以電子照象術沉積螢光質的方法
2023-10-05 20:42:09
專利名稱：以電子照象術沉積螢光質的方法
技術領域：
本發明涉及一種利用摩擦帶電的螢光物質以電子照象術製造陰極射線管(CRT)發光屏組件的方法，特別是涉及一種將陸續沉積的螢光質受原先沉積的螢光質的帶電性質影響而造成的錯位降到最低的方法。
以習用溼式漿體方法製造發光屏時，螢光質依序沉積如下綠、藍及紅。而達特(Datta)等人於1990年5月1日發表的美國專利第4,921,767號述及的電子照象制屏術(EPS)也採用了相同的螢光質沉積步驟。
以上引用專利所述及的EPS方法中，乾粉狀的摩擦帶電的彩色發光螢光質沉積於經適當製備的可帶靜電的受光器上。受光器包含一層有機光導(OPC)層，最好置於有機導電(OC)層上方，兩者依序沉積於CRT面板鑲板的內表面上。開始，利用合適的電暈放電裝置使受光器的OPC層帶上靜電正電壓。然後，受光器的選定區域以可見光曝光使這些區域放電，而未曝光區域上的電荷則不受影響。接著，以逆顯影(reversal development)法使摩擦帶正電的發綠光的螢光質沉積在受光器的放電區域，以形成有大致均勻寬度及屏幕重量的螢光質線條。用電暈放電裝置使受光器及發綠光的螢光質重新充電而帶上靜電荷。受光器上的電荷與原先沉積在發綠光的螢光質上的電荷數量相等最為理想；不過，已確定受光器與原先沉積的螢光質無需充電到相同電壓。事實上，螢光質接受的電量不同於受光器接受的電量。因此，當受光器的不同選定區域經可見光曝光使這些區域放電從而加速了帶有摩擦充正電的發藍光螢光質的該區域的逆顯影時，原先沉積的發綠光的螢光質保有不同於受光器的未曝光區域上正電量的正電量。這種電量差影響了帶正電荷的發藍光的螢光質的沉積，使其遭受到原先沉積的發綠光的螢光質的排斥遠較留存在受光器的未曝光區域上的電荷的排斥來得大。此種發綠光的螢光質的較強排斥效應使發藍光的螢光質稍微偏離其在受光器上的預定位置。儘管先前沉積的螢光質的排斥效應不大，但發藍光的螢光質的線條寬度卻較所需的為窄。受光器和發綠光及發藍光的螢光質藉助電暈放電裝置重新充電使之帶上靜電正電荷，從而加速了發紅光的螢光質的沉積。受光器以及發綠光和發藍光的螢光質上各有不同的正電量。受光器的選定區域經曝光而放電，但受光器未曝光區域上的電荷及先前沉積的螢光質上的電荷則不受影響。摩擦帶正電的發紅光的螢光質受先前沉積的螢光質之一的排斥作用遠較受其他的排斥作用更強，這時發綠光的螢光質較發藍光的螢光質更會使沉積到受光器放電區域的發紅光的螢光質錯位。再有，此效應雖微弱，但發紅光的螢光質卻稍微偏離了其在受光器上的預定位置，造成發紅光的螢光質線條變窄。
為了以EPS方法製造發光屏而無上述錯位，必須補償原先沉積的帶靜電螢光質的排斥效應。
根據本發明，一種以電子照象術在彩色CRT面板鑲板內表面沉積的受光器上製造發光屏組件的方法包括以下步驟使受光器充電以在其上建立大致均勻的靜電電壓；將鑲板固定在內含光源的曝光裝置上；使受光器的選定區域受來自光源的可見光曝光而影響曝光的選定區域上的電壓，但不影響受光器的未曝光區域上的電壓；以及將摩擦帶電的第一彩色發光的螢光質沉積到受光器的選定區域上。對第二和第三摩擦帶電的彩色發光的螢光質重覆上述充電、定位、曝光以及沉積步驟。本方法對現有技術所用的方法做出了改進，因為每經螢光質沉積和鑲板重新充電步驟後，曝光裝置內的光源均依受光器與原先沉積到鑲板上的螢光質之間的電壓差而偏位，因此緩和了原先沉積的螢光質的排斥效應，並使陸續沉積的螢光質的錯位降到最低。
附圖中
圖1是根據本發明製造的彩色CRT的局部軸向剖面的平面圖。
圖2是圖1所示CRT的面板鑲板剖面圖，圖中未出了發光屏組件。
圖3是製造發光屏組件的新的方法的流程圖。
