層疊膜及層疊體、以及波長轉換片材、背光單元及電致發光單元的製作方法

2023-05-11 21:37:52

本發明涉及層疊膜及層疊體、以及波長轉換片材、背光單元及電致發光單元。

背景技術：

液晶顯示器的背光單元及電致發光單元等發光單元中，隨著發光體或螢光體與氧或水蒸汽接觸、經過長時間，作為發光體或螢光體的性能有時會降低。因而，這些發光單元中，經常使用在高分子膜上形成阻氣層、進而塗布粘接劑等而得到的層疊膜作為發光體或螢光體等的包裝材料或保護材料。

然而，上述層疊膜中，由於未獲得所構成的層間的密合性，因此有時無法獲得充分的阻氣性。因此，例如專利文獻1中，為了構成阻隔性層疊體以提高含環氧系粘接劑的粘接層與有機層的密合性，作為有機層的材料使用末端含羥基的(甲基)丙烯酸酯。

現有技術文獻

專利文獻

專利文獻1：日本特開2011-56908號公報

技術實現要素：

發明要解決的技術問題

但是，根據本發明人的探討，即便是使用專利文獻1所記載的阻隔性層疊體，目前還不能說獲得了充分的密合性。本發明的目的在於提供可提高密合性、可獲得優異的不透溼性的層疊膜及層疊體、以及由它們獲得的波長轉換片材、背光單元及電致發光單元。

用於解決課題的方法

本發明提供一種層疊膜，其具備阻隔膜和形成於該阻隔膜上的易粘接層，上述易粘接層含有：含具有反應性碳碳雙鍵的基團及2個以上羥基的聚合物；以及聚異氰酸酯，上述易粘接層的厚度為0.01μm以上且1μm以下。本發明的層疊膜中，通過易粘接層具備上述構成，可以提高層疊膜的密合性、可以獲得優異的不透溼性。

上述層疊膜中，從通用性及反應性的觀點出發，優選上述具有反應性碳碳雙鍵的基團為丙烯醯基。

上述層疊膜中，優選：上述阻隔膜含有第一高分子膜和形成在該第一高分子膜上的不透溼層，上述易粘接層形成在上述阻隔膜的上述不透溼層一側。阻隔膜通過具備上述構成，易於獲得充分的不透溼性。

上述層疊膜中，上述不透溼層優選含有具有選自鋁、鈦、銅、銦及矽中的至少1種原子的氧化物、氮化物或氮化氧化物的層。不透溼層通過具備上述構成，易於兼顧透明性和不透溼性。

上述層疊膜中，優選：上述阻隔膜進一步具備配置於上述不透溼層上的第二高分子膜，上述易粘接層優選形成於上述第二高分子膜上。通過阻隔膜具備上述構成，可以進一步抑制加工及流通等中的破損。

上述層疊膜的總光線透過率優選為80％以上。通過總光線透過率為80％以上，可以優選地使用層疊膜作為發光單元。進而，上述層疊膜優選是用於保護螢光體的層疊膜。

本發明還提供一種層疊體，其具備使上述層疊膜的上述易粘接層固化而獲得的固化層疊膜；和形成在該固化層疊膜的經固化的上述易粘接層一側表面上的樹脂膜。

本發明還提供一種波長轉換片材，其具備波長轉換層和形成於上述波長轉換層的兩面上的一對保護膜，上述保護膜中的至少一者是將上述層疊膜的上述易粘接層固化而獲得的固化層疊膜。根據本發明的波長轉換片材，可以提高與波長轉換層的密合性，即使在高溫下的長期保存後也可維持優異的外觀和發光效率。

本發明還提供一種背光單元，其具備發光二極體光源和上述波長轉換片材。根據使用了上述層疊膜的背光單元，可以抑制外部的氧或水蒸汽接觸于波長轉換層，可以在沒有螢光體劣化的情況下長時間地使用背光。

本發明還提供一種電致發光單元，其具備電致發光層和使上述層疊膜的上述易粘接層固化獲得的固化層疊膜。根據使用了上述層疊膜的電致發光單元，可以抑制外部的氧或水蒸汽接觸於電致發光層、可以在沒有電致發光層的劣化的情況下長時間地使用電致發光單元。

發明效果

根據本發明，可以提供能夠提高密合性、可獲得優異的不透溼性的層疊膜及層疊體，以及由它們獲得的波長轉換片材、背光單元及電致發光單元。

附圖說明

圖1是本發明一個實施方式的層疊膜的概略截面圖。

圖2是本發明一個實施方式的層疊體的概略截面圖。

圖3是本發明第一實施方式的波長轉換片材的概略截面圖。

圖4是本發明第二實施方式的波長轉換片材的概略截面圖。

圖5是本發明一個實施方式的液晶顯示器用的背光單元的概略截面圖。

圖6是本發明一個實施方式的電致發光單元的概略截面圖。

具體實施方式

以下，對本發明的實施方式詳細地說明。另外，本發明並非限定於以下的實施方式。

[層疊膜20]

圖1是本發明一個實施方式的層疊膜的概略截面圖。本實施方式的層疊膜20具備第一高分子膜2、形成於第一高分子膜2上的不透溼層4、形成於不透溼層4上的第二高分子膜8、以及形成於第二高分子膜8上的易粘接層10。圖1中，將第二高分子膜8介由粘合層或粘接層6配置在不透溼層4上。

圖1中，可以將除易粘接層10以外的層一併稱作阻隔膜11。阻隔膜11是具有阻氣性的膜，阻隔膜11的構成並非限定於圖1所示的構成。例如，層疊膜20中，阻隔膜11也可以含有第一高分子膜2和形成於該第一高分子膜2上的不透溼層4。此時，易粘接層10可以形成在阻隔膜11的不透溼層4一側。阻隔膜11通過具備第一高分子膜2和不透溼層4，易於獲得充分的強度和不透溼性。另外，層疊膜20中，阻隔膜11還可以進一步含有配置在不透溼層4上的第二高分子膜8。此時，易粘接層10可以形成在第二高分子膜8上。阻隔膜11通過具備第二高分子膜8，可以進一步抑制加工及流通等中的破損。

本實施方式的層疊膜20中，不透溼層4也可介由錨塗層(未圖示)形成在第一高分子膜2上。另外，第二高分子膜8也可不介由粘合層或粘接層6地配置在不透溼層4上。另外，易粘接層10還可介由錨塗層(未圖示)形成在第二高分子膜8上。

本實施方式的層疊膜20可優選作為發光體或螢光體用的保護膜使用。從優選作為發光體或螢光體用的保護膜使用的觀點出發，層疊膜20的總光線透過率優選為80％以上、更優選為85％以上。

(第一高分子膜2)

第一高分子膜2是用於抑制加工及流通等中的破損的層。作為第一高分子膜2的材質，例如可舉出聚對苯二甲酸乙二醇酯、聚對苯二甲酸丁二醇酯及聚萘二甲酸乙二醇酯等聚酯；尼龍等聚醯胺；聚丙烯及環烯烴等聚烯烴；聚碳酸酯；以及三乙醯基纖維素等，但並非限定於這些。第一高分子膜2優選是聚酯膜、聚醯胺膜或聚烯烴膜，更優選為聚酯膜或聚醯胺膜，進一步優選為聚對苯二甲酸乙二醇酯膜。另外，第一高分子膜2優選經雙軸拉伸。

第一高分子膜2還可根據需要含有防靜電劑、紫外線吸收劑、增塑劑及潤滑劑等添加劑。另外，第一高分子膜2的表面還可經過電暈處理、火焰處理或等離子體處理。

第一高分子膜2的厚度並無特別限定，優選為3μm以上且100μm以下、更優選為5μm以上且50μm以下。

(不透溼層4)

不透溼層4是用於抑制水蒸汽浸入到發光單元中的層。不透溼層4可以是單層、也可以是多層。不透溼層4優選是透明的。另外，從透明性的觀點出發，不透溼層4優選利用真空成膜形成。

不透溼層4根據需要介由錨塗層形成在第一高分子膜2上。作為錨塗層，可舉出聚酯樹脂等，錨塗層的厚度為0.01～10μm左右。不透溼層4的形成方法並無特別限定，從進一步提高不透溼性的方面出發，優選為真空成膜。作為真空成膜，可舉出物理氣相沉積法及化學氣相沉積法等。作為物理氣相沉積法，可舉出真空蒸鍍法、濺射法及離子鍍法等，但並非限於這些。作為化學氣相沉積(CVD)法，可舉出熱CVD法、等離子體CVD法及光CVD法等，但並非限定於這些。

