塗布在玻璃板上，使其乾燥後的厚度為20pm，並通過分光光度計測量乾燥膜對波長為950nm的光的透光率。當透光率達到30%時，停止分散工序，得到底塗層形成用分散液。用於測量透光率的上述樣品的體積電阻率為1.0xl0125(acm)。上述體積電阻率通過下述方法獲得利用測量工具(R12702A/BResistivityChamber,AdvantestCorporation生產)和高電阻測定器(R8340A數字高電阻/微電流計，AdvantestCorporation生產)向樣品片施加經調節可提供1000V/cm(施加電壓/組合物片厚度)電場的電壓30秒，然後以施加電壓和電壓施加後的電流值為基礎通過下述公式計算體積電阻率。體積電阻率(。.cm)=(19.63x施加電壓(V))/(電流值(A)x組合物片厚度(cm))向上述分散液中加入0.005重量份作為催化劑的二月桂酸二辛基錫和4.0重量份的矽樹脂顆粒(GEToshibaSiliconesCo.,Ltd.生產的TOSPEARL145)，從而得到底塗層形成用塗布溶液。通過浸漬法將所得的塗布溶液塗布在直徑30mm、長404mm且厚lmm的圓筒狀鋁基材上，使得塗布速度能從基材的旋轉軸Y的方向上的一端向另一端逐漸變化，從而得到膜厚度變化。在除電光源被設置在成像設備中的情況下，將膜厚度調節為在基材的旋轉軸方向上從鄰近除電光源的端部向基材的另一個端部以連續的方式降低。將所塗布的塗布溶液在195'C乾燥並固化27分鐘，從而得到平均厚度為20pm的底塗層，在旋轉軸方向上，底塗層的離除電光源最近的部分的厚度(即最大厚度)為23pm，離除電光源最遠的部分的厚度(即最小厚度)為17,。從基材的旋轉軸方向Y上的一端到另一端，在預定間隔(60mm)的5個點測量上述底塗層的體積電阻值。離除電光源最近的部分(具有最大厚度)的體積電阻值與離除電光源最遠的部分(具有最小厚度)的體積電阻值分別為1.0x1。8'57q和1.0x10844q。而且，觀測到上述兩點間的體積電阻值顯示從1.0x108'57q向1.0x10844q降低的趨勢。接下來，在底塗層上形成感光層。將15重量份作為電荷產生材料的氯鎵酞菁、10重量份作為粘合劑樹脂的氯乙烯-乙酸乙烯酯共聚物(UnionCarbideCorporation生產的VMCH)和200重量份乙酸正丁基酯的混合物在使用粒徑為lmm的玻璃珠的砂磨機中分散4小時。將175重量份的乙酸正丁酯和180重量份的甲基乙基酮加入到所述分散液中並攪拌，從而得到電荷產生層用塗布溶液。採用浸塗法將電荷產生層用塗布溶液塗布在底塗層上，並在常溫(25°C)乾燥，從而得到厚度為0.2|am的電荷產生層。將4重量份的^^-二苯基^，-二(3-甲基苯基)-[1,1']聯苯基-4，4'-二胺和6重量份的雙酚Z型聚碳酸酯樹脂(粘均分子量40,000)溶解在80重量份的四氫呋喃中，將所得溶液塗布在電荷產生層上，然後在115°C乾燥40分鐘，從而在電荷產生層上進一歩形成厚度為25pm的電荷輸送層。這樣得到了感光體。將所得的感光體安裝在印刷機(富士施樂株式會社生產的DocuCentreColorII4300)中，該印刷機改裝成LED(發射除電用光的光源)僅從感光體的旋轉軸方向Y(如圖2所示)上的一個端部向另一個端部朝著感光體的表面發射除電用光，而且，該印刷機配備有處理盒，該處理盒具有遮光部件，其對除了需要去除電荷的區域之外的區域進行遮蔽以避免其受到光照射。同時，將感光體以這樣的方式設置在印刷機中底塗層具有更大厚度(具有更高體積電阻值)的一端位於鄰近光源的一側，底塗層具有更小厚度(具有更低體積電阻值)的一端位於遠離光源的一側。