接近型曝光裝置的製作方法
2023-10-11 13:41:14
專利名稱：接近型曝光裝置的製作方法
技術領域：
本發明涉及接近型曝光裝置，更具體地，涉及一種配備有支撐掩模臺的負載支撐單元和驅動掩模臺的引導單元的接近型曝光裝置，以及利用該接近型曝光裝置將掩模對準基板的方法。
背景技術：
在製造半導體器件或液晶顯示(LCD)器件的過程中，需要形成多個薄膜的工藝，並且通過通用的曝光技術來進行該薄膜形成工藝。這裡，曝光技術是以下技術通過具有預定圖案的掩模來照射紫外射線或X射線，以對應用在基板上的感光材料進行曝光，由此將預定圖像轉印在基板上。
對於LCD器件，在多種工藝(例如LCD器件的選通線、數據線、單位像素的構圖，以及濾色器基板的濾色器層的形成)中使用曝光技術。為此，由於需要將精確的圖像轉印在基板上，因此認為該技術是很重要的。
通常，可以將曝光裝置分類成能夠進行縮小和放大圖像轉印的投射型曝光裝置以及能夠通過使用水平和平行光線來以1∶1的比率進行圖像轉印的接近型曝光裝置。
投射型曝光裝置允許使用縮小的圖案進行曝光，其通常被用於製造諸如半導體器件的需要集成化的器件。當需要在大的面積上形成相同尺寸的圖案時(例如LCD器件)，利用大的掩模的接近型曝光裝置是可適用的。
接近型曝光裝置需要在基板上執行曝光，儘可能地接近基板，以將掩模圖案完全轉印在基板上。存在一種接觸型曝光裝置，其在掩模與基板完全接觸的狀態下執行曝光。然而，這種曝光裝置可能會因基板上的外物或者掩模與基板之間的接觸自身而對掩模造成破壞。因此，該接近型曝光裝置致力於使掩模臺與基板之間不發生接觸的情況下使掩模臺接近基板。
各接近型曝光裝置和投射型曝光裝置基本上包括產生曝光用光的照明光學系統；支撐具有預定圖案的掩模的掩模臺；其上安裝有其上轉印有掩模圖案的基板的基板支撐夾具(chuck)；以及配備有基板支撐夾具的支撐器。
而且，由於對於曝光裝置來說，將掩模的圖案精確地轉印到基板上是重要的，因此，提供了用於檢查掩模臺與基板的位置的多個對準相機，用來將掩模臺與基板對準。對準相機識別可能形成在基板支撐夾具或者基板上的對準鍵(alignment key)，從而將基板和掩模臺對準。
隨著LCD器件變得更大，掩模也變得更大並且支撐掩模的掩模臺也變得更大。將該掩模安裝在掩模臺下，使得該掩模能夠儘可能地接近基板，並且通過固定元件將掩模固定在掩模臺上。
以下將參照圖1來描述根據現有技術的具有上述部件的接近型曝光裝置。
參照圖1，接近型曝光裝置包括提供光的照明光學系統101；安裝在照明光學系統101下的掩模臺105，其支撐掩模110；支撐掩模臺105的四個角的支撐器120；形成在掩模臺105的下方並支撐基板114的x軸驅動板(plate)113以及y軸驅動板112；支撐x軸驅動板113和y軸驅動板112的夾具111，以及構成曝光設備的基座的底板150。
照明光學系統101用於通過產生諸如紫外射線或x射線的光，將掩模圖案轉印到基板114上。
掩模臺105包括與掩模110直接耦合的上板103，和支撐掩模臺的上板103並構成掩模板的基底的下板102。
掩模臺105支撐掩模110，將其上直接布置有掩模的上板103耦合在下板102的下方，以使得掩模110儘可能地接近基板114。而且，掩模臺的下板102和上板103在其中部是空的，以使得從照明光學系統101發射的光能夠通過掩模110，並且射到基板114上。
而且，通過杆狀掩模臺支撐器120支撐掩模臺105的四個角。
