通過線性移動以氣密方式閉合流動路徑的真空閥和閉合構件的製作方法

2023-09-20 10:48:00

通過線性移動以氣密方式閉合流動路徑的真空閥和閉合構件的製作方法
【專利摘要】本發明涉及用於通過線性移動以氣密方式閉合流動路徑（F）的真空閥（1），該真空閥包括：閉合構件（5），其可線性地移位；閥外殼（2）的第一密封面（10），該第一密封面閉合開口（3）；以及，閉合構件（5）的第二密封面（11），該第二密封面對應於第一密封面（10）。在閉合位置（C），第二密封面(11)與第一密封面（10）密封接觸，所述接觸在閉合方向（8）上壓到第一密封面（10）上，並且閉合構件（5）以氣密方式閉合開口（3）。在開口（3）與第一密封面（10）之間的區域，閥外殼（2）包括封閉開口（3）的第一傾斜面（22），閉合構件（5）包括平行於第一傾斜面（22）延伸並且對應於第一傾斜面（22）的第二傾斜面（23）。相對於幾何調整軸線（6）具有在3度至15度之間的傾斜角（24）的傾斜面（22,23）相對於彼此定位使得在閉合構件（5）的閉合位置（C），第二傾斜面（23）被布置在與第一傾斜面（22）相對的平行位置，而彼此間具有0至0.6mm的距離（v）。
【專利說明】通過線性移動以氣密方式閉合流動路徑的真空閥和閉合構件
[0001]本發明涉及根據權利要求1的前序部分所述的通過線性移動以氣密方式閉合流動路徑的真空閥以及根據權利要求11的前序部分所述的對應的閉合構件。
[0002]根據權利要求1的前序部分所述的真空閥和根據權利要求11的前序部分所述的閉合構件特別地已知為由瑞士的Haag的VAT Vakuumventile AG公司開發為產品名稱為「M0N0VAT系列02和03」的矩形插入閥的輸送閥的形式。這種閥的設計和操作方法在例如US4, 809, 950 (Geiser)和 US4, 881，717 (Geiser)中以示意性的方式被描述。
[0003]一般而言，從現有技術的各種實施方式已知以基本上氣密的方式閉合流動路徑的真空閥，所述流動路徑引導通過在閥外殼中實現的開口。真空閘閥特別地用於集成電路和半導體的生產領域中，集成電路和半導體的生產必須在受保護的氣氛中進行，在可能的情況下不存在汙染的粒子。例如，在用於半導體晶片或液晶基板的製造廠中，高度敏感的半導體或液晶元件循序地運行穿過若干處理室，在這些處理室中，位於處理室內的半導體元件均由處理裝置進行處理。在處理室內的處理過程期間和從處理室到處理室的傳送期間，高度敏感的半導體元件必須總是處於受保護的氣氛中，尤其處於真空中。處理室例如由通路連接在一起，能利用真空閘閥打開處理室以將零件從一個處理室輸送到下一個處理室並且隨後以氣密方式閉合這些處理室以執行相應的處理階段。這些類型的閥根據所描述的應用領域也被稱作真空輸送閥，並且由於它們的矩形開口截面也被稱作矩形閘閥。
[0004]在使用輸送閥時，尤其是在製造高度敏感的半導體元件期間，特別地由於致動閥而造成粒子的生成，並且必須保持閥室中的自由粒子數量儘可能低。粒子的生成主要是由於摩擦，例如由於金屬與金屬接觸以及由於研磨的結果。
[0005]對於結合真空閥使用的密封件的要求很高。一方面，在閥的閉合狀態下，必須確保閥的緊密性。由於真空區域中的高差壓和因此造成的作用於閥閉合件上的較大力，因而這為巨大的挑戰。如在過量擠壓的情況下，所使用的密封件經受高於平均值的高水平的磨損或者被破壞，閥的設計必須使得差壓力不能作用於密封件上或者僅可以以被限制的方式作用於密封件上。此外，密封件上的橫向負荷和縱向負荷保持得儘可能小。尤其是，在相對於密封件的縱向方向位於橫向上的橫向負荷的情況下，利用O形環密封件，存在O形環密封件從它們的保持件(尤其為固定它們的凹槽)脫離的風險。即使硫化密封件也僅可以暴露於很有限的橫向力。在閥的打開狀態和閉合狀態下，密封件部分地暴露於侵蝕性介質，並且因此必須被形成為使得它們能耐受這樣的影響和/或它們從介質的流動路徑移出，因此也避免研磨。對密封件造成的過量的磨損表示處理可靠性的不確定因素並且需要定期更換密封件,這繼而導致處理中增加的停工時間。
[0006]真空閥，尤其是該真空閥的密封及驅動技術的各種實施方式為現有技術中已知的，並且除了其它方面之外其目的是為了增加所使用的密封件的使用壽命以及改進處理可靠性。
[0007]基於相應的驅動技術，特別地在閘閥(也被稱作閥門或矩形閘門)與梭閥之間進行區別，現有技術中的閉合和打開在大部分情況下以兩個階段來實現。在第一階段中，閥閉合構件(尤其為閉合致動器)在例如從US6，416，037 (Geiser)或US6，056, 266 (Blecha)已知的特別地L形閘閥的情況下基本上平行於閥座在開口上線性地移位，或者閥閉合構件(尤其為閉合致動器)在例如從US6，089, 537 (Olmsted)已知的梭閥的情況下，繞樞轉軸線在開口上樞轉，同時在閉合致動器與閥外殼的閥座之間並不發生任何接觸。在第二階段中，閉合致動器藉助其閉合側壓到閥外殼的閥座上，使得以氣密方式閉合開口。例如能藉助布置於閉合致動器的閉合側上並且壓到繞開口延伸的閥座上的密封件或者藉助閥座(閉合致動器的閉合側壓到該閥座上)上的密封環來實現密封。尤其為密封環的密封件可被保持在凹槽中和/或硫化於該凹槽中。
[0008]從現有技術，例如從US6，629，682B2 (Duelli)已知各種密封裝置。用於密封環的合適材料為例如以商標名稱Viton?已知的。
[0009]除了以精確的方式控制通流的可能性之外，所述的兩階段移動的首要優點在於密封件主要僅被豎直地擠壓，而不使密封件在橫向上或縱向上承受負荷，在所述兩階段移動中，閉合構件首先在橫向上被推到開口上而不與閥座進行密封接觸並且閉合構件隨後基本上被豎直地壓到閥座上。但是，尤其由使得閉合構件能夠進行L形移動的單個驅動器或者由多個驅動器(例如兩個線性驅動器，或者一個線性驅動器和一個擴展驅動器)形成的驅動器的相對複雜的設計是不利的。擴展驅動器在大部分情況下布置於閉合致動器的緊後方並且相對於這些擴展驅動器所在的軸在豎直方向上向閥座上調整所述閉合致動器，這些擴展驅動器也具有以下缺點:相對於彼此執行相對移動的許多機械零件布置在閥內部。這一方面增加了設計複雜性，並且另一方面，生成了對處理有害的摩擦粒子。多階段移動的另一缺點在於，在完全打開狀態與完全閉合狀態之間閉合構件的調整速度是有限的。單純地以線性方式調整的楔形閥的確能具有高調整速度，但由於密封件上的橫向負荷因此僅適合於以有限的方式用作真空區域中的主要密封件，並且如果可以，那麼僅用於幾個調整周期。
[0010]利用閘閥來解決所述問題，在所述閘閥中，閉合和密封操作確實受到單個線性移動影響，但密封件的幾何形狀使得完全避免密封件上的橫向負荷。這種閥為例如由瑞士的Haag的VAT Vakuumventile AG公司生產的輸送閥，該輸送閥以產品名稱「M0N0VAT系列02和03」被已知並且被開發為矩形插入閥。這種閥的設計和操作方法在例如US4, 809, 950 (Geiser)和 US4, 881，717 (Geiser)中被描述。
[0011]本文所描述的閥在其外殼中具有密封面，當在閥通路開口的軸線方向上觀看時，該密封面具有前後接連地定位的部分並且這些部分藉助恆定地延伸的彎曲而會聚到在側向上向外延伸的平坦密封面中，然而，具有若干部分的所述一體式密封面的假想母線平行於閥通路開口的軸線定位。對密封面進行機械加工。閉合構件具有與所述密封面相對應並且用於周向閉合密封件的支承面。更詳言之，所謂的閥門具有閘外殼和閘通路開口，可由能在該閘通路開口的平面內移位的閉合構件來閉合該閘通路開口。在該閘通路開口的區域內設有密封面，在閉合構件的閉合位置，布置於所述密封面上的周向閉合的密封件抵靠該密封面，密封面的假想的直母線平行於閘通路開口的軸線定位。周向閉合的一體式密封件具有位於不同平面中的各種長度和/或形式的部分，周向閉合的密封件的兩個主要部分位於與閘通路開口的軸線成直角並且彼此間隔開的平面中。密封件的兩個主要部分由側部連接。對於外殼的密封面的改進而言，閉合構件具有以對應方式延伸並且支承周向閉合的密封件的面。周向閉合的密封件的側部以U形方式延伸。以U形方式延伸的所述側部的腿均位於一平面中。密封面的當在閘通路開口的軸向方向上觀看時前後接連地定位的部分會聚到平坦的密封面部分內，所述平坦的密封面部分在側向上向外延伸以在以下區域中抵接密封件的主要部分，在該區域中，所述平坦的密封面部分具有共同的、直的、且軸向平行的母線。所述平坦的密封面部分位於彼此平行並且平行於閘通路開口的軸線的平面中。
[0012]用於可通過線性移動閉合的這樣的輸送閥的合適驅動器被提供於JP6241344(Buriida Fuuberuto)中。其中所描述的驅動器具有偏心安裝的杆，以使供安裝閉合構件的連接杆線性地移位。
[0013]除了其它方面，US2008/0053957A1 (Wakabayashi)描述了用於基板處理系統的閥門，所述閥門具有扭結或彎曲的閥截面，並且所述閥門可通過多階段L形移動或通過線性移動而閉合。
[0014]參考圖8a和圖Sb在下文中描述從現有技術已知並且描述於US4, 809, 950 (Geiser)中的閥門。其中僅以示意性方式示出的閥門具有圓形開口截面以便於更好地示出密封面的改進，而由瑞士的Haag的VAT Vakuumventile AG公司以產品名稱「M0N0VAT系列02和03」已知並且開發為矩形插入閥的輸送閥具有矩形開口截面，該矩形開口截面的寬度顯著地大於其高度。
[0015]如在圖8a中所示，通過線性移動以氣密方式閉合流動路徑的閥101具有閥外殼102，閥外殼102具有用於流動路徑的開口 103，開口 103具有沿著流動路徑的幾何開口軸線104。在圖8b中示出的閉合構件105能夠在閉合構件平面107中沿著相對於開口軸線104在橫向上延伸的幾何調整軸線106以線性方式在閉合方向108上從釋放開口 103的打開位置移位至被線性地推到開口 103上的閉合位置中，並且能夠在打開方向109上反向地往回移動，如圖8a所示。
[0016]圖8a和圖8b以拆卸狀態單獨地示出了閥外殼102和閉合構件105，特別地調整軸線106說明了這兩個部分102和105的相對位置和可調整性。
[0017]彎曲的第一密封面110包圍閥外殼102的開口 103。閉合構件105的與第一密封面110對應並且具有與該第一密封面110對應的形式的第二密封面111布置於閉合構件105上。在下文中主要描述閥外殼102的第一密封面110的設計。由於與第一密封面110對應的等效設計，因此可免去對相對應的第二密封面111的詳細描述。
[0018]例如呈硫化密封件或O形環形式的密封件(未圖示)優選地布置於第二密封面111和/或第一密封面110上，所述密封件沿著相應的密封面，尤其是沿著所示的點劃線延伸。為了簡化起見，密封面110和111將在下文中被描述為密封作用面，其為密封件或閥座。
[0019]第一密封面110由都不平行於調整軸線106的各個形成部分112a、112b、114a、114b組裝而成。第一密封面110的部分112a、112b、114a、114b的表面法線120具有均平行於調整軸線106的方向分量。換言之，第一密封面110的所有表面法線120都至少部分地(即以一定方向分量)指向打開方向109，如在圖8a中由以短線示出的表面法線120所示的。同樣，換言之，第一密封面110豎直或傾斜地指向打開方向109並且並無任何部分平行於調整軸線106延伸。因此，第一密封面的表面法線120都不平行於由調整軸線106豎直地穿過的幾何法向平面延伸。