上述成像設備中，在下述條件下，在30張A3記錄紙上以連續方式形成濃度為30%的全區域半色調品紅圖像由充電單元充電後的感光體表面上的充電電位為-700V，曝光單元對感光體的曝光能量為4.5mJ/m2，旋轉速度為165mm/秒。將印刷時的外部環境設置為22"C和50。/。RH。連續形成30張圖像後，對於在第30張記錄紙上印刷的圖像，在與感光體的旋轉軸方向Y對應的方向上的中心部分和兩端部分測量其濃度。用濃度計(X-Rite,Inc.生產的X-Rite404)進行測量。將圖像中心部分的濃度和旋轉軸方向Y上的兩端中的一端的圖像濃度之間的差值，與圖像中心部分的濃度和旋轉軸方向Y上的另一端的圖像濃度之間的差值進行比較，將兩個差值中的較大值作為"AD"列於表在表1中，當AD的值更小時，評價為達到了更高程度的面內濃度均一性。另一方面，當AD的值更大時，評價為無法達到較高程度的面內濃度均一性。當AD的值大於0.2時，評價為"NG"，表示存在圖像劣化。通過目視觀察來評價是否存在因前面的印刷過程的圖像記錄殘留而導致的圖像缺陷(重影)。進一步將電位探測器(Trek344，TREKINC.生產)安裝在上述評價所用的印刷機中，安裝位置是感光體被除電用光照射的部分的下遊，且位於感光體由充電單元充電的部分的上遊。在形成第30張圖像時進行了除電用光的照射之後，立即在旋轉軸方向Y上離除電光源最近的部分和離除電光源最遠的部分測定感光體的表面電位。將表面電位的差值(在旋轉軸方向Y上離除電光源最近的部分處測定的表面電位與在旋轉軸方向Y上離除電光源最遠的部分處測定的表面電位之間的差值)作為"AV"列於表l。表面電位的評價中，在下述條件下進行圖像形成由充電單元充電後的感光體表面上的充電電位為-700V，曝光單元對感光體的曝光能量為4.5mJ/m2，旋轉速度為165mm/秒。(實施例A2)除了底塗層厚度不同外，以與實施例Al基本相同的方式製備感光體，並以與實施例Al相同的方式評價濃度、重影和表面電位。在實施例A2中，調整底塗層形成用溶液的塗布速度以致所述層在195。C乾燥和固化27分鐘後平均厚度為20jLim，在離除電光源最近的部分(厚度最大)的厚度為25pm，在離除電光源最遠的部分(厚度最小)的厚度為15nm。從鋁基材的旋轉軸方向Y上的一端到另一端，在預定間隔(60mm)的五個點測量實施例A2的底塗層的體積電阻值。離除電光源最近的部分(具有最大厚度)的體積電阻值與離除電光源最遠的部分(具有最小厚度)的體積電阻值分別為1.0x108'61Q和1.0x10838Q。而且，觀測到上述兩點間的體積電阻值顯示從1.0x10861Q向1.0x10838Q降低的趨勢。濃度、重影和表面電位的評價結果列於表l。(實施例A3)除了底塗層厚度不同外，以與實施例Al基本相同的方式製備感光體，並以與實施例A1相同的方式評價濃度、重影和表面電位。在實施例A3中，調整底塗層形成用溶液的塗布速度以致所述層在195。C乾燥和固化27分鐘後平均厚度為25拜，離除電光源最近的部分(厚度最大)的厚度為27pm,離除電光源最遠的部分(厚度最小)的厚度為24,。在旋轉軸方向Y上從鋁基材的一端到另一端，在預定間隔(60mm)的五個點測量實施例A3的底塗層的體積電阻值。離除電光源最近的部分(具有最大厚度)的體積電阻值與離除電光源最遠的部分(具有最小厚度)的體積電阻值分別為l.Ox10864^和l.Ox10859Q。而且，觀測到上述兩點間的體積電阻值顯示從1.0x108'64Q向1.0x10859Q降低的趨勢。濃度、重影和表面電位的評價結果列於表l。(實施例A4)除了使用氧化鈦代替氧化鋅作為金屬氧化物顆粒外，以與實施例Al基本相同的方式製備感光體，並以與實施例A1相同的方式評價濃度、重影和表面電位。