多色移裝置的製作方法

2023-06-20 16:47:26 1

本申請是申請日為2012年6月25日、申請號為201210211931.7，以及發明名稱為「多色移裝置」的中國發明專利申請的分案申請。

本發明一般涉及薄膜色移裝置，更特別地，涉及一種具有非適形(non-conforming)電介質隔離層的多層色移裝置，該隔離層具有變化的厚度。

背景技術：

防偽裝置被越來越多地用於保護貨幣和其它有價值的證件(諸如護照、駕駛執照、綠卡、身份證等)。這些防偽裝置同樣用於諸如藥品、化妝品、香菸、酒類、電子媒體、服裝、玩具以及汽車和飛機的備件的商品的防偽。實際上，據估計，偽造品目前佔世界貿易的5％到7％。附著在這些物品上的全息圖已經是阻止偽造的傳統方法。

色移顏料和著色劑已經被用在各種應用中，範圍包括從汽車塗料到用於防偽文件和貨幣的防偽油墨。這些顏料和著色劑顯具有根據入射角的變化或隨著觀察者視角的變化而改變顏色的特性。用於實現這種色移著色劑的基本方法是在諸如塗料或油墨的介質中擴散通常由具有特殊光學特性的多層薄膜組成的小薄片，然後將所述介質施加到物體表面。

美國專利us6,761,959公開了一種其上具有chromagramtm商標的防偽物品，該專利由菲利普等人轉讓給jds尤尼弗思公司，在此通過參考將其併入本申請。該chromagramtm防偽物品給觀察者提供色移和全息雙重效應。在『959專利中，將色移多層膜塗敷在印有全息光柵或圖案的有機基底上。

美國專利us7,630,109公開了一種示出圖案的更複雜類型的chromagramtm防偽物品，該專利由菲利普等人轉讓給jds尤尼弗思公司，在此通過參考將其併入本申請。在一些區域，示出全息效應，而在其它區域只能看見色移效應。在菲利普的『109專利中，公開了一種多層薄膜濾光器，起到隔離層作用的有機電介質層位於法布裡－珀羅結構中。該電介質層具有厚度變化的浮雕區域，其中該區域內的厚度是基本上均勻的。不同厚度的每個不同區域產生不同色移。被壓印(embossed)的相鄰區域中的一個區域的尺寸是使得所述一個區域的顏色是相同的，並且不能被人眼看成是與其相鄰區域的均勻顏色不同的顏色，並且其中該區域內的顏色在放大至少10：1的情況下才可以被看見。菲利普教導了一種法布裡－珀羅裝置，通過將電介質材料壓印成不同厚度而使該裝置具有厚度變化的電介質層。由於如『109專利的圖1所示的區域a、b、c中的電介質被有目的地壓印成不同厚度，在碰撞反射器之後被反射回觀察者的光將呈現三個明顯不同的顏色。然而，由於區域a、b、c的小尺寸，眼睛將趨於看成一體，並且如果能夠看見包括由(a)到(d)限定的像素或區域，將只能察覺到單一顏色。通過充分放大，可以看到不同的單個區域(a)、(b)和(c)並且可以察覺到不同的顏色。

另一件是holmes等人的美國專利us7,054,042，其公開了具有色移塗層的衍射光柵，但偏離菲利普等人的教導，在此通過參考將其併入本申請。美國專利'042表現出偏離菲利普教導的原因在於其教導了使用一種退耦層將衍射光柵效應和色移效應分開。holmes建議在浮雕結構和薄膜反射濾光器之間放置退耦層，該退耦層被描述為薄膜反射濾光器。

在上述所有防偽結構中，都建議塗層的慣常應用，例如，通過真空沉積以產生適形層(conforminglayer)。現有技術中，首先教導壓印(stamp)基底，並且隨後塗敷所需塗層，以產生反射和色移塗層的期望圖案。

技術實現要素：

本發明通過在其上具有結構的基底上使用適形塗層和非適形塗層來偏離現有技術。在優選實施例中，在基底層上壓印或形成的結構相當小，為了它們的效應可見，放大是必需的，然而在其它較不優選的實施例中，所述結構可以足夠大，以致當塗敷時不用放大也能夠看到上述效應。作為例子，標識和其它可讀可識別標記被設置在這些基底上，並且通過提供與特定區域形成對照的薄膜塗層而變得顯著。

