用於測量、監測和調節流化或輻射床設備中定向產品運動的方法及適用的設備的製作方法
2023-10-17 22:55:29 1
專利名稱：用於測量、監測和調節流化或輻射床設備中定向產品運動的方法及適用的設備的製作方法
用於測量、監測和調節琉^iU^t床設備中 定向產品運動的方法;SJt用的設備
本發明涉及一種用於測量、監測和/或調節沐^JU^f床設備中定向產品運 動的方法、為此嫂用的適用測量^^和裝備這種測量裝置的流^^^J"床設備 (,化設備或絲床設備)。
背景M
不蹤製藥業，而JL^食品、飼^#細化學工業中廣泛應用到涉及利用 懸浮液、溶液、粉";m^^^^l^床設備中塗覆粉狀固體材料微險。在 此方面，確定量的這種m^ii過^/ftiU^f床設備(下面也稱為過程設備)中 的過程氣^ii^t動和流化或隨同氣^^動，其中，作為氣體^f吏用空氣， 但也可以^^IJl^it用的氣^iU給氣體。過程設備內部的過程室向下通 過一個或多個入;M^限制，它們作為氣體射己器構成並可以使ii^呈氣a^勻
和/或射2jiJ不同的區域上。這種入^yi(例如作為篩分;y^成)通過其構
成防iM 立子向下落入過程氣體的入流區內。如絲該入;M^的區域內定位一 個或多個噴霧嘴，藉助其向粒子噴'Mi^質^NM^^覆蓋，那麼通常稱 為"底部塗覆"過程。市場上可以買到不同結構的這 霧嘴##別是作為單或 ^ft為; MsU^t材料t斷^]。為^f立子上進行特別均勻的塗覆，粒子在憤 流中噴塗並在i^匕和飛行狀態期間幾乎完全乾燥。為將在喻凃射流中形成渦流 的粒子與落下的幹;^立子分離，過程室內安裝一定的內裝件或傳導裝置。這種
內裝^^'J如在Date E. Wurster等人的文獻(US專利3196827和US專利 3241520)中有所介紹。通itit程室內附加的內裝件，可以進一步提高產品的質 量。EP 0570546為jH^h紹了一種屏蔽噴霧嘴的可能It，以便這#^^^展開 的噴#^流區域內接觸所要噴輛粒子。通itit種 fcii可以附加^更高的噴 塗率。對於更重和特別敏感的粒子來說 一 例如片劑 一 為完善產品依據EP
1232003開發出內裝件。由此更^^引導產品5脈防止產品磨損以;si^負荷。
5多個相應的內裝件可以形成多室系iyU^系統，例:W象US 3.241.520中所介 紹的那樣，Jii^斤有設備因此均按照戶/H胃的"Wurster原理"工作。
在按照"底部噴塗"原理工作的^f床設備上(同樣可以單域多,成) ^t4徊目應的產品-脈內裝件，參閱DE10322 062A1和EP1325 775,輛裡 噴塗也藉助噴嘴在主產品流與重力相反定向的方向上進行。無論是按照 Wureter原理i5^按照4l4t床方法，由此均可以實^頃$財法或順流原理.
在所有按照Wureter原理工作的it^設備中，目前通常^^M面上^ 圓柱體的立管，即所i胃的Wurster管，其與入^^L的距離可變並且可以理想 i^MP調整。這種按照順^^^^層方法的優點是將塗層材##別均勻和均 質塗覆在所提供的粒子上。
但作為對此的選擇或除了依據底部噴塗工藝的噴霧嘴iU外，噴霧嘴也可
上，其中，它們可以1^垂直和/或^1^*^^^產品流的方向上#。輻 射床設備Ji4擬目應的情況。
塗層材料塗覆到所要塗層的微粒上的噴塗M麼可以通過^^過程分布保 掙度定，要麼也可以在過程分布期間酉給。^it種關聯中重要的是，孩Mi^可 能均勻分布並以儘可能恆定的比特過喻塗射流。如絲預^L^的恆定噴塗 率情況下過多的孩M立導過噴塗射流，那麼許多W^^it過噴塗射流時不育說不 育^l夠賄到塗覆並由於磨損或^MM^負荷而損壞。這^^導致粒子石ic^ 已經塗覆的塗層剝落。如^^定的噴塗率情況下過少的#*立導過噴塗射流， 那麼多餘的噴塗滴不淑皮孩紂i^收。噴塗滴在過程氣流中乾燥並作為細粉塵落 下。j^卜，多餘的噴塗滴附著在立管的*區^並在那裡形成薄層。這種薄
層iajh均勻的^^^噴塗層形成(大多為均勻的產品流)^f^導致塗層結果變 差。細粉塵還會外凃層微險的光滑均勻表面的構成產生不利影響。因此對於可
再生和均勻的塗層ii^M兌重要的前奴，保證(例如按照Wurster原理的流 化床設備的立管中)恆定的產品流。如果產品流由於產品區或噴霧嘴區域內堵 塞而受阻，那麼會嚴重危害產品的質量。特別是在^^具有多個立管或相應內 裝件的較大過程設備清況下，堵絲不MJ'J性常常不育汰時發現以進ef涉。