實施例A4中得到的透光率測試用樣品以與實施例Al相同的方式測得的體積電阻率為1.0x10la4(Q'cm)。從鋁基材的旋轉軸方向Y上的一端到另一端，在預定間隔(60mm)的五個點測量實施例A4的底塗層的體積電阻值。離除電光源最近的部分(具有最大厚度)的體積電阻值與離除電光源最遠的部分(具有最小厚度)的體積電阻值分別為l.Ox10647^和l.Ox106MQ。而且，觀測到上述兩點間的體積電阻值顯示從1.0x10647Q向1-0x10634Q降低的趨勢。濃度、重影和表面電位的評價結果列於表l。(實施例A5)除了底塗層厚度不同外，以與實施例Al基本相同的方式製備感光體，並以與實施例A1相同的方式評價濃度、重影和表面電位。在實施例A5中，調整底塗層形成用溶液的塗布速度以致所述層在195X:乾燥和固化27分鐘後平均厚度為25pm，離除電光源最近的部分(厚度最大)的厚度為26pm，離除電光源最遠的部分(厚度最小)的厚度為24阿。從鋁基材的旋轉軸方向Y上的一端到另一端，在預定間隔(60mm)的五個點測量實施例A5的底塗層的體積電阻值。離除電光源最近的部分(具有最大厚度)的體積電阻值與離除電光源最遠的部分(具有最小厚度)的體積電阻值分別為l.Ox10862^和l.Ox10859Q。而且，觀測到上述兩點間的體積電阻值顯示從1.0x10862Q向1.0x10859Q降低的趨勢。濃度、重影和表面電位的評價結果列於表l。在實施例A5中，觀察到輕微的重影，但評價為在實際使用中可接受。(對比例Al)除了底塗層厚度不同外，以與實施例Al基本相同的方式製備感光體，並以與實施例A1相同的方式評價濃度、重影和表面電位。在比較例Al中，調整底塗層形成用溶液的塗布速度以致所述層在195。C乾燥和固化27分鐘後平均厚度為20pm，離除電光源最近的部分(厚度最小)的厚度為17)im，離除電光源最遠的部分(厚度最大)的厚度為23jom。從鋁基材的旋轉軸方向Y上的一端到另一端，在預定間隔(60mm)的五個點測量對比例Al的底塗層的體積電阻值。離除電光源最近的部分(具有最小厚度)的體積電阻值與離除電光源最遠的部分(具有最大厚度)的體積電阻值分別為1.0x10844^和1.0x10857Q。而且，觀測到上述兩點間的體積電阻值顯示從1.0x10844Q向1.0x108570升高的趨勢。濃度、重影和表面電位的評價結果列於表l。(比較例A2)除了底塗層厚度均一外，以與實施例Al基本相同的方式製備感光體，並以與實施例A1相同的方式評價濃度、重影和表面電位。在比較例A2中，調整底塗層形成用溶液的塗布速度以致所述層在195。C乾燥和固化27分鐘後平均厚度為20^im，離除電光源最近(厚度最小)的部分的厚度為20pm，離除電光源最遠(厚度最大)的部分的厚度為20,。從鋁基材的旋轉軸方向Y上的一端到另一端，在預定間隔(60mm)的五個點測量比較例A2的底塗層的體積電阻值。離除電光源最近的部分(具有最小厚度)的體積電阻值與離除電光源最遠的部分(具有最大厚度)的體積電阻值分別為1.0x10851Q和1.0x10851Q。而且，觀測到上述兩點間的體積電阻值在1.0x10851^保持不變。濃度、重影和表面電位的評價結果列於表l。tableseeoriginaldocumentpage58(實施例Bl)將100重量份氧化鋅顆粒(金屬氧化物顆粒，平均粒徑70nm，BET比表面積15m2/g，TAYCACorporation的試驗產品)與500重量份甲苯攪拌混合，然後向其中加入1.25重量份矽烷偶聯劑(信越化學社生產的KBM603)，將該混合物繼續攪拌2小時。然後減壓蒸餾除去甲苯，並在12(TC焙燒3小時。這樣製得經矽烷偶聯劑處理的氧化鋅顏料。