圖4a-4d示出製造圖1中CRT的發光屏組件的新方法的各選定步驟。
圖1示出一彩色CRT10，它具有一玻璃封套11，由一矩形面板鑲板12以及由矩形漏鬥形部分15連接的管形頸部14組成。漏鬥部分15有一內部導電塗層(未示出)接觸陽極鈕16並延伸至頸部14。鑲板12包含一投視面板或基板18和周緣或側壁20，以玻璃熔接物21與漏鬥部分15密封。一個三色螢光屏22置於面板18內表面上。圖2所示的屏幕22為線型螢光屏，含有分別發紅光、綠光和藍光的螢光條R、G和B組成的多個屏幕色素，它們依色組或三色條的影象色素或三色條組按循環順序排列。色條延伸方向通常垂直於產生電子束的平面。在本實施例的正常觀看位置，螢光色條沿豎直方向伸展。最好至少螢光色條部分與一相當細的光吸收基材23重疊，這是本技術領域人們所熟知的。此外，該基材可在屏幕色素沉積後制出。點式屏幕亦可以此新方法製作。一層薄導電層24(最好為鋁)置於螢光屏22上方，並設置一器件用以對螢光屏施加均勻電位，以及反射從螢光色素射出的光使之穿過面板18。屏幕22及其上方的鋁層24構成發光屏組件。多孔彩色選擇電極或蔭罩25以習用方式浮架在與發光屏組件相隔預定間距的位置上。
電子槍26(如圖1中虛線所示)置於頸部14內部中心，以產生並引導三個電子束28沿收斂路徑穿過蔭罩25上的小孔直達屏幕22。電子槍為習用的電子槍，可以是本領域人們熟知的任何合用的電子槍。電子槍內相鄰電子束的中心間距介於約4.1至6.6毫米，由電子槍型和頸部尺寸而定。
顯象管10設計成可加上外部的磁偏轉系統，例如偏轉線圈30，固定在漏鬥部分與頸部接合區內。通電後，偏轉線圈30使三個電子束28受磁場作用而在屏幕22上的矩形光柵內作水平和垂直掃描。起始偏轉面(零偏轉位置)如圖1中P-P線所示，約在偏轉線圈30的中間。為簡化起見，偏轉的電子束在偏轉帶內的實際路徑的彎曲情況並未示出。
圖3和圖4示出以電子照象術製造發光屏的方法。開始，鑲板12以苛性溶液洗淨，再以水衝洗，利用緩衝氫氟酸蝕刻後再用水衝洗，這些都是本技術領域人們熟知的。投視面板18內表面上再配置光吸收基材31，最好是利用梅奧得(Mayaud)的1971年1月26日公布的美國專利第3,558,310號述及的習用溼式基材方法。在該溼式基材方法中，以適當的光阻溶液塗覆在所述內表面上，例如，用旋轉塗布法，再使溶液乾燥而形成光阻層。然後，將蔭罩插入面板鑲板中並把鑲板放在三合一光室中使光阻層受到來自將光投射穿過蔭罩內的開孔的光源的光化輻射而曝光。固定光源位置以模擬電子槍發出的三束電子束的路徑重覆曝光兩次以上。調整光強度可改變螢光質材料將陸續沉積處的光阻層曝光區域的溶解度。經過第三次曝光後，鑲板移離光室並將蔭罩移離鑲板。光阻層經顯影以去除光阻層的較易溶區域，因而露出面板內表面的底部，並留下較難溶的曝光區域不變。然後，以適當的光吸收材料的溶液均勻塗覆到面板內表面，以蓋住面板的曝光部分和留下的較難溶的光阻層區域。光吸收材料層經乾燥，並以可溶解及去除光阻層留下的部分及覆蓋的光吸收材料的適當溶液進行顯影，從而在附著於面板內表面上的基材層內形成各窗口。對於對角線尺寸為51釐米(20英寸)的面板鑲板18，其基材內形成的窗口，如圖4a所示，寬度a約為0.13至0.18毫米，而基材線條寬度b約為0.1至0.15毫米。然後，在具有基材31的面板鑲板的內表面上塗覆一層適宜的揮發性有機導電(OC)材料層32，作為位於上方的揮發性有機光導(OPC)層34的電極。OC層32與OPC層34示於圖4a，二者合起來構成一受光器36。