不透溼層4的形成方法優選為真空蒸鍍法、濺射法或等離子體CVD法，更優選為電阻加熱式真空蒸鍍法、電子束(Electron Beam)加熱式真空蒸鍍法、感應加熱式真空蒸鍍法、反應性濺射法、雙靶磁控濺射法或等離子體化學氣相沉積法(PECVD法)。不透溼層4的形成方法從不透溼性的觀點出發可以是濺射法，從成本的觀點出發可以是真空蒸鍍法，可根據用途進行選擇。

作為濺射法及等離子體CVD法中的等離子體的生成方法，可舉出DC(直流電，Direct Current)方式、RF(射頻，Radio Frequency)方式、MF(中頻，Middle Frequency)方式、DC脈衝方式、RF脈衝方式及DC+RF重疊方式等。

為濺射法時，在作為陰極的靶上產生負的電位梯度，Ar+離子接收到電位能量，衝撞至靶上。這裡，即便是產生了等離子體，如果不產生負的自負偏壓時，則無法進行濺射。因此，由於MW(微波，Micro Wave)等離子體不產生自偏壓，因而不適於濺射。但是，PECVD法中，由於利用等離子體中的氣相反應，化學反應、沉積和工藝進行，因而即便沒有自偏壓也可形成膜，因此能夠利用MW等離子體。

利用真空成膜形成時，一般來說形成金屬或氧化物的膜，通常形成鋁、鈦、銅、銦或錫等金屬、這些金屬的金屬氧化物(氧化鋁等)或矽的氧化物的膜。另外，不僅是金屬或氧化物，也可形成氮化物等膜。另外，也可形成含有多個金屬的膜。不透溼層4從透明性和不透溼性的兩者優異的方面出發，優選含有具有選自鋁、鈦、銅、銦及矽中的至少1種原子的氧化物、氮化物、或氮化氧化物的層。不透溼層4從不透溼性更為優異的方面出發，更優選含有矽氧化物或氮化氧化物的層。

利用真空成膜形成的不透溼層4的厚度優選為5nm以上且100nm以下。利用真空成膜形成的不透溼層4的厚度為5nm以上時，有能夠獲得水蒸汽阻隔性的傾向。另外，利用真空成膜形成的不透溼層4的厚度為100nm以下時，有抑制因固化收縮導致的裂紋的產生、防止因裂紋導致的水蒸汽阻隔性降低的傾向。進而，當不透溼層4的厚度為1000nm以下時，由於因材料使用量的減少及膜形成時間的縮短等可以降低成本，因而從經濟的觀點出發優選。

不透溼層4還可以在大氣中形成。當在大氣中形成不透溼層4時，例如可以使用含有聚偏氯乙烯等含氯的化合物以及含Si原子、Ti原子、Al原子及Zr原子等原子的化合物的塗布液來形成金屬等的氧化物膜。另外，還可以將真空中形成的層與大氣中形成的層組合來構成不透溼層4。

作為在大氣中形成不透溼層4時的塗布液的塗布方法，具體地可舉出利用凹版塗布機、浸塗機、反向塗布機、絲棒塗布機及模塗機等進行的塗布方法。

作為含Si原子的化合物，例如可舉出矽烷化合物。氧化物膜優選是矽烷化合物所具有的矽烷醇基發生反應所形成的。作為這種矽烷化合物，可舉出下述式(1)所示的化合物。

R1n(OR2)4-nSi (1)

式(1)中，n為0～3的整數，R1及R2分別為烴基、優選是碳數為1～4的烷基。作為上述式(1)所示的化合物，例如可舉出四甲氧基矽烷、四乙氧基矽烷、四丙氧基矽烷、四丁氧基矽烷、甲基三甲氧基矽烷、甲基三乙氧基矽烷、二甲基二甲氧基矽烷及二甲基二乙氧基矽烷等。也可使用含氮的聚矽氮烷。

作為含Ti原子的化合物，例如可舉出下述式(2)所示的化合物。

R1n(OR2)4-nTi (2)

式(2)中，n為0～3的整數，R1及R2分別為烴基、優選是碳數為1～4的烷基。作為上述式(2)所示的化合物，例如可舉出四甲氧基鈦、四乙氧基鈦、四異丙氧基鈦及四丁氧基鈦等。

作為含Al原子的化合物，例如可舉出下述式(3)所示的化合物。

R1n(OR2)4-nAl (3)

式(3)中，n為0～3的整數，R1及R2分別為烴基、優選是碳數為1～4的烷基。作為上述式(3)所示的化合物，例如可舉出四甲氧基鋁、四乙氧基鋁、四異丙氧基鋁及四丁氧基鋁等。

作為含Zr原子的化合物，例如可舉出下述式(4)所示的化合物。

R1n(OR2)4-nZr (4)

式(4)中，n為0～3的整數，R1及R2分別為烴基、優選是碳數為1～4的烷基。作為上述式(4)所示的化合物，例如可舉出四甲氧基鋯、四乙氧基鋯、四異丙氧基鋯及四丁氧基鋯等。上述式(1)～(4)中，R1、R2及n各自獨立。

在大氣中形成不透溼層4時，將上述塗布液塗布後使其固化。作為固化方法並無特別限定，可舉出紫外線固化及熱固化等。為紫外線固化時，塗布液可以含有聚合引發劑及具有雙鍵的化合物。另外，還可根據需要進行加熱熟化。

在大氣中形成不透溼層4時，還可以將鎂、鈣、鋅、鋁、矽、鈦、鋯等無機氧化物的粒子之間介由磷化合物來源的磷原子進行脫水縮合而獲得的反應產物作為不透溼層4。具體地說，存在於無機氧化物表面的官能團(例如羥基)與能夠與該無機氧化物反應的磷化合物的部位(例如直接鍵合於磷原子的滷原子或直接鍵合於磷原子的氧原子)發生縮合反應、進行鍵合。反應產物例如如下獲得：將含有無機氧化物和磷化合物的塗布液塗布在基材的表面上，對所形成的塗膜進行熱處理，從而進行無機氧化物的粒子之間介由磷化合物來源的磷原子而發生鍵合的反應，從而獲得。熱處理的溫度下限為110℃、優選為120℃、更優選為140℃、進一步優選為170℃。熱處理溫度低時，難以獲得充分的反應速度，導致生產率降低。熱處理的溫度的優選上限隨基材的種類等有所不同，為220℃、優選為190℃。熱處理可以在空氣中、氮氣氛下或氬氣氛等下實施。

在大氣中形成不透溼層4時，只要不發生凝聚等，則上述塗布液還可進一步含有樹脂。作為上述樹脂，具體地可舉出丙烯酸樹脂、聚酯樹脂、聚乙烯醇及聚乙烯吡咯烷酮等。上述塗布液優選含有這些樹脂中與塗布液中的其他材料的相容性高的樹脂。

上述塗布液還可根據需要進一步含有填充劑、流平劑、消泡劑、紫外線吸收劑、抗氧化劑以及與上述物質不同的矽烷偶聯劑及鈦螯合劑等。

在大氣中形成的不透溼層4的厚度優選為50nm～1000nm、更優選為100nm～800nm。大氣中形成的不透溼層4的厚度為50nm以上時，有膜形成變得容易的傾向。大氣中形成的不透溼層4的厚度為1000nm以下時，有可以抑制斷裂或彎曲的傾向。

不透溼層4還可以是具備通過真空成膜所形成的層和通過塗布液所形成的層的多層膜。另外，上述多層膜通過成為將通過真空成膜所形成的層和通過塗布液所形成的層交替層疊多次而形成的結構，可以進一步提高阻隔性。

另外，為了提高與粘合層或粘接層6的粘接性或不透溼層4的彎曲耐受性，還可以在不透溼層4上形成有塗布層。在通過真空成膜形成的不透溼層4上形成上述塗布層時，例如從提高粘合層或粘接層6與塗布層的密合性的觀點出發，優選使用例如PAA(聚丙烯酸)及PMAA(聚甲基丙烯酸)等丙烯酸或甲基丙烯酸的均聚物、EAA(乙烯丙烯酸共聚物)、EMAA(乙烯甲基丙烯酸共聚物)等使含丙烯酸或甲基丙烯酸的單體共聚而成的共聚物來形成塗布層。

