一種新型盤旋式藥膜塗布機的製作方法

2023-06-08 16:31:31

專利名稱：一種新型盤旋式藥膜塗布機的製作方法
技術領域：
本實用新型涉及一種基材塗布加工設備，特別是涉及一種穩定高效的新型盤旋式藥膜塗布機。
背景技術：
塗布加工技術是指在某種基材上經塗布加工某種塗料後，使該基材獲取某種功能，如防護、感光、熱敏、壓敏、粘結性、不粘結性等，從而生出具有各種特殊性能的產品。目前塗布機是採用封閉立櫃式外形，由毛毯滾筒、拉片對軸、塗布對軸、刮刀軸、塗料及加溫夾層槽、傳動軸以及架片軸所組成的塗布機頭和由傳動通道、傳動軸、收卷及復膜、乾燥及加溼所組成的塗布傳動裝置，並附設外接進、出風孔。其具有結構簡單、成本底、佔地小、便於操作的特點，還可適用於塗布其他材料，如不乾膠、商標等的製造。 這類塗布機有一個下端裝有絲杆，可手動調節升降的藥槽7，為達到控溫目的，該藥槽7下底浸入一帶電加熱控溫的水槽內。如圖I所示。在實際使用中發現，因藥槽7為非密閉開口不鏽鋼槽，使得含有大量易揮發有機溶劑的藥漿在塗布中因不斷揮發而濃度越來越高在控制塗布藥膜厚度刮刀6縫隙不變時，即引起藥膜有效含量不斷升高，致使一批(約3小時)塗布量前後含量差異達40%以上(前段80%，後段120% )，嚴重不符合中國藥典中有關含量均勻度限度不大於百分之二十五的規定。同時刮刀6設計不合理，致使藥層厚度不易控制，塗布刀口在生產過程中被汙染後清理困難，且需不斷手工清理。現有塗布機一般採用的是內設調節螺紋的裝夾收放捲軸，通過手工調節收放膜軸兩端的錐型螺母，粗略定位膜的裡外位置，在膜的塗布過程中發現走偏時，通過手工調節軸內螺杆，使收放捲軸向內或外適度移動以修正走偏。該方式存在著調節粗曠，不能及時糾正因膜材卷繞不齊及走膜通道尺寸偏差而引起的走偏。經常出現因不能及時糾偏引起膜材翻邊，起皺，使大段已塗藥膜報廢。烘道溫控及布局設計不合理，使藥層在初始段因烘乾溫度偏高而起泡，在中、後段又因溫度偏低，不能有效烘乾而造成產品有機溶劑殘留超標。

實用新型內容(一 )要解決的技術問題本實用新型要解決的技術問題是控制連續塗布過程中，前後塗布膜層含藥量均勻；實現從裝夾膜卷至烘道內走膜、烘乾、復膜、收卷全程中自動糾偏，使塗層居中，膜片平整，不捲邊起皺，復膜精確，收膜緊密平整。(二)技術方案為了解決上述技術問題，本實用新型提供一種新型盤旋式藥膜塗布機，該塗布機由塗布機頭、塗布傳動裝置、膜走偏控制系統和烘道組成，塗布機頭中有藥槽和塗布刮刀，其中藥槽為小容積楔形藥槽，藥槽裝有加藥裝置。塗布刮刀為可旋轉的雙逗號刮刀，所述雙逗號刮刀的兩個刀口相對軸心中心對稱。所述膜走偏控制系統包括在收放卷處分別設置的第一光電自動糾偏機構和第二光電自動糾偏機構。其中，槽底粘設聚四氟膜，兩端用包絡型聚四氟板做堵頭雙逗號刮刀連接固定等臂槓桿的一端，等臂槓桿的另一端裝有精密絲槓，雙逗號刮刀連接有千分表。工作刮刀口不能正常工作時，通過旋轉180度即可方便地切換至另一側備用刮刀口繼續工作，塗布厚度不受影響，塗布過程不必停止，可操作性強，效率高。