多晶矽太陽能電池用疊層減折射膜的製作方法
2023-07-10 05:54:06 1
專利名稱：多晶矽太陽能電池用疊層減折射膜的製作方法
技術領域：
本實用新型涉及一種太陽能電池的減折射膜結構，尤其是疊層減折射膜結構，具體地說是一種多晶矽太陽能電池用疊層減折射膜。
背景技術：
單體太陽電池不能直接做電源使用。作電源必須將若干單體電池串、並聯連接和嚴密封裝成組件。太陽能電池組件(也叫太陽能電池組件)是太陽能發電系統中的核心部分，也是太陽能發電系統中最重要的部分。其作用是將太陽能轉化為電能，太陽能電池片的轉換效率一般定義為電池片的輸出功率與入射到電池片表面的太陽光總功率之比。太陽光照射到電池片表面是會發生反射和折射，為提高電池片的轉換效率，則要儘量減少折射損失和增加吸收。隨著太陽能技術的發展，通常在電池片表面鍍上減折射膜減少折射損失和增加吸收。目前出現了多種減折射膜，通常採用單一層結構，難以獲得理想的減折射效果。
發明內容本實用新型的目的是針對目前單一層的減折射膜難以獲得理想的減折射效果的問題，提出一種多晶矽太陽能電池用疊層減折射膜，是一種質量高、性能優良的折射膜結構。本實用新型的技術方案是:一種多晶矽太陽能電池用疊層減折射膜，該疊層減折射膜設置在太陽能電池多晶矽基體的前表面，從內至外依次為二氧化矽層和氮氧化矽層。
本實用新型的二氧化矽層為二氧化矽空心球薄膜。本實用新型的二氧化矽空心球薄膜的厚度為18 20nm。本實用新型的氮氧化矽層的厚度為36 40nm。本實用新型的有益效果:本實用新型採用二氧化矽空心球薄膜，其折射率為2.05，氮氧化矽薄膜的折射率為1.5^1.8，這種疊層膜與單層膜相比具有更好的光學匹配特性，不僅對在矽的主光譜響應的520nm的光有優異的減折射效果，而且對波長在30(Tl200nm範圍內的光都有很好的件折射效果，從而提高多晶矽太陽能電池的轉換效率，採用本結構後，我公司工業化生產的多晶矽太陽能電池的轉換效率已超過19.5%，為當前世界最高水平。
圖1是本實用新型的結構示意圖。圖中:1、氮氧化矽層；2、二氧化矽層；3、太陽能電池多晶矽基體。
具體實施方式
[0014]
以下結合附圖和實施例對本實用新型作進一步的說明。如圖1所示，一種多晶矽太陽能電池用疊層減折射膜，該疊層減折射膜設置在太陽能電池多晶矽基體3的前表面，從內至外依次為二氧化矽層2和氮氧化矽層I。本實用新型的氮氧化矽層I的厚度為36 40nm。本實用新型的二氧化矽層2為二氧化矽空心球薄膜；二氧化矽空心球薄膜的厚度為18 20nm。採用二氧化矽空心球薄膜，其折射率為2.05，氮氧化矽薄膜的折射率為1.5^1.8，這種疊層膜與單層膜相比具有更好的光學匹配特性，不僅對在矽的主光譜響應的520nm的光有優異的減折射效果，而且對波長在30(Tl200nm範圍內的光都有很好的件折射效果，從而提高多晶矽太陽能電池的轉換效率，採用本結構後，我公司工業化生產的多晶矽太陽能電池的轉換效率已超過19.5%，為當前世界最高水平。
本實用新型未涉及部分均與現有技術相同或可採用現有技術加以實現。
權利要求1.一種多晶矽太陽能電池用疊層減折射膜，其特徵是該疊層減折射膜設置在太陽能電池多晶矽基體(3)的前表面，從內至外依次為二氧化矽層(2)和氮氧化矽層(I)。
2.根據權利要求1所述的多晶矽太陽能電池用疊層減折射膜，其特徵是所述的二氧化矽層(2)為二氧化矽空心球薄膜。
3.根據權利要求2所述的多晶矽太陽能電池用疊層減折射膜，其特徵是所述的二氧化矽空心球薄膜的厚度為18 20nm。
4.根據權利要求1所述的多晶矽太陽能電池用疊層減折射膜，其特徵是所述的氮氧化娃層(I)的厚度為36 40nm。
專利摘要一種多晶矽太陽能電池用疊層減折射膜，該疊層減折射膜設置在太陽能電池多晶矽基體(3)的前表面，從內至外依次為二氧化矽層(2)和氮氧化矽層(1)。本實用新型採用二氧化矽空心球薄膜，其折射率為2.05，氮氧化矽薄膜的折射率為1.5~1.8，這種疊層膜與單層膜相比具有更好的光學匹配特性，不僅對在矽的主光譜響應的520nm的光有優異的減折射效果，而且對波長在300~1200nm範圍內的光都有很好的件折射效果，從而提高多晶矽太陽能電池的轉換效率，採用本結構後，我公司工業化生產的多晶矽太陽能電池的轉換效率已超過19.5%，為當前世界最高水平。
文檔編號H01L31/0216GK202917499SQ20122058456
公開日2013年5月1日 申請日期2012年11月7日 優先權日2012年11月7日
發明者鈕阿興 申請人:江蘇嘉盛光伏科技有限公司