(第二高分子膜8)

第二高分子膜8也可根據需要介由粘合層或粘接層6配置在不透溼層4上。作為第二高分子膜8，例如可舉出聚對苯二甲酸乙二醇酯、聚對苯二甲酸丁二醇酯及聚萘二甲酸乙二醇酯等聚酯；尼龍等聚醯胺；聚丙烯及環烯烴等聚烯烴；聚碳酸酯；以及三乙醯基纖維素等，但並非限定於這些。第二高分子膜8優選是聚酯膜或聚醯胺膜、更優選是聚對苯二甲酸乙二醇酯膜。另外，第二高分子膜8優選經雙軸拉伸。

第二高分子膜8還可根據需要含有防靜電劑、紫外線吸收劑、增塑劑及潤滑劑等添加劑。另外，第二高分子膜8的表面還可經過電暈處理、火焰處理及等離子體處理。

第二高分子膜8的厚度並無特別限定，優選為3μm以上且100μm以下、更優選為5μm以上且50μm以下。

粘合層或粘接層6通過在不透溼層4上優選地塗布膠粘劑的溶液、在塗布面上粘貼第二高分子膜8來形成。作為粘合劑或粘接劑(膠粘劑)，可以使用作為高分子膜用的膠粘劑通常使用的物質，根據不透溼層4的表面適當地選擇。作為膠粘劑，可舉出聚酯系、丙烯酸系、橡膠系、酚系及氨基甲酸酯系等膠粘劑。

作為膠粘劑的溶劑的塗布方法，可舉出利用凹版塗布機、浸塗機、反向塗布機、絲棒塗布機及模塗機等進行的塗布方法。

另外，粘合層或粘接層6的厚度優選為1μm以上且20μm以下。通過粘合層或粘接層6為1μm以上，有獲得粘接性的傾向，通過為20μm以下，有可以抑制表面不良或成本提高的傾向。另外，可以在膠粘劑的溶液的塗布面上粘貼第二高分子膜8之後進行熟化。熟化例如在20～80℃下進行1～10日。

膠粘劑還可根據需要含有固化劑、防靜電劑、矽烷偶聯劑、紫外線吸收劑、抗氧化劑、流平劑及分散劑等。

本發明的層疊膜20中，阻隔膜11可以具有下述構成例1～10所示的構成。參照圖1說明層疊膜20可以具有的構成例1～10。

構成例1：第一高分子膜2/不透溼層4

作為阻隔膜11的基本構成，至少由第一高分子膜2和不透溼層4構成。

構成例1-a：高分子膜/通過真空成膜形成的不透溼層

不透溼層4的形成方法並無特別限定，從進一步提高不透溼性的方面出發，優選能夠形成緻密的膜的真空成膜。

構成例1-b：高分子膜/在大氣中形成的不透溼層

不透溼層4還可以在大氣中形成。在大氣中形成不透溼層4時，例如可以使用含有聚偏氯乙烯等含氯的化合物及含Si原子、Ti原子、Al原子、Zr原子等的化合物的塗布液來形成氧化物膜，從而製成不透溼層。

構成例2：第一高分子膜2/錨塗層/不透溼層4

不透溼層4還可介由錨塗層形成在第一高分子膜2上。

構成例3：第一高分子膜2/不透溼層4/密封層

進而還可在不透溼層4上形成密封層(未圖示)。通過防止不透溼層4的損傷，可以進一步提高不透溼性。在不透溼層4上形成上述密封層時，例如優選使用PAA(聚丙烯酸)或PMAA(聚甲基丙烯酸)等丙烯酸或甲基丙烯酸的均聚物、EAA(乙烯丙烯酸共聚物)、EMAA(乙烯甲基丙烯酸共聚物)等使含有丙烯酸或甲基丙烯酸的單體共聚而成的共聚物來形成密封層。

構成例4：第一高分子膜2/通過真空成膜形成的不透溼層/在大氣中形成的不透溼層

不透溼層4還可以是具備通過真空成膜形成的不透溼層和在大氣中通過塗布液形成的不透溼層的多層膜。

構成例5：第一高分子膜2/通過真空成膜形成的不透溼層/在大氣中形成的不透溼層/…/通過真空成膜形成的不透溼層/在大氣中形成的不透溼層

不透溼層4還可以是將通過真空成膜所形成的不透溼層和在大氣中通過塗布液形成的不透溼層交替層疊了多次而形成的多層膜。通過不透溼層4具有上述多層膜的結構，可以進一步提高阻隔性。

構成例6：第一高分子膜2/通過真空成膜形成的不透溼層4/(甲基)丙烯酸酯樹脂層

構成例7：第一高分子膜2/(甲基)丙烯酸酯樹脂層/通過真空成膜形成的不透溼層4/(甲基)丙烯酸酯樹脂層

構成例8：第一高分子膜2/(甲基)丙烯酸酯樹脂層/提高真空成膜形成的不透溼層/(甲基)丙烯酸酯樹脂層/…/通過真空成膜形成的不透溼層/(甲基)丙烯酸酯樹脂層

另外，通過採用層疊了通過真空成膜形成的不透溼層和(甲基)丙烯酸酯樹脂層的構成(構成例6)、或用丙烯酸酯樹脂層夾持了通過真空成膜形成的不透溼層的構成(構成例7)，可以提高不透溼層4的不透溼性。特別是，通過將交聯性的官能(甲基)丙烯酸酯閃蒸蒸鍍或塗布在不透溼層上、利用電子束或熱使其交聯而製成層疊了數次(甲基)丙烯酸酯樹脂層和不透溼層的構成(構成例8)，可以進一步提高不透溼性。

構成例9：第一高分子膜2/不透溼層4/粘合層或粘接層6/第二高分子膜8

作為其他的構成，還可以將粘合劑的溶液塗布在不透溼層4上後將第二高分子膜8粘貼在塗布膜上。通過介由粘合層或粘接層6將第二高分子膜8粘貼在不透溼層4上，可以抑制不透溼層4的損傷、進一步提高不透溼性。

構成例10：第一高分子膜2/第一不透溼層4/粘合層或粘接層6/第二不透溼層/第二高分子膜8

進而，還可在第二高分子膜8上形成第二不透溼層(未圖示)。由此，可以進一步提高不透溼性。另外，當在第二高分子膜8上形成第二不透溼層時，優選是在粘合層一側配置了第二不透溼層的構成。

(易粘接層10)

易粘接層10形成在第二高分子膜8上(阻隔膜11上)。易粘接層10含有：含具有反應性碳碳雙鍵的基團及2個以上羥基的聚合物；以及聚異氰酸酯。易粘接層10還可以進一步含有後述的含具有反應性碳碳雙鍵的基團及羥基的單體。反應性碳碳雙鍵是指能夠發生自由基聚合或陽離子聚合的碳碳雙鍵。具有反應性碳碳雙鍵的基團優選是具有烯鍵式不飽和雙鍵的基團，例如更優選苯乙烯基或(甲基)丙烯醯基等，進一步優選丙烯醯基。通過具有反應性碳碳雙鍵的基團為丙烯醯基，有反應性提高、獲得更優異的密合性的傾向。

含具有反應性碳碳雙鍵的基團及2個以上羥基的聚合物通過對含具有反應性碳碳雙鍵的基團的單體進行聚合來獲得。上述單體可以由1種單體構成、也可由多種單體構成。聚合物的製造中使用的單體由1種單體構成時，上述單體是含具有反應性碳碳雙鍵的基團及具有羥基的基團的單體。另外，當聚合物的製造中使用的單體由多種單體構成時，上述單體可以是含具有反應性碳碳雙鍵的基團及羥基的單體與含具有反應性碳碳雙鍵的基團的其他單體的組合。