[0020]圖8a的第一密封面110的第一主要部分112a以及圖8b的第二密封面111的對應的第一主要部分112a』沿著幾何第一主要平面113a延伸。第一主要部分112a的表面法線120位於第一主要平面113a中。相比而言，圖8a的第一密封面110的第二主要部分112b以及圖8b的第二密封面111的對應的第二主要部分112b』沿著幾何第二主要平面113b延伸。所述主要部分112b的表面法線120位於第二主要平面113b中。第一主要平面113a和第二主要平面113b彼此間隔開，平行於彼此並且平行於閉合構件平面107延伸。因此，第一主要部分112a和相對的第二主要部分112b相對於彼此具有相對於調整軸線106在橫向上和在開口軸線104的方向上的幾何偏移。開口 103在沿著調整軸線106延伸的區域中布置於兩個相對的主要部分112a與112b之間。
[0021]第一密封面110的側向第一 U形側部114a在第一密封面110的一側連接第一主要部分112a和第二主要部分112b，而第一密封面110的側向第二 U形側部114b在第一密封面110的另一側連接第一主要部分112a與第二主要部分112b。
[0022]第一 U形側部114a和第二 U形側部114b均具有:與第一主要部分112a相關聯的第一腿115a ;與第二主要部分112b相關聯的第二腿115b ;以及基部115c。兩個第一腿115a均沿著第一腿平面延伸，所述第一腿平面均平行於調整軸線6並且均位於第一主要平面113a上。換言之，第一主要部分112a和兩個第一腿115a沿著一平面(即第一主要平面113a)延伸，第一腿115a和第一主要部分112a的表面法線位於所述第一主要平面113a中。而兩個第二腿115b均沿著第二腿平面延伸，所述第二腿平面平行於調整軸線6並且均位於第二主要平面113b上。換言之，第二腿115b和第二主要部分Ilb沿著一平面(即第二主要平面113b)延伸，兩個第二腿115b和第二主要部分112b的表面法線位於所述第二主要平面113b中。也像第一主要部分112a和第二主要部分112b那樣，因此兩個第一腿115a相對於兩個第二腿115b具有相對於調整軸線106在橫向上並且在開口軸線104的方向上的幾何偏移。
[0023]第一 U形側部114a和第二 U形側部114b的各基部115c均將第一腿115a與第二腿115b連接在一起並且在平行於開口軸線104的方向上橋接相對於調整軸線106在橫向上的幾何偏移。兩個基部115c位於公共的幾何平面E上，該公共的幾何平面E由調整軸線106豎直地穿過並且平行於開口軸線104定位。
[0024]通過使閉合構件105以線性方式沿著調整軸線106在閉合方向108上移位，第二密封面111可移動到閉合位置中，在該閉合位置，第二密封面111在閉合方向8上被壓在第一密封面110上並且因此與第一密封面110密封接觸，因此，閉合構件105藉助其側向閉合面119以氣密方式閉合開口 103。
[0025]從現有技術已知並且可通過單一線性移動而閉合的所述真空閥相對於可由兩種移動閉合併且需要相對複雜設計的驅動器的輸送閥或者相對於以橫向方式作用於密封件的楔形閥具有許多優點。由於上述的真空閥的閉合構件為一體式的，因此其可暴露於高加速度力，使得所述閥也可用於快速作用和緊急閉合。可通過單一線性移動來實現閉合和密封，使得能進行閥的很快速的閉合和打開。周向密封件在其所有部分中提供了用於多種閉合操作的明顯可再現的條件。如在閉合期間和當出現閉合壓力時，基本上僅在豎直方向到密封件上的線性閉合移動的方向上或者部分地在縱向上，但不相對於縱向延伸部在橫向上對密封件起作用，從而避免了對密封件的橫向力，所述真空閥適合用於真空和高真空範圍內的高品質的密封任務。密封面也可被機械加工以便滿足對密封件的高要求。閉合構件本身具有儘可能少的朝向彼此移動的部分，因此，能以廣泛的方式避免對處理有害並且尤其是由摩擦特別地由金屬研磨造成的粒子和金屬與塑料材料元件的研磨粒子的生成。
[0026]然而，如從圖8a和圖8b可以看出，所述的閥101的缺點在於，在側向上靠近開口103布置的兩個側部114a和114b相對於開口 103的寬度增加了閥外殼102的寬度。因此兩個密封面110和111的U形過渡區域增加了閥外殼102在寬度上的延伸。與具有L形移動改進的L型閘閥相比，所述的可線性調整的閥101相對較寬。在多種應用的情況下，這不成問題，然而存在尤其輸送閥的操作範圍，其中，開口寬度應儘可能大同時維持預定的外殼寬度。當然能使主要部分112a和112b的側面以更陡的方式上升並且因此使表面法線120與調整軸線106之間的角度變大，因此，密封面110和111的對準將接近相對於調整軸線106的平行對準，但是因此，密封件上的縱向負荷將在陡側面的區域中沿著其縱向擴展而增力口。這確實相對於開口寬度減小了閥的安裝寬度，但密封件將經受更大的磨損。
[0027]所述的閥的重要優點在於，由於其改進，因此在閉合期間，密封件並不經受至密封件的縱向延伸部的橫向上的橫向負荷。另一方面，由於其相對於開口軸線104的橫向延伸部，因此密封件難以吸收以下力，這些力沿著開口軸線104產生並且尤其在閉合構件105存在大量差壓力的情況下作用於閉合構件105上，這需要閉合構件105、其驅動器和其安裝布置以堅固的方式設計。
[0028]儘管所述的閥已經具有非常小的粒子生成的區別特徵，但還嘗試來進一步減少閥中不希望的粒子的生成。
[0029]在許多處理中，使用侵蝕性氣體，例如侵蝕性等離子體流，其在很大程度上化學攻擊密封件的密封材料。這特別地為半導體行業的領域中的蝕刻處理或塗布處理中的情況。即使在閉合構件的閉合位置中，尤其是在閉合的閥盤的情況下，在所述介質移動到動態主要密封件並且被其阻擋時，閥盤的動態主要密封件恆定地暴露於存在於閥一側的侵蝕性介質。因此，閥盤的動態主要密封件暴露於侵蝕性介質並且經受一定的增加的磨損量。
[0030]由於半導體技術發展的結果，在近些年來對於真空閥技術的需求不斷地增加。因此新的半導體製造方法需要以甚至更短的間隔來替換真空閥的密封件。從現有技術目前已知的真空閥能使得部分地更換密封件，例如通過更換被實現為靜態密封件的O形環。但相比而言，真空閥和其連接件具有硫化的靜態密封件，使得不能快速地更換密封件，從而有時必須要更換整個閥盤。
[0031]因此，所提到類型的真空閥被常規地設計為能簡單地更換動態密封件，例如，通過移除供布置密封件的閥盤和用新的閥盤來替換該閥盤。被設計用於該目的的真空閘閥在US7, 134, 642 (Seitz)中被描述，該真空閘閥提供了用於簡單地移除閥盤的維護開口以及適於在閥盤與閥驅動器的連接杆之間進行快速更換的接口以及合適的操作工具。
[0032]但是，即使相對快速、簡單地更換一個或多個密封件或者整個閥閉合件也需要中斷處理，從而可能使室充滿環境空氣和使用替換零件。將期望延長密封件的使用壽命並因此延長維護與更換間隔。
[0033]因此，本發明的目的在於提供一種用來以基本上氣密的方式中斷流動路徑的閥以及對應的閉合構件，所述閉合構件的動態密封件具有延長的使用壽命。
[0034]本發明的再一目的在於形成一種在導言中提到的類型的真空閥以及對應的閉合構件，其特徵在於簡單的設計、高調整速度、密封件上的較小負荷、減小的安裝寬度和增加的載荷能力。[0035]通過實現獨立權利要求的特徵來實現所述目的。以替代或有利的方式進一步改進本發明的特徵能夠在從屬權利要求中找到。
[0036]如本發明中所要求保護的、用於通過線性移動以氣密方式閉合流動路徑的真空閥包括:閥外殼，所述閥外殼具有用於流動路徑的開口 ；以及能夠沿著調整軸線以線性方式移位的閉合構件。所述流動路徑通常應被理解為在兩個區域之間，尤其為例如用於太陽能或其它應用的任何類型的兩個塗布設施之間，或者在用於半導體製造的處理室與另一處理室或外界之間的待被閉合的開口路徑。所述流動路徑例如為位於兩個互連的處理室之間的通道，該通道能夠藉助真空閥打開處理室以將半導體零件從一個處理室輸送到下一個處理室並且隨後以氣密方式閉合這些處理室來執行相應生產步驟。由於所描述的應用領域，因此這些類型的閥也被稱作真空輸送閥，並且由於它們的矩形截面因此在大部分情況下也被稱作矩形閘門。但顯然，如在本發明中所要求保護的、用於以基本上氣密的方式閉合任意流動路徑的真空閥的任何其它任意應用也是可行的。
[0037]開口能夠具有任意的、尤其為矩形的、圓形的或橢圓形的截面。真空閥優選地被實現為輸送閥，所述輸送閥具有細長的、尤其為基本上矩形的開口截面，與調整軸線成直角的開口寬度優選地為平行於調整軸線的開口高度的至少兩倍或至少三倍或至少五倍。但是，也能夠以另外的方式來改進開口截面，例如以圓形方式，真空閥例如為泵閥。開口具有這樣的中心軸線，該中心軸線在開口的區域中在平行於所述流動路徑的流動路徑的中心延伸。所述幾何開口軸線例如豎直地立於由開口跨越的面上並且沿著流動路徑延伸。
[0038]閉合構件大體上為能夠以氣密方式閉合開口的閉合件。可實現為閥盤的閉合構件能夠在閉合構件面中在打開位置與閉合位置之間沿著相對於開口軸線在橫向上延伸幾何調整軸線以線性方式移位。調整軸線優選地相對於開口軸線豎直地延伸並且位於由開口軸線豎直地穿過的平面上。作為此另選方式，調整軸線傾斜於因此不平行於開口軸線延伸，相交角尤其在90度至45度之間。幾何調整軸線位於幾何閉合構件面上。閉合構件面能夠平行於由閉合元件限定的閉合面延伸並且優選地基本上平行於由開口跨越的面。閉合構件面大體上應被理解為這樣的幾何面，調整軸線位於該幾何面上並且在特定實施方式中開口軸線形成該幾何面的表面法線，而與閉合面的實際形式無關。
[0039]在閉合構件的打開位置，該閉合構件通過被部分地或完全地布置於開口的投影範圍外側而部分地或完全地釋放開口。在閉合位置，閉合構件完全位於開口的投影範圍內，閉合構件的閉合面指向開口並且優選地完全覆蓋開口。閉合構件的沿著調整軸線從打開位置到閉合位置的調整方向被稱作閉合方向，而從閉合位置到打開位置的相反的調整方向被定義為打開方向。
[0040]所述開口由與閥外殼相關聯的、至少部分地彎曲的第一密封面包圍。這意味著第一密封面完全布置於開口周圍。形式與第一密封面對應的第二密封面位於閉合構件上。因此第二密封面與第一密封面對應，這些密封面具有彼此相對應的形式而使得第二密封面能夠被安置於第一密封面上，這些密封面沿著它們的伸展部在平行於調整軸線的方向上以恆定的量間隔開。閉合構件的第二密封面包圍該閉合構件的以下閉合面，該閉合面的尺寸使得其能完全覆蓋開口。
[0041]第一密封面和第二密封面彼此相對地定位，因此能夠通過沿著調整軸線來調整閉合構件而減小或增加到相對位置的間隔。[0042]在閉合構件的閉合位置，第二密封面位於第一密封面上，通過在閉合方向上將第二密封面壓到第一密封面上而在這些密封面之間獲得氣密接觸。
[0043]第一密封面和第二密封面均由各個形成部分組裝而成，各個形成部分均不平行於調整軸線。換言之，第一密封面和第二密封面的這些部分的表面法線均具有平行於調整軸線的方向分量。因此，第一密封面豎直地或傾斜地指向打開方向，並且第二密封面豎直地或傾斜地指向閉合方向。如果這些密封面在閉合位置一個位另一個之上並且在閉合方向上被彼此壓靠，則位於它們之間的密封件並不僅在縱向上或甚至在橫向上被作用，而且至少部分地被恆定、豎直地擠壓。第一密封面和第二密封面的單獨部分彼此對應，只要它們在閉合位置一個位於另一個之上即可。因此，在下文中僅部分地描述第一密封面的相應部分。
