靶材縫隙清潔裝置和方法
2023-10-29 18:21:37
靶材縫隙清潔裝置和方法
【專利摘要】本發明公開了一種靶材縫隙清潔裝置和方法，涉及半導體製造領域，能夠避免縫隙清潔過程中粉塵的散落。該靶材縫隙清潔裝置，包括：靶材正面吹氣單元、靶材側面吹氣單元和靶材側面吸塵器。該靶材縫隙清潔方法，包括：向靶材正面的縫隙吹氣；向靶材第一側面的縫隙吹氣；從靶材第二側面的縫隙吸取粉塵，所述第一側面為與所述第二側面相對的面。
【專利說明】靶材縫隙清潔裝置和方法
【技術領域】
[0001]本發明涉及半導體製造領域，尤其涉及一種靶材縫隙清潔裝置和方法。
【背景技術】
[0002]在半導體製造領域，特別是在液晶顯示器領域，採用磁控濺射技術製作薄膜的工藝非常普及。隨著液晶面板尺寸越來越大，因此採用的玻璃尺寸也越來越大，對於磁控濺射靶材的尺寸要求更大，但受靶材製成工藝的限制，一般靶材需要分塊拼接起來使用，但是靶材拼接處會有縫隙，縫隙一般為1_左右，在使用一段時間之後靶材縫隙中會由於工藝過程而積聚粉塵顆粒，需要對靶材的縫隙進行清潔，以防止縫隙內的粉塵在磁控濺射工藝過程中造成產品的不良。
[0003]現有的靶材縫隙清潔方法是採用較薄的紙片或鋼片插入縫隙將粉塵清理出來，但是這樣粉塵會散落在磁控濺射的工藝腔室中，仍然會在工藝過程中造成產品的不良，同時縫隙中的顆粒可能含有重金屬粒子，容易被人體吸入而對人的健康造成危害。
【發明內容】
[0004]本發明提供一種靶材縫隙清潔裝置和方法，能夠避免縫隙清潔過程中粉塵的散落。
[0005]為解決上述技術問題，本發明採用如下技術方案:
[0006]一方面，提供一種靶材縫隙清潔裝置，包括:
[0007]靶材正面吹氣單元、靶材側面吹氣單元和靶材側面吸塵器。
[0008]具體地，還包括:封閉罩，所述靶材正面吹氣單元、靶材側面吹氣單元和靶材側面吸塵器設置於所述密封罩中。
[0009]具體地，所述封閉罩為U型結構，所述U型結構的內側為開放空間。
[0010]優選地，所述封閉罩由橡膠材料製成。
[0011]具體地，所述靶材正面吹氣單元連接有第一通氣管道，所述靶材側面吹起單元連接有第二通氣管道，所述第一通氣管道和第二通氣管道分別設置有氣閥。
[0012]另一方面，提供一種靶材縫隙清潔方法，包括:
[0013]向靶材正面的縫隙吹氣；
[0014]向靶材第一側面的縫隙吹氣；
[0015]從靶材第二側面的縫隙吸取粉塵，所述第一側面為與所述第二側面相對的面。
[0016]本發明提供的靶材縫隙清潔裝置和方法，通過向縫隙內吹氣清除粉塵並使用吸塵器將從縫隙內清除的粉塵直接收集，縫隙清潔效果好且不會對靶材造成損傷；另外，避免了縫隙清潔過程中粉塵的散落，從而避免散落在工藝腔室中的粉塵在磁控濺射工藝過程中造成產品不良，同時避免了散落在空中的重金屬粒子被人體吸入而對人的健康造成危害。
【專利附圖】
【附圖說明】[0017]為了更清楚地說明本發明實施例或現有技術中的技術方案，下面將對實施例或現有技術描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本發明的一些實施例，對於本領域普通技術人員來講，在不付出創造性勞動的前提下，還可以根據這些附圖獲得其他的附圖 。
[0018]圖1為本發明實施例中一種靶材的結構示意圖；