屏幕的螢光質色素是通過依次將摩擦帶電的螢光質顆粒沉積到受光器36的適當充電的OPC層34上而形成的。為了克服前述的錯位問題，曾進行過螢光質表面帶電特性的研究。在EPS方法中，原先沉積的螢光質必須以電暈充電方能進行後續的第二及第三螢光質的沉積。現有的EPS方法的實施，首先是沉積發綠光的螢光質，繼而是發藍光的螢光質，最後是發紅光的螢光質的沉積，因而造成第二及第三後續沉積的螢光質錯位。可以相信，先前沉積的螢光質在受光器的電暈充電過程中獲得的靜電荷不同於受光器本身上的電荷。若非如此，則三種螢光質中的每一種的沉積均會一致而無錯位發生。業已確定，各彩色發光螢光質中的每一種，在沉積到受光器上後，都充電到彼此不同的電壓，並且不同於受光器上的電壓，於是可導致這樣的結論，即螢光質的表面帶電特性與螢光質的材料性質和螢光質的沉積量有關。為了證實本假說，對各螢光質材料表面帶電特性即稱為「層壓」的特性作了評估。「層壓」定義為在進行螢光質沉積前瞬間與沉積後瞬間測得的OPC層34上的電壓差。螢光質材料量對層壓的影響可借沉積一固定範圍來確定，即僅將一種彩色螢光質沉積在受光器上。對鑲板上受光器36的OPC層34上的電壓在螢光質沉積前後均進行測量，並稱出沉積在OPC層上的螢光質重量，以確定螢光質的每毫克每平方釐米的層壓。對每種彩色發光螢光質均確定出其層壓。發藍光的螢光質包括塗有二氧化矽的芯材，它具有丙烯酸乳膠外塗層以粘附CoAl2O4的藍色顏料。發紅光的螢光質包括塗有丙烯酸乳膠的芯材，以粘附Fe3O4紅色顏料。發綠光的螢光質則不著顏料，而是塗覆二氧化矽和丙烯酸乳膠。各層壓摘錄在表1中。
表1顏色 層壓(伏/毫克/釐米2)紅 20藍 29綠 56從表1可獲得結論，因為發綠光的螢光質的層壓最高，故也對錯位影響最大。相反，發紅光的螢光質的層壓最低，且最易發生校準偏差。發藍光的螢光質的層壓介於其他兩種螢光質之間，但卻提供了ESP沉積的最佳性質，因為其電暈充電性質與光導層最吻合。因此，發藍光的螢光質為第一沉積色的最佳選擇。
利用上列層壓資料，可以推出六種螢光質沉積順序而進行一系列試驗。可以確信，由現有技術中僅變化G，B，R沉積順序將無法消除錯位問題，因為對每種沉積螢光質的順序勢必使其受先前沉積的螢光質的影響，亦對後續沉積的螢光質有一定的影響。因此，對每種順序的螢光質的沉積而言，受光器36的OPC層34上的受光區域必須橫向偏位，以緩和先前螢光質沉積的排斥效應。換言之，即光室內的光源位置必須橫向偏離標準的光室設定位置，以緩和先前螢光質的排斥效應。第二螢光質的橫向偏位量列於表2中。橫向偏位以OPC層上的光影象在「X」方向的偏移表示，X方向表示朝向沉積到受光器上的第一色的方向。
表2第一色第二螢光質的「X」偏位層壓綠0.711毫米(0.028英寸)56伏/毫克/釐米2紅0.127毫米(0.005英寸)20伏/毫克/釐米2藍0.381毫米(0.015英寸)29伏/毫克/釐米2如上所述，溼式漿體及現有EPS兩種沉積屏幕螢光質的方法中，發綠光的螢光質均為第一沉積螢光質。因為溼式漿體法中面板表面無靜電荷，故光室內光源的位置無須作任何橫向偏位，除非例如需要偏位以補償光室造成的錯位，例如，鑲板/蔭罩組件上熱效應造成的錯位等。在現有的方法中，光室中供發紅光的和發藍光的螢光質用的燈泡的位置設定在與發綠光的燈泡兩邊等距的地方，以模擬由相對於打出綠色的電子槍的打出紅色及藍色的電子槍射出的電子束之間的間距。對於51釐米的面板，假設無補償時，標準光室設定為G(綠)＝O；B(藍)＝-4.064毫米；而R(紅)＝+4.064毫米。不過，下列試驗採用的光室中，須補償+0.254毫米(0.010英寸)。因此，考慮光室補償後的(校準過的)標準設定值為G＝+0.254毫米；B＝-3.81毫米；而R＝+4.318毫米。