[0044]一般而言，閥外殼和閉合構件的在閉合位置一個位於另一個之上並且形成密封接觸的那些面將被視為密封面。因此，一個密封面能夠由尤其為O形環密封件或硫化密封件的密封件的豎直地指向外的部分形成，並且另一密封面由作為密封件的支承面的閥座形成。這些密封面因此為實際上由於在閉合位置的相互接觸而形成氣密密封的那些面。密封件能夠優選地布置於閉合構件上，而作為其另選形式，也可以布置於閥外殼上或兩個零件上。
[0045]第一密封面和第二密封面均具有基本上沿著幾何第一主面延伸的第一主要部分。換言之，第一主要部分均沿著第一主面在縱向上延伸。第一主要部分能夠在第一主面中或基本上沿著第一主面以筆直或非筆直的方式延伸。特別地，所述第一主要部分能夠具有彎曲形狀。第一主要部分並非強制地必須以幾何精確的方式在第一主面中延伸。
[0046]此外，第一密封面和第二密封面均具有第二主要部分，在特定實施方式中該第二主要部分的形狀能夠基本上對應於第一主要部分。但是，第一主要部分和第二主要部分還可以具有不同的形式。第一密封面和第二密封面的各第二主要部分沿著公共的幾何第二主面延伸，就像第一主要部分那樣，其也能在第二主面中以筆直或非筆直的方式延伸，或者僅基本上沿著第二主面延伸。
[0047]幾何第一主面和幾何第二主面基本上彼此平行地延伸，略微歪斜的位置也是可以的，並且幾何第一主面和幾何第二主面至少在密封面的區域中間隔開。第一主面和第二主面基本上平行於閉合構件面定位。閉合件軸線因此基本上平行於第一主面和第二主面延伸。由於兩個主面之間的間隔，因此第一主要部分和相對的第二主要部分相對於彼此具有基本上在開口軸線的方向上相對於調整軸線在橫向上的幾何偏移。
[0048]開口在沿著調整軸線延伸的區域中被布置在閥外殼的第一密封面的第一主要部分與相對的第二主要部分之間。閉合構件的閉合面位於第二密封面對第一主要部分與第二主要部分之間。
[0049]第一密封面的側向第一 U形側部在第一密封面的一側將第一主要部分與第二主要部分連接在一起，而第一密封面的側向第二 U形側部在第一密封面的另一側將第一主要部分與第二主要部分連接在一起，因此，第一密封面被閉合。相對應的U形側部被布置於第二密封面上。
[0050]第一 U形側部和第二 U形側部均由與第一主要部分相關聯的第一腿和與第二主要部分相關聯的第二腿組裝而成，並且在特定實施方式中，所述第一 U形側部和第二 U形側部均由由第一腿、第二腿以及基部形成。所述基部例如實現為二維弓形、平面或螺旋的三維區段，或者具有用來連接所述腿的另外的形式。
[0051 ] 第一密封面的第一 U形側部的第一腿尤其基本上沿著第一 U形側部的第一腿平面延伸。第一密封面的第二 U形側部的第一腿也尤其基本上沿著第二 U形側部的第一腿平面延伸。第一密封面的所述兩個第一腿平面優選地平行於調整軸線延伸。換言之，兩個第一腿均沿著平行於調整軸線的第一腿平面延伸。如也在主面的情況下，並非強制地需要第一腿精確地位於第一腿平面上。例如，這些腿也可以沿著腿平面的略微彎曲地伸展。作為此另選方式，這些腿可位於自由形式的面上。
[0052]第一密封面的兩個第二腿也尤其均基本上沿著第二腿平面延伸，所述第二腿平面均平行於調整軸線延伸。在特定實施方式中，所述第二腿平面可由第二主面形成。
[0053]第一腿和第二腿均相對於彼此具有相對於調整軸線在橫向上的幾何偏移。在特定實施方式中，所述偏移能夠對應於兩個主要部分的偏移。均布置於一對腿之間的各基部均將第一腿和第二腿連接在一起並且橋接相對於調整軸線在橫向上的幾何偏移。
[0054]如在本發明的第一方面中所要求保護的，在閥的閉合位置，不僅在閥的兩個主要密封面之間產生密封接觸，而且，由於在開口周圍或在閉合構件上的不平行於閉合構件的調整軸線布置的兩個傾斜面，因此由處於閉合位置的兩個傾斜面在開口區域與密封面之間形成屏障，處於閉合位置的兩個傾斜面處於靠近或接觸相對位置並且因此保持侵蝕性介質大程度地遠離閥的兩個主要密封面。換言之，兩個傾斜面形成在開口與主要密封件之間起作用的楔狀附加密封件或者預密封件。
[0055]閥外殼在開口與第一密封面之間的區域中具有包圍開口的第一傾斜面。換言之，在開口與第一密封面的不同部分之間徑向地延伸的尤其為環形或框形的第一傾斜面布置於開口周圍。第一傾斜面優選地在內側由開口直接地或間接地限定並且在外側由第一密封面限定。閉合構件具有第二傾斜面，該第二傾斜面平行於第一傾斜面延伸，與第一傾斜面對應，並且具有第一傾斜面對應的形式。這意味著兩個傾斜面在開口的周圍的至少一部分中具有在功能上彼此對應的形式並且能夠移動成一個位於另一個之上或者幾乎一個位於另一個之上，其中沿著開口的外周具有恆定的間隙。
[0056]第一傾斜面和第二傾斜面至少在閉合構件的閉合位置或者也在打開位置(在每種情況下均相對於閉合構件面以一定傾斜角傾斜)都傾斜地站立並且當然略微傾斜地站立，使得閥外殼的第一傾斜面傾斜地指向打開方向並且閉合構件的第二傾斜面傾斜地指向閉合方向。這意味著彼此平行的兩個傾斜面不是平行於閉合構件面而是大致平行於該閉合構件面，並且也不平行於調整軸線而是大致平行於該調整軸線，而是相對於調整軸線傾斜地站立，即以所提到的特定傾斜角站立。第一傾斜面和第二傾斜面在它們的幾何延伸部中以所提到的特定傾斜角與幾何調整軸線相交。
[0057]如在本發明中所要求保護的，所述傾斜角在3度至15度之間。換言之，兩個傾斜面被設定為相對於閉合構件面以3度至15度之間的角傾斜。
[0058]第一傾斜面和第二傾斜面相對於彼此定位成在閉合構件的閉合位置，第二傾斜面被布置在與第一傾斜面相對的平行位置，其中第一傾斜面和第二傾斜面相對於彼此具有在O至0.6_之間的相對間隔。換言之，兩個傾斜面能夠通過將閉合構件從打開位置調整到閉合位置而在閉合方向上以楔狀方式朝向彼此移動，使得在閉合位置這些傾斜面之間的豎直間隔僅仍在O至0.6mm之間，並且因此防止承靠在閥的開口上的侵蝕性介質直接滲透到閥的第一密封面和第二密封面。在開口周圍的間隔優選地為基本上相同的值，其中小於10%優選地為不合格的。只要間隔等於0，則在開口周圍在這些傾斜面之間存在接觸。
[0059]在可行的實施方式中，閥外殼的第一傾斜面和閉合構件的第二傾斜面都以非彈性的方式實現。這是指兩個傾斜面不包括所希望的彈性材料的情形。尤其是，兩個傾斜面為閥外殼或閉合構件的基本材料的加工面。尤其是，兩個傾斜面由金屬面形成。在所述實施方式中，真空閥被實現為使得在閉合構件的閉合位置傾斜面之間的間隔儘可能小，但避免兩個傾斜表面之間相對於彼此的觸碰接觸。在使用兩個金屬傾斜面的情況下，這樣的接觸將導致摩擦粒子的生成，因此，由於粒子的生成而可能會危及處理的純度。基於侵蝕性介質的類型，在兩個傾斜面之間的間隔在0.05mm至0.6mm的情況下，實現良好的結果，並且在間隔在0.05mm至0.3mm之間的情況下實現最佳的結果。由於小於0.6mm的這種小間隙，因此侵蝕性介質不再能不受阻礙地傳遞到主要密封件而使得所述密封件受到大程度的保護。
[0060]為了以大程度上完全的方式保護主要密封件避免與侵蝕性介質直接接觸，本發明還設置為將第一傾斜面或第二傾斜面由附加的彈性密封件形成。也可以使第一傾斜面和第二傾斜面兩者都由附加的彈性密封件形成。在此情況下，在閉合構件的閉合位置，兩個傾斜面之間的間隔等於O。換言之，在此情況下，兩個傾斜面在閉合位置彼此觸碰並且尤其是略微受到擠壓，使得由傾斜面在開口周圍形成至少略微密封的接觸，因此，保護位於外側更遠的主要密封面(尤其是彈性主要密封件)。至少一個附加的彈性密封件例如能由O形環形成，所述O形環布置於閥外殼和/或閉合構件上的凹槽中。O形環可具有任意的截面，但優選地為圓形截面、腎形界面或X形截面。具有這種類型的截面的O形環是已知的，例如由TRELLEB0RG製造的商標名稱QL'ADRINGK,。作為此另選方式，能由硫化於閥外殼上和/或閉合構件上的密封件形成附加的彈性密封件。
[0061]為了不僅保護主要密封件而且也附加地能夠對由可由閥分開的兩個區域進行電屏蔽，本發明在進一步改進的框架內設置為閥外殼的第一傾斜面實現為導電金屬面，該導電金屬面在電勢方面與閥外殼耦合併且第二傾斜面實現為閉合的導電保護屏蔽件。所述導電保護屏蔽件在閉合構件上布置成使得在閉合構件的閉合位置，該導電保護屏蔽件完全覆蓋開口並且在開口周圍電連接到第一傾斜面。在閉合位置間隔等於O以在開口周圍產生電接觸。由於與閥外殼的所述周圍電接觸，因此保護屏蔽件與閥外殼以電勢方式耦合。
[0062]本發明的進一步改進設置為閥外殼和/或閉合構件尤其在閥外殼的第一傾斜面與第一密封面之間的環狀或框架狀區域中具有包圍第一傾斜面的凹部，所述凹部尤其呈凹槽或底切部的形式，並且所述凹部在閥外殼和/或閉合構件上被布置和擴展成使得在該凹部的區域中，閥外殼與閉合構件之間的間隔為至少為0.8mm,尤其在0.8mm至6mm之間。換言之，溝槽狀凹部包圍第一傾斜面。所述溝槽狀凹部相對於傾斜面的深度優選地在0.8mm至5_之間。藉助所述凹部，形成迷宮狀湍流結構，該湍流結構使得穿過傾斜面之間的窄區域的介質渦旋，從而所述介質附加地受到阻礙而不能進一步穿透到主要密封面。所述凹部的寬度特別地為其深度的四分之一到四倍，尤其為其深度的二分之一到二倍。
[0063]此外，本發明的第一方面包括閉合構件，尤其為本發明所要求保護的在導言中所描述的真空閥。由於閉合構件的特徵已經結合如在本發明中所要求保護的真空閥和其各種進一步改進而直接地或間接地進行了描述，因此參考上文做出的陳述。
[0064]用於通過線性移動以氣密方式閉合流動路徑的閉合構件具有位於閉合構件面和第二密封面中的幾何調整軸線。所述第二密封面由各個形成部分組裝而成，這些部分均不與調整軸線平行。第二密封面的這些部分的表面法線具有均平行於調整軸線的方向分量。因此，第二密封面豎直地或傾斜地指向調整軸線的打開方向。第二密封面的第一主要部分基本上沿著幾何第一主面延伸。第二密封面的第二主要部分基本上沿著幾何第二主面延伸。第一主面和第二主面平行於調整軸線延伸，彼此間隔開，並且基本上平行於閉合構件面延伸。因此，第一主要部分和相對的第二主要部分相對於彼此具有相對於調整軸線在橫向上的幾何偏移。第二密封面的側向第一U形側部在第二密封面的一側連接第一主要部分與第二主要部分，而第二密封面的側向第二U形側部在第二密封面的另一側連接第一主要部分與第二主要部分。第一 U形側部和第二 U形側部均具有:與第一主要部分相關聯的第一腿；與第二主要部分相關聯的第二腿；以及基部。第一腿和第二腿相對於彼此具有相對於調整軸線在橫向上的幾何偏移。各基部均連接第一腿與第二腿並且橋接相對於調整軸線在橫向上的幾何偏移。藉助第二密封面，在閉合構件的閉合位置，可通過在調整軸線的閉合方向上以線性方式將第二密封面壓到第一密封面上而產生與真空閥的第一密封面的密封接觸，從而以氣密的方式來閉合真空閥的開口。
[0065]如在本發明中所要求保護的，閉合構件的第二傾斜面布置在第二密封面的那些部分之間的區域中。第二傾斜面相對於閉合構件面以一傾斜角傾斜，使得第一傾斜面傾斜地指向與閉合方向相反的打開方向，並且使得第一傾斜面在其幾何延伸部中被幾何調整軸線以所述傾斜角相交。所述傾斜角在3度至15度之間。第二傾斜面被實現為在閉合構件的閉合位置，第二傾斜面能夠移動到與第一傾斜面相對的平行位置，所述第一傾斜面包圍所述開口並且布置在開口與第一密封面之間的區域中。