在掩模臺105的下方布置有基板114，並且安裝有用於移動基板114的x軸驅動板113和y軸驅動板112。
Y軸驅動板112安裝在支撐夾具111上，在支撐夾具111上沿y軸方向安裝有預定軌道，並且將y軸驅動板112耦合到該軌道，使得可以沿y軸方向移動基板。而且，在y軸驅動板112上還安裝有預定軌道，並且x軸驅動板113與該軌道耦合，使得可以沿x軸方向移動基板。
將基板114安裝在x軸驅動板113上，並且通過x軸驅動板113和y軸驅動板112的操作將其移動到確定的坐標處。由於該基板114通常比掩模大，所以在基板114移動時執行多個曝光工藝。在這種方式下，將掩模圖案轉印到整個基板114上。
對於曝光裝置來說，精確地對準掩模臺與基板是非常重要的，這是因為該裝置致力於將精細的圖案轉印到基板上。因此，為了精確地對準掩模臺與基板，在掩模臺上安裝了用於在基板與掩模臺之間進行對準的對準相機(未示出)，並且在基板上或者x軸驅動板上安裝了對準鍵。
對準相機通過檢查對準鍵來精確地對準基板和掩模臺。
然而，由於使用了x軸驅動板113和y軸驅動板112來移動基板，以對準基板和掩模臺，所以存在的限制是，掩模與基板沒有精確地對準，或者不能夠容易地精確地對準，由於掩模與基板應該以微米或更小的單位對準，因而這是一個問題。
發明內容
因此，本發明的目的在於提供了一種掩模對準設備，用於精確地對準接近型曝光裝置中的掩模與基板。
另一目的是提供一種掩模對準設備，其通過將掩模對準設備安裝為不受掩模臺的負載的影響，而不會因配有大的掩模臺的曝光裝置中的負載而導致缺陷調節。
本發明的另一目的是提供一種掩模對準設備及方法，其克服了與現有技術相關聯的局限和缺點。
為了實現這些和其他的優點，並且根據本發明的目的，如本文所具體實施和廣義描述的，根據本發明的一個方面，提供了一種曝光裝置，其包括掩模臺，其包括將掩模固定於其上的掩模固定臺和支撐該掩模固定臺的基臺；負載支撐單元，其將掩模固定臺的負載分散給基臺；引導單元，用於精確地驅動掩模固定臺；支撐器，其支撐所述所述掩模臺；基板，掩模圖案將轉印至其上；以及，驅動板，其移動所述基板。
根據本發明的一方面，掩模固定臺可以被安裝在基臺的中部，並且通過負載支撐單元與基臺相連。通過耦合件將各負載支撐單元的一側耦合到掩模固定臺，並且將其另一側與基臺相連，其中在負載支撐單元與基臺之間插入有滑動件，以使得掩模固定臺輕微地從基臺移動。
根據本發明的一個方面，將能夠輕微移動掩模固定臺的基臺引導單元安裝在掩模固定臺的四個邊的至少三個上，從而在a軸、y軸和θ軸方向輕微地移動掩模固定臺。
因此，在根據本發明的曝光裝置中，由於負載支撐單元承受了掩模固定臺的重量，因此即使掩模固定臺大並且較重，引導單元也能夠精確地移動掩模固定臺。因此，可以在需要在基板與掩模之間進行精確對準的曝光裝置中實現掩模的精確對準。
根據本發明的一個方面，提供了一種曝光裝置，其包括掩模臺，其包括將掩模固定在其上的掩模固定臺，和支撐掩模固定臺的基臺；至少一個負載支撐單元，將掩模固定臺的負載分散到基臺上；至少一個引導單元，被構造成移動掩模固定臺；至少一個支撐器，支撐掩模臺；以及至少一個驅動板，被構造成移動將在其上轉印掩模的圖案的基板。
根據本發明的一個方面，提供了一種曝光裝置，其包括掩模臺，其包括被構造成固定地支撐掩模的掩模固定臺和支撐掩模固定臺的基臺；至少一個引導單元，被布置在基臺中，與掩模固定臺耦合，並且被構造成移動掩模固定臺，以在預定的方向上移動掩模。