將60重量份上述經表面處理的氧化鋅、0.3重量份茜素(SIGMA-ALDRICHJAPANK.K.生產)、13.5重量份作為固化劑的封端異氰酸酯(SumitomoBayerUrethaneCo.,Ltd.生產的SUMIJULE3175)、15重量份丁醛樹脂(積水化學社生產的S-LECBM-1)混合在85重量份甲基乙基酮中，將38重量份的該溶液與25重量份甲基乙基酮混合，並在砂磨機中用粒徑為1mm的玻璃珠將該混合物分散。將所得的分散液樣品(稱為分散液S)塗布在玻璃板上，使其乾燥後的厚度為20Hm，並通過分光光度計測量乾燥膜對波長為950nm的光的透光率。當透光率達到80%時，停止分散工序，得到底塗層形成用分散液A。以與實施例Al相同的方式測得用於測量透光率的上述樣品的體積電阻率為1.0xl0125(Q'cm)。以與上述分散液A相同的方式將分散液S樣品塗布在玻璃板上，使其乾燥後的厚度為20pm，並通過分光光度計測量乾燥膜對波長為950nm的光的透光率。當透光率達到25%時，停止分散工序，得到底塗層形成用分散液B。以與實施例Al相同的方式測得用於測量透光率的上述樣品的體積電阻率為1.0xl01Q(Q'cm)。分別向上述底塗層形成用分散液A和B中加入0.005重量份作為催化劑的二月桂酸二辛基錫和4.0重量份的矽樹脂顆粒(GEToshibaSiliconesCo.,Ltd.生產的TOSPEARL145)，從而得到底塗層形成用塗布溶液A和B。通過浸漬法將底塗層形成用塗布溶液A塗布在直徑30mm、長404mm且厚lmm的圓筒狀鋁基材上，使得塗布速度能從基材的旋轉軸Y的方向上的一端向另一端逐漸變化，從而得到膜厚度變化。在除電光源被設置在成像設備中的情況下，將膜厚度調節為在基材的旋轉軸方向上從鄰近除電光源的端部向基材的另一個端部以連續的方式降低。然後將底塗層形成用塗布溶液B塗布在已塗布於鋁基材上的底塗層形成用溶液A上，使得塗布速度在基材的旋轉軸Y的方向上從基材的一端向另一端逐漸變化，從而得到膜厚度變化。在除電光源被設置在成像設備中的情況下，將膜厚度調整為在基材的旋轉軸方向上從鄰近除電光源的端部向基材的另一個端部以連續的方式增加。在195i:乾燥並固化27分鐘後，得到由溶液A的底塗層A和溶液B的底塗層B組成的具有雙層結構的底塗層。在旋轉軸方向Y上，該底塗層具有22pm的恆定厚度。從基材的旋轉軸方向上的一端到另一端，在預定間隔(60mm)的5個點測量上述具有雙層結構的底塗層的體積電阻值。離除電光源最近的部分的體積電阻值與離除電光源最遠的部分的體積電阻值分別為1.0x1012410和l.Ox101199Q。而且，觀測到上述兩點間的體積電阻值顯示從1.0x1012'41Q向1.0x1011"Q降低的趨勢。以與實施例Al相同的方式測定體積電阻值。接下來，在底塗層上形成感光層。將15重量份作為電荷產生材料的氯鎵酞菁、10重量份作為粘合劑樹脂的氯乙烯-乙酸乙烯酯共聚物(UnionCarbideCorporation生產的VMCH)和200重量份乙酸正丁酯的混合物在使用粒徑為lmm的玻璃珠的砂磨機中分散4小時。將175重量份的乙酸正丁基酯和180重量份的甲基乙基酮加入到所述分散液中並攪拌，從而得到電荷產生層用塗布溶液。釆用浸塗法將所述溶液塗布在底塗層上，並在常溫(25°C)乾燥，從而得到厚度為0.2,的電荷產生層。將4重量份的N,N，-二苯基-N,N'-二(3-甲基苯基Hl，r]聯苯基-4，4'-二胺和6重量份的雙酚Z型聚碳酸酯樹脂(粘均分子量40，000)溶解在80重量份的四氫呋喃中，將所得溶液塗布在電荷產生層上，然後在115°C乾燥40分鐘，從而在電荷產生層上進一步形成厚度為25pm的電荷輸送層。