[0066]如在閉合構件的第一個進一步改進中所要求保護的，第二傾斜面被實現為閉合的導電保護屏蔽件，在閉合位置，藉助該保護屏蔽件能夠完全覆蓋開口。作為此另選方式，第二傾斜面由附加的彈性密封件形成，所述附加的彈性密封件尤其由布置於凹槽中的O形環形成，所述O形環尤其具有圓形截面、腎形截面或X形截面，或者所述附加的彈性密封件由硫化於閉合構件上的密封件形成。
[0067]所提到的本發明的第一方面能夠與輸送閥的特徵組合，所述輸送閥在導言中已經被描述，從現有技術中尤其以瑞士的Haag的VAT Vakuumventile AG的產品名稱為「M0N0VAT 系列 02 和 03」已知，並且例如在 US4, 809，950 (Geiser)和 US4, 881，717 (Geiser)中被描述。
[0068]在閥和閉合致動器的已知的其餘設計的所述情況下，兩個第一腿均基本上沿著平行於調整軸線的第一腿平面延伸。兩個第二腿也基本上沿著平行於調整軸線的第二腿平面延伸。第一主面、第二主面、閉合構件面、第一傾斜面和第二傾斜面均由幾何平面形成。第一腿平面位於第一主面的幾何平面上並且第二腿平面位於第二主面的幾何平面上。但是主面也可以尤其繞平行於調整軸線的彎曲軸線彎曲或扭結。
[0069]如在本發明的可與本發明的第一方面組合的第二方面中所要求保護的和在本發明的可與本發明的第二方面組合的第一方面中所要求保護的，第一腿平面均相對於與它相關聯的第一主面的幾何第一切向平面成至少15度的角。換言之，第一腿不在第一主面或第一主要部分的第一切向平面中延伸，而是以至少15度從所述第一主面或第一切向平面樞轉出，樞轉軸線平行於調整軸線延伸。為了能使第一密封面從第一主要部分過渡到相應的第一腿，而在第一密封面的第一主要部分與兩個第一腿之間均布置有第一密封面的第一彎曲部分。沿著第一主面在第一主要部分中延伸的第一密封面在第一主要部分的兩端處會聚到各的第一彎曲部分中。從第一主要部分到一個第一彎曲部分和另一個第一彎曲部分的所述相應過渡均實現於幾何第一切向平面中。所述一個第一切向平面為在第一主要部分的一端處第一主面的切向平面。所述另一第一切向平面為在第一主要部分的另一端處第一主面的切向平面。兩個第一切向平面基本上平行於調整軸線。兩個第一腿平面均相對於相應的第一切向平面成至少15度的角。沿著第一主面在第一主要部分中延伸的第一密封面因此以至少15度的角尤其以幾何彎曲從第一主面引導出，並且均會聚到相應的第一腿平面中。所述導出和過渡均實現於第一彎曲部分中。換言之，藉助所述各第一彎曲部分，沿著第一主面在第一主要部分中延伸的第一密封面因此以所提到的至少15度從第一主面引導出並且會聚到第一腿平面中。各第一彎曲部分因此位於樞轉軸線的區域中並且能使第一密封面從第一主面過渡到第一腿平面中。第一彎曲部分能夠為幾何彎曲，例如弓形、平面之間的扭結或者另外的二維或三維的形狀。
[0070]在本發明的進一步改進中，兩個第一腿平面也均相對於與它們相關聯的第二主面的相鄰的幾何第二切向平面均成至少約15的角。第一密封面的第二彎曲部分均布置於第一密封面的第二主要部分與兩個第二腿之間。沿著第二主面在第二主要部分中延伸的第一密封面均會聚到第二彎曲部分中，從第二主要部分到各第二彎曲部分中的各過渡均實現於第二主面的幾何第二切向平面中。兩個第二腿平面均相對於相應的第二第一切向平面成至少約15度的角。在第二主要部分中沿著第二主面延伸的第一密封面在第二彎曲部分中從第二主面以至少15度的角尤其以幾何彎曲引導出，並且會聚到第二腿平面中。換言之，第一密封面均以至少15度的角從第二主面引導出並且均會聚到兩個第二腿平面中。各第二彎曲部分在其形狀上能夠與相鄰的第一彎曲部分對應或者可以以另外的方式改進。在特定實施方式中，第一 U形側部的各第一腿平面和各第二腿平面基本上彼此平行地延伸，在另一實施方式中，第二 U形側部的第一腿平面和第二腿平面也基本上彼此平行地延伸。
[0071]換言之，本發明的所述第二方面與在導言中已經描述並且從現有技術已知的通過線性移動以氣密方式來閉合流動路徑的真空閥的不同尤其在於，其中相對於調整軸線在橫向上橋接兩個主要部分的幾何偏移並且將偏移的主要部分引到一起的兩個側部在開口軸線的方向上以至少15度向內樞轉或向外樞轉。優選地繞基本上平行於調整軸線的樞轉軸線進行的所述側部的向內或向外的所述樞轉使得偏移的密封部分的過渡區域也在開口軸線的方向上並且不僅相對於開口軸線在橫向上延伸。在特定實施方式中，尤其在90度的樞轉角的情況下，所述過渡區域甚至僅沿著開口軸線延伸。因此，閥外殼變得更窄，而開口寬度保持相同，閥外殼和閉合構件的深度略微變大。
[0072]以令人詫異的方式顯示出由於所述側部的向內或向外的所述樞轉也產生很多另外的顯著優點。因此，所描述的密封面的三維延伸部被證明為是閉合構件和閥外殼的特別剛硬的擴展部，使得可以轉換甚至更大的縱向延伸部，能夠以廣泛的方式避免在高壓差的情況下變形。因此，開口寬度可顯著變大，這在用來輸送寬半導體和基板單元的輸送閥的情況下是特別有利的。此外，側部的向內樞轉使得在現有技術中僅可在閉合方向上承載負荷的密封件現在也能在沿著開口軸線的方向上承載負荷，在此情況下，密封件不再僅相對於其縱向延伸部在橫向上作用於側部中，而是豎直地並且在縱向上作用於側部。因此，在壓差的情況下，密封件可吸收作用於閉合構件上的力的一部分。如在本發明中所要求保護的密封件幾何形狀在很大程度上對壓差不敏感。
[0073]由於在閥外殼中得到的寬度，因此也能利用側向安裝空間來安裝線性驅動器。因此線性驅動器被從關鍵粒子區域移出從而進一步減小了粒子的生成。閥的特徵為所述驅動器布置和附加地緊湊的安裝方法。由於進行直接的移動傳遞，因此高加速度也是可能的。
[0074]第一腿平面和/或第二腿平面相對於主面成至少15度的角，即，它們從第一主面或第二主面樞轉出來。在本發明的進一步改進中，所述角度為至少30度或至少45度或至少60度。角度最大應為120度，優選地最大為90度。
[0075]第一主面可由幾何平面，即第一主要平面形成。在此情況下，兩個第一切向平面和第一主要平面一個位於另一個之上使得第一切向平面由第一主要平面形成。第二主面也可由幾何平面，即第二主要平面形成，兩個第二切向平面和第二主要平面一個位於另一個之上使得第二切向平面由第二主要平面形成。同樣可以由閉合構件面提供幾何平面並因此提供了閉合構件平面。如果兩個主面因此為主要平面，則兩個主要部分均在一個平面上延伸。但這些主要部分並非強制地必須以幾何精確的方式在第一主要平面或第二主要平面中延伸。這些主要部分能僅基本上沿著第一主要平面或第二主要平面延伸，即，在幾何上並不精確地平行於相應的主要平面，例如作為沿著相應的主要平面的弧。
[0076]但對於某些應用而言，有利地，取代使用具有平坦基本截面的閥，而是使用具有彎曲基本截面的閥。在此情況下，閉合構件不具有帶平坦閉合構件平面的平坦盤形式，而是具有圍繞尤其基本上平行於調整軸線的彎曲軸線至少在一部分中彎曲的基本形式。尤其在寬輸送閥的情況下，基本截面的彎曲擴展具有顯著的優點。在例如超過60度的大彎曲角的情況下，能相對於開口軸線以傾斜的方式進行通過閥的輸送。在90度的彎曲角的情況下，例如能沿著相對於開口軸線例如呈45度的第一輸送軸線將半導體元件(尤其為晶片)通過打開的閥移動到處理室內並且使它們沿著第二輸送軸線移動通過打開的閥而從處理室出來，所述第二輸送軸線相對於第一輸送軸線例如呈90度和相對於開口軸線例如呈45度。彎曲的基本截面的另外的優點在於，在閉合構件的閉合位置，閥的穩定性增加。由於由彎曲的基本截面得到的密封面的三維延伸，因此閉合構件和閥外殼的特別剛硬的擴展部甚至以僅15度的彎曲產生，使得能附加地避免在高壓差下的變形並且能使開口寬度顯著地變大。這特別地在用來輸送寬半導體和基板單元的輸送閥的情況下是有利的。因此，本發明的另一方面設置為第一主面、第二主面和閉合構件面至少在一部分中彎曲，尤其在若干部分中或者在整個區域中繞彎曲軸線彎曲，所述彎曲軸線尤其基本上平行於調整軸線。至少在所述部分中的彎曲可由圓柱形面或另一自由形式形成。尤其是，第一主面、第二主面和閉合構件圍繞彎曲軸線至少部分地以至少15度彎曲，尤其以至少30度，尤其以至少45度，尤其在45度至105度之間的角度彎曲。能繞若干彎曲軸線和在各種彎曲方向上例如以波形彎曲的形式實現彎曲。彎曲軸線優選地基本上平行於調整軸線延伸。但是也可以使彎曲軸線以不平行於調整軸線並且與調整軸線以不等於90度的角相交的方式延伸或者相對於調整軸線以歪斜方式延伸。一般而言，彎曲軸線相對於供調整軸線豎直地穿過的平面以不平行的方式延伸。尤其是，彎曲軸線與所述平面以在90度至60度之間的角，尤其在90度至45度之間的角，尤其在90度至30度之間的角相交。彎曲半徑可大於或小於開口寬度或者等於開口寬度。該半徑也可較小使得彎曲提供扭結。在本發明的特定實施方式中，彎曲軸線與開口軸線相交，尤其以大約90度的相交角相交。
[0077]主要部分可具有沿著主面的任意擴展部。例如，它們可以以弧形方式在相應的主面上延伸，如在真空閘的情況下，真空閘在導言中已經被描述並且從現有技術已知。
[0078]包括主面的彎曲的本發明的第二方面的所述部分方面也可與在導言中所提到的類型的閥組合，在導言中所提到的類型的閥從現有技術已知並且以產品名稱「M0N0VAT系列 02 和 03」 已知並且在 US4, 809，950 (Geiser)和 US4, 881，717 (Geiser)中被描述。
[0079]但在對於輸送閥而言特別優選的本發明的進一步改進中，主要部分沿著主面以筆直方式延伸。第一主要部分在第一水平面上延伸，調整軸線形成第一水平面的表面法線。第二主要部分在第二水平面上延伸，調整軸線也形成第二水平面的表面法線。第一水平面與第二水平面彼此平行並且彼此間隔開。在所述實施方式的情況下，主面優選地相對於水平面豎直地定位。水平面並不是指世界坐標系的絕對水平，而是指閥外殼和其寬度延伸部。因此，兩個主要部分優選地彼此平行地延伸。為了在調整軸線的方向上橋接主要部分的所述偏移，兩個第一腿、兩個第二腿和兩個基部在第一水平面與第二水平面之間延伸，兩個第一腿和/或兩個第二腿和/或兩個基部由於至少部分地在平行於調整軸線的方向上延伸而至少部分地橋接第一水平面與第二水平之間的間隔。
[0080]在特定的進一步改進中，兩個基部在公共的第三水平面上延伸，所述第三水平面位於第一水平面與第二水平面之間並且調整軸線形成該第三水平面的表面法線。換言之，第三水平面平行於其它水平面延伸並且在本發明的特定的進一步改進中布置在第一水平面與第二水平面之間的中央。由於基部位於第三水平面上，因此在所述發明變型的情況下，這些基部並不沿著調整軸線延伸並且並不造成在平行於調整軸線的方向上對主要部分之間的間隔的橋接。但在另選變型中，基部並不位於水平面上。這兩個基部通過均實現為尤其基本上平行於調整軸線延伸的螺旋區段而部分地橋接第一水平面與第二水平面之間的間隔。