使用校準過的標準光室設定值，對六種可能的螢光質沉積順序的每一順序，以EPS方法使三個面板著屏(screen)，並在屏幕上11個位置測量螢光質線條的錯位，這些位置是中心(c)，各角落(2D、4D、8D和10D)，主軸和次軸的端點(分別為3、9和6、12點鐘處)，以及主軸中心左右方的中點(分別為3M和9M)。對於每種螢光質沉積順序測量三個鑲板的錯位，並對每種顏色在各位置的讀數取平均值。確定出螢光質線條的錯位為偏離預期位置+/-0.023毫米(0.0009英寸)，或以上。以EPS方法使三個額外鑲板著屏並調整光室內燈泡的橫向位置，獲得了最低錯位的螢光質線條。因為以每一螢光質沉積順序對最後三個鑲板的著屏已做了改變燈泡位置的測量，因而這裡可僅報告三個鑲板中最佳校準的最好結果的一個鑲板。試驗結果列於表3。
表3鑲板錯位概述螢光質順序標準校準最佳校準(錯位位置數目)(錯位位置數目)G-B-R 9 9G-R-B 16 11B-G-R 20 3B-R-G 4 4R-B-G 21 6R-G-B 9 8總數 79 41令人驚訝的是，並非所有錯位都發生在第二和第三沉積的螢光質上，這可能如預期般是否錯位僅由陸續沉積的螢光質受原先沉積的螢光質的靜電排斥作用造成，因其所具有的靜電荷不同於受光器36上的電荷。第一沉積錯位的原因不詳。對鑲板上每一螢光質位置，以標準光室設定值和最佳光室設定值兩者對鑲板著屏而進行彩色沉積所產生的錯位情況列於表4中。從表4可看出，鑲板位置具有第一沉積錯位的最大範圍，從標準光室設定值的8D處變為最佳光室設定值的3點鐘處。
表4鑲板錯位錯位位置數目標準設定值 最佳設定值沉積顏色 第1 第2 第3 總數 第1 第2 第3 總數鑲板位置C 0325 010 12D 0000 014 54D 33511001 18D 63514110 210D 1326 012 33點鐘 55515433 109點鐘 0202 255 126點鐘 1326 010 112點鐘0213 001 13M 54413111 39M 0314 110 2總數 21 31 27 79915 1741螢光質顏色的錯位缺陷數目列於表5內。
表5鑲板錯位錯位位置數目標準設定值 最佳設定值螢光質顏色 第1 第2 第3 總數 第1 第2 第3 總數綠810 92752613紅9911 2946515藍412 72307613總數 21 31 27 79915 17 41本試驗中各著屏的鑲板均經如圖3及圖4所示的處理。開始，清洗鑲板12並將基材31配置於面板18的內表面上。如圖4a所示，OC層32沉積於基材31上方，而OPC層34形成在OC層上，以形成受光器36。適合於OC層32和OPC層34的材料分別列於達特(Datta)等人於1994年12月6日公布的美國專利第5,370,952號和於1993年12月22日提出申請的美國專利申請第168,486號(RCA87,102)中。利用適當的電暈放電裝置使受光器帶上均勻靜電，該裝置使受光器所充的電壓介於+200至+700伏之間。適宜的充電裝置述於達特等人於1992年1月28日公布的美國專利第5,083,959號中。再將蔭罩25插入鑲板12，並使帶正電的受光器36露出，使之通過蔭罩25曝露在置於燈室內的氙閃光燈或其它有足夠強度的光源，例如汞弧發出的可見光下(未示出)。所有校正過的標準位置的光室內的燈泡位置已如前述。使受光照射的受光器36上的區域放電而非光照區域不放電，於是光穿過蔭罩25的小孔從而產生一幅電荷影象。從鑲板12移去蔭罩25，再把鑲板放在第一螢光質顯影器上(亦未示出)。在顯影器中，第一彩色發光的螢光質材料充上摩擦正電荷並指向受光器36。帶正電的第一彩色發光的螢光質材料被受光器36上帶正電區域排斥並以本技術領域已知的方法，如「逆」顯影法，沉積在受光器的放電區域上。逆顯影法和適宜的顯影器述於雷德(Riddle)等人於1993年10月6日提出的同時待審的美國專利申請第132,263號(RCA85,649)中。