根據本發明的一個方面，提供了一種利用曝光裝置使基板和掩模相對彼此對準的方法，該曝光裝置包括掩模固定臺，被構造成固定地支撐掩模；至少一個引導單元，被構造成移動掩模固定臺；至少一個基板驅動件，被構造成移動所述基板，該方法包括通過操作至少一個基板驅動件來粗略地移動基板，以將基板與掩模粗對準；通過操作所述至少一個引導單元精細地移動掩模固定臺，以將基板與掩模精細對準。
結合附圖，通過以下對本發明的詳細說明，將使本發明的上述和其他目的、特徵、方面和優點變得明確。
所包括的附圖用於提供對本發明的進一步理解，將附圖併入說明書中並且構成該說明書的一部分，附圖示出了本發明的實施例，並且和說明書一起用於解釋本發明的原理。
圖1是普通的接近型曝光裝置的前視圖；圖2是根據本發明實施例的接近型曝光裝置的掩模臺的立體圖；圖3是根據本發明的圖2的掩模臺的平面圖；圖4是示出了根據本發明實施例的引導單元和負載支撐單元的立體圖；以及圖5是示出了根據本發明的圖4中的引導單元的立體圖。
具體實施例方式
現在將具體說明本發明的優選實施例，其示例在附圖中示出。
將參照圖2來說明根據本發明的接近型曝光裝置的結構。
圖2是示出了根據本發明的接近型曝光裝置的掩模臺200和支撐該臺200的支撐器202的立體圖。
參照圖2，根據本發明的掩模臺200包括矩形基臺201，其構成掩模臺的基座；掩模固定臺204，其形成在基臺201的中部，固定具有預定圖案的掩模210；支撐器202，其與基臺201的邊緣相連，用於支撐基臺201；負載支撐單元206，承受掩模固定臺204的負載並且將掩模固定臺204與基臺201相連；以及，多個引導單元205a、205b以及205c，用於精確地移動掩模固定臺204。
掩模臺200、基臺201和掩模固定臺204通常具有矩形形狀，但是也可以採用其他的形狀。而且，在基臺201的四個角安裝有用於支撐掩模臺200的支撐器202。
支撐器202可以是分別形成在基臺201的四個角的四個柱，可以縱向延伸，以控制掩模臺200的高度。支撐器202與構成曝光裝置的底的底板相連。
基臺201在其中部區域具有空的空間，用於安裝掩模固定臺204，並且將掩模固定臺204安裝在該空的空間中。安裝在該空的空間處的掩模固定臺204還在其中間區域具有空的空間。將掩模210安裝在掩模固定臺204的空的空間處，從而接收從照明光學系統(例如圖1中的101)發射的光。對於基臺201和掩模固定臺204，可以代替中間區域，在其他位置形成空的空間。
由於將根據本發明實施例的曝光裝置設計為適合於曝光大的LCD板等，所以掩模應該大，以曝光大的LCD板。由此，固定掩模的掩模固定臺204也變大。如果大的掩模固定臺204由金屬材料形成，則其具有可以是以噸為單位的非常大的重量。因此，需要承受掩模固定臺204的重量並且將掩模固定臺204與基臺201相連的部件，並且為此根據本發明的實施例提供了負載支撐單元206。
至少一個負載支撐單元206形成在掩模固定臺204的四個邊的各個邊處，並且通過任意耦合件(例如圖4中的螺釘230)將其與掩模固定臺204相耦合。而且，利用其間(即基臺201與負載支撐單元206之間)的球軸承(ball bearing)，將負載支撐單元206的另一端連接到基臺201，使得負載支撐單元206能夠在基臺201上輕微地移動。即，軸承支撐單元與形成在基臺201上的球軸承直接接觸，並且能夠在球軸承上輕微地移動。稍後將詳細說明負載支撐單元206的結構。