光電自動糾偏機構預先固定好收、放卷內外位置的光電檢測點，並以此為基準，在收放卷時實時檢測膜是否走偏，並作出相應糾偏動作。另外，烘道分成前後兩段，前後兩段烘道各自有獨立送迴風系統；所述各獨立送迴風系統中有PID比例控溫裝置，對送迴風溫度進行控制。(三)有益效果上述技術方案具有如下優點通過改進塗布頭儲料方式及塗布方式，有效地保證了生產過程中藥層含量的均勻性，同時提高了可操作性和生產效率；同時改進了走膜機構，使本實用新型所述塗布機能連續穩定且自動地控制收放膜、塗布復膜且張力的恆定，從而保證了塗層及收卷後的產品質量及外觀，有利於下道工序分切的進行。

圖I是傳統塗布機頭結構示意圖；圖2是本實用新型實施例中塗布機頭機構示意圖；圖3是本實用新型實施例藥膜塗布機整體結構示意圖。其中，I :藥槽；2 :雙逗號刮刀；3 :等臂槓桿；4 :精密絲槓；5 :千分表；6 :傳統塗布機刮刀；7 :傳統塗布機藥槽；8 :第一光電自動糾偏機構；9 :第二光電自動糾偏機構；10 :第一磁粉張力控制系統；11 :第二磁粉張力控制系統；12 :第三光電自動糾偏機構；13 :第三磁粉張力控制系統；14 :塗布棍；15 :複合棍；16 :放捲軸；17 :收捲軸；18 :藥I吳；19 :溫度探頭。
具體實施方式
以下結合附圖和實施例，對本實用新型的具體實施方式
作進一步詳細描述。以下實施例用於說明本實用新型，但不用來限制本實用新型的範圍。本實施例藥膜塗布機塗布機頭如圖2所示，藥槽I為小容量楔形藥槽，槽底粘設聚四氟膜，兩端用包絡型聚四氟板做堵頭。藥槽I的出藥口與塗布輥上的基膜接觸。塗布機啟動後基膜相對藥槽I運動，藥槽內的藥漿即被塗布輥外包的基膜帶走塗於基膜上，由於藥槽容量較小，藥漿在很短的時間內便被基膜帶走，不會因為在藥槽內儲存時間過長而造成有機溶劑揮發，導致等厚塗布的藥膜含藥量逐漸升高。在藥槽進藥口有自動填藥裝置，以補充藥槽內的藥漿。雙逗號刮刀2在塗布輥的上方，刮刀2連接有等臂槓桿調節機構，刮刀固定在等臂槓桿3的一端，等臂槓桿3的另一端裝有精密絲槓4。通過精密絲槓4可以調節雙逗號刮刀在塗布輥上方的位置。雙逗號刮刀連接有千分表5。[0027]塗布前使雙逗號刮刀口與已經串繞基膜的塗布輥先接觸，並將兩端的千分表分別調零，之後通過調節精密絲杆，兩端同時量化調節雙逗號刮刀口到塗布輥的距離。因採用的是等臂槓桿結構，千分表指示的尺寸即為刮刀口藥層塗布厚度。如圖3所示，在塗布機收放卷處，分別設有第一光電自動糾偏機構8和第二光電自動糾偏機構(注三套糾偏，即放捲軸與塗布輥之間、複合輥之前、複合膜放捲軸與複合輥之間)9 ;並分別設有第一磁粉張力控制系統(注三套恆張力，即放捲軸、收捲軸、放複合膜捲軸處)10和第二磁粉張力控制系統11，可同時保證恆定膜走速及恆張力(注放卷張力與收卷張力可根據工藝要求各自獨立調節設定，但收放膜走速始終是一樣的)。當藥膜18在放卷時，內外相對位置發生改變，光電自動糾偏機構以預先固定好內