[0081]第一密封面的兩個第一彎曲部分可在第一主面上延伸並且兩個第二彎曲部分可在第二主面上延伸。在所述情況下，這些彎曲部分並不在平行於調整軸線的方向上橋接主要部分的偏移。但是，這些彎曲部分還可以不僅如上文中已經描述的那樣圍繞平行於調整軸線延伸的彎曲軸線彎曲，而且也圍繞相對於調整軸線在橫向上定位的彎曲軸線彎曲。在此情況下，第一密封面也在該第一密封面的相對部分的方向上向內彎曲。因此，兩個第一彎曲部分和兩個第二彎曲部分在第一水平面與第二水平面之間延伸，兩個第一彎曲部分和兩個第二彎曲部分部分地橋接第一水平面與第二水平面之間的間隔。可例如由於兩個第一彎曲部分和兩個第二彎曲部分被實現為基本上平行於調整軸線延伸的螺旋區段而實現所描述的彎曲。
[0082]此外，本發明的第二方面包括閉合構件，尤其為如在本發明中所要求保護的並且在導言中描述的真空閥。由於已經結合如在本發明中所要求保護的真空閥和其各種另外的改進直接地或間接地描述了閉合構件的特徵，因此參考上文做出的陳述。
[0083]一般而言，用於通過線性移動而以氣密方式閉合流動路徑的閉合構件包括在閉合構件面和第二密封面中的幾何調整軸線，所述第二密封面由均不平行於調整軸線的各個形成部分形成。第二密封面的這些部分的表面法線均具有平行於調整軸線的方向分量。因此，第二密封面豎直地或傾斜地指向調整軸線的打開方向。第二密封面的第一主要部分基本上沿著幾何第一主面延伸，而第二密封面的第二主要部分基本上沿著幾何第二主面延伸。第一主面和第二主面彼此間隔開並且平行於調整軸線並且基本上平行於閉合構件面延伸。因此，第一主要部分和相對的第二主要部分相對於彼此具有相對於調整軸線在橫向上的幾何偏移。閉合構件的在【具體實施方式】中基本上平行於閉合構件面延伸的閉合面布置於兩個相對的主要部分之間。第二密封面的側向第一U形側部在第二密封面的一側連接第一主要部分與第二主要部分，而第二密封面的側向第二 U形側部在第二密封面的另一側連接第一主要部分與第二主要部分。第一U形側部和第二U形側部均由與第一主要部分相關聯的第一腿、與第二主要部分相關聯的第二腿和基部組裝而成。兩個第一腿均基本上沿著平行於調整軸線定位的第一腿平面延伸。第一腿和第二腿相對於彼此具有相對於調整軸線在橫向上的幾何偏移，各基部均連接第一腿與第二腿並且橋接相對於調整軸線在橫向上的幾何偏移。藉助第二密封面，在閉合構件的閉合位置，通過將第二密封面在調整軸線的閉合方向上以線性方式壓到第一密封面上而產生與真空閥的第一密封面的密封接觸，從而以氣密的方式閉合真空閥的開口。
[0084]而且如在具有所描述的閉合構件的真空閥的情況下，在如本發明所要求保護的閉合構件的情況下，兩個第一腿平面均相對於第一主面成至少15度的角。在每種情況下，第二密封面的第一彎曲部分均布置於第一主要部分與兩個第一腿之間。在第一主要部分中沿著第一主面延伸的第二密封面均會聚到第一彎曲部分中，從第一主要部分到各第一彎曲部分中的各過渡均實現為第一主面的幾何第一切向平面。兩個第一腿平面均相對於相應的第一切向平面成至少15度的角。在第一主要部分中沿著第一主面延伸的第二密封面在第一彎曲部分中以至少15度的角尤其以幾何彎曲從第一主面引導出，使得第二密封面會聚到第一腿平面中。
[0085]閉合構件具有相同的進一步改進的變型，這些變型已經結合真空閥進行了描述並且在這裡對其進行參考。具體地，一個進一步的改進包括基本上沿著平行於調整軸線的第二腿平面延伸的兩個第二腿和均布置於第二主要部分與兩個第二腿之間的第二密封面的第二彎曲部分。在第二主要部分中沿著第二主面延伸的第二密封面均會聚到第二彎曲部分中，從第二主要部分到各第二彎曲部分中的各過渡均實現為第二主面的幾何第二切向平面。兩個第二腿平面均相對於相應的第二切向平面成至少15度的角。在第二主要部分中沿著第二主面延伸的第二密封面在第二彎曲部分中以至少15度的角尤其以幾何彎曲從第二主面引導出，並且在第二彎曲部分中會聚到第二腿平面內。此外，第一 U形側部的第一腿平面和第二腿平面能基本上彼此平行地延伸，並且此外，第二 U形側部的第一腿平面和第二腿平面能基本上彼此平行地延伸。
[0086]如也在真空閥的情況下，第一主面可由幾何平面，即第一主要平面形成。在此情況下，兩個第一切向平面和第一主要平面一個位於另一個之上，使得第一切向平面由第一主要平面形成。第二主面也可由幾何平面，即由第二主要平面形成，兩個第二切向平面和第二主要平面一個位於另一個之上，使得第二切向平面由第二主要平面形成。同樣，閉合構件面也可以提供幾何平面並且因此為閉合構件平面。如果兩個主面因此為主要平面，則兩個主要部分均在一個平面上延伸。但主要部分並非強制地必須以幾何精確的方式在第一主要平面或第二主要平面中延伸。主要部分也可以僅基本上沿著第一主要平面或第二主要平面延伸，也就是說在幾何上並非精確地平行於相應的主要平面，例如為沿著相應的主要平面的弧。
[0087]但如結合真空閥已經說明的那樣，對於某些應用而言，有利的是，取代具有平坦基本截面的閥，而使用具有彎曲基本截面的閥。在此情況下，閉合構件並不具有帶平坦閉合構件平面的平坦盤形式，而是具有圍繞尤其基本上平行於調整軸線的彎曲軸線而至少在一部分中彎曲的基本形式。因此，本發明的另一方面設置為第一主面、第二主面和閉合構件面在至少一部分中彎曲，尤其在若干部分中或者在整個區域中圍繞基本上平行於調整軸線的彎曲軸線彎曲。至少在所述部分中的彎曲可由圓柱形面或另外的自由形式形成。特別地，第一主面、第二主面和閉合構件面圍繞彎曲軸線以至少15度，尤其至少30度，尤其至少45度，尤其在45度至105度之間的角至少在一部分中彎曲。如也在真空閥的情況下，能實現圍繞若干彎曲軸線和在各個彎曲方向上的彎曲，例如呈波形彎曲的形式。彎曲半徑可大於或小於開口寬度或者等於開口寬度。半徑也可較小以使得彎曲提供扭結。在本發明的特定實施方式中，彎曲軸線與開口軸線相交，尤其以大約90度的相交角相交。
[0088]已經結合真空閥描述的進一步改進也包括於涉及閉合構件的本發明中並且參考上文的陳述。
[0089]如在本發明中所要求保護的真空閥和在本發明中所要求保護的閉合構件在下文中僅以在附圖中示意性地示出的具體示例性實施方式更詳細地舉例說明，也給出了本發明的另外的優點的細節，在附圖中:
[0090]圖1a示出了真空閥的第一實施方式的閥外殼的半剖面的立體圖；
[0091]圖1b示出了閥外殼的側向剖視圖；
[0092]圖2a示出了真空閥的第一實施方式的具有平坦主面的閉合構件的俯視圖；
[0093]圖2b示出了閉合構件的正視圖；
[0094]圖2c示出了閉合構件的側視圖；
[0095]圖2d示出了閉合構件的立體圖；
[0096]圖2e示出了閉合構件的一部分的細節的俯視圖；
[0097]圖2f示出了閉合構件的第一彎曲變型的俯視圖，其中主面在第一方向上彎曲；
[0098]圖2g示出了閉合構件的第二彎曲變型的俯視圖，其中主面在第二方向上彎曲；
[0099]圖3a示出了如在本發明中所要求保護的真空閥的第一實施方式的正視圖，其中閉合構件處於閉合位置；
[0100]圖3b示出了來自圖3a的真空閥的側向剖視圖；
[0101]圖3c示出了如在本發明中所要求保護的真空閥的第一實施方式的正視圖，其中閉合構件處於打開位置；
[0102]圖3d示出了來自圖3c的真空閥的側向剖視圖；
[0103]圖3e示出了如在本發明中所要求保護的真空閥的第一實施方式的立體圖，其中閉合構件處於閉合位置；
[0104]圖4a示出了如在本發明中所要求保護的真空閥的第二實施方式的側向剖視圖，其中閉合構件處於打開位置；
[0105]圖4b示出了如在本發明中所要求保護的真空閥的第二實施方式的閥外殼的半剖面的立體圖；
[0106]圖5a示出了如在本發明中所要求保護的真空閥的第二實施方式的如在本發明中所要求保護的閉合構件的俯視圖；
[0107]圖5b示出了閉合構件的正視圖；
[0108]圖5c示出了閉合構件的側視圖；
[0109]圖5d示出了閉合構件的斜視圖；
[0110]圖5e示出了閉合構件的一部分的細節的俯視圖；
[0111]圖6a示出了在無附加彈性密封件的實施方式中，具有傾斜面的閥外殼和閉合構件的側向剖視圖；
[0112]圖6b示出了在具有圓形截面的O形環的實施方式中，具有傾斜面的閥外殼和閉合構件的側向剖視圖；
[0113]圖6c示出了在具有保護屏蔽件的實施方式中，具有傾斜面的閥外殼和閉合構件的側向剖視圖；
[0114]圖6d示出了在具有腎形截面的O形環的實施方式中，具有傾斜面的閥外殼和閉合構件的側向剖視圖；
[0115]圖6e示出了在具有X形截面的O形環的實施方式中，具有傾斜面的閥外殼和閉合構件的側向剖視圖；
[0116]圖6f示出了在閥外殼上具有圓形截面的O形環的實施方式中，具有傾斜面的閥外殼和閉合構件的側向剖視圖；
[0117]圖7a示出了來自圖6a的閉合構件的立體圖；
[0118]圖7b示出了來自圖6b的閉合構件的立體圖；
[0119]圖7c示出了來自圖6c的閉合構件的立體圖；
[0120]圖7d示出了來自圖6d的閉合構件的立體圖；
[0121]圖7e示出了來自圖6e的閉合構件的立體圖；
[0122]圖8a示出了從現有技術已知的真空閘的閥外殼；以及
[0123]圖Sb示出了從現有技術已知的真空閘的閉合構件。
[0124]圖1a至圖2e、圖3a至圖3e和圖4a至圖5e從各種視圖和各種詳細程度示出了均如本發明中所要求保護的真空閥或者處於各種狀態下的閉合構件的常見示例性實施方式。因此，在每種情況下，所述附圖組被一起描述了。根據圖2f和圖2g的變型以及根據圖4a至圖5e的示例性實施方式與根據圖1a至圖2e和圖3a至圖3e的示例性實施方式僅在一些特徵方面不同，這就是僅給出變型和實施方式之間的不同的細節的部分原因。部分地，將不再給出在前面的圖中已經說明的參考和特徵的細節。圖8a和圖Sb已經結合現有技術的表述詳細地陳述。
[0125]圖1a至圖2e和圖3a至圖3e示出了真空閥I及其閉合構件5的第一實施方式。利用真空閥1，引導通過閥外殼2的開口 3的流動路徑F可以通過閉合構件5的線性移動以氣密方式閉合。用於流動路徑F的開口 3以矩形通路的形式形成於閥外殼2中，開口 3的寬度b在所示的示例性實施方式中大約為開口 3的高度h的六倍，如在圖3c中所示。真空閥I被實現為輸送閥。
[0126]如圖1b所示，沿著開口 3的擴展部在中心延伸穿過閥外殼2的幾何開口軸線4沿著流動路徑F行進穿過開口 3。如圖3a至圖3e所示，布置於閥外殼2中呈閥盤形式的閉合構件5可以沿著幾何調整軸線6以線性方式調整。調整軸線6在閉合構件面7中相對於開口軸線4在橫向上(即豎直地)行進，閉合構件面7由閉合構件平面形成並且其在圖1b和圖2c中以點劃線示出。閉合構件5能夠藉助驅動器20沿著調整軸線6以線性方式在閉合方向8上從打開位置O移位到閉合位置C，在所述打開位置O，開口 3被釋放，如圖3c和圖3d所示，在所述閉合位置C，閉合構件被線性地推到開口 3上，如圖3a、圖3b和圖3e所示。通過使閉合構件5以線性方式在相反的打開方向9上移位，該閉合構件能以線性方式從閉合位置C移位回到打開位置O。
[0127]閥外殼2的開口 3由閥外殼2的至少部分地彎曲的第一密封面10包圍，如圖1a中以陰影面所示。閉合構件5具有第二密封面11，該第二密封面11與所述第一密封面10對應並且具有對應於第一密封面10的形式，如圖2a至圖2e所示。
[0128]如圖3a和圖3b所示，通過將第二密封面11在閉合方向8上壓至其第一密封面10上使得閉合構件5藉助其閉合面19以氣密方式閉合開口 3，而在閉合位置C在第二密封面11與第一密封面10之間存在氣密接觸。例如通過將兩個密封面中的一個密封面實現為彈性密封件(例如O形環或硫化密封件)或者通過承載這樣的密封件，能夠形成密封接觸。所述密封件可布置於閉合構件5上,如附圖所不,或者布置於閥外殼2上。換言之,第一密封面10可形成密封件並且第二密封面11可形成閥座，密封件能以氣密方式被安置於閥座上，或反之亦然。各種密封材料和密封件類型為從現有技術已知的並且無需在這裡進一步說明。