上述含具有反應性碳碳雙鍵的基團的單體優選是含(甲基)丙烯醯基的單體或含苯乙烯基的單體，更優選是含(甲基)丙烯醯基的單體。作為含(甲基)丙烯醯基的單體，例如可舉出(甲基)丙烯酸、(甲基)丙烯酸烷基酯、氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯及環氧(甲基)丙烯酸酯等。上述(甲基)丙烯酸烷基酯的烷基的碳數例如為1～5。另外，含具有反應性碳碳雙鍵的基團及羥基的單體優選是含(甲基)丙烯醯基及羥基的單體、或含苯乙烯基及羥基的單體，更優選是含(甲基)丙烯醯基及羥基的單體。作為含(甲基)丙烯醯基及羥基的單體，可舉出(甲基)丙烯酸、(甲基)丙烯酸羥基烷基酯及季戊四醇三丙烯酸酯等。上述(甲基)丙烯酸羥基烷基酯的烷基的碳數例如為1～5。

另外，上述聚合物可以是僅由單體聚合而得，也可以是將預先獲得的丙烯酸預聚物與單體聚合而獲得。上述丙烯酸預聚物是對丙烯酸、甲基丙烯酸及(甲基)丙烯酸縮水甘油酯等丙烯酸單體進行聚合而獲得的聚合物，對至少1種含羥基的丙烯酸單體進行聚合而獲得。作為含羥基的丙烯酸單體，例如可舉出(甲基)丙烯酸羥基乙酯、(甲基)丙烯酸羥基丙酯及N-羥甲基丙烯醯胺等。上述丙烯酸預聚物的重均分子量優選為5000～10000。

對上述聚合物進行紫外線照射來獲得時，聚合是在光聚合引發劑的存在下進行。作為光聚合引發劑，例如可舉出苯乙酮類、苯偶姻類、二苯甲酮類、氧化膦類、縮酮類、蒽醌類及噻噸酮類等。

另外，聚合還可根據需要在正丁基胺、三乙基胺、聚正丁基膦等光增感劑、防靜電劑、矽烷偶聯劑、紫外線吸收劑、抗氧化劑、流平劑及分散劑等的存在下進行。

作為上述聚異氰酸酯，作為原材料可舉出甲苯二異氰酸酯、二苯基甲烷二異氰酸酯、六亞甲基二異氰酸酯、異佛爾酮二異氰酸酯及二甲苯二異氰酸酯等。上述聚異氰酸酯還可以是使異氰酸酯之間反應而獲得的預聚物、或使異氰酸酯與醇反應而獲得的預聚物。易粘接層10中的聚異氰酸酯的含量相對於含具有反應性碳碳雙鍵的基團及2個以上羥基的聚合物100質量份，優選為1～100質量份、更優選為3～60質量份。

易粘接層10例如如下獲得：將含有含具有反應性碳碳雙鍵的基團及2個以上羥基的聚合物以及聚異氰酸酯的粘接劑塗布在第二高分子膜8上(阻隔膜11上)，對塗布膜進行乾燥，從而獲得。上述粘接劑優選含有：含具有反應性碳碳雙鍵的基團及2個以上羥基的聚合物、聚異氰酸酯、溶解上述聚合物及聚異氰酸酯的溶劑。作為溶劑，例如可以使用甲乙酮、甲基異丁基酮、環己酮、醋酸乙酯、醋酸丁酯、甲醇、乙醇、異丙醇及丁醇等。

上述粘接劑含有溶劑時，上述粘接劑的固體成分量以粘接劑總量為基準優選為0.5～30質量％、更優選為1～10質量％。

作為粘接劑在第二高分子膜8上(阻隔膜11上)的塗布方法，例如可舉出凹版塗布機、浸塗機、反向塗布機、絲棒塗布機及模塗機等。另外，塗布膜的乾燥例如通過在50～250℃加熱1秒～20分鐘來進行。

如上獲得的易粘接層10的厚度為0.01μm以上且1μm以下。易粘接層10的厚度優選為0.02μm以上、更優選為0.05μm以上、進一步優選為0.1μm以上。通過易粘接層10的厚度為0.01μm以上，有密合性提高的傾向。另外，易粘接層10的厚度優選為0.8μm以下、更優選為0.5μm以下。通過易粘接層10的厚度為1μm以下，有易粘接層10難以受到來自外部的應力的影響、密合性提高的傾向。

上述含有含具有反應性碳碳雙鍵的基團及2個以上羥基的聚合物、以及聚異氰酸酯的易粘接層還可進一步形成在第一高分子膜2的與形成有不透溼層4的層成相反側的面上。

[層疊體30]

圖2為本發明一個實施方式的層疊體的概略截面圖。本實施方式的層疊體30在一個側面具備第一高分子膜2、形成於該第一高分子膜2上的不透溼層4、形成於該不透溼層4上的第二高分子膜8、形成於該第二高分子膜8上的固化粘接層10』、以及形成於該固化粘接層10』上的樹脂膜22。上述固化粘接層10』通過對上述層疊膜20的上述易粘接層10例如進行光照射及/或加熱、使其固化而獲得。另外，將使層疊膜20的易粘接層10固化而具備經固化的上述易粘接層(固化粘接層)10』的層疊膜有時稱作固化層疊膜。本實施方式的層疊體30在另一側面具備上述固化層疊膜20』和形成於該固化層疊膜20』的經固化的上述易粘接層(固化粘接層)10』側表面上的樹脂膜22。圖2中，可以將除固化粘接層10』及樹脂膜22以外的層一併稱作阻隔膜11。本實施方式的層疊體30隻要具備阻隔膜11、形成於該阻隔膜11上的固化粘接層10』、以及形成於該固化粘接層10』上的樹脂膜22即可，與層疊膜20同樣，阻隔膜11的構成並非限於圖2所示的構成。

本實施方式的層疊體30例如還可通過在上述層疊膜20的上述易粘接層10表面上粘貼樹脂膜22並進行光照射及/或加熱來獲得。通過上述光照射或加熱，易粘接層10中的聚合物的羥基與聚異氰酸酯的異氰酸酯基發生反應而形成氨基甲酸酯鍵，易粘接層10變為固化粘接層10』。本實施方式的層疊體30例如還可通過在上述層疊膜20的上述易粘接層10表面上形成樹脂層並進行光照射及/或加熱來獲得。此時，通過上述光照射或加熱，在易粘接層中引起上述反應、同時樹脂層固化變為樹脂膜22。另外，上述樹脂層是對通過光照射或加熱而能夠固化的液狀樹脂組合物(固化性液狀樹脂組合物)進行例如塗布和乾燥而獲得的層。

作為上述樹脂膜22中使用的樹脂並無特別限定，例如可舉出熱塑性樹脂以及熱塑性樹脂、熱固化性樹脂、電子束固化性樹脂及紫外線固化性樹脂等的固化物。因此，樹脂膜22為對樹脂層進行固化而獲得時，上述固化性液狀樹脂組合物還可含有選自上述熱固化性樹脂、電子束固化性樹脂及紫外線固化性樹脂中的至少1種樹脂。作為上述熱塑性樹脂，可舉出聚酯樹脂、丙烯酸樹脂、丙烯酸聚氨酯樹脂、聚酯丙烯酸酯樹脂、聚氨酯丙烯酸酯樹脂及聚氨酯樹脂及聚碳酸酯樹脂。另外，作為上述熱固化性樹脂，可舉出環氧樹脂、三聚氰胺樹脂及酚醛樹脂等。樹脂膜22中使用的樹脂從耐光性或光學特性優異的方面出發，優選丙烯酸樹脂或固化環氧樹脂。

樹脂膜22(或固化性液狀樹脂組合物)例如可含有微粒。樹脂膜22的表面還可以具有微粒露出所產生的微細凹凸。當將樹脂膜22的表面具有上述凹凸的層疊體30用於發光單元時，有能夠抑制牛頓環發生的傾向。

作為上述樹脂膜22所含的微粒並無特別限定，例如可以使用二氧化矽、粘土、滑石、碳酸鈣、硫酸鈣、硫酸鋇、氧化鈦及氧化鋁等無機微粒，以及苯乙烯樹脂、聚氨酯樹脂、有機矽樹脂及丙烯酸樹脂等有機微粒。上述微粒可以單獨使用或者組合使用2種以上。

樹脂膜22優選是光學膜。通過樹脂膜22為光學膜，可以對發光單元賦予光學功能。作為上述光學功能並無特別限定，可舉出防幹涉條紋(莫爾紋)功能、防反射功能及擴散功能等。從對樹脂膜22賦予光學功能的觀點出發，上述樹脂膜22中使用的樹脂優選是光學透明性優異的樹脂。