簡單說，逆顯影中，摩擦帶電的屏幕結構材料的顆粒被受光器上同類電荷區域排斥而沉積在受光器的放電區域上。第一彩色發光的螢光質的位置，例如藍色，示於圖4b。螢光質線條的寬度C約為0.15至0.27毫米，而線的任一邊稍與基材31重疊。鑲板12再以上述電暈放電裝置重新充電。在受光器36上和在沉積於其上的第一彩色發光的螢光質材料上建立起正電壓。對其餘兩種彩色發光螢光質各重覆曝光及螢光質顯影步驟，以製成示於圖4c和4d的結構。三組元的螢光質線條之間的重複間距d約為0.84-0.91毫米(0.033-0.036英寸)。
參看表3-5，根據本發明，較佳的順序是，首先沉積發藍光(B)的螢光質，然後是發紅光(R)的螢光質，最後是發綠光(G)的螢光質，因為這樣的順序，如表3所示，在標準的光室設定值時有最少錯位位置，而在最佳設定值時也有同樣數目的錯位位置。發藍、綠、紅光的螢光質順序(B，G，R)示出在最佳光室設定值時有顯著減少的錯位位置數目；不過，試圖使用該設定值進行前導性生產操作時卻造成最後沉積的發紅光的螢光質的嚴重堆積，因而未被採用。
發藍、綠、紅光的螢光質順序(B，G，R)最理想，可使錯位降到最少，因為發藍光的(29伏/毫克/釐米3)及發紅光的(20伏/毫克/釐米2)螢光質的層壓可利用最佳光室參數，即B＝-3.974毫米，R＝+4.572毫米，及G＝+0.254毫米，調整光室內光源的橫向偏位而緩和。這些最佳光室設定值較標準光室設定值而言，僅須稍作調整。最後，以B、R、G順序沉積綠色螢光質，其層壓(56伏/毫克/釐米2)最高，於是最終消除了高層壓的不良效應。
其它可接受的沉積順序包括R、G、B，這對標準的和最佳的光室校準兩者都有次少的錯位位置；以及R、B、G順序，以此順序的最佳光室校準具有如R、B、G順序的少數錯位位置。R、B、G順序的最佳光室修正為R＝+4.191毫米，B＝-3.937毫米及G＝+0.381毫米；而R、G、B順序的最佳光室修正為R＝+4.191毫米，G＝+0.381毫米及B＝-3.683毫米。
本發明證實螢光質色素的錯位主要取決於相繼沉積的摩擦帶電螢光質顆粒與以電暈放電裝置靜電充電的原先沉積的螢光質顆粒之間的排斥作用。然而，能以調整在光室內的橫向偏位將錯位降到最低，從而使第二及第三次顯影時受光器上的曝光區域偏向第一沉積螢光質，或偏向具有較高層壓的先前沉積的螢光質，以緩和沉積螢光質的排斥力。
三種螢光質都是用使其材料接觸適當的溶劑蒸氣而熔入受光器36的OPC層34內的。如菜特(Ritt)等人於1990年4月17日公布的美國專利第4,917,978號述及的方法。屏幕結構接著經噴塗成膜並進行鋁化，如本領域所熟知的，以製成發光屏組件。發光屏組件在約425℃下烘焙約30分鐘，以除去發光屏組件中的揮發性成分。
權利要求
1.一種以電子照象術在內表面具有受光器的彩色CRT的面板鑲板內表面上製造發光屏組件的方法，包括如下步驟使所述受光器充電以在其上建立大致均勻的靜電壓；將所述鑲板固定在內含光源的曝光裝置上，並使所述受光器的選定區域受來自光源的可見光曝光以影響其上的電壓，但不影響該受光器的未曝光區域上的電壓；將摩擦帶電的第一彩色發光的螢光質沉積到所述受光器的曝光的選定區域上；使所述受光器的未曝光區域及所述第一彩色發光螢光質重新充電以重新建立一靜電壓，該受光器未曝光區上的電壓不同於所述第一彩色發光熒質上的電壓；其特徵在於，還包括下列步驟a)重新定位所述曝光裝置上的所述鑲板(12)，使該裝置內的所述光源位置偏位一個由所述受光器(36)與所述第一彩色發光螢光質間的電壓差決定的偏位量，以及使所述受光器的選定區域經可見光曝光而影響該區域上的電壓，但不影響所述受光器的未曝光區域和所述第一彩色發光螢光質上的電壓；和b)將摩擦帶電的第二彩色發光螢光質沉積到所述受光器的曝光的選定區域。