[0129]閥外殼2的第一密封面10由各個形成部分12a、12b、14a、14b、17a、17b組裝而成，各個形成部分均不平行於調整軸線6，如在下文中更詳細地說明的。第一密封面10的所有所述部分12a、12b、14a、14b、17a、17b的表面法線都具有均平行於調整軸線6的方向分量。因此，第一密封面10豎直地或傾斜地指向打開方向9，如從圖1a和圖1b可以看出的。因此，整個第一密封面10在圖中指向上。
[0130]閉合構件的第二密封面11也具有各個形成部分12aM2bM4aM4bM7a\17b』，各個形成部分均不平行於調整軸線6並且對應於第一密封面10的部分12a、12b、14a、14b、17a、17b，如圖2a至圖2e所示。第二密封面11的所述部分12a』、12b』、14a』、14b』、17a』、17b』的表面法線也具有均平行於調整軸線6的方向分量，使得第二密封面11豎直地或傾斜地指向調整軸線6的打開方向9。因此第二密封面11在所示的示例性實施方式中指向下。
[0131]第一密封面10沿著其擴展部由第一主要部分12a、第一彎曲部分17a、第一 U形側部14a、第二彎曲部分17b、第二主要部分12b、另一第二彎曲部分17b、第二 U形側部14b和另一彎曲部分17a組裝而成，其中，第一 U形側部14a繼而包括第一腿15a、基部15c和第二腿15b,第二 U形側部14b繼而包括第二腿15b、基部15c和第一腿15a,並且另一第一彎曲部分17a繼而連接到第一主要部分12a的另一端，如圖1a所示。
[0132]對應於第一密封面10，閉合構件5的第二密封面11也沿著其擴展部由第一主要部分12a』、第一彎曲部分17a』、第一 U形側部14a』、第二彎曲部分17b』、第二主要部分12b』、另一第二彎曲部分17b』、第二 U形側部14b』和另一第一彎曲部分17a』組裝而成，其中第一U形側部14a』繼而包括第一腿15a』、基部15c』以及第二腿15b』，第二 U形側部14b』繼而包括第二腿15b』、基部15c』和第一腿15a』，並且另一第一彎曲部分17a』連接到第一主要部分12a』的另一端，如圖2a至圖2e所示。由於這些部分彼此對應，因此在下文中僅部分地更精確地說明第一密封面10的那些部分。[0133]第一密封面10的第一主要部分12a和第二密封面11的第一主要部分12a』基本上沿著幾何平坦的第一主面13a』延伸，如圖1b或圖2c和圖2e所示。第一密封面10的第二主要部分12b和第二密封面11的第二主要部分12b』也基本上沿著幾何平坦的第二主面13b』延伸。第一主面13a』和第二主面13b』彼此平行並且彼此距一定間隔定位。第一主面13a』和第二主面13b』平行於平坦的閉合構件面7延伸。第一主要部分12a或12a』和相對的第二主要部分12b或12b』相對於彼此具有相對於調整軸線6在橫向上的幾何偏移，如圖1a和圖1b或圖2a、圖2c、圖2d和圖2e所示。開口 3如圖1所示位於第一密封面10的兩個相對的主要部分12a和12b之間，並且閉合構件5的閉合面19如圖2c和圖2d所示位於第二密封面11的兩個相對的主要部分12a』和12b』之間。
[0134]第一密封面10的側向第一 U形側部14a或第二密封面11的側向第一 U形側部14a』在相應的密封面10或11的一側連接第一主要部分12a或12a』和第二主要部分12b或12b』，而第一密封面10的側向第二 U形側部14b或第二密封面11的側向第二 U形側部14b』在相應的密封面10或11的一側連接第一主要部分12a或12a』與第二主要部分12b或 12b，。
[0135]第一 U形側部14a或14a』和第二 U形側部14b或14b』均具有:與第一主要部分12a或12a』相關聯的第一腿15a或15a』 ;與第二主要部分12b或12b』相關聯的第二腿15b或15b』 ；以及被實現為弓形的基部15c或15c』。兩個第一腿15a或15a』在相應的密封面的一側和另一側均基本上沿著第一腿平面16a延伸，該第一腿平面16a平行於調整軸線6定位。兩個第一腿平面16a中的一個在圖2e中以虛線的形式示出。
[0136]兩個第二腿15b或15b』也基本上沿著第二腿平面16b延伸，該第二腿平面16b平行於調整軸線6延伸，如也圖2e所示的。如在圖2e中可以看出的，第一 U形側部14a或14a』和第二 U形側部14b或14b』的第一腿平面16a和第二腿平面16b基本上彼此平行地延伸。第一腿15a或15a』和第二腿15b或15b』因此相對於彼此具有相對於調整軸線6在橫向上的幾何偏移。各弓形基部15c或15c』均將第一腿15a或15a』和第二腿15b或15b』連接在一起並且橋接相對於調整軸線6在橫向上的幾何偏移。
[0137]第一密封面10或第二密封面11的第一彎曲部分17a或17a』均布置於第一主要部分12a或12a』與兩個第一腿15a或15a』之間。在第一主要部分12a或12a』中沿著第一主面13a』延伸的第一密封面10或第二密封面11均會聚到第一彎曲部分17a或17a』中，從第一主要部分12a或12a』到各的第一彎曲部分17a或17a』的各過渡均在第一主面13a』的幾何第一切向平面13a中實現於第一主要部分12a或12a』的兩端處。兩個第一腿平面16a均相對於相應的第一切向平面成至少15度的角，即在所示的示例性實施方式中呈70度的角，如尤其在圖2a和圖2e中示出的。在所述各第一彎曲部分17a或17a』(在所示的示例性實施方式中為弓形)中，沿著第一主面13a』在第一主要部分12a或12a』中延伸的密封面10或11從第一主面13a』藉助幾何彎曲以超過15度的角被引導出，即在所示的示例性實施方式中以所提到的70度的角引導出，並且會聚到第一腿平面16a中，如圖2e所示。第一密封面10或第二密封面11的第二彎曲部分17b或17b』也都布置於第二主要部分12b或12b』與兩個第二腿15b或15』之間。在第二主要部分12b或12b』中沿著第二主面13b』延伸的第一密封面10或第二密封面11均在第二主要部分12b或12b』的端部處會聚到第二彎曲部分17b或17b』中，從第二主要部分12b或12b』至各第二彎曲部分17b或17b』中的各過渡均實現於相對於第二主面13b』的幾何第二切向平面13b中。兩個第二腿平面16b均相對於相應的第二切向平面13b以超過15度傾斜，即以超過70度傾斜。在第二主要部分12b或12b』中沿著第二主面13b延伸的密封面10或11因此藉助幾何彎曲以所提到的70度的角從第二主面13b』被引導出，使得密封面10或11會聚到第二腿平面16b中。
[0138]圖2e以彎曲的角箭頭示出了相應的樞轉角。換言之，側部14a、14a』、14b、14b』均繞平行於調整軸線6延伸的幾何樞轉軸線均以大約70度朝向彼此向內樞轉，例如，如圖2a所示。
[0139]在圖1a至圖2e、圖3a至圖3e和圖4a至圖5e所示的示例性實施方式中，第一主面13a』、第二主面13b』和閉合構件面7由三個平行平面形成，因此，兩個第一切向平面13a與第一主面13a』重合併且兩個第二切向平面13b與第二主面13b』重合，如圖lb、圖2c和圖2e所示。但本發明的變型設置為第一主面13a』、第二主面13b』和閉合構件面7至少在一部分中繞基本上平行於調整軸線6的彎曲軸線21彎曲，如圖2f和圖2g中以閉合構件的俯視圖示出的。與之前的示例性實施方式不同，此處切向平面13a或13b和相關聯的主面13a』或13b』並非一個位於另一個之上，這是因為主面13a』或13b』並非平面的而是在一部分中繞彎曲軸線21彎曲的側向圓柱形表面部分，如圖2f和圖2g所示的。在所示的兩個變型中，開口軸線4和彎曲軸線21以90度的相交角相交。此外，開口軸線4和調整軸線6以90度的相交角相交，調整軸線6和彎曲軸線21彼此平行地延伸。在圖2f中所示的變型中，腿15a』和15b』樞轉到以下一側，即:主面13a』和13b』被向這一側彎曲並且彎曲軸線21定位在這一側。但是，在圖2g所示的變型中，腿15a』和15b』樞轉到以下一側，即:這一側與主面13a』和13b』被彎曲到的並且定位彎曲軸線21所在的那一側相反。第二密封面11從第一主要部分12a』到從第一主面13a』出來第一彎曲部分17a中的過渡均實現在第一切向平面13a中，而第二密封面11從第二主要部分12b』到從第二主面13b』出來的第二彎曲部分17b中的過渡均出現在第二切向平面13b中，如圖2f所示。在本示例中，從兩個第一切向平面的相交角和兩個第二切向平面的相交角產生彎曲角。在本情況下，所述兩個相交角相同並且為90度。但是，相交角也可以為不同的大小。在圖2f和圖2g中所示的變型的其餘特徵(尤其是第一 U形側部14a』和第二 U形側部14b』的特徵)對應於前面的示例性實施方式中的那些特徵因此無需單獨地說明。結合圖2f和圖2g所示的閉合構件5的第二密封面11的特徵對應於閥外殼2的第一密封面10的特徵，閥外殼2的第一密封面10的特徵與第二密封面11相對應並且可相對應地轉換，因此省略了對所述相對應的特徵的單獨說明。
[0140]所示的變型的共同點在於第一主要部分12a、12a』和第二主要部分12b和12b』相對於彼此不僅均具有由U形側部14a、14a』、14b和14b』(在特殊情況下由基部15c或15c』)橋接的相對於調整軸線6在橫向上的幾何偏移，而且還均具有在平行於調整軸線6的方向上的幾何偏移。開口 3或閉合面19在此區域中延伸。在下文中描述所述區域的橋接。
[0141]在根據圖1a至圖2e、圖3a至圖3e和圖4a至圖5e的示例性實施方式的情況下，第一主要部分12a或12a』以直線方式延伸，並且在根據圖2f和圖2g的變型的情況下，其在調整軸線6形成表面法線所在的第一水平面18a上以彎曲方式延伸，如圖1b或圖2c所示。在根據圖1a至圖2e、圖3a至圖3e和圖4a至圖5e的示例性實施方式的情況下,第一主要部分12b或12b』也以直線延伸，並且在根據圖2f和圖2g的變型的情況下，其在調整軸線6也形成表面法線所在的第二水平面18b上以彎曲方式延伸。第一水平面18a和第二水平面18b彼此平行並且彼此間隔開，如圖1b或圖2c。兩個第一腿15a或15a』、兩個第二腿15b或15b』和兩個基部15c或15c』在第一水平面18a與第二水平面18b之間延伸。被實現為弓形的兩個基部15c或15c』位於共同的第三水平面18c上，該第三水平面18c在第一水平面18a與第二水平面18b之間在中央延伸。調整軸線6也形成第三水平面18c的表面法線。三個水平面18a、18b和Ic平行。