光照射例如可以通過金屬滷化物燈或高壓汞燈等進行。另外，加熱例如可以在50～250℃下進行1秒～20分鐘。

[波長轉換片材100]

使用上述層疊膜20及層疊體30，可以提供波長轉換片材。圖3是本發明第一實施方式的波長轉換片材的概略截面圖。圖3中，波長轉換片材100具備波長轉換層13和形成于波長轉換層13的兩面上的一對固化層疊膜20』a、20』b作為保護膜。第一固化層疊膜20』a具備第一高分子膜2a、形成於第一高分子膜2a上的不透溼層4a、以及形成於不透溼層4a上的固化粘接層10』a，第二固化層疊膜20』b具備第一高分子膜2b、形成於第一高分子膜2b上的不透溼層4b、以及形成於不透溼層4b上的固化粘接層10』b。第一固化層疊膜20』a按照第一固化粘接層10』a面對波長轉換層13的方式形成在波長轉換層13的一個面上，第二固化層疊膜20』b按照第二固化粘接層10』b面對波長轉換層13的方式形成在波長轉換層13的另一個面上。另外，波長轉換片材100也可以具備波長轉換層13和形成于波長轉換層13的兩面上的一對保護膜，上述保護膜中僅一者為固化層疊膜20』。

圖3中，可以將第一固化層疊膜20』a中除固化粘接層10』a以外的層一併稱作第一阻隔膜11a，將第二固化層疊膜20』b中除固化粘接層10』b以外的層一併稱作第二阻隔膜11b。圖3中，第一阻隔膜11a含有第一高分子膜2a和形成於第一高分子膜2a上的不透溼層4a，第二阻隔膜11b含有第一高分子膜2b和形成於第一高分子膜2b上的不透溼層4b。第一固化粘接層10』a形成在第一阻隔膜11a的不透溼層4a上，第二固化粘接層10』b形成在第二阻隔膜11b的不透溼層4b上。固化層疊膜20』的詳細構成如上所述。

本實施方式的波長轉換片材100例如如下獲得：準備2張層疊膜20，在一個層疊膜20的易粘接層10上形成波長轉換層13，將另一個層疊膜20按照易粘接層10與波長轉換層13相面對的方式進行粘貼，使易粘接層10固化，從而獲得。

波長轉換層13是將來自外部的能量轉換成光而進行發光的發光體層，可以通過激發光的入射來發光。波長轉換層13如下獲得：在使第一高分子膜2為內側的狀態下利用一對的上述層疊膜20夾持螢光體層，同時進行密封，根據需要利用封固樹脂將螢光體層與層疊膜20之間封固，從而獲得。波長轉換層13的厚度例如為10～500μm。

螢光體層含有樹脂及螢光體。作為上述樹脂，例如可以使用光固化性樹脂或熱固化性樹脂。作為上述螢光體，例如可舉出作為發光部的芯被作為保護膜的殼覆蓋的螢光體。作為上述芯，例如可舉出硒化鎘(CdSe)等，作為上述殼，例如可舉出硫化鋅(ZnS)等。CdSe粒子的表面缺陷被帶隙大的ZnS覆蓋，從而量子效率提高。另外，螢光體還可以是芯被第1殼及第2殼雙重地覆蓋。此時，芯可以使用CsSe、第1殼可以使用硒化鋅(ZnSe)、第2殼可以使用ZnS。上述螢光體可以組合使用2種以上。另外，還可將僅含1種螢光體的螢光體層與僅含其他種類螢光體的螢光體層層疊。上述2種螢光體選擇激發波長相同者。激發波長基於發光二極體光源照射的光的波長來進行選擇。2種螢光體的螢光色互不相同。各螢光色分別為紅色及綠色。各螢光的波長及發光二極體光源所照射的光的波長基於濾色器的分光特性來進行選擇。螢光的峰值波長例如紅色為610nm、綠色為550nm。上述螢光體優選為量子點。上述螢光體的平均粒徑例如為1nm～20nm。

圖4為本發明第二實施方式的波長轉換片材的概略截面圖。本實施方式的波長轉換片材100中，第一固化層疊膜20』a所具備的阻隔膜11a含有第一高分子膜2a、介由錨塗層3a形成於第一高分子膜2a上的不透溼層4a、以及介由粘合層或粘接層6a形成於不透溼層4a上的第二高分子膜8a，第二固化層疊膜20』b所具備的阻隔膜11b含有第一高分子膜2b、介由錨塗層3b形成於第一高分子膜2b上的不透溼層4b、以及介由粘合層或粘接層6b形成於不透溼層4b上的第二高分子膜8b，在此點上與第一實施方式的波長轉換片材不同。第一固化粘接層10』a形成在阻隔膜11a的第二高分子膜8a上、第二固化粘接層10』b形成在阻隔膜11b的第二高分子膜8b上。固化層疊膜20』及波長轉換層13的詳細構成如上所述。

本實施方式的波長轉換片材100中，只要固化層疊膜20』a具備阻隔膜11a和形成於該阻隔膜11a上的固化粘接層10』a、固化層疊膜20』b具備阻隔膜11b和形成於該阻隔膜11b上的固化粘接層10』b即可，與層疊膜20同樣，阻隔膜11a、11b的構成並非限定於圖3及圖4所示的構成。

波長轉換片材100使用層疊體30製造時，例如準備2張層疊體30，在一個層疊體30的第一高分子膜2上形成波長轉換層13，將另一個層疊體30按照第一高分子膜2與波長轉換層13相面對的方式進行粘貼，從而獲得。波長轉換層13如下獲得：在使第一高分子膜2為內側的狀態下利用一對的層疊體30夾持螢光體層，同時進行密封，根據需要利用封固樹脂將螢光體層與層疊膜30之間封固，從而獲得。

作為封固樹脂，例如可以使用熱塑性樹脂、熱固化性樹脂及紫外線固化型樹脂等。作為熱塑性樹脂，例如可以使用乙醯基纖維素、硝基纖維素、乙醯基丁基纖維素、乙基纖維素及甲基纖維素等纖維素衍生物；醋酸乙烯酯及其共聚物、氯乙烯及其共聚物、以及偏氯乙烯及其共聚物等乙烯基系樹脂；聚乙烯醇縮甲醛及聚乙烯醇縮丁醛等縮醛樹脂；丙烯酸樹脂及其共聚物、甲基丙烯酸樹脂及其共聚物等丙烯酸系樹脂；聚苯乙烯樹脂；聚醯胺樹脂；線狀聚酯樹脂；氟樹脂；以及聚碳酸酯樹脂等。作為熱固化性樹脂，可舉出酚醛樹脂、脲三聚氰胺樹脂、聚酯樹脂及有機矽樹脂等。作為光固化性樹脂，可舉出環氧丙烯酸酯、氨基甲酸酯丙烯酸酯及聚酯丙烯酸酯等光聚合性預聚物。另外，還可以以這些光聚合性預聚物作為主成分、作為稀釋劑使用單官能或多官能的單體。

圖4為本發明第二實施方式的波長轉換片材的概略截面圖。本實施方式的波長轉換片材100中，第一固化層疊膜20』a所具備的阻隔膜11a含有第一高分子膜2a、介由錨塗層3a形成於第一高分子膜2a上的不透溼層4a、以及介由粘合層或粘接層6a形成於不透溼層4a上的第二高分子膜8a，第二固化層疊膜20』b所具備的阻隔膜11b含有第一高分子膜2b、介由錨塗層3b形成於第一高分子膜2b上的不透溼層4b、以及介由粘合層或粘接層6b形成於不透溼層4b上的第二高分子膜8b，在此點上與第一實施方式的波長轉換片材不同。第一固化粘接層10』a形成在阻隔膜11a的第二高分子膜8a上、第二固化粘接層10』b形成在阻隔膜11b的第二高分子膜8b上。固化層疊膜20』及波長轉換層13的詳細構成如上所述。

本實施方式的波長轉換片材100中，只要固化層疊膜20』a具備阻隔膜11a和形成於該阻隔膜11a上的固化粘接層10』a、固化層疊膜20』b具備阻隔膜11b和形成於該阻隔膜11b上的固化粘接層10』b即可，與層疊膜20同樣，阻隔膜11a、11b的構成並非限於圖3及圖4所示的構成。