這樣得到了感光體。將所得的感光體安裝在印刷機(富士施樂株式會社生產的DocuCentreColorII4300)中，將所述印刷機改裝成LED(發射除電用光的光源)僅從感光體的旋轉軸方向Y(如圖2所示)上的一個端部向另一個端部朝著感光體的表面發射除電用光，並且該印刷機配備有處理盒，該處理盒具有遮光部件，其對除了需要去除電荷的區域之外的區域進行遮蔽以避免其受到光照射。同時，將感光體以這樣的方式設置在印刷機中體積電阻值更高的一端位於在旋轉軸方向Y上鄰近光源的一側，體積電阻值更低的一端位於在旋轉軸方向Y上遠離光源的一側。上述成像設備中，在下述條件下，在30張A3記錄紙上以連續方式形成濃度為30%的全區域半色調品紅圖像由充電單元充電後的感光體表面上的充電電位為-700V，曝光單元對感光體的曝光能量為4.5mJ/m2，旋轉速度為165mm/秒。將印刷時的外部環境設置為22"C和50%RH。連續形成30張圖像後，對於在第30張記錄紙上印刷的圖像，在與感光體的旋轉軸方向Y對應的方向上的中心部分和兩端部分測量其濃度。用濃度計(X-Rite，Inc.生產的X-Rite404)進行測量。將圖像中心部分的濃度和旋轉軸方向Y上的兩端中的一端的圖像濃度之間的差值，與圖像中心部分的濃度和旋轉軸方向Y上的另一端的圖像濃度之間的差值進行比較，將兩個差值中的較大值作為"AD"列於表2。在表2中，當AD的值更小時，評價為達到了更高程度的面內濃度均一性。另一方面，當AD的值更大時，評價為無法達到較高程度的面內濃度均一性。當AD的值大於0.2時，評價為"NG"，表示存在圖像劣化。通過目視觀察來評價是否存在因前面的印刷過程的圖像記錄殘留而導致的圖像缺陷(重影)。進一步將電位探測器(Trek344，TREKINC.生產)安裝在上述評價所用的印刷機中，安裝位置是感光體被除電用光照射的部分的下遊，且位於感光體由充電單元充電的部分的上遊。如上所述，在形成第30張圖像時進行了除電用光的照射之後，立即在旋轉軸方向Y上離除電光源最近的部分和離除電光源最遠的部分測定感光體的表面電位。將表面電位的差值(在旋轉軸方向Y上離除電光源最近的部分處測定的表面電位與在旋轉軸方向Y上離除電光源最遠的部分處測定的表面電位之間的差值)作為"AV"列於表2。表面電位的評價中，在下述條件下進行圖像形成由充電單元充電的感光體表面上的充電電位為-700V，曝光單元對感光體的曝光能量為4.5mJ/m2，旋轉速度為165mm/秒。(實施例B2)除了在塗布溶液B中採用氧化鈦代替氧化鋅作為金屬氧化物顆粒之外，以與實施例B1基本相同的方式製備感光體，並以與實施例B1相同的方式評價濃度、重影和表面電位。透光率測試用塗布溶液B的樣品的以與實施例Bl相同的方式測得的體積電阻率為1.0x10103(Q'cm)。從鋁基材的旋轉軸方向Y上的一端到另一端，在預定間隔(60mm)的五個點測量實施例B2的具有雙層結構的底塗層的體積電阻值。離除電光源最近的部分的體積電阻值與離除電光源最遠的部分的體積電阻值分別為1.0x101241Q和1.0x101199Q。而且，觀測到上述兩點間的體積電阻值顯示從1.0x101241Q向1.0x10U"Q降低的趨勢。濃度、重影和表面電位的評價結果列於表2。(實施例B3)除了在底塗層形成用塗布溶液A和B中都不添加茜素(具有作為受體的性質)之外，以與實施例B1基本相同的方式製備感光體，並以與實施例B1相同的方式評價濃度、重影和表面電位。透光率測試用塗布溶液A和B的樣品的以與實施例Bl相同的方式測得的體積電阻率分別為1.0x10128(Q.cm)和1.0x10歸(Q.cm)。從鋁基材的旋轉軸方向Y上的一端到另一端，在預定間隔(60mm)的五個點測量實施例B3的具有雙層結構的底塗層的體積電阻值。