本發明提供一種塗敷在基底上的薄膜結構，其中電介質隔離層具有變化的厚度。具有變化的厚度的電介質層的供應不僅已經在菲利普的7,630,109專利中公開，而且更早地已經在通過參考結合於此的以shaw等人名義於1999年3月2日授權的美國專利us5,877,895中公開，shaw等人公開了通過變化地施加熱以產生厚度變化的電介質層。

與現有技術中利用壓印基底作為隔離層(其中所述隔離層被塗敷在具有反射器一側和具有吸收層的另一側上)的技術相比，本發明的實施例利用塗敷在微結構基底的相同側上的非適形電介質層作為反射層和吸收層。因此，法布裡－珀羅結構由基底支撐。這提供幾個優點。一個優點是如果塗敷有釋放層，塗層能夠從基底移除。此外，如果仔細地從基底移除塗層，這種被移除的塗層能夠被製成呈一定形狀的薄片。

本發明的法布裡－珀羅結構提供彼此相鄰的不同色移區域，優選地，彼此之間的顏色差異△e值至少為10。

本發明的一個方面是提供一種裝置，其通過放大可見，表現出不同色移區域，其中由於具有厚度變化的電介質隔離層，相鄰色移區域提供兩個明顯不同的顏色之間的色移。

本發明的一個方面是提供一種基底，該基底具有橫跨其表面的浮雕結構，使得其橫截面具有變化的厚度，並且為了反映該變化的厚度，本發明通過施加利用電介質材料的非適形層來填充凹陷處、谷和槽，從而提供具有隔離層的法布裡－珀羅結構，該隔離層提供與基底厚度相對應的色移差。

本發明的一個方面是提供至少一個適形層和非適形層，以製造法布裡－珀羅色移濾光器，並且其中支撐法布裡－珀羅濾光器的基底被以預定圖案有目的地壓印，從而提供將在濾光器內形成色移標記的編碼。

本發明的再一個方面是提供一種薄片，該薄片具有非適形電介質層和至少一個適形層，以及另一適形或非適形層，其中該薄片是色移裝置。根據本發明，提供一種色移防偽裝置，包括：具有微結構表面的第一吸收或反射層；第二吸收或反射層；以及設置在所述第一吸收或反射層和所述第二吸收或反射層之間的非適形電介質層，所述非適形電介質層具有與所述微結構表面接觸和互補的表面，其中所述第一吸收或反射層和第二吸收或反射層中的至少一個是吸收層，並且其中所述非適形電介質層的橫截面具有變化的厚度，使得所述非適形電介質層的至少一個區域基本上比所述非適形電介質層的較薄的相鄰區域更厚，並且其中在光入射到所述色移防偽裝置上時，從相同位置穿過該個區域和該個區域的相鄰區域同時觀察所述色移防偽裝置，能看見可見的色差。

在本發明的優選實施例中，所述第一吸收或反射層，或者第二吸收或反射層，具有基本相同的厚度，其變化不超過20％，和或所述非適形電介質層的橫截面的厚度差超過可見光波長的1/8，並且小於可見光波長的2倍(8quarter)。

在一個特定實施例中，對應於特定微結構的裝置的區域形成通過放大能夠被看見的可見標記，並且其中一些微結構的高度或深度至少為50nm。

根據本發明，提供一種防偽裝置，包括：法布裡－珀羅腔，所述法布裡－珀羅腔包括：具有微結構化的上表面的第一層，第二層，以及設置在所述第一層的微結構化的上表面和第二層的微結構化的上表面之間的具有上表面和下表面的沉積的非適形電介質層，其中所述非適形電介質層的下表面與所述第一層的微結構化的上表面適形，並且所述非適形電介質層的上表面與所述第一層的微結構化的表面不適形，其中所述非適形電介質層的橫截面具有變化的厚度，使得至少一個區域基本上比該區域的相鄰區域更厚，並且所述第一層和第二層是吸收層，或者所述第一層和第二層中的一個是反射層而另一個是吸收層。

根據本發明，提供一種色移防偽裝置，其從相同觀察位置表現出兩種不同顏色，包括一個或多個形成微結構的沉積層，其中至少一層是反射或吸收層，將非適形電介質材料填充到微結構內的凹槽中，以在該微結構的連續區域上形成平坦表面；該防偽裝置還包括吸收或反射的覆蓋層，所述覆蓋層覆蓋至少一部分所述連續區域，其中所述一個或多個沉積層或所述覆蓋層是吸收層。