波長轉換片材100使用層疊體30製造時，例如準備2張層疊體30，在一個層疊體30的第一高分子膜2上形成波長轉換層13，將另一個層疊體30按照第一高分子膜2與波長轉換層13相面對的方式進行粘貼，從而獲得。波長轉換層13如下獲得：在使第一高分子膜2為內側的狀態下利用一對的層疊體30夾持螢光體層，同時進行密封，根據需要利用封固樹脂將螢光體層與層疊膜30之間封固，從而獲得。

[背光單元50]

使用上述層疊膜20及層疊體30，可以提供發光單元。以下示出使用上述層疊膜20及層疊體30獲得的發光單元的例子。

圖5是本發明一個實施方式的液晶顯示器用的背光單元的概略截面圖。本實施方式的背光單元50具備發光二極體光源40和波長轉換片材100。在波長轉換片材100的一個面上進一步按順序配置導光板36及反射板38，將發光二極體光源40配置在上述導光板36的側方(導光板36的面方向)上。根據這種背光單元50，可以抑制外部的氧或水蒸汽接觸於螢光體層，可以在沒有螢光體層劣化的情況下長時間地使用背光。

導光板36及反射板38有效地將自發光二極體光源40照射的光反射並導出，可使用公知的材料。作為導光板36，例如可使用丙烯酸、聚碳酸酯及環烯烴膜等。

發光二極體光源40上設有多個發光色為藍色的發光二極體元件。該發光二極體元件可以是紫色發光二極體或更低波長的發光二極體。自發光二極體光源40照射的光入射至導光板36(D1方向)之後，伴隨著反射及折射等入射到波長轉換層13(D2方向)。透過波長轉換層13的光通過在經過波長轉換層13之前的光中混有在波長轉換層13中產生的波長範圍寬的黃色光，從而變為白色光。

[電致發光單元70]

圖6為本發明一個實施方式的電致發光單元的概略截面圖。本實施方式的電致發光單元70具備電致發光層56和固化層疊膜20』。固化層疊膜與上述含義相同。電致發光層56是將來自外部的能量轉換成光並進行發光的發光層，可以通過電場的施加進行發光。電致發光單元70例如如下獲得：用在一個面上形成有密封膠層52的一對固化層疊膜20』夾持電極要素，同時進行密封，從而獲得，所述電極要素含有透明電極層54、設於該透明電極層54上的電致發光層56、該電致發光層56上設置的電介質層58、以及設於該電介質層58上的背面電極層60。根據使用了上述層疊膜的背光單元，可以抑制外部的氧或水蒸汽接觸於螢光體層，可以在沒有電致發光層劣化的情況下長時間地使用電致發光單元。另外，還可以在上述各電極與電致發光體層之間根據需要層疊空穴注入層、空穴輸送層、電子輸送層、電子注入層等。

各電極層、電致發光層及電介質層例如可通過蒸鍍及濺射法等形成。另外，作為密封膠層，可使用用酸對聚烯烴系樹脂進行接枝改性而得到的酸改性聚烯烴系樹脂、或作為封固樹脂列舉的上述樹脂等。

實施例

以下舉出實施例具體地說明本發明，但本發明的範圍並非限定於這些。

[層疊膜及層疊體的製作]

(實施例1)

在雙軸拉伸聚對苯二甲酸乙二醇酯膜(第一高分子膜2、商品名：P60、厚度：12μm、Toray株式會社制)的進行了電暈電放處理的面上，利用棒塗法塗布聚酯樹脂溶液，在80℃下使其乾燥固化1分鐘，從而形成厚度為100nm的錨塗層。

使用電子束加熱式的真空蒸鍍裝置，在1.5×10-2Pa的壓力下通過電子束加熱使氧化矽材料(SiO、Canon Optron株式會社制)蒸發，在上述錨塗層上形成厚度為80nm的SiOx膜(不透溼層4)。其中，蒸鍍的加速電壓為40kV、發射電流為0.2A。

在上述不透溼層4上塗布粘接劑(商品名：TAKELAC A525、三井化學株式會社制)，介由上述粘接劑將上述不透溼層4與雙軸拉伸聚對苯二甲酸乙二醇酯膜(第二高分子膜8、商品名：FE2001、厚度：25μm、Futamura化學株式會社制)的進行了電暈放電處理的面粘貼，在50℃下實施熟化2日。粘貼後的粘接層6的厚度為5μm。

製作聚合丙烯酸35質量份、丙烯酸羥基乙酯35質量份及丙烯酸正丁酯30質量份而獲得的丙烯酸樹脂(重均分子量：30000)70質量份與六亞甲基二異氰酸酯的異氰脲酸酯體(商品名：Desmodur N3300、Sumitomo Bayer Urethane公司制)30質量份的混合溶液，塗布在上述第二高分子膜8上。將塗布液乾燥，形成厚度為0.2μm的易粘接層10，獲得層疊膜20。

在所得的層疊膜20的易粘接層10上粘貼環氧片材(光學膜22、商品名：XNR5516Z、Nagase Chemtex株式會社制)。對粘貼有環氧片材的層疊膜以曝光量6J/cm2照射UV(紫外線)，在80℃下烘焙60分鐘，獲得層疊體30。

(實施例2)

在雙軸拉伸聚對苯二甲酸乙二醇酯膜(第一高分子膜2、商品名：A4100、厚度：50μm、東洋紡株式會社制)上利用棒塗法塗布聚酯樹脂溶液，在80℃下乾燥固化1分鐘，從而形成厚度為100nm的錨塗層。

使用電阻加熱式的真空蒸鍍裝置，在3.0×10-2Pa的壓力下通過加熱將鋁材料(商品名：4N、株式會社高純度化學研究所制)蒸發，在上述錨塗層上形成厚度為10nm的AlOx膜。其中，蒸鍍的加速電壓為50kV、發射電流為0.5A。

將以1/1的質量比混合有四乙氧基矽烷的水解物和聚乙烯醇的混合液利用棒塗法塗布在上述AlOx膜上，在120℃下乾燥固化1分鐘，從而形成厚度為400nm的SiOx膜。將如此形成於錨塗層上的具備AlOx膜和SiOx膜的多層膜作為不透溼層4。

在上述不透溼層4上塗布粘接劑(商品名：TAKELAC A525、三井化學株式會社制)，介由上述粘接劑將上述不透溼層4與雙軸拉伸聚對苯二甲酸乙二醇酯膜(第二高分子膜8、商品名：FE2001、厚度：25μm、Futamura化學株式會社制)的進行了電暈放電處理的面粘貼，在50℃下實施熟化2日。粘貼後的粘接層6的厚度為5μm。

製作聚合丙烯酸35質量份、丙烯酸羥基乙酯35質量份及丙烯酸正丁酯30質量份而獲得的丙烯酸樹脂(重均分子量：30000)70質量份與六亞甲基二異氰酸酯的異氰脲酸酯體(商品名：Desmodur N3300、Sumitomo Bayer Urethane公司制)30質量份的混合溶液，塗布在上述第二高分子膜8上。將塗布液乾燥，形成厚度為0.2μm的易粘接層10，獲得層疊膜20。

在所得的層疊膜20的易粘接層10上粘貼環氧片材(光學膜22、商品名：XNR5516Z、Nagase Chemtex株式會社制)。對粘貼有環氧片材的層疊膜以曝光量6J/cm2照射UV(紫外線)，在80℃下烘焙60分鐘，獲得層疊體30。

(比較例1)

在雙軸拉伸聚對苯二甲酸乙二醇酯膜(第一高分子膜、商品名：P60、厚度：12μm、Toray株式會社制)的經電暈放電處理的面上利用棒塗法塗布聚酯樹脂溶液，在80℃下乾燥固化1分鐘，從而形成厚度為100nm的錨塗層。

使用電子束加熱式的真空蒸鍍裝置，在1.5×10-2Pa的壓力下使用電子束加熱將氧化矽材料(SiO、Canon Optron株式會社制)蒸發，在上述錨塗層上形成厚度為80nm的SiOx膜(不透溼層)。其中，蒸鍍的加速電壓為40kV、發射電流為0.2A。