外位置的光電檢測點為位置基準，做實時自動內外糾偏，以保證放卷至塗布頭處的膜材與塗膠口(逗號刮刀位於包絡型聚四氟板之間的有膠工作部分)相對位置的恆定居中，不會因膠層偏塗至膜材一邊引起衝切合格率下降，甚至出現偏塗至膜材外邊引起塗布輥汙染膠液而停機清理故障。本實施例塗布輥14、複合輥15和收捲軸17分別由驅動馬達Mdl、Md2和Md3驅動。以複合輥15為主傳動軸變頻控制恆速走膜，塗布輥獨立變頻調速作為走膜輔助驅動。以放捲軸16為從動軸,恆張力放卷塗布。以收捲軸17為主動軸，恆張力複合、收卷，有效地保障了藥膜塗布的均勻性及複合收卷的平整性，大大提高了產品的成品率。本實施例中的迴轉烘道外層前段新增設獨立送風系統Jfl，即該前獨立送迴風段的烘道與後獨立送迴風段的烘道之間加設一塊垂直隔板，隔板中部水平開設一長條孔，即可穿過藥膜同時又隔斷了兩部分的風路；以及迴風系統Hfl並控溫，使位於該烘乾區的待烘起始段藥膜18能採用較低溫度，緩慢加熱烘乾，有效地防止了藥膜起泡。經前段烘道初步烘乾後，藥層溶劑已大大降低，在隨後的後段烘乾段，仍採用原有送風系統Jf2和迴風系統Hf2，利用相對前段烘道高的溫度加快藥膜18中溶劑的烘乾揮發，保證最終複合收卷的產品有機殘留達標。前段烘道和後段烘道以及各進風系統和迴風系統中均有溫度探頭19(送風探頭用於控溫，迴風探頭僅用於監控溫度分布情況)。烘道採用PID溫控儀對烘道溫度進行控制，增大了控溫精度。同時採用蒸汽加熱的換熱器，並對所進蒸汽增設比例調節氣動閥，以恆定的壓力供應蒸汽，且可根據不同物料對溫度需求的性質方便地更改進蒸汽壓力值，配合PID溫控儀可有效地設定並維持恆定的烘乾工藝溫度。在烘道末端水平出口不遠處設有復膜機構，復膜機構中的複合膜放捲軸與復膜壓輥之間設置有第三光電自動糾偏機構12，另外在復膜機構複合膜放捲軸處設有第三磁粉張力控制系統13。以保證已塗膜材與複合膜材在復膜時相對位置恆定且所放複合膜張力適中，從而提高復膜產品的成品率及收卷端面的平齊度。採用本實施例中的藥膜塗布機進行雙氯芬酸鈉貼片實際生產。經3小時連續塗布，前、中、後塗布精度為塗布厚度< 40um時，均勻度 40um時，均勻度< ±10%，符合藥典中含量均勻度小於或等於百分之二十五的要求。在雙氯芬酸鈉生產中，前烘乾段溫度控制在75±2°C，後烘乾段溫度可控制在40-100°C，烘乾後有機殘留量幾乎為零，符合藥典中有機殘留小於或等於0. 5%的要求。[0038]並且膜卷經大致定位裝夾後，全程走膜可實現自動糾偏，膠層塗布位置尺寸偏差在中心線左右± I. 5mm,復膜誤差為± I. 5mm,收卷內外層誤差為± I. 5mm,放卷張力值恆定為0. 5-5kg±5% N*M，收卷張力值恆定為0. 5-5kg±5% N*M，走速範圍為0. 3_3m/min，誤差為±5%。這些均滿足了生產要求。因塗布不齊引起切片廢品率僅3%。還可以在上述實施例烘道最後一道轉折處，再設立自動糾偏機構，主要是協助收卷自動糾偏機構進行初步糾偏，膜材在長達30米的內外迴繞烘道行走過程中出現較大內外位置偏移時，僅靠收卷糾偏是無法及時有效地糾正前端偏移的，最終引起收卷不齊及複合不齊，造成下步藥膜衝切時出現大量廢片。