根據本發明的另一方面，提供一種製造防偽裝置的方法，所述方法包括：提供微結構化的基底；利用與所述微結構化的基底適形的第一反射或吸收塗層塗敷所述微結構化的基底；利用非適形電介質整平塗層(non-conformingdielectriclevelingcoating)塗敷所述反射或吸收塗層，所述非適形電介質整平塗層至少部分地填充微結構化的塗層內的空隙；以及利用第二吸收塗層或反射塗層塗敷所述非適形電介質整平塗層，其中第一塗層和第二塗層中的一個是吸收塗層。

在特定實施例中，上述色移結構是薄片。

附圖說明

下面將參考附圖描述本發明的示例性實施例，其中：

圖1是現有技術中的三層法布裡－珀羅腔的橫截面圖。

圖2a是現有技術中的基底的橫截面圖，該基底具有如同從基底表面延伸的直立壁和直立標識的浮雕形式的框架。

圖2b是圖2a的現有技術中的基底結構的等軸測視圖。

圖2c是圖2b的現有技術中的基底結構的平面圖。

圖3a是具有凹槽框架和凹槽標識的現有技術中的基底的橫截面圖。

圖3b是圖3a的現有技術中的基底結構的等軸測視圖。

圖3c是圖3b的現有技術中的基底結構的平面圖。

圖4a是現有技術中的基底的橫截面圖，該基底具有凹槽框架和橫跨其表面的凹槽光柵。

圖4b是圖4a的現有技術中的基底結構的等軸測視圖。

圖4c是圖4b所示的現有技術中的基底結構的平面圖。

圖4d是基底的橫截面圖，該基底具有峰和谷的正方形陣列。

圖4e是圖4d的現有技術中的基底結構的等軸測視圖。

圖4f是圖4d的現有技術中的基底結構的平面圖。

圖5a是現有技術中的微結構化的箔的橫截面圖，其中符號具有相同深度，而且塗層具有均勻厚度。

圖5b是現有技術中的微結構化的箔的橫截面圖，其中符號具有相同深度，而且塗層具有非均勻厚度。

圖6是現有技術中的微結構化的基底，其內具有凹槽，凹槽塗敷有形成法布裡－珀羅色移塗層的三層適形的層。

圖7是微結構化的基底結構的橫截面圖，該基底結構具有適形的反射層、非適形的電介質層、和吸收層，它們一起形成根據本發明的法布裡－珀羅結構，其中由於非適形電介質層的厚度差異而具有兩個不同的交替的色移區域。

圖8是微結構化的基底結構的橫截面圖，該基底結構具有適形的反射層、非適形的電介質層、和吸收層，它們一起形成根據本發明的法布裡－珀羅結構，其中由於非適形電介質層的厚度差異而具有三個不同的交替的色移區域。

圖9是根據本發明實施例的橫截面圖，其中以微結構化的箔的形式的法布裡－珀羅結構具有與非適形電介質層相鄰的適形電介質層。

圖10是根據本發明實施例的橫截面圖，其中利用適形和非適形的電介質層，並且兩個電介質層的上表面位於相同的高度，使得在它們之上沉積的吸收層是平坦的。

圖11是微結構化的基底的橫截面圖，所述基底具有釋放塗層，用於形成根據本發明的薄片。

圖12是根據本發明的用於形成成形薄片的塗層的橫截面圖，其中利用適形和非適形層，並且反射層是中間層，使得從任一側觀察時薄片產生色移。

圖13是可替代實施例的橫截面圖，其中不需要反射層，而且用附加的吸收層來替代反射層，從兩側都可以看到色移。

具體實施方式

本發明涉及在微結構化的表面上施用薄非適形電介質層，來製造具有不同色移微區域的裝置。當電介質層的厚度在不同區域變化時，通過薄膜幹涉獲得不同顏色。不同色移指的是不同顏色範圍；例如，由於該裝置的不同區域內的隔離層的厚度變化，一個區域可能從橙色變成褐色，而另一區域可能從金色變成綠色。

當氣相物種(species)凝結成固體時，獲得適形的沉積層。當通過標準真空物理氣相沉積，濺射和蒸發，或通過化學氣相沉積的手段來沉積氧化物、氮化物、碳化物、氟化物及這些化合物的組合等時，這是大多數金屬和它們的化合物的情況。

一旦氣相中的物種凝結於基底上時，可移動原子、原子團或分子形式的凝結物種沒有足夠的活動性。因此，凝結物種依照基底的原始粗糙程度被固定在基底的表面上。

相反，非適形層起到類似於靜止於表面上的水層的作用，填充表面任何粗糙，以產生不依賴於表面粗糙程度的平面。當使水凝固時，例如通過將水在最佳條件冰凍，其中最佳條件冰凍指在冰凍處理期間該層不被擾動，固體層將呈現原始水液體層的平滑。水將填充任何空隙，並產生平坦的上表面。