在上述不透溼層上塗布粘接劑(商品名：TAKELAC A525、三井化學株式會社制)，介由上述粘接劑將上述不透溼層與雙軸拉伸聚對苯二甲酸乙二醇酯膜(第二高分子膜、商品名：FE2001、厚度：25μm、Futamura化學株式會社制)的進行了電暈放電處理的面粘貼，在50℃下實施熟化2日。粘貼後的粘接層的厚度為5μm。

製作聚合丙烯酸35質量份、丙烯酸羥基乙酯35質量份及丙烯酸正丁酯30質量份而獲得的丙烯酸樹脂(重均分子量：30000)的溶液，塗布在上述第二高分子膜上。將塗布液乾燥，形成厚度為0.2μm的易粘接層，獲得層疊膜。

在所得的層疊膜的易粘接層上粘貼環氧片材(光學膜、商品名：XNR5516Z、Nagase Chemtex株式會社制)。對粘貼有環氧片材的層疊膜以曝光量6J/cm2照射UV(紫外線)，在80℃下烘焙60分鐘，獲得層疊體。

(比較例2)

在雙軸拉伸聚對苯二甲酸乙二醇酯膜(第一高分子膜、商品名：A4100、厚度：50μm、東洋紡株式會社制)上利用棒塗法塗布聚酯樹脂溶液，在80℃下乾燥固化1分鐘，從而形成厚度為100nm的錨塗層。

使用電阻加熱式的真空蒸鍍裝置，在氧導入下、3.0×10-2Pa的壓力下通過加熱將鋁材料(商品名：4N、株式會社高純度化學研究所制)蒸發，在上述錨塗層上形成厚度為10nm的AlOx膜。其中，蒸鍍的加速電壓為50kV、發射電流為0.5A。

將以1/1的質量比混合有四乙氧基矽烷的水解物和聚乙烯醇的混合液利用棒塗法塗布在上述AlOx膜上，在120℃下乾燥固化1分鐘，從而形成厚度為400nm的SiOx膜。將如此形成於錨塗層上的具備AlOx膜和SiOx膜的多層膜作為不透溼層。

在上述不透溼層上塗布粘接劑(商品名：TAKELAC A525、三井化學株式會社制)，介由上述粘接劑將上述不透溼層與雙軸拉伸聚對苯二甲酸乙二醇酯膜(第二高分子膜、商品名：FE2001、厚度：25μm、Futamura化學株式會社制)的進行了電暈放電處理的面粘貼，在50℃下實施熟化2日。粘貼後的粘接層的厚度為5μm。

製作含有聚酯聚氨酯樹脂(商品名：UR1350、東洋紡株式會社制)70質量份和六亞甲基二異氰酸酯的異氰脲酸酯體30質量份的混合溶液，塗布在上述第二高分子膜上。將塗布液乾燥，形成厚度為0.2μm的易粘接層，獲得層疊膜。

在所得的層疊膜的易粘接層上粘貼環氧片材(光學膜、商品名：XNR5516Z、Nagase Chemtex株式會社制)。對粘貼有環氧片材的層疊膜以曝光量6J/cm2照射UV(紫外線)，在80℃下烘焙60分鐘，獲得層疊體。

(比較例3)

在雙軸拉伸聚對苯二甲酸乙二醇酯膜(第一高分子膜、商品名：P60、厚度：12μm、Toray株式會社制)的進行了電暈放電處理的面上塗布粘接劑(商品名：TAKELAC A525、三井化學株式會社制)，介由上述粘接劑將上述雙軸拉伸聚對苯二甲酸乙二醇酯膜與雙軸拉伸聚對苯二甲酸乙二醇酯膜(第二高分子膜、商品名：FE2001、厚度：25μm、Futamura化學株式會社制)的進行了電暈放電處理的面粘貼，在50℃下實施熟化2日。粘貼後的粘接層的厚度為5μm。

製作聚合丙烯酸35質量份、丙烯酸羥基乙酯35質量份及丙烯酸正丁酯30質量份而獲得的丙烯酸樹脂(重均分子量：30000)70質量份與六亞甲基二異氰酸酯的異氰脲酸酯體(商品名：Desmodur N3300、Sumitomo Bayer Urethane公司制)30質量份的混合溶液，塗布在上述第二高分子膜上。將塗布液乾燥，形成厚度為0.2μm的易粘接層，獲得層疊膜。

在所得的層疊膜的易粘接層上粘貼環氧片材(光學膜、商品名：XNR5516Z、Nagase Chemtex株式會社制)。對粘貼有環氧片材的層疊膜以曝光量6J/cm2照射UV(紫外線)，在80℃下烘焙60分鐘，獲得層疊體。

(比較例4)

在雙軸拉伸聚對苯二甲酸乙二醇酯膜(第一高分子膜、商品名：A4100、厚度：50μm、東洋紡株式會社制)上利用棒塗法塗布聚酯樹脂溶液，在80℃下乾燥固化1分鐘，從而形成厚度為100nm的錨塗層。

使用電阻加熱式的真空蒸鍍裝置，在3.0×10-2Pa的壓力下通過加熱將鋁材料(商品名：4N、株式會社高純度化學研究所制)蒸發，在上述錨塗層上形成厚度為10nm的AlOx膜。其中，蒸鍍的加速電壓為50kV、發射電流為0.5A。

將以1/1的質量比混合有四乙氧基矽烷的水解物和聚乙烯醇的混合液利用棒塗法塗布在上述AlOx膜上，在120℃下乾燥固化1分鐘，從而形成厚度為400nm的SiOx膜。將如此形成於錨塗層上的具備AlOx膜和SiOx膜的多層膜作為不透溼層。

在上述不透溼層上塗布粘接劑(商品名：TAKELAC A525、三井化學株式會社制)，介由上述粘接劑將上述不透溼層與雙軸拉伸聚對苯二甲酸乙二醇酯膜(商品名：FE2001、厚度：25μm、Futamura化學株式會社制)的經電暈放電處理的面粘貼，在50℃下實施熟化2日。粘貼後的粘接層的厚度為5μm。

製作聚合丙烯酸35質量份、丙烯酸羥基乙酯35質量份及丙烯酸正丁酯30質量份而獲得的丙烯酸樹脂(重均分子量：30000)70質量份與六亞甲基二異氰酸酯的異氰脲酸酯體(商品名：Desmodur N3300、Sumitomo Bayer Urethane公司制)30質量份的混合溶液，塗布在上述第二高分子膜上。將塗布液乾燥，形成厚度為2μm的易粘接層，獲得層疊膜。

在所得的層疊膜的易粘接層上粘貼環氧片材(光學膜、商品名：XNR5516Z、Nagase Chemtex株式會社制)。對粘貼有環氧片材的層疊膜以曝光量6J/cm2照射UV(紫外線)，在80℃下烘焙60分鐘，獲得層疊體。

[評價方法]

(不透溼性)

利用基於JIS K 7129的紅外線傳感法的方法，通過測定水蒸汽透過度來評價實施例1～2及比較例1～4中獲得的層疊膜的不透溼性。水蒸汽透過度的測定使用水蒸汽透過率測定裝置(商品名：Permatran、MOCON公司制)。透過池的溫度為40℃、高溼度腔室的相對溼度為90％RH、低溼度腔室的相對溼度為0％RH。將水蒸汽透過度的測定結果示於表1。

(總光線透過率)

使用濁度計裝置(商品名：NDH2000、日本電色工業株式會社制)對實施例1～2及比較例1～4中獲得的層疊膜的總光線透過率進行測定。將總光線透過率的測定結果示於表1。

(易粘接層與第二高分子膜的密合性)

按照基於JIS K 5600-5-6(ISO2409)的十字切割法的附著性評價試驗方法，以1mm間隔將實施例1～2及比較例1～4中獲得的層疊膜的易粘接層部分切成格子狀，在易粘接層上粘貼玻璃膠帶。將玻璃膠帶從易粘接層上剝離之後，根據下述基準評價密合性。將易粘接層與第二高分子膜的密合性的評價結果示於表1。

A：易粘接層不會從第二高分子膜上剝離(JIS K 5600-5-6的分類0～2)。

B：易粘接層從第二高分子膜上剝離(JIS K 5600-5-6的分類3～5)。

(光學膜與易粘接層的密合性)