曝光裝置的重要的技術結構是對掩模與要曝光的基板進行對準。結果，例如，在待曝光的基板或者在基板驅動板上設置有多個對準鍵，以將基板與固定在掩模臺上的掩模對準，並且在掩模臺上設置能夠檢測對準鍵的檢測相機。而且，由於通過支撐器將掩模臺固定在底板上，因此，需要用於移動基板以在掩模與基板之間進行對準的基板驅動系統。
作為用於支撐並且驅動基板的部件，除了引導單元205a到205c以外，本發明還提供了基板驅動板。將這些基板驅動板形成在掩模臺200的下方，且這些基板驅動板包括能夠沿x軸方向移動基板的x軸驅動板和能夠沿y軸方向驅動基板的y軸驅動板。這些x軸驅動板和y軸驅動板可以與現有技術的那些驅動板(例如圖1中的112和113)相同或相似。
將x軸驅動板和y軸驅動板中的一個耦合到形成在底板上的軌道上，以沿x軸或y軸方向進行移動。
而且，例如，如果將x軸驅動板形成在底板上，則將y軸驅動板形成在x軸驅動板上，以沿y軸方向移動基板。因此，可以通過操作x軸驅動板和y軸驅動板來將基板移動到預定位置。由於通常基板比掩模大，所以可以移動基板以將其全部曝光。
因此，本發明提供了引導單元205a到205c，其能夠在對掩模和基板進行對準時，與基板的移動(由基板驅動板控制該移動)相分開地非常精確地控制掩模的移動。
引導單元用於通過控制直接與掩模相耦合的掩模固定臺204的移動來提供對掩模的精確對準。
為了精確地對準掩模和基板，可沿x軸、y軸和9軸方向移動掩模。在本發明中，在掩模固定臺204的四個邊的至少三個邊處提供了至少三個引導單元205a、205b和205c，以沿x軸、y軸和/或θ軸方向移動掩模210。
引導單元205a、205b和205c用於移動掩模固定臺204，包括x軸驅動引導單元205a、y軸驅動引導單元205b和θ軸驅動引導單元205c。x軸驅動引導單元205a在x軸方向移動掩模固定臺204，y軸驅動引導單元205b沿y軸方向移動掩模固定臺204，而θ軸驅動引導單元205c通過與x軸驅動單元205a和y軸驅動單元205b相配合，使得掩模固定臺204沿θ軸方向(即繞z軸旋轉的方向)旋轉。
因此，在根據本發明的曝光裝置中，對掩模與基板進行對準的過程中，通過x軸驅動板和y軸驅動板(基板驅動板)來粗略地對準基板和掩模，然後還通過使用引導單元205a至205c來精確地或者精細地移動掩模固定臺，從而精確地對準掩模和基板。
這裡，使引導單元205a、205b和205c與掩模固定臺204之間分隔開預定的間隔(間隙)，使得其不受掩模固定臺204的負載的影響。這是因為，如果將引導單元205a至205c安裝在掩模固定臺204的正下方，則引導單元205a至205c會受到掩模固定臺204的大的負載的極大的影響，並因而變得難以精確地控制掩模固定臺204。將連接件(例如片簧(leaf spring))安裝在該間隙中，以將掩模固定臺204與對應的引導單元相連接。
因此，根據本發明的曝光裝置通過負載支撐單元206承受了掩模固定臺204的負載，由此支撐了掩模固定臺204。而且，通過球軸承或者其他的連接件將各負載支撐單元206與基臺201相連，以使得在引導單元206輕微地移動掩模固定臺204時，能夠在預定範圍內自由地移動掩模臺200。
現在將參照圖3來更加詳細地說明根據本發明實施例的掩模臺200的平面結構。
參照圖3，掩模臺200包括矩形掩模臺201，其構成了掩模臺的基座、安裝在基臺201的中部並且具有矩形形狀的掩模固定臺204。
在基臺201的中部是空的，使得可以將掩模固定臺204安裝於其中。將掩模固定臺204安裝在該空的空間中。如果使用掩模臺200來曝光大的LCD板，則掩模臺200會具有大的尺寸(例如達到寬度和長度接近幾米)，並且可能會非常重，並且由於掩模固定臺204由諸如鋁合金的金屬材料製成，所以其也具有非常大的重量，。