雖然水的例證性實施例允許人們能夠想像出非適形層的行為，其它材料，特別是一些所選的展現類似行為的單體，它們在液態時具有平滑或平坦特性，並且能夠通過紫外(uv)或電子輻射的後續聚合階段被固化。所選擇的具有諸如合適的折射率等優選特性的光可透射的單體能夠用作法布裡－珀羅濾光器中的隔離層。

為了沉積這些單體，將它們在容器內加熱以便產生蒸汽。當蒸汽在附近接觸冷卻器表面時，其凝結在冷卻器表面上。因此，當氣相單體開始接觸冷卻的基底從而氣相凝結形成液體層時，獲得非適形層。根據本發明，基底支撐的液體層被隨後固化，從而將液態單體聚合成固體層。

在單體於真空腔內膨脹之前，通過將其在具有孔或噴嘴的蓄水池內加熱，能夠將單體蒸發，其中所述孔或噴嘴被用來構建單體蒸汽所需的壓力。如果單體的蒸汽壓力不夠高，而不足以產生指向基底的氣流，可以則將惰性氣體引入液態單體。在可替換實施例中，液態單體可以被直接噴射進入熱蓄水池以便被瞬間蒸發，從而實現快速蒸發。必須注意以確保蓄水池的溫度足夠低，以避免單體退化或發生單體熱聚合。

雖然蒸發是沉積電介質單體的優選方法，然而，也可以考慮印刷、塗抹、擠出、旋轉甩離(spin-off)或使用刮除刀片等方法；但是，通常這些技術趨向於形成太厚的層，因而產生對可見光波長的幹涉。可以使用各種單體和/或低聚體做為本發明的非適形層。作為例子，可以利用任何下述材料形成非適形層：環氧丙烯酸酯、聚氨酯丙烯酸酯、聚酯丙烯酸酯、聚醚丙烯酸酯、胺改性聚醚丙烯酸酯、丙烯酸丙烯酸酯和各種丙烯酸酯的聚物。

本發明提供一種在微結構化的基底上製造一個或多個薄膜法布裡－珀羅幹涉裝置的方法，當用可見光照射並且入射角度或觀察角度改變時，該微結構化的基底呈現顏色變化。

現在參照圖1，其示出現有技術中的三層法布裡－珀羅腔。基底100具有沉積於其上的由諸如鋁的高反射材料形成的適形層101a。沉積在鋁層101a上的是電介質適形層102a。隨後，適形吸收層103a沉積在電介質層102a上。利用常規真空塗敷技術在基底上產生薄膜光學可變濾光器，其中每層具有基本均勻的厚度。注意，由於基底的表面是平坦的，因此不管沉積的是適形層還是非適形層，每層厚度都是均勻的，從而施加到如圖1中的平坦表面時提供相同的光學效應。然而，當基底具有微結構化的表面時，適形層或非適形層獲得的光學效應將是不同的。非適形層將填充空隙，而適形層在這些空隙處僅僅是適應微結構化的表面因而適形層的厚度基本均勻。

操作中，法布裡－珀羅濾光器起到變色元件的功能；當光在腔上的入射角在光源和觀察者之間改變時，顏色隨著穿過電介質層的路徑長度而做函數變化，所述路徑長度隨著角度改變而變化。

現在參照圖2a所示的基底的橫截面，其中示出從基底向上指的微結構201，並且其中向上結構的高度是相同的。圖2b示出了三維透視等軸測視圖，而圖2c示出的是俯視圖。

圖3a到3c示出一實施例，其中基底300內的微結構的形式是在基底內具有變化的深度的凹槽301。

圖4a到4c示出基底400，其中第一深度的凹槽401所形成的光柵被基底內的較深的框架凹槽402包圍。

圖5a和5b示出塗敷有塗層材料的基底的橫截面，其中，層通過如蒸發和濺射的常規真空塗敷工藝進行原子生長(grownatombyatom)。層依照基底表面的原始微結構與基底適形。例如，如果塗敷3層(r/d/a，反射層/電介層/吸收層)，在基底的任何地方將看見由薄膜幹涉產生的相同顏色，因為電介質厚度是恆定的，如圖6所示。