將實施例1～2及比較例1～4中獲得的層疊體切成寬度為1cm的長條狀，將層疊體的環氧片材(光學膜)側固定在玻璃板上。使用Tensilon萬能材料試驗機(A&D公司制)在垂直於玻璃板的方向上以300mm/分鐘的速度將固定的長條狀層疊體的層疊膜從環氧片材上剝離，測定剝離所需要的強度。根據下述標準評價光學膜與易粘接層的密合性。將光學膜與易粘接層的密合性的評價結果示於表1。

A：剝離強度為2N/cm以上。

B：剝離強度小於2N/cm。

[表1]

如表1所示，實施例1～2的層疊膜及層疊體獲得了優異的不透溼性及優異的密合性。與其相對，比較例1的層疊膜及層疊體中由於未使用聚異氰酸酯來形成易粘接層，因此在易粘接層與第二高分子膜之間未能獲得充分的密合性，在光學膜與易粘接層之間未能獲得充分的密合性。另外，比較例2的層疊體中，由於使用沒有反應性碳碳雙鍵的聚酯聚氨酯樹脂來形成易粘接層，因此在光學膜與易粘接層之間未能獲得充分的密合性。另外，由於比較例3的層疊膜沒有不透溼層，因此未能獲得充分的不透溼性。另外，比較例4的層疊體中，由於易粘接層的厚度超過1μm，因此在光學膜與易粘接層之間未能獲得充分的密合性。

[波長轉換片材的製作]

(實施例3)

為了製作圖4所示的波長轉換片材，對作為第一高分子膜2a的雙軸拉伸聚對苯二甲酸乙二醇酯膜(商品名：P60、厚度：12μm、Toray株式會社制)進行電暈放電處理，在其面上利用棒塗法塗布聚酯樹脂溶液，在80℃下乾燥固化1分鐘，從而形成厚度為100nm的錨塗層3a。

使用電子束加熱式的真空蒸鍍裝置，在1.5×10-2Pa的壓力下通過電子束加熱將氧化矽材料(Canon Optron株式會社制)蒸發，在上述錨塗層3a上形成厚度為40nm的SiOx膜。其中，蒸鍍的加速電壓為40kV、發射電流為0.2A。

將以1/1的質量比混合有四乙氧基矽烷的水解物和聚乙烯醇的混合液利用棒塗法塗布在上述AlOx膜上，在120℃下乾燥固化1分鐘，從而形成厚度為400nm的SiOx膜。進而，按照同樣的步驟按順序形成利用真空蒸鍍得到的厚度為40nm的SiOx膜和利用塗布得到的厚度為400nm的SiOx膜。將如此形成在錨塗層上的、交替具備2層的利用真空蒸鍍得到的SiOx膜和利用塗布得到的SiOx膜的多層膜作為不透溼層4a。

在上述不透溼層4a上塗布粘接劑(商品名：TAKELAC A525、三井化學株式會社制)製成粘合層6a，介由上述粘接劑將上述不透溼層4a與雙軸拉伸聚對苯二甲酸乙二醇酯膜(第二高分子膜8a、商品名：FE2001、厚度：25μm、Futamura化學株式會社制)的進行了電暈放電處理的面粘貼，在50℃下實施熟化2日，獲得第一阻隔膜11a。粘貼後的粘接層6a的厚度為5μm。

製作聚合丙烯酸35質量份、丙烯酸羥基乙酯35質量份及丙烯酸正丁酯30質量份而獲得的丙烯酸樹脂(重均分子量：30000)70質量份與六亞甲基二異氰酸酯的異氰脲酸酯體(商品名：Desmodur N3300、Sumitomo Bayer Urethane公司制)30質量份的混合溶液，塗布在第一阻隔膜11a的第二高分子膜8a的表面上。將塗布液乾燥，形成厚度為0.2μm的第一易粘接層10a。如上製作了在第一阻隔膜11a上形成了第一易粘接層10a的第一層疊膜20a。

利用與第一阻隔膜11a相同的方法，製作按順序層疊了第一高分子膜2b、錨塗層3b、不透溼層4b、粘接層6b及第二高分子膜8b的第二阻隔膜11b。另外，在第二阻隔膜11b的第二高分子膜8b的表面上，利用與第一易粘接層10a相同的方法形成厚度為0.2μm的第二易粘接層10b。如上製作了在第二阻隔膜11b上形成了第二易粘接層10b的第二層疊膜20b。

在第一阻隔膜11a上的第一易粘接層10a上滴加在熱固化型環氧樹脂中分散有芯為硒化鎘(CdSe)、殼為硫化鋅(ZnS)的量子點發光體的材料，使第二阻隔膜11b上的第二易粘接層10b與所滴加的材料接觸，使用層壓機，按照所滴加的材料成為均勻的膜的方式、介由所滴加的材料將第一阻隔膜11a與第二阻隔膜11b層壓在一起。

通過在室溫下熟化24小時，使上述環氧樹脂固化，在第一阻隔膜11a與第二阻隔膜11b之間形成波長轉換層13，製作波長轉換片材100。此時，波長轉換層13的厚度為100μm。

(比較例5)

不設置第一易粘接層和第二易粘接層，在第一阻隔膜的第二高分子膜與第二阻隔膜的第二高分子膜之間形成波長轉換層，除此之外與實施例3同樣操作，製作波長轉換片材。

[評價方法]

(與發光體層的密合性)

將實施例3及比較例5中獲得的波長轉換片材切成寬度為1cm的長條狀，將波長轉換片材的第一阻隔膜側固定在玻璃板上。使用Tensilon萬能材料試驗機(A&D公司制)，在垂直於玻璃板的方向上以300mm/分鐘的速度將固定的長條狀波長轉換片材的第二阻隔膜從作為發光體層的波長轉換層上剝離，測定剝離所需要的強度。根據下述標準評價第二阻隔膜與發光體層的密合性。

A：剝離強度為1N/cm以上。

B：剝離強度小於1N/cm。

(長期可靠性外觀)

將實施例3及比較例5中獲得波長轉換片材投入到85℃的烘箱中，經過1000小時。使用經過1000小時後的波長轉換片材，作為長期可靠性外觀評價用背光單元分別製作了圖5所示的背光單元。作為背光單元中的光源使用藍色發光二極體。目視觀察來自背光單元的光，確認有無外觀不良。

(長期可靠性發光效率)

使用實施例3及比較例5中獲得的波長轉換片材，作為長期可靠性發光效率評價用背光單元分別製作了圖5所示的背光單元。作為背光單元中的光源使用藍色發光二極體。對上述製作的背光單元，使用亮度計(Konica Minolta公司制、商品名：LS-100)測定藍色發光二極體發光時的亮度(初期亮度A)。之後，將各個波長轉換片材從背光單元中取出，投入到85℃的烘箱中，保存300小時。之後，使用保存300小時後之後的波長轉換片材，再次製作圖5所示的背光單元，與初期亮度A同樣地測定保存後的亮度B。計算初期亮度A與保存後的亮度B之比(B/A)，當比(B/A)為90％以上時，判斷獲得了充分的長期可靠性發光效率。

將易粘接層與發光體層的密合性、長期可靠性外觀、長期可靠性發光效率的評價結果示於表2。

[表2]

如表2所示，實施例3的波長轉換片材獲得了優異的密合性，使用上述波長轉換片材製作的背光單元獲得了優異的長期可靠性。與其相對，比較例5的波長轉換片材未能獲得充分的密合性，使用上述波長轉換片材製作的背光單元在長期可靠性試驗中、第一阻隔膜及第二阻隔膜從波長轉換層上剝落。因此，量子點發光體失活，由使用保存後的波長轉換片材製作的背光單元，確認到來自光源的藍色光。這意味著來自光源的藍色光未被波長轉換層轉換(未變為白色光)，可以判斷自波長轉換層的發光顯著降低。這是有無易粘接層形成所帶來的不同。

符號說明

2，2a，2b第一高分子膜、3a，3b錨塗層、4，4a，4b不透溼層、6，6a，6b粘合層或粘接層、8，8a，8b第二高分子膜、10，10a，10b易粘接層、10』，10』a，10』b固化粘接層、11，11a，11b阻隔膜、13波長轉換層、20層疊膜、20』，20』a，20』b固化層疊膜、22樹脂膜、30層疊體、36導光板、38反射板、40發光二極體光源、50背光單元、52密封膠層、54透明電極層、56電致發光層、58電介質層、60背面電極層、70電致發光單元。