通itit程^j^過禾lW:的適當酉e^，底部喻塗工藝(或採用側面^的 相應工藝)也可以用於粒子的粒化。^il^存在與前面所述類似的困難。iiE也同那裡一樣需要注意相當好的j^t^量，以ia^這些問題和過禾m險，
ilE，粒子的fe念^lfc^f沐塗層方法中&^所有可在i^^^^LU^匕 的粒^N"料或物體(M的^^在下面詳細定義)，它們可以在流《^i設備ji^
城塗層。
迄今為止，i^減^^Ji^匕的質量通過安絲喻凃絲上的視窗、照 相系M^通it^量入iifUyi (例如篩分底板)上的壓差進行判斷。
視窗的故存義，它們只能使得^h^Ji^回j;;^嫩的運動。通過視窗的觀
察只食t^ft"助強光源的情況下ii行，這樣視產品不同還可能意pM產品^^ 受熱負荷。通ii^目系統的，Ji^，由於很高的^MJL,其前^U^目系統的 iiJm夠高，以便可以絲^^W^的運動。照湘系統與視窗同樣需要光源。 攝像頭^t到粉塵層的汙染並渾濁不清。視線因此非常受P艮。只能利用如壓縮 空氣這種吹洗氣體的複雜吹洗系統才能減少薄層形成。此前介紹的所有光學檢 查可能樹立管內粒子^^^態(其中特別是涉及^^的禾UL、料流的密度和 料流的逸變)質量上的測量結果均不能令人滿意。因此不^5^^脈態在數量 Jiii傷兌明。
壓差的測量很大禾J^Jl取決於空^^布和入^^的流動^。特別是在 iMi —個以上的立管的塗層過程中，壓差的測量只負沐限說明。
為掌握和監測上i^斤有問題和過禾m險以及需要時調節幹涉，需要直接測
量立管內的產品流。例如可以通過電容測量方法或通過測量立管內的電Pil進行
直接測量。敏些方法擬艮大禾I^Jl受到產品al或材珊性的影響。塗層過 程期間產品的介電常數核常變化，從而電碧"測量在變化的條降下進行。已填 充的立管電容變化與未填充立管的差別即^^理想的條降下同樣非常小。信號
不育feii行可靠的測量或分析。例如由於測量^^影響it^的幹擾信號很大^L
上進一步p艮制了這些方法的可應用性。測量電阻時，粉塵層或在過程期間測量 電極上出現的汙染會導致測J^差。例如藥品製造中所使用的淨4沐消電離水 ^^^對電阻測量產生不利影響。
WO 98/44341 Al 乂^f"了一種用於監測和/綠制,節;i^^Lblf立化、凝 結、 、塗層^f^iiflil通過確定產品溼度運動布料的方法以及一種用於 實施這種方法的空氣^^裝置。藉助^A^目應流化床設備的外壁內並與其內側 M齊平(找正)封閉的傳感器(作為平面型傳感器構成)作為溼度傳感器，通iti^^內存在的S^測定小於100 MHz的高頻>^^皮的衰減。測量信號
作為^^上，決於溼度^i^產品^l說明。標準的諧振頻爭ft為與^H危
^^目關，而與^H立子無關說明，電子測量信號和'M^L"測量的產品^1與 校糊互制約。
WO 98/44341 Al中測量產品總^JL - i^匕必須"H^^i如-fci斤iiit過具 有其所有可能弱點的方法測定。
DE 195 045 44介紹了火力發電廠中藉助#>皮通湖預節控制鍋爐的管 (主要通it^i量與燃燒空氣的酉^)隨同,的ii;^K銜婦iM^噴塗 時溼JL^i:可變條件下的可應用性沒有^ti5UU兌明。那裡的目的是調節後面連 接的燃燒，不是孩ib皮測量室內部的調節。
發明內容
^it種背景下本發明的目的在於，提，的方法和裝置，可以在流J匕或輻 射床設備上測量、監測或調節定向的產品運動，其可以i^Lhii，測量^t^ 所述的缺點並可以以質量上和/或數量上的方式直接測量流化狀態和在流化或 旨Ui的塗層和/或粒化過程期間直接在質量上和/或數量Ji^"測產品流的中 斷，和/或iU、監測^節和/或可以^yJ^定的^^il^t床設備向，與該給 定的設備不同的尺寸M或縮小或至少變得容易。
本發明可以解決所描述的問題並第一次l^t量上^^數量上直接測量、 檢測和/或調節^^^態。在具有多個內裝^立管(-Wurster管)的塗^gi殳備
上，jtb^卜可以第一;^t每個相應的部分，例如對每個立管進^^M沐身的測量 和確定和/級測。
代替立管，流化床設備^Mi^構成的過程室均可以iMl這種測量方法，
只要產品^^該區域內以預^L^的運動方向定向運動。然後^it些it^呈室中 依據本發明也可以對i^li^I^制與調節任務進行質量Ji^數量上的說明。