[0142]兩個第一彎曲部分17a或17a』也位於第一水平面18a上。此外，兩個第二彎曲部分17b或17b』在第二水平面18b上延伸，如圖1a和圖1b或圖2c和圖2d所示的。因此，在第一不例性實施方式中，除了腿15a和15b或者15a』和15b』之外,密封面10或11的所有部分都在水平面18a、18b和18c上延伸並且不能橋接在平行於調整軸線6的方向上的偏移。因此，兩個第一腿15a或15a』和兩個第二腿15b或15b』在調整軸線6的方向上傾斜地延伸並且因此橋接第一水平面18a與第二水平面18b之間的間隔，如可從圖1a和圖1b或圖2b和圖2d看出的。關於在密封件上的負荷，所述橋接在平行於調整軸線6的方向上特別關鍵，這是因為密封件當在閉合位置C被壓在所述部分中而不是在水平面18a、18b和18c中延伸的所有其它部分中時不僅豎直地被加載，而且當擠壓密封件時也在縱向上被加載。當然在縱向上的負荷不像橫向方向上的負荷那樣關鍵，在橫向上的負荷在本發明中所要求保護的密封件幾何形狀的情況下下可以完全避免，但應避免過量的縱向負荷。因此橋接角不應太陡。由於傾斜的側部，因此所述角度在調整軸線6的方向上可相對較小，如圖1b和圖2c所示。因此，所述過渡區域的縱向延伸部確實變大，但這對於真空閥的寬度僅具有微小的作用，如也在圖2a中所示的，因為過渡區域特別地由於樞轉入的側部而在平行於開口軸線4的方向上延伸。因此，真空閥I和閉合構件5變得略微更深，但相對於開口寬度b更窄。由於深度增加的密封件幾何形狀，實現了真空閥I及其閉合構件5的剛性的增加。
[0143]雖然在第一示例性實施方式的情況下彎曲部分17a、17a』、17b和17b』和基部15c和15c』位於水平面18a、18b或18c上，因此並不平行於調整軸線6延伸並且不在平行於調整軸線6的方向上橋接主要部分12a和12b或12a』和12b』之間的間隔，但在根據圖4a至圖5e的第二示例性實施方式中，所述部分也在平行於調整軸線6的方向上延伸。如在圖4a和圖4b或者圖5c和圖5d中所示的，兩個基部15c通過均實現為基本上平行於調整軸線6延伸的螺旋的區段而部分地橋接第一水平面18a與第二水平面18b之間的間隔。基部15c或15c』會聚到腿15a、15a』、15b或15b』中，這些腿被實現為略微旋轉且扭轉的直線，如圖5e。第一腿15a或15a』會聚到在第一水平面18a與第三水平面18c之間延伸的兩個第一彎曲部分17a或17a』中，而第二腿15b或15b』會聚到在第二水平面18b與第三水平面18c之間延伸的兩個第二彎曲部分17b或17b』中，如圖4b和圖5c所示的。兩個第一彎曲部分17a或17a』和兩個第二彎曲部分17b或17b』均被實現為基本上平行於調整軸線6延伸的螺旋的區段，如圖4a、圖4b、圖5a、圖5b、圖5c、圖5d和圖5e所示。因此，兩個第一彎曲部分17a或17a』和兩個第二彎曲部分17b或17b』部分地橋接第一水平面18a與第二水平面18b之間以及第一主要部分12a或12a』與第二主要部分12b或12b』之間的間隔。第二示例性實施方式的其餘特徵基本上對應於第一示例性實施方式的那些特徵，因此參考上文做出的相對應的陳述。
[0144]圖6a至圖7e示出了如本發明的第一方面中所要求保護的、進一步改進的來自圖4a至圖5e的第二示例性實施方式的變型。在下文中僅部分地詳細描述與之前的示例性實施方式不同的特徵。
[0145]根據圖6a至圖7e的真空閥I也如之前的示例性實施方式那樣具有閥外殼2，該閥外殼2具有用於流動路徑F的開口 3和幾何開口軸線4。閉合構件5能夠在閉合構件面7中沿著相對於開口軸線4在橫向上延伸的幾何調整軸線6以線性方式在閉合方向8上從打開位置O移位到閉合位置C，在打開位置0，該閉合構件釋放開口 3，參照圖4a，在閉合位置C，該閉合構件被線性地推到開口 3上並且可以在打開方向9上反嚮往回移位。閥外殼2具有包圍開口 3的至少部分地彎曲的第一密封面10。與第一密封面10對應並且具有與第一密封面10對應的形式的第二密封面11以硫化彈性密封件的形式布置在閉合構件5上，如在圖6a至圖7e中所示的。第一密封面10由各個形成部分組裝而成，所述各個形成部分均不平行於調整軸線6並且豎直或傾斜地指向打開方向9。在閉合位置C，第二密封面11與第一密封面10密封接觸，在閉合方向8上壓到第一密封面10上，如圖6a至圖6f所示。閉合構件5因此以氣密方式閉合開口 3。
[0146]與來自圖6a至圖7e的變型的共同點在於閥外殼2具有第一傾斜面22，第一傾斜面22在開口 3與第一密封面10之間的框形區域中以類似框架的方式包圍開口 3。閉合構件5具有第二傾斜面23，第二傾斜面23平行於第一傾斜面22延伸，與第一傾斜面22對應並且具有與第一傾斜面22對應的形式。第一傾斜面22和第二傾斜面23均相對於閉合構件面7以傾斜角24傾斜，使得第一傾斜面22傾斜地指向打開方向9並且第二傾斜面23傾斜地指向閉合方向8。第一傾斜面22和第二傾斜面23在它們的幾何延伸部中被幾何調整軸線6以傾斜角24相交，其幾何延伸部以虛線示出。由於平行傾斜面22和23之間的較小的間隔，因此閉合構件面7由第一傾斜面22和第二傾斜面23在相交線28處相交，相交線28被示出為公共相交線28。所述相交線28彼此平行地延伸並且由於主面的平坦發展而為幾何直線。但是，尤其如圖2f和圖2g中所示的，主面也可以為彎曲面，並且因此在所示的示例性實施方式中為幾何平面的傾斜面22和23也可以由彎曲面形成，在後一種情況下，相交線28為曲線。
[0147]在所示的示例性實施方式中，傾斜角24大約為5度。在根據圖6a至圖7e的變型中，第一傾斜面22和第二傾斜面23相對於彼此定位成，在閉合構件5的閉合位置C，第二傾斜面23布置在與第一傾斜面22相對的平行位置，傾斜面22與23之間相對於彼此的間隔V在根據圖6a的變型中大於0.05mm,但小於0.6mm,而在根據圖6b至圖6f的變型的情況下，間隔V等於O使得兩個傾斜面彼此觸碰。
[0148]在根據圖6a的變型中，第一傾斜面22和第二傾斜面23被實現為非彈性的金屬面。在閉合構件5的閉合位置C，間隔V在0.05mm至0.6mm之間，如圖6a所示，使得在傾斜面22與23之間並不存在接觸並且避免了摩擦粒子的生成。由於在閉合位置C傾斜面22與23之間的較小間隔V，因此所述較小間隙充當屏障並且防止侵蝕性介質從開口 4的區域直接接觸密封面10或11。
[0149]此外，為了防止介質滲透到密封面10和11，在根據圖6a至圖6f的所有變型的情況下，閥外殼2與閉合構件5在第一傾斜面22與第一密封面10之間的區域中具有凹部27，該凹部27包圍第一傾斜面22並且被布置和擴展為使得閥外殼2與閉合構件5之間的間隔z在凹部27的區域中為至少0.8_，特別地在0.8mm與6mm之間。由於在介質滲透到傾斜面22與23之間的間隙內的情況下所形成的湍流，因此進一步減小介質對第二密封件11的影響。
[0150]圖6c示出了具有高頻保護屏蔽件的實施方式。第一傾斜面22被實現為導電金屬面，該導電金屬面與閥外殼I在電勢方面稱合。第二傾斜面23閉合,導電保護屏蔽件23a在閉合位置C完全覆蓋開口 3並且在開口 3的周圍電連接到第一傾斜面22以用於保護屏蔽件23a與閥外殼I的電勢耦合，如圖6c所示。為了產生這種電接觸，在閉合位置C的間隔V等於O而使得在第一傾斜面22與第二傾斜面23之間存在電接觸。
[0151]在根據圖6b、圖6d和圖6e的變型的情況下，第二傾斜面23均由附加的彈性密封件25a、25b或25c形成，而在根據圖6f的變型的情況下，第一傾斜面22由附加的彈性密封件25a形成。在閉合構件5的閉合位置C的間隔V均等於O使得附加的彈性密封件25a、25b或25c以密封的方式觸碰分別相對的傾斜面22或23。因此，第一密封面10和第二密封面11與存在於開口 3的區域中的介質大範圍地隔離。來自圖6b或圖6f的附加的彈性密封件25a由布置於凹槽26中、具有圓形截面的O形環25a形成，而來自圖6d的O形環25b的截面為腎形並且自圖6e的O形環25c的截面為X形。作為其另選方式，附加的彈性密封件25a、25b、25c可以由硫化於閥外殼2上和/或閉合構件5上的密封件形成。
[0152]顯然，能將本發明的兩個方面與個別示例性實施方式的個別具體特徵組合在一起。此外，能組合第二示例性實施方式的特徵與第一示例性實施方式的和其彎曲基本截面的兩個變型的那些特徵，並且反之亦然，並且例如，將基部中的僅一個或多個和/或第一彎曲部分中的一個或多個實現為橋接部，特別地呈螺旋的區段的形式。作為彎曲或螺旋幾何形狀的替代，本發明也包括在功能上與所描述的幾何形狀相同的其它二維或二維延伸的幾何形狀。此外，能組合所述組合與傾斜面的變型的特徵。
【權利要求】
1.一種用於通過線性移動以氣密方式閉合流動路徑(F)的真空閥(1)，所述真空閥包括: ?閥外殼(2)，所述閥外殼具有用於所述流動路徑(F)的開口(3)，其中所述開口(3)具有沿著所述流動路徑(F)的幾何開口軸線(4)； ?閉合構件(5)，所述閉合構件能夠在閉合構件面(7)中沿著幾何調整軸線(6)以線性方式在閉合方向(8)上從打開位置(O)移位到閉合位置(C)，所述幾何調整軸線相對於所述開口軸線(4)在橫向上延伸，其中 □在所述打開位置(0)，所述閉合構件釋放所述開口(3)， □在所述閉合位置(C)，所述閉合構件被線性地推動到所述開口(3)上並且能夠在打開方向(9)上反嚮往回移位； ?所述閥外殼(2)的第一密封面(10)，所述第一密封面包圍所述開口(3)並且至少被部分地彎曲；以及 ?所述閉合構件(5)的第二密封面(11)，所述第二密封面與所述第一密封面(10)對應並且具有與所述第一密封面(10)對應的形式，其中， ?所述第一密封面(10)由各個形成部分(12a，12b, 14a, 14b, 17a, 17b)組裝而成，這些部分均不平行於所述調整軸線(6)，
?所述第一密封面(10)的這些部分(12a，12b, 14a, 14b, 17a, 17b)的表面法線均具有平行於所述調整軸線(6)的方向分量並且因此所述第一密封面(10)豎直地或傾斜地指向所述打開方向(9)，?所述第一密封面(10)的第一主要部分(12a)基本上沿著幾何第一主面(13a』)延伸，?所述第一密封面(10)的第二主要部分(12b)基本上沿著幾何第二主面(13b』)延伸，?所述第一主面(13a』 )和所述第二主面(13b』 )平行於所述調整軸線(6)延伸，彼此間隔開，並且基本上平行於所述閉合構件面(7)延伸，並且因此所述第一主要部分(12a)和相對的所述第二主要部分(12b)相對於彼此具有相對於所述調整軸線(6)在橫向上的幾何偏移， ?所述開口(3)被布置在兩個相對的所述第一主要部分(12a)和所述第二主要部分(12b)之間， ?所述第一密封面(10)的側向第一 U形側部(14a)在所述第一密封面(10)的一側連接所述第一主要部分(12a)與所述第二主要部分(12b)， ?所述第一密封面(10)的側向第二 U形側部(14b)在所述第一密封面(10)的另一側連接連接所述第一主要部分(12a)與所述第二主要部分(12b)， ?所述第一 U形側部(14a)和所述第二 U形側部(14b)均具有:與所述第一主要部分(12a)相關聯的第一腿(15a);與所述第二主要部分(12b)相關聯的第二腿(15b);以及尤其實現為曲線的基部(15c)， ?所述第一腿(15a)和所述第二腿(15b)相對於彼此具有相對於所述調整軸線(6)在橫向上的幾何偏移， ?各所述基部(15c)均連接所述第一腿(15a)和所述第二腿(15b)，並且橋接相對於所述調整軸線(6)在橫向上的所述幾何偏移；並且 ?在所述閉合位置(C)，所述第二密封面(11)與所述第一密封面(10)密封接觸並且在所述閉合方向(8)上壓到所述第一密封面(10)上，並且所述閉合構件(5)以氣密方式閉合所述開口(3)， 其特徵在於， ?所述閥外殼(2)具有第一傾斜面(22)，所述第一傾斜面(22)在所述開口(3)與所述第一密封面(10)之間的區域中包圍所述開口(3)， ?所述閉合構件(5)具有第二傾斜面(23)，所述第二傾斜面(23)平行於所述第一傾斜面(22)延伸，與所述第一傾斜面(22)對應，並且具有與所述第一傾斜面(22)對應的形式， ?所述第一傾斜面(22)和所述第二傾斜面(23)均相對於所述閉合構件面(7)以一傾斜角(24)傾斜，使得所述第一傾斜面(22)傾斜地指向所述打開方向(9)，並且使得所述第一傾斜面(22)和所述第二傾斜面(23)在它們的幾何延伸部中被所述幾何調整軸線(6)以所述傾斜角(24)相交， ?所述傾斜角(24)在3度至15度之間，並且 ?所述第一傾斜面(22)和所述第二傾斜面(23)相對於彼此定位成:在所述閉合構件(5)的所述閉合位置(C)，所述第二傾斜面(23)被布置在與所述第一傾斜面(22)相對的平行位置，其中所述第二傾斜面(23)與所述第一傾斜面(22)之間的間隔(V)在O至0.6mm之間。