為了支撐重的掩模固定臺204，本發明特別地提供了一個或者更多個負載支撐單元206，其承受掩模固定臺204。
可以將負載支撐單元206分別地安裝在矩形掩模固定臺204的四個拐角處或者拐角區域，將掩模固定臺204與基臺201連接，並且將掩模固定臺204的負載分散給基臺201。負載支撐單元206可以採用其他的位置。
通過諸如螺釘等的固定件將負載支撐單元206的一邊與掩模固定臺204耦合，並且利用介於其間的球形軸承等將其另一邊連接到基臺201。即，由於在連接負載支撐單元206和基臺201的基臺201的上端處安裝有多個球形軸承，因此可以在特定範圍內在基臺201上移動負載支撐單元206，因而使掩模固定臺204(固定於負載支撐單元206)在預定範圍內在掩模臺200上移動。
可以在掩模固定臺204的四個角的各個角處形成一個負載支撐單元206，但是可以在掩模固定臺204的各個角或者其他位置安裝任意數量的負載支撐單元206。
作為驅動件，在基臺201上安裝有多個引導單元205，其移動矩形的掩模固定臺204。為了安裝各個引導單元205，對基臺201的上側的部分進行切除並且形成凹陷。即，將各個引導單元205安裝在基臺201的對應凹陷部分中，使得引導單元的上表面可以處於與掩模固定臺204的上表面相同的平面/水平上。
至少三個引導單元205可以分別地安裝在矩形掩模固定臺204的三個邊或者三個位置處，並且使得掩模固定臺204分別沿x軸、y軸和θ軸的方向精確地移動。即，對x軸引導單元205進行操作，以沿x軸方向在預定範圍內移動掩模固定臺204，對y軸引導單元205b進行操作，以沿y軸方向移動掩模固定臺204，並且對x軸、y軸和θ軸引導單元205a至205c同時進行操作，以沿θ軸方向移動掩模固定臺204。通過諸如片簧的連接件將引導單元205的動力傳輸單元連接到掩模固定臺204。
掩模固定臺204在其中部是空的。將具有預定圖案的諸如圖2中的210的掩模安裝在該空的空間中，並且通過從照明光學系統發射的光將掩模的圖案轉印在下方的基板上。
以下參照圖4更詳細地描述根據本發明實施例的引導單元205和負載支撐單元206的結構。
圖4是示出了根據本發明的安裝在掩模臺200上的引導單元205和負載支撐單元206的圖。
將負載支撐單元206安裝在掩模固定臺204的四個角處，並且在基臺201上與掩模固定臺204的四個邊的至少三個邊相對應地形成了移動掩模固定臺204的引導單元205。
如圖4所示，各負載支撐單元206通過諸如螺釘230的耦合件與掩模固定臺204相耦合，並且通過諸如球軸承220的掩模固定臺204的滑動件連接在基臺201上。
各引導單元205通過例如活塞運動來線性地傳輸動力，並且使得掩模固定臺204能夠沿x軸、y軸和/或θ軸方向移動。
各引導單元205的頭部構成了將動力傳輸給掩模固定臺204的動力傳輸單元，並且動力傳輸單元的上表面通過諸如片簧的連接件208，將引導單元205與掩模固定臺204相互連接。使用片簧作為連接件208的一個原因是，即使在移動掩模固定臺204時，片簧也能夠正確地傳輸引導單元205的動力。因此，為了正確地傳輸引導單元205的動力，優選地將動力傳輸單元的上端位於與掩模固定臺204的上表面相同的水平上。
現在將參照圖5更加詳細地說明根據本發明實施例的引導單元205的結構。