現在參照圖6，其中的現有技術的基底600具有不同深度的壓印凹槽612和614，圖6示出塗敷在基底600上的第一均勻厚度的反射層601，第二均勻厚度的電介質層602，以及第三均勻厚度的吸收層603，其中上述層都是適形層。

圖7示出了本發明的第一實施例，其中利用如圖6所示的相同基底，然而，圖7中的一個塗敷層是非適形層，圖7中的實施例提供與圖6中的裝置具有不同功能的裝置。現在轉到圖7，所示基底700具有直接塗敷於其上的均勻厚度的適形反射層701。反射層之上是電介質材料的非適形層，該非適形層填充塗敷於基底上的反射器內的凹槽，並具有上部基本平坦的層。結果，如圖所示，電介質層702的橫截面具有變化的厚度。當電介質層被塗敷於基底700上時，由於微結構化的基底700內的兩種不同深度，將產生兩種不同厚度。兩種不同深度的電介質隔離層提供兩種不同的色移區域，其中顏色從不同的第一顏色改變成不同厚度區域內的不同的第二顏色。為了在兩個不同厚度區域內看見可察覺的顏色差異，需要隔離層或電介質層中具有厚度差異。如圖7中可以看到的，隔離層內的厚度差遠大於相鄰兩層703和701的厚度之和。如圖所示，具有基本均勻厚度的吸收層703位於電介質層702上。吸收層703可以是適形層或非適形層，因為其是施加於平坦表面上的平坦層。然而，優選地，典型的常規色移濾光器中使用適形吸收器層。通過提供具有選擇性選擇的深度的微結構或提供直立特徵形式的突出體，可選擇性地控制電介質層的厚度，因為電介質層實質上填充的空隙導致了其厚度的變化。在圖7中，色移區域706具有顏色的第一色移範圍，而色移區域708具有顏色的第二色移範圍。根據所選擇的金屬，吸收層的厚度範圍一般是20埃到150埃。優選地，反射層的反射率至少為20％，以提供該裝置的合適的視覺效應，並且電介質隔離層可以變化達800nm。

當非適形或適形電介質被施加到如圖1中所示的單一水平面的微結構表面時，隨著入射角度的增加，對應於平坦電介質層的不同厚度的薄膜幹涉將產生兩個不同顏色。注意，所施加的反射層和吸收層是適形層。由於電介質聚合層趨於具有1.5至1.7之間的折射率，當照明角度增加時，薄膜幹涉將產生顏色，該顏色從高波長向低波長變化。

有利地，為了剝落多層膜以製造微型的多色移微結構化的顏料薄片的目的，可以在基底和沉積層之間施加釋放層。該釋放層還可以用來將該多層膜轉移到另一物體。如果裝置打算製造細絲、紗線或者箔，則可能不需要使用釋放層。這種薄片最長的長度通常小於或等於100mm。圖中示出的兩種電介質厚度的差異是被誇大的。該微結構化的特徵的寬高比一般是1－5μm的線寬對應100－500nm的深度。

基底內的微結構可以表現符號、標識、光柵、框架、峰/谷等等，如圖2a－3c所示。有利地，色移塗層提供一種方法，其中諸如標識等的這些特徵可以被加強。

現在轉到示出本發明的第二實施例的圖8，其中基底800內的凹槽808和809有兩種不同深度。當非適形電介質層802被沉積在適形反射層801上，並將吸收層803施加於非適形電介質層802上時，產生具有三個明顯色移範圍的法布裡－珀羅色移濾光器。非適形層提供平坦光滑效應，其上沉積與該平坦層適形的層803。隨著微結構內不同的水平面或深度的數目的增加，色移範圍的數目相應增加。

圖9示出本發明的實施例，其中微結構基底900塗敷有適形反射器層901，並且在同一裝置內分別使用彼此相鄰的適形介電質層902a和非適形介電質層902b。平坦吸收層903被塗敷於非適形電介質層902b上。這種平坦層903可以是適形或非適形層，因為其是被施加於平坦表面的。在這種裝置中，由於結合的電介質層具有三個厚度，可以看見三個不同的顏色範圍。如上所述，通常非適形聚合電介質層具有比標準的無機氧化物層低的折射率。通過利用審慎選擇的高折射率無機電介質和低折射率聚合物電介質的結合，能夠獲得對色移特性的進一步控制。圖9例示了微結構化的箔。