由以上實施例可以看出，本實用新型實施例通過對現有技術中塗布機頭和烘道的改進和增設的光電自動糾偏及恆張力機構，提高了塗布機的生產效率和產品質量，降低了廢品率。 以上所述僅是本實用新型的優選實施方式，應當指出，對於本技術領域的普通技術人員來說，在不脫離本實用新型技術原理的前提下，還可以做出若干改進和替換，這些改進和替換也應視為本實用新型的保護範圍。
權利要求1.一種新型盤旋式藥膜塗布機，由塗布機頭、塗布傳動裝置、膜走偏控制系統和烘道組成，其特徵在於，塗布機頭中有藥槽(I)和塗布刮刀(2)，其中藥槽(I)為楔形藥槽，藥槽(I)裝有加藥裝置；塗布刮刀⑵為可旋轉的雙逗號刮刀，所述雙逗號刮刀的兩個刀口相對軸心中心對稱；所述膜走偏控制系統包括在收放卷處分別設置的第一光電自動糾偏機構和第二光電自動糾偏機構。
2.如權利要求I所述的新型盤旋式藥膜塗布機，其特徵在於，所述槽底粘設聚四氟膜，兩端用包絡型聚四氟板做堵頭。
3.如權利要求I所述的新型盤旋式藥膜塗布機，其特徵在於，雙逗號刮刀連接固定等臂槓桿(3)的一端，等臂槓桿(3)的另一端裝有精密絲槓(4)，雙逗號刮刀(2)連接有千分表(5)。
4.如權利要求I所述的新型盤旋式藥膜塗布機，其特徵在於，塗布機收放卷處，在放卷 軸、收捲軸、放複合膜捲軸處分別設置有一套磁粉張力控制系統。
5.如權利要求I所述的新型盤旋式藥膜塗布機，其特徵在於，所述烘道分成前後兩段，前後兩段烘道各自有獨立送迴風系統；所述各獨立送迴風系統中有PID比例控溫裝置，對送迴風溫度進行控制。
6.如權利要求5所述的新型盤旋式藥膜塗布機，其特徵在於，所述烘道中設置有蒸汽加熱的換熱器，並且所述蒸汽增設有比例調節氣動閥。
7.如權利要求I所述的新型盤旋式藥膜塗布機，其特徵在於，烘道末端水平出口處設有復膜機構，復膜機構中的複合膜放捲軸與復膜壓輥之間設置有第三光電自動糾偏機構。
8.如權利要求7所述的新型盤旋式藥膜塗布機，其特徵在於，在復膜機構複合膜放捲軸處設有一套磁粉張力控制系統。
專利摘要本實用新型公開了一種基材塗布加工設備，特別是涉及一種穩定高效的新型盤旋式藥膜塗布機。該塗布機由塗布機頭、塗布傳動裝置、膜走偏控制系統和烘道組成，其中，塗布機頭中有藥槽和塗布刮刀，其中藥槽為小容積楔形藥槽，藥槽裝有加藥裝置；塗布刮刀為可旋轉的雙逗號刮刀，所述雙逗號刮刀的兩個刀口相對軸心中心對稱；膜走偏控制系統包括在收放卷及烘道最後轉角處分別設置的光電自動糾偏機構；放捲軸與收捲軸處各設一套磁粉張力控制系統。本實用新型能夠有效地保證生產過程中藥層含量的均勻性，提高了生產效率；同時改進了走膜機構，從而保證了塗層及收卷後的產品質量及外觀，有利於下道工序分切的進行。
文檔編號B05C5/00GK202497997SQ20112029785
公開日2012年10月24日 申請日期2011年8月16日 優先權日2011年8月16日
發明者劉兆祥, 汪洪湖 申請人:蚌埠豐原塗山製藥有限公司