[0019]圖2為本發明實施例中一種靶材縫隙清潔裝置的結構示意圖；
[0020]圖3為圖2中AA』向的截面示意圖；
[0021]圖4為本發明實施例中一種封閉罩的結構示意圖；
[0022]圖5為圖4中封閉罩罩在靶材上時的結構示意圖；
[0023]圖6為本發明實施例中一種靶材縫隙清潔方法的流程圖。
【具體實施方式】
[0024]下面將結合本發明實施例中的附圖，對本發明實施例中的技術方案進行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實施例僅僅是本發明一部分實施例，而不是全部的實施例。基於本發明中的實施例，本領域普通技術人員在沒有作出創造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例，都屬於本發明保護的範圍。
[0025]如圖1所示，磁控濺射技術中使用的靶材由多塊靶材1拼接在背板2上形成，多塊靶材1之間具有縫隙3，目前通過薄紙片或鋼片插入靶材的縫隙3將粉塵清理出來，但是這樣粉塵會散落在磁控濺射的工藝腔室中，仍然會在工藝過程中造成產品的不良，同時縫隙中的顆粒可能含有重金屬粒子，容易被人體吸入而對人的健康造成危害。另外，由於紙片較軟，無法將縫隙清理乾淨，而鋼片較硬，容易對靶材本身造成損傷。本發明實施例正是基於上述拼接靶材提出的一種新的靶材縫隙清潔裝置和方法。
[0026]如圖2和圖3所示，本發明實施例提供一種靶材縫隙清潔裝置，包括:靶材正面吹氣單元4、靶材側面吹氣單元5和靶材側面吸塵器6。
[0027]具體地，靶材1設置在背板2上，靶材1上背板2所在的面為背面，與背面相對的面為靶材1的正面，當對靶材1進行縫隙清潔時，靶材正面吹氣單元4放置於靶材1的正面並對準縫隙，靶材側面吹氣單元5放置於靶材1具有縫隙的第一側面並對準縫隙，靶材側面吸塵器6放置於靶材1的第二側面並對準縫隙，第二側面為與第一側面相對的面，這樣靶材正面吹氣單元4、靶材側面吹氣單元5、靶材側面吸塵器6和背板2就將縫隙包圍起來，之後靶材正面吹氣單元4和靶材側面吹氣單元5向縫隙3內吹氣，將縫隙3中的粉塵吹到第二側面的靶材側面吸塵器6處，同時靶材側面吸塵器6從第二側面的縫隙處吸取並收集粉塵。
[0028]本發明實施例中的靶材縫隙清潔裝置，通過向縫隙內吹氣清除粉塵並使用吸塵器將從縫隙內清除的粉塵直接收集，縫隙清潔效果好且不會對靶材造成損傷；另外，避免了縫隙清潔過程中粉塵的散落，從而避免散落在工藝腔室中的粉塵在磁控濺射工藝過程中造成產品不良，同時避免了散落在空中的重金屬粒子被人體吸入而對人的健康造成危害。
[0029]具體地，上述靶材縫隙清潔裝置還可以包括:封閉罩7，靶材正面吹氣單元4、靶材側面吹氣單元5和靶材側面吸塵器6設置於封閉罩7中。
[0030]具體地，如圖4和圖5所示，封閉罩7為U型結構，U型結構的內側為開放空間，用於罩住上述的正面吹氣單元、靶材側面吹氣單元、靶材側面吸塵器和靶材的縫隙；封閉罩?與靶材1和背板2形成封閉空間，進一步防止縫隙清潔過程中粉塵散落到工藝腔室內。
[0031]優選地，封閉罩7由橡膠材料製成，具有較佳的密封性能。