2.根據權利要求1所述的真空閥(1)， 其特徵在於， ?所述第一傾斜面(22)和所述第二傾斜面(23)以非彈性的方式實現，並且?在所述閉合構件(5)的所述閉合位置(C)中，所述間隔(V)在0.05mm至0.6mm之間，尤其在0.05mm至0.3mm之間。
3.根據權利要求2所述的真空閥(1)， 其特徵在於， 所述第一傾斜面(22)和所述第二傾斜面(23)被實現為金屬面。
4.根據權利要求1所述的真空閥(1)， 其特徵在於， ?所述第一傾斜面(22)被實現為導電金屬面，所述導電金屬面與所述閥外殼(I)在電勢方面耦合， ?所述第二傾斜面(23)被實現為閉合的導電保護屏蔽件(23a)，所述保護屏蔽件(23a)在所述閉合位置(C)完全覆蓋所述開口(3)並且在所述開口(3)周圍電連接到所述第一傾斜面(22)，以用於所述保護屏蔽件(23a)與所述閥外殼(I)的電勢耦合，以及?在所述閉合位置(C)中，所述間隔(V)等於O以產生電接觸。
5.根據權利要求1所述的真空閥(1)， 其特徵在於， ?所述第一傾斜面(22)和/或所述第二傾斜面(23)由附加的彈性密封件(25a; 25b; 2 5c)形成；並且 ?在所述閉合構件(5)的所述閉合位置(C)中，所述間隔(V)等於O。
6.根據權利要求5所述的真空閥(1)， 其特徵在於，所述附加的彈性密封件(25a;25b;25c)由布置於凹槽(26)中的O形環形成，所述O形環尤其具有圓形截面(25a)、腎形截面(25b)或X形截面(25c)。
7.根據權利要求5所述的真空閥(1)，其特徵在於， 所述附加的彈性密封件(25a，25b;25c)由在所述閥外殼(2)上和/或所述閉合構件(5)上硫化的密封件形成。
8.根據權利要求1至7中任一項所述的真空閥(1)， 其特徵在於， 所述閥外殼(2)和/或所述閉合構件(5)在所述第一傾斜面(22)與所述第一密封面(10)之間的區域中具有凹部(27)，所述凹部(27)包圍所述第一傾斜面(22)並且被布置和擴展成使得在所述凹部(27)的區域中，在所述閥外殼(2)與所述閉合構件(5)之間的所述間隔(z)至少為0.8mm,尤其在0.8mm至6mm之間。
9.根據權利要求1至8中任一項所述的真空閥(1)， 其特徵在於， ?兩個所述第一腿(15a)均基本上沿著平行於所述調整軸線(6)的第一腿平面(16a)延伸， ?兩個所述第二腿(15b)基本上沿著平行於所述調整軸線(6)的第二腿平面(16b)延伸， ?所述第一主面(13a』)、所述第二主面(13b』)、所述閉合構件面(7)、所述第一傾斜面(22)和所述第二傾斜面(23)均由幾何平面形成；並且 ?所述第一腿平面(16a)位於所述第一主面(13a』 )的幾何平面上，並且所述第二腿平面(16b)位於所述第二主面(13b』 )的幾何平面上。
10.根據權利要求1至8中任一項所述的真空閥(1)， 其特徵在於， ?兩個所述第一腿(15a)均基本上沿著平行於所述調整軸線(6)的第一腿平面(16a)延伸， ?所述第一密封面(10)的第一彎曲部分(17a)布置於所述第一主要部分(12a)與兩個所述第一腿(15a)之間， ?在所述第一主要部分(12a)中沿著所述第一主面(13a』)延伸的所述第一密封面(10)均會聚到所述第一彎曲部分(17a)中，其中從所述第一主要部分(12a)到各所述第一彎曲部分(17a)中的各過渡均實現於所述第一主面(13a』 )的幾何第一切向平面(13a)中， ?兩個所述第一腿平面(16a)均相對於各所述第一切向平面(13a)成至少15度的角，並且 ?在所述第一主要部分(12a)中沿著所述第一主面(13a』)延伸的所述第一密封面(10)在所述第一彎曲部分(17a)中以至少15度尤其以幾何彎曲從所述第一主面(13a』 )引導出，並且會聚到所述第一腿平面(16a)中，並且 ?尤其是，所述第一主面(13a』)、所述第二主面(13b』 )和所述閉合構件面(7)至少在一部分中繞彎曲軸線(21)彎曲，所述彎曲軸線(21)尤其基本上平行於所述調整軸線(6)。
11.一種用於通過線性移動以氣密方式閉合流動路徑(F)的閉合構件(5)，所述閉合構件尤其用於根據權利要求1至10中任一項所述的真空閥，所述閉合構件包括?位於閉合構件面(7)中的幾何調整軸線(6);以及 ?第二密封面(11)， 其中， ?所述第二密封面(10)由各個形成部分(12a』，12b』，14a』，14b』，17a』，17b』 )組裝而成，這些部分均不平行於所述調整軸線(6 )， ?所述第二密封面(11)的這些部分(12a』，12b』，14a』，14b』，17a』，17b』 )的表面法線均具有平行於所述調整軸線(6)的方向分量，並且因此，所述第二密封面(11)豎直地或傾斜地指向所述調整軸線(6)的打開方向(9)， ?所述第二密封面(11)的第一主要部分(12a』)基本上沿著幾何第一主面(13a』)延伸，?所述第二密封面(11)的第二主要部分(12b』)基本上沿著幾何第二面(13b』 )延伸，?所述第一主面(13a』 )和所述第二主面(13b』 )平行於所述調整軸線(6)延伸，彼此間隔開，並且基本上平行於所述閉合構件面(7)延伸，並且因此，所述第一主要部分(12a』)和相對的所述第二主要部分(12b』)相對於彼此具有相對於所述調整軸線(6)在橫向上的幾何偏移， ?所述第二密封面(11)的側向第一 U形側部(14a』)在所述第二密封面(11)的一側連接所述第一主要部分(12a』 )與所述第二主要部分(12b』)， ?所述第二密封面(11)的側向第二 U形側部(14b』)在所述第二密封面(11)的另一側連接所述第一主要部分(12a』 )與所述第二主要部分(12b』)， ?所述第一 U形側部(14a』 )和所述第二 U形側部(14b』)均具有:與所述第一主要部分(12a』 )相關聯的第一腿(15a』);與所述第二主要部分(12b』)相關聯的第二腿(15b』)；以及基部(15c』)，` ?所述第一腿(15a』)和所述第二腿(15b』)相對於彼此具有相對於所述調整軸線(6)在橫向上的幾何偏移， ?各所述基部(15c』)均連接所述第一腿(15a』 )與所述第二腿(15b』)，並且橋接相對於所述調整軸線(6 )在橫向上的所述幾何偏移，並且 ?藉助所述第二密封面(11)，在所述閉合構件(5)的閉合位置(C)，在所述調整軸線(6)的閉合方向(10)上將所述第二密封面(11)線性地壓到所述第一密封面(10)上，因而能產生與真空閥(I)的第一密封面(10)的密封接觸，從而以氣密的方式閉合所述真空閥(I)的開口(3)， 其特徵在於， ?所述閉合構件(5)的第二傾斜面(23)布置在位於所述第二密封面(11)的這些部分(12a，，12b』，14a』，14b』，17a』，17b』 )之間的區域中， ?所述第二傾斜面(23)相對於所述閉合構件面(7)以一傾斜角(24)傾斜，使得所述第一傾斜面(22)傾斜地指向與所述閉合方向(8)相反的所述打開方向(9)，並且使得所述第一傾斜面(22)在其幾何延伸部中被所述幾何調整軸線(6)以所述傾斜角(24)相交， ?所述傾斜角(24)在3度至15度之間，並且 ?所述第二傾斜面(23)被實現為在所述閉合構件(5)的所述閉合位置(C)，所述第二傾斜面(23)能夠移動到與第一傾斜面(22)相對的平行位置，所述第一傾斜面(22)包圍所述開口( 3 )並且布置在所述開口( 3 )與所述第一密封面(10 )之間的區域中。
12.根據權利要求11所述的閉合構件(5)， 其特徵在於， 所述第二傾斜面(23)被實現為閉合的導電保護屏蔽件(23a)，在所述閉合位置(C)，藉助所述保護屏蔽件(23a)，所述開口(3)能夠被完全覆蓋。
13.根據權利要求11所述的閉合構件(5)， 其特徵在於， 所述第二傾斜面(23)由附加的彈性密封件(25a;25b;25c)形成，所述附加的彈性密封件(25a; 25b; 25c)尤其由下列部件形成: ?布置於凹槽(26)中的O形環，所述O形環尤其具有圓形截面(25a)、腎形截面(25b)或X形截面(25c);或者 ?在所述閉合構件(5)上硫化的密封件。
14.根據權利要求11至13中任一項所述的閉合構件(5)， 其特徵在於， ?兩個所述第一腿(15a』)均基本上沿著平行於所述調整軸線(6)的第一腿平面(16a)延伸， ?兩個所述第二腿(15b』)基本上沿著平行於所述調整軸線(6)的第二腿平面(16b)延伸， ?所述第一主面(13a』)、所述第二主面(13b』)、所述閉合構件面(7)、所述第一傾斜面(22)和所述第二傾斜面(23)均由幾何平面形成，並且 ?所述第一腿平面(16a)位於所述第一主面(13a』 )的幾何平面上，並且所述第二腿平面(16b)位於所述第二主面(13b』 )的幾何平面上。
15. 根據權利要求11至13中任一項所述的閉合構件(5)， 其特徵在於， ?所述兩個第一腿(15a』)均基本上沿著平行於所述調整軸線(6)的第一腿平面(16a)延伸， ?所述第二密封面(11)的第一彎曲部分(17a』 )布置於所述第一主要部分(12a』 )與兩個所述第一腿(15a』)之間， ?在所述第一主要部分(12a』)中沿著所述第一主面(13a』 )延伸的所述第二密封面(11)均會聚到所述第一彎曲部分(17a』 )中，其中從所述第一主要部分(12a』 )到各所述第一彎曲部分(17a』)中的各過渡均實現在所述第一主面(13a』)的幾何第一切向平面(13a)中， ?兩個所述第一腿平面(16a)均相對於相應的所述第一切向平面(13a)成至少15度的角，並且 ?在所述第一主要部分(12a』)中沿著所述第一主面(13a』 )延伸的所述第二密封面(11)在所述第一彎曲部分(17a』)中以至少15度尤其以幾何彎曲從所述第一主面(13a』)引導出，並且會聚到所述第一腿平面(16a)中，並且 ?尤其是，所述第一主面(13a』)、所述第二主面(13b』 )和所述閉合構件面(7)至少在一部分中繞彎曲軸線(21)彎曲，所述彎曲軸線(21)尤其基本上平行於所述調整軸線(6)。
【文檔編號】F16K3/314GK103732960SQ201280037757
【公開日】2014年4月16日 申請日期:2012年7月11日 優先權日:2011年7月28日
【發明者】弗裡德裡克·蓋澤, A·紐邁爾, B·杜埃裡, 託馬斯·布萊哈, K·祖默 申請人:Vat控股公司