現在轉到以圖10的橫截面圖示出的裝置，所示的微結構化的基底1000被塗敷有反射層1001，該反射層1001上塗敷有適形的第一電介質層1002a。第二非適形聚合層1002b以間斷的(discontinuous)形式塗覆，並且僅填充在被塗敷的基底1001內的溝或凹槽中，形成電解質材料的不同厚度的區域之間的間隙。所述間隙由來自第一電介質層1002a的第一電介質層材料的存在所限定，其形成了所述非適形層1002b的不同區域之間的間隔。吸收層1003作為頂層塗敷，和其它塗敷的層一起形成色移濾光器。實際上，這可以通過除去圖9中的聚合電介質的頂部來實現，例如，在吸收層的沉積之前，通過真空下的離子轟擊，直到達到合適的無機氧化物層的水平面。

圖11所示的是此前描述的本發明的可選實施例。在這種情況下，所示的基底1100具有突出或直立結構。這一實施例導致其本身比前述結構更傾向於施加釋放層。如果施加釋放層，首先在沉積反射層1101之前施加，使得反射層和隨後的沉積層能夠一起從基底釋放。有機非適形電介質層1102被沉積到比將被用作截止點的較高區域更低的水平面，以製造成形的薄片。只有對應於反射器1101和吸收器1103的薄層將位於這些區域的頂部。在將多層膜從基底分離並形成成形的薄片之後，當從不同側觀察時，這些薄片將具有不同特性。當從具有反射層一側觀察時，薄片將具有簡單的反射性。然而，在相對側，利用放大，觀察者可以看見標識或標記，這些標識或標記具有由不同顏色的背景包圍的色移。從反射側觀察，標識可能是可辨別的，然而，其顏色將對應於反射層的顏色。

在可替換實施例中，如果不施加吸收層，較高區域的頂部具有由電介質層包圍的暴露的薄金屬層。在這種情況下，頂部區域可以用作種子點以優先生長其它層，例如人們可以利用暴露的金屬層作為電極來進行電鍍。這種裝置能夠用於其它應用，例如用於需要微暴露金屬層的傳感器。

圖12所示的實施例與圖11所示的實施例類似，然而，其是利用層a/d/r/d/a(吸收層/電介層/反射層/電介層/吸收層)的五層結構形成多層法布裡－珀羅濾光器。因為所示的反射層1201是中間層，所以當其從基底1200釋放之後，能夠從這種薄片的兩側看見色移。基底之上是釋放層(未示出)和第一吸收層1203a。第一吸收層之上是第一非適形電介質層1202a。所示的反射層1201被沉積於第一電介質層1202a之上。第二非適形電介質層1202b沉積於反射層1201之上，而適形的第二吸收層1203b被沉積於第二非適形電介質層1202b之上。在釋放多層膜之後，當沿著割裂線分割時，成形的薄片將在第1側顯現對應於吸收層/反射層的具有非色移顏色的標記2，和對應於來自被另一個色移背景(cs3)所包圍的多層(吸收層/電介質/反射層)的色移(cs4)的標記1。

當在與第1側相對的第2側觀察時，薄片將示出具有不同顏色(cs1)背景的色移(cs2)標記2。由於不透明反射層的存在，將不能看到標記1。由於這些薄片小並且在肉眼能看見的解析度之下，因此需要放大來看到這些上述特徵。

在用於產生薄膜幹涉的光學設計中，圖13所示的實施例不同於圖11所示的實施例。在圖13中，所示的微結構化的基底1300具有取代反射層的第一適形吸收器層1301。非適形電介質層1302被塗敷於層1301之上，而適形的第二吸收器層1303被塗敷在電介質層之上。通過該三層吸收層/電介質/吸收層設計獲得了薄膜幹涉。這種光學設計是半透明的。如果將具有前述實施例中所示的具有單一高度的標識的特徵塗敷在基底上，成形的薄片將在兩側示出與它們的背景具有不同顏色的標記。如果標記在橫截面具有多於一個的高度，那麼標識的不同區域將顯示不同顏色。

在所有的情況下，電介質層厚度的變化遠大於與電介質層相鄰的兩層中的每一層的厚度。

通過在法布裡－珀羅結構中沉積非適形電介質隔離層，本發明能夠製造濾光器，該濾光器具有厚度變化的隔離層，並且所述厚度能夠被精確控制。因此，不管是連續的單層還是分段的單層，都能在橫跨濾光器的不同區域提供與隔離層厚度具有函數關係的不同的色移。可以製造薄片和箔。典型地，非適形電介質層被塗敷於適形層之上，並被適形層覆蓋，然而，電介質層也能夠被塗敷於非適形層之上，或者可以被非適形層所覆蓋。