離除電光源最近的部分的體積電阻值與離除電光源最遠的部分的體積電阻值分別為1.0x1012'71Q和1.0x10123DQ。而且，觀測到上述兩點間的體積電阻值顯示從1.0x1012.71Q向1.0x101230Q降低的趨勢。濃度、重影和表面電位的評價結果列於表2。(實施例B4)除了在塗布溶液B中使用氧化鈦代替氧化鋅外，以與實施例B3基本相同的方式製備感光體，並以與實施例B3相同的方式評價濃度、重影和表面電位。透光率測試用塗布溶液B樣品的以與實施例Bl相同的方式測得的體積電阻率為1.0x10ia5(Q'cm)。從鋁基材的旋轉軸方向Y上的一端到另一端，在預定間隔(60mm)的五個點測量實施例B4的具有雙層結構的底塗層的體積電阻值。離除電光源最近的部分的體積電阻值與離除電光源最遠的部分的體積電阻值分別為1.0x101271Q和1.0x1012"Q。而且，觀測到上述兩點間的體積電阻值顯示從1.0x101271Q向1.0x1012"Q升高的趨勢。濃度、重影和表面電位的評價結果列於表2。表2tableseeoriginaldocumentpage64權利要求1.一種成像設備，所述成像設備包含被旋轉驅動的圖像承載體，所述圖像承載體包含基體上的底塗層和感光層；充電單元，所述充電單元向所述圖像承載體的表面充電；潛像形成單元，所述潛像形成單元通過對已由所述充電單元充電的圖像承載體的表面進行曝光從而在所述圖像承載體上形成靜電潛像；顯影單元，所述顯影單元通過以調色劑使所述靜電潛像顯影而在所述圖像承載體上形成與所述靜電潛像對應的調色劑圖像；轉印單元，所述轉印單元將所述調色劑圖像轉印到圖像接受體上；以及除電單元，所述除電單元包含光源，在所述調色劑圖像轉印後，所述光源在所述圖像承載體的旋轉軸方向上從該圖像承載體的一側以除電用光照射該圖像承載體的表面，從而去除所述圖像承載體表面的電荷，其中，所述底塗層的體積電阻值在所述圖像承載體的旋轉軸方向上從該圖像承載體的所述光源側的一個端部向該圖像承載體的另一個端部逐漸降低。2.如權利要求1所述的成像設備，其中，所述底塗層的厚度在所述圖像承載體的旋轉軸方向上從該圖像承載體的所述光源側的一個端部向該圖像承載體的另一個端部逐漸降低。3.如權利要求1所述的成像設備，其中，所述底塗層在所述圖像承載體的旋轉軸方向上的兩個端部的厚度與所述底塗層在所述圖像承載體的旋轉軸方向上的平均厚度之差均為所述底塗層的平均厚度的10%50%。4.如權利要求1所述的成像設備，其中，所述底塗層的體積電阻率為1.0x108Q.cm1.0x1015Q.cm。5.如權利要求1所述的成像設備，其中所述底塗層包含第一底塗層和第二底塗層，所述第一底塗層的厚度在所述圖像承載體的旋轉軸方向上從該圖像承載體的所述光源側的一個端部向該圖像承載體的另一個端部逐漸降低；所述第二底塗層形成於所述第一底塗層之上，所述第二底塗層的厚度在所述圖像承載體的旋轉軸方向上從該圖像承載體的所述光源側的一個端部向該圖像承載體的另一個端部逐漸升高，以及所述第一底塗層在所述光源側的端部的厚度大於所述第二底塗層在所述光源側的端部的厚度，而且所述第一底塗層在所述另一個端部的厚度小於所述第二底塗層在所述另一個端部的厚度。6.如權利要求5所述的成像設備，其中，所述第一底塗層的體積電阻率為1.0xl082Q'cm1.0xl0148Q'cm，所述第二底塗層的體積電阻率為1.0xl0148Q.cm1.0xl082Q.cm。7.如權利要求5所述的成像設備，其中，所述第一底塗層和所述第二底塗層包含相同金屬元素的金屬氧化物顆粒。8.如權利要求7所述的成像設備，其中，所述第一底塗層和所述第二底塗層具有基本相同的組成，但所述金屬氧化物顆粒的分散狀態不同。