參照圖5，根據本發明的各引導單元205包括產生動力的諸如電機的動力產生單元301；支撐動力產生單元301的動力產生單元支撐器302；傳送動力產生單元301的動力的球螺紋單元304；支撐球螺紋的球螺紋支撐器303，以及將動力傳輸給掩模固定臺204的動力傳輸單元305。該球螺紋單元304可以包括接收動力的軸。
動力傳輸單元305包括引導軌道部310，提供動力傳輸單元的水平移動的路徑；滑動部分311，在引導軌道部分310上移動，以移動動力傳輸單元305；動力傳輸單元上板312，安裝在滑動部分311上；以及，連接件固定件313，對動力傳輸單元上板312中的連接掩模固定臺204與動力傳輸單元305的連接件208進行固定。
由此，通過球形絲網(ball screen)，使從動力產生單元301產生的動力前後移動，以移動動力傳輸單元305，並由此移動通過連接件連接到動力傳輸單元305的掩模固定臺204。
在矩形掩模固定臺204的四個邊的至少三個邊處形成有引導單元205，並且該引導單元205沿x軸和y軸方向移動掩模固定臺204。而且，由於對三個引導單元的操作進行了組合，所以可以使掩模固定臺204旋轉。
而且，在根據本發明的掩模臺下提供了用於沿x軸和y軸方向移動待構圖的基板的x軸驅動臺(板)和y軸驅動臺(板)。通過這些驅動臺，可以將基板移動到預定位置，並且通過經由掩模臺照射的光來使整個基板曝光。
在根據本發明的曝光裝置中，通過移動基板驅動臺(其移動基板)使基板初對準或者粗對準，然後，通過引導單元控制並且細微地或精細地移動掩模固定臺。結果，在掩模臺與基板之間進行了精確對準。
因此，能夠在需要高精度的曝光工藝中將基板與掩模臺精確地對準。而且，提供了支撐具有大的重量的掩模臺的負載支撐單元，以使得引導單元能夠精確移動。因此，能夠以有效的方式更精確地控制掩模與基板之間的對準。
如前所述，根據本發明的曝光裝置配備有能夠驅動掩模臺的引導單元，和承受掩模臺重量的負載支撐單元。由此，可以精確地對準掩模臺，因此可以使掩模與基板相對彼此精確地對準。
而且，由於提供了基板驅動板與驅動掩模臺的引導單元，因此可以無延遲地精確對準掩模臺與基板。
可以將該曝光裝置應用於需要通過掩模進行曝光，以進行構圖或者實現其他目的的任何基板或層。例如，該基板可以是諸如LCD器件中的顯示器件中的層。
由於可以在不脫離本發明的精神和實質特徵的情況下以各種方式實現本發明，因此，還應該理解上述實施例不限於上述說明的各種細節，除非特別指定，否則應該在如所附權利要求所限定的精神和範圍內進行廣義理解，因此，落入權利要求的範圍和邊界或者這種範圍或邊界的等同物內的所有改變和變型，將由所附權利要求所包括。
權利要求
1.一種曝光裝置，其包括掩模臺，其包括用於將掩模固定於其上的掩模固定臺和支撐該掩模固定臺的基臺；至少一個負載支撐單元，其將掩模固定臺的負載分散給基臺；至少一個引導單元，其被構造成移動掩模固定臺至少一個支撐器，其支撐掩模臺；以及至少一個驅動板，其被構造成移動其上將被轉印掩模的圖案的基板。
2.根據權利要求1所述的曝光裝置，其中所述掩模固定臺被安裝在基臺的中部區域中，並且通過所述至少一個負載支撐單元與基臺相連。
3.根據權利要求2所述的曝光裝置，其中所述各負載支撐單元的一個邊通過耦合件與所述掩模固定臺相耦合，並且各負載支撐單元的另一個邊與基臺相連接，並且其中所述曝光裝置還包括布置在各負載支撐單元與基臺之間的滑動件，以使得所述掩模固定臺輕微地從基臺移動。
4.根據權利要求1所述的曝光裝置，其中所述至少一個負載支撐單元涉及安裝在掩模固定臺拐角處的多個負載支撐單元。