[0032]具體地，如圖3所示，靶材正面吹氣單元5連接有第一通氣管道51，靶材正面吹氣單元5通過第一通氣管道51連接至磁控派射設備的壓縮乾燥空氣(Compressed Dry Air,CDA)裝置，CDA裝置用於提供乾燥氣體，靶材側面吹起單元6連接有第二通氣管道61，革巴材側面吹起單元6通過第二通氣管道61連接至CDA裝置，第一通氣管道51和第二通氣管道61分別設置有氣閥8，靶材縫隙清潔時，可以通過氣閥8可以控制靶材正面吹氣單元5和靶材側面吹起單元6同時吹氣，或者祀材正面吹氣單元5先吹氣,祀材側面吹起單元6後吹氣。當然，也可以不設置氣閥8，直接通過CDA裝置控制靶材正面吹氣單元5和靶材側面吹起單元6同時吹氣。
[0033]本發明實施例中的靶材縫隙清潔裝置，通過向縫隙內吹氣清除粉塵並使用吸塵器將從縫隙內清除的粉塵直接收集，縫隙清潔效果好且不會對靶材造成損傷；另外，避免了縫隙清潔過程中粉塵的散落，從而避免散落在工藝腔室中的粉塵在磁控濺射工藝過程中造成產品不良，同時避免了散落在空中的重金屬粒子被人體吸入而對人的健康造成危害。
[0034]如圖6所示，本發明實施例提供一種靶材縫隙清潔方法，可以用於上述的靶材縫隙清潔裝置，該靶材縫隙清潔方法包括:
[0035]步驟101、向靶材正面的縫隙吹氣；
[0036]步驟102、向靶材第一側面的縫隙吹氣；
[0037]步驟103、從靶材第二側面的縫隙吸取粉塵，所述第一側面為與所述第二側面相對的面。
[0038]需要說明的是，上述步驟101和步驟102可以是同時進行的，也可以先進行步驟101，然後再進行步驟102。
[0039]本發明實施例中的靶材縫隙清潔方法，通過向縫隙內吹氣清除粉塵並使用吸塵器將從縫隙內清除的粉塵直接收集，縫隙清潔效果好且不會對靶材造成損傷；另外，避免了縫隙清潔過程中粉塵的散落，從而避免散落在工藝腔室中的粉塵在磁控濺射工藝過程中造成產品不良，同時避免了散落在空中的重金屬粒子被人體吸入而對人的健康造成危害。
[0040]以上所述，僅為本發明的【具體實施方式】，但本發明的保護範圍並不局限於此，任何熟悉本【技術領域】的技術人員在本發明揭露的技術範圍內，可輕易想到變化或替換，都應涵蓋在本發明的保護範圍之內。因此，本發明的保護範圍應以所述權利要求的保護範圍為準。
【權利要求】
1.一種靶材縫隙清潔裝置，其特徵在於，包括:靶材正面吹氣單元、靶材側面吹氣單元和靶材側面吸塵器。
2.根據權利要求1所述的靶材縫隙清潔裝置，其特徵在於，還包括:封閉罩，所述靶材正面吹氣單元、靶材側面吹氣單元和靶材側面吸塵器設置於所述密封罩中。
3.根據權利要求2所述的靶材縫隙清潔裝置，其特徵在於，所述封閉罩為U型結構，所述U型結構的內側為開放空間。
4.根據權利要求1或2所述的靶材縫隙清潔裝置，其特徵在於，所述封閉罩由橡膠材料製成。
5.根據權利要求1所述的靶材縫隙清潔裝置，其特徵在於，所述靶材正面吹氣單元連接有第一通氣管道，所述靶材側面吹起單元連接有第二通氣管道，所述第一通氣管道和第二通氣管道分別設置有氣閥。
6.一種靶材縫隙清潔方法，其特徵在於，包括:向靶材正面的縫隙吹氣；向靶材第一側面的縫隙吹氣；從靶材第二側面的縫隙吸取粉塵，所述第一側面為與所述第二側面相對的面。
【文檔編號】B08B5/02GK103639153SQ201310686918
【公開日】2014年3月19日 申請日期:2013年12月13日 優先權日:2013年12月13日
【發明者】邢宏偉, 穆慧慧, 吳斌, 張鶴群 申請人:合肥京東方光電科技有限公司, 京東方科技集團股份有限公司