9.如權利要求1所述的成像設備，其中，以來自所述光源的除電用光直接照射所述圖像承載體。10.—種處理盒，所述處理盒包含被旋轉驅動的圖像承載體，所述圖像承載體包含基體上的底塗層和感光層；選自由下述單元組成的組中的至少一個單元充電單元，所述充電單元向所述圖像承載體的表面充電；潛像形成單元，所述潛像形成單元通過對已由所述充電單元充電的圖像承載體的表面進行曝光從而在所述圖像承載體上形成靜電潛像；顯影單元，所述顯影單元通過以調色劑使所述靜電潛像顯影而在所述圖像承載體上形成與所述靜電潛像對應的調色劑圖像；以及調色劑去除單元，所述調色劑去除單元將殘留在所述圖像承載體的表面上的調色劑去除；和除電單元，所述除電單元包含光源，在所述調色劑圖像轉印後，所述光源在所述圖像承載體的旋轉軸方向上從該圖像承載體的一側以除電用光照射該圖像承載體的表面，從而去除所述圖像承載體的表面的電荷，其中，所述底塗層的體積電阻值在所述圖像承載體的旋轉軸方向上從該圖像承載體的所述光源側的一個端部向該圖像承載體的另一個端部逐漸降低。11.如權利要求10所述的處理盒，其中，所述底塗層的厚度在所述圖像承載體的旋轉軸方向上從該圖像承載體的所述光源側的一個端部向該圖像承載體的另一個端部逐漸降低。12.如權利要求10所述的處理盒，其中，所述底塗層在所述圖像承載體的旋轉軸方向上的兩個端部的厚度與所述底塗層在所述圖像承載體的旋轉軸方向上的平均厚度之差均為所述底塗層的平均厚度的10%50%。13.如權利要求10所述的處理盒，其中，所述底塗層的體積電阻率為1.0x108Q.cm1.0x1015Q-cm。14.如權利要求10所述的處理盒，其中所述底塗層包含第一底塗層和第二底塗層，所述第一底塗層的厚度在所述圖像承載體的旋轉軸方向上從該圖像承載體的所述光源側的一個端部向該圖像承載體的另一個端部逐漸降低；所述第二底塗層形成於所述第一底塗層之上，所述第二底塗層的厚度在所述圖像承載體的旋轉軸方向上從該圖像承載體的所述光源側的一個端部向該圖像承載體的另一個端部側逐漸升高，以及所述第一底塗層在所述光源側的端部的厚度大於所述第二底塗層在所述光源側的端部的厚度，而且所述第一底塗層在所述另一個端部的厚度小於所述第二底塗層在所述另一個端部的厚度。15.如權利要求14所述的處理盒，其中，所述第一底塗層的體積電阻率為1.0xl082Q.cm1.0xl0148Q'cm，所述第二底塗層的體積電阻率為1.0xlO"8Q'cm1.0xl082Q.cm。16.如權利要求14所述的處理盒，其中，所述第一底塗層和所述第二底塗層包含相同金屬元素的金屬氧化物顆粒。17.如權利要求16所述的處理盒，其中，所述第一底塗層和所述第二底塗層具有基本相同的組成，但所述金屬氧化物顆粒的分散狀態不同。18.如權利要求IO所述的處理盒，其中，以來自所述光源的除電用光直接照射所述圖像承載體。全文摘要本發明提供一種成像設備和處理盒，所述成像設備包含被旋轉驅動的圖像承載體，所述圖像承載體包含基體上的底塗層和感光層，所述底塗層的體積電阻值在圖像承載體的旋轉軸方向上從圖像承載體的光源側的一個端部向圖像承載體的另一個端部逐漸降低；充電單元；潛像形成單元；顯影單元；轉印單元以及除電單元，所述除電單元包含所述光源，在調色劑圖像轉印後，所述光源在圖像承載體的旋轉軸方向上從圖像承載體的一側以除電用光照射圖像承載體的表面，從而去除所述圖像承載體表面的電荷。文檔編號G03G15/00GK101377648SQ200810090219公開日2009年3月4日申請日期2008年4月1日優先權日2007年8月29日發明者柴田順一,西村亮,鈴木貴弘申請人:富士施樂株式會社