5.根據權利要求1所述的曝光裝置，其中所述至少一個引導單元涉及安裝在掩模固定臺的至少三個邊處的多個引導單元，並且輕微地移動所述掩模固定臺。
6.根據權利要求5所述的曝光裝置，其中安裝在所述掩模固定臺的至少三個邊處的所述多個引導單元沿x軸、y軸和θ軸方向移動掩模固定板。
7.根據權利要求1所述的曝光裝置，其中通過連接件將所述至少一個引導單元的動力傳輸給掩模固定臺。
8.根據權利要求7所述的曝光裝置，其中所述連接件是片簧。
9.根據權利要求1所述的曝光裝置，其中所述至少一個引導單元中的每一個包括動力產生單元，其產生動力，動力傳輸軸，其傳輸動力產生單元的動力；動力傳輸軸支撐器，其支撐動力傳輸軸；動力傳輸單元，其將動力產生單元的動力傳輸給掩模固定臺；以及連接件，其將動力傳輸單元與掩模固定臺相連。
10.一種曝光裝置，其包括掩模臺，其包括被構造成固定地支撐掩模的掩模固定臺；支撐掩模固定臺的基臺；以及布置在基臺中的至少一個引導單元，其與掩模固定臺耦合，並且被構造成移動掩模固定臺，以在預定方向上移動掩模。
11.根據權利要求10所述的裝置，其中所述至少一個引導單元中的每一個包括動力產生單元，其產生動力；支撐器，其支撐所述動力產生單元；以及動力傳輸單元，其將所產生的動力傳輸給掩模固定臺，以移動所述掩模固定臺。
12.根據權利要求10所述的裝置，其中所述至少一個引導單元涉及被構成為有選擇地沿x軸方向、y軸方向和θ軸方向移動掩模固定臺的所述多個引導單元。
13.根據權利要求12所述的裝置，其中所述多個引導單元被布置在所述掩模固定臺的至少三個邊處。
14.根據權利要求10所述的裝置，還包括至少一個負載支撐單元，被構造成將掩模固定臺的負載分散給基臺。
15.根據權利要求14所述的曝光裝置，其中所述至少一個負載支撐單元中的每一個包括固定地連接到掩模固定臺的第一端部，和彈性地連接到所述基臺的第二端部。
16.根據權利要求10所述的曝光裝置，還包括至少一個基板驅動件，其被構造成移動待通過掩模曝光的基板，以使基板和掩模相對彼此對準。
17.根據權利要求16所述的曝光裝置，其中該至少一個基板驅動件粗略移動所述基板，並且所述至少一個引導單元精細地移動所述掩模固定臺。
18.根據權利要求16所述的曝光裝置，其中所述基板是液晶顯示器件中的層。
19.一種使利用曝光裝置使基板與掩模相對彼此對準的方法，所述曝光裝置包括被構造成固定地支撐所述掩模的掩模固定臺；被構造成移動所述掩模固定臺的至少一個引導單元；以及被構造成移動所述基板的至少一個基板驅動件，所述方法包括如下步驟通過操作該至少一個基板驅動件來粗略移動基板，以使所述基板與掩模粗對準；並且通過操作該至少一個引導單元來精細移動掩模固定臺，以使所述基板與掩模對準。
20.根據權利要求19所述的方法，其中所述精細移動步驟是在執行了粗略移動步驟之後執行的。
全文摘要
接近型曝光裝置。討論了一種用於對準基板與掩模的裝置和方法。在本發明的一個方面，所述裝置包括掩模臺，其中該掩模臺包括被構造成固定地支撐掩模的掩模固定臺和支撐該掩模固定臺的基臺；以及布置在基臺中的至少一個引導單元，其與掩模固定臺耦合，並且被構造成移動掩模固定臺，以沿預定方向移動掩模。
文檔編號H01L21/027GK1834787SQ20051013296
公開日2006年9月20日 申請日期2005年12月29日 優先權日2005年3月18日
發明者李千洙, 車相煥, 申鉉長 申請人:Lg.菲利浦Lcd株式會社