2.根據權利要求1所述的方法，其特徵在於還包括下列步驟c)使所述受光器(36)的未曝光區域及所述第一和第二彩色發光螢光質重新充電以重新建立一靜電壓，該受光器未曝光區上的電壓不同於所述第一和第二彩色發光螢光質上的電壓；d)重新定位所述曝光裝置上的所述鑲板，使該裝置內的所述光源位置偏位一個由所述受光器與所述第一和第二彩色發光螢光質間的電壓差決定的偏位量，以及使所述受光器的選定區域經可見光曝光而影響該區域上的電壓，但不影響所述受光器的未曝光區域及所述第一和第二彩色發光螢光質上的電壓；以及e)將摩擦帶電的第三彩色發光螢光質沉積到所述受光器的曝光的選定區域。
3.一種以電子照象術在彩色CRT的面板鑲板內表面上製造發光屏組件的方法，將三種摩擦帶電的彩色發光螢光質沉積到設於所述內表面上的一受光器上，所述螢光質中至少有兩種具有不同的表面帶電性質從而影響陸續沉積的螢光質的沉積，其包括以下步驟使所述受光器充電以建立大致均勻的靜電壓；將所述鑲板固定在內含光源的曝光裝置上，並使所述受光器的選定區域受到來自光源的可見光曝光以影響曝光區上電壓而產生其上的電荷影象，但不影響該受光器的未曝光區上的電壓；將摩擦帶電的第一彩色發光螢光質以逆顯影法沉積到所述受光器的曝光的選定區域上；使所述受光器的未曝光區域及所述第一彩色發光螢光質重新充電以建立一靜電壓，該受光器未曝光區上的電壓不同於所述第一彩色發光螢光質上的電壓，這是由所述螢光質的表面帶電性質造成的；其特徵在於還包括下列步驟a)重新定位所述曝光裝置上的所述鑲板(12)，使該裝置內的所述光源位置偏位一個由所述受光器(36)與所述第一彩色發光螢光質間的電壓差決定的偏位量，以及使所述受光器的選定區域經可見光曝光而影響該區域上的電壓，但不影響所述受光器的未曝光區域和所述第一彩色發光螢光質上的電壓；和b)將摩擦帶電的第二彩色發光螢光質以逆顯影法沉積到所述受光器的曝光的選定區域；c)使所述受光器的未曝光區域及所述第一和第二彩色發光螢光質重新充電以重新建立一靜電壓，該受光器未曝光區上的電壓不同於所述第一和第二彩色發光螢光質上的電壓，這是由所述螢光質的表面帶電性質造成的；d)重新定位所述曝光裝置上的所述鑲板，使該裝置內的所述光源位置偏位一個由所述受光器與所述第一和第二彩色發光螢光質間的電壓差決定的偏位量，以及使所述受光器的選定區域經可見光曝光而影響該區域上的電壓，但不影響所述受光器的未曝光區域及所述第一和第二彩色發光螢光質上的電壓；以及e)將摩擦帶電的第三彩色發光螢光質以逆顯影法沉積到所述受光器的曝光的選定區域，從而形成發光屏幕(22)。
4.根據權利要求2或3所述的方法，其特徵在於還包括以下額外步驟(i)將所述螢光質(B，G，R)熔入所述發光屏幕(22)的所述受光器(36)上；(ii)將熔合成的屏幕膜化；(iii)將膜化後的屏幕鋁化；以及(iv)烘焙鋁化屏幕以除去屏幕中的揮發性成分從而形成所述發光屏組件(22，24)。
全文摘要
以電子照象術在彩色CRT(10)的面板鑲板(12)內面受光器(36)上製造發光屏組件(22，24)的方法，包括使受光器充電以建立均勻靜電壓；將鑲板定位於曝光裝置上，使受光器選定區曝光而影響其電壓但不影響未曝光區電壓；將第一螢光質沉積於選定區域；對第二和第三螢光質重複上述步驟。因每經螢光質沉積及鑲板再充電後光源均依受光器與先沉積到鑲板的螢光質的電壓差而偏位，故緩和了原先螢光質的排斥效應，降低了後沉積螢光質的錯位。
文檔編號H01J9/227GK1119335SQ9510681
公開日1996年3月27日 申請日期1995年5月26日 優先權日1994年5月27日
發明者P·M·利特, O·H·羅伯茨, R·E·克雷德 申請人:湯姆森消費電子有限公司