下面^^介紹水平循環產品流的^0
本發明為jH^第一實施方式中涉及"^用於xj^^^沐^t床設備中選取
的過程設備中塗層和/或粒化的噴，;^r法期間測量、監測和/或調節(特別是用於
監測和/或調節)^U匕產品的定向產品運動的方法，^#絲於，該方法^t: 利用一個或多個孩ib皮傳感^IJt^觸地向一個或多個產品^^射微波驗，從各自產品流(=各自產品運動)的粒子中接H^I"的銜皮,並才娘所M的
孩^皮^#^^^輸出產品-錄性化的測量信號。4it種情況下，#>皮絲的輸
A^^在各自產品流的夕h^區域內進行，特別是在一個或多付導裝置的區域
內進行。夕Np區^t沐別是指各自一個直縣產品流的夕Mpi^u^接的區域， 主要是^室的壁或特別是傳導裝置內部的區域。
在^L明一種M的實施方式中， 一個或多個^b皮傳感裝置W^b皮的發 4^^:單元，特別是每個測量^Hi具有組合的發4^收單元，這樣可以簡 J^^^有效確定。銜皮,可以直接從(需要時相應M的)發射單;^r入
到所要求的測量區域內(=所要測量的料5^斤處的*， ^ 是在其夕Npi^
的區域內)；為iH^^M多個或特別是每個發射單i^捐一個波導管(特別是 管狀，例如以近似或實際圓形或多邊形管的方式)，其可以由為此目的常用的導 體，特別是金屬或^^EA，其一個(近側)絲具有各自多個或^""個發 #^收單元(孩&皮傳感裝置)，而另一 (處於所^"測量的產品流面上的遠側) 絲通過微波^t足夠魏例如由塑料材^^誠的蓋板封閉，這一點可以防止 材料從產品流中流入並JJi樣^^觸式地(主要是指"不從產品流中取阡而^3Ut 過M波與測量物的相互作用"，其中，特別是不排除與銜皮傳感裝置夕h^件的 接觸)測量。
作為特別是包括微波輻射的至少一個發#^#收單#需要時也同時包括 分析電子裝置的孩&皮傳感裝置，特別是可以使用市場上常見的裝置，例:M象US 6037783或EP0808454中所介紹的那樣。下面介紹的例子中所使用的型號例如 為SWR engineering Messtechnik GmbH， D-79424 Auggen， Germany 的 SolidFlow^感器，具有對jtbit用的分析電子裝置FME。例Miiit合的波導 管尺寸可以iiJiJ與j^^^f床設"^lSe^。
樣b皮輻射向所^r查的產品流內的輸A^f與產品流的主方向垂直或近似 垂直進行，^a也可以以任意角;^進行。
特別是孩&皮,的輸A^刷ti^l^床設備的容器外壁內部具有的一個或 多頓導裝置(傳導內裝件)的區域內進行，它們(通i^斤屬iif呈氣流的傳導)
支持定向的產品流(也才>61不是通必卜壁，而是通過處於外壁內部的，傳導 裝置或特別是M或M的不是外壁^a^部^區域)，其中，輸A^at過一
個或多個波導管進行，並且一個或多個銜皮傳感裝置的一個或多個波導管的一個或多個鄉這#^裝，使其貫穿一個或多傳導裝置(如所彬u的那樣，最
好內部，也1fc^特別是與設備的夕卜壁或塗層絲無關i5X^其內部)的壁(也 !6B兌，那裡具有相應的間隙，如《L^長孔，它們^^具有環繞波導管i5^的
^J^X，以便使壁的不由波導管填充的區域防iLi^氣^^粒子的流AA夠 密封並JLil樣可以使產品流不受幹擾)，而其鄉^(f與各自的壁朝向產品流的 面M^ (沒有^L^^提的伸A^於產品流的空間內，而尤其^L4吏^f無幹擾 測量成為可能)朝向產品流，而近端則最好處於傳導裝置壁不朝向產品流的面 上，fe^植iS殳備外壁的外面，從而扭一種情況下，i^^^f床設備外
壁的外面HtW^t^收單元。每個銜皮傳感M^^絲一個波導管，但
本發明的主jn也可以是這樣的實施方式，其中一個^^皮傳感fj:可以向兩個或
多個波導管選棒性^^孩ib皮驗並接4t^的孩&皮絲，例如利用可以選輛 ^f接通多個波導管之一的多i^^接器裝置。
依據本發明的方法最好在這種^^^^t床設備上執行，其中所要測量、 所要監測和/或所要調節的產品流與重力相反流動，也ltA特別B^向上定 向，特別是在W—個或多個Wurster管的流化床設備JiiUt^卜在具有一個或 多*導裝置的^#床設備上，這些傳導裝置各自在下部區域內以與重力作用 相反的^t"凃方向(也1bl特別^i^向上)或》1^卜側面以與產品流垂直和/或最 好平行的噴塗方向具有一個或多個單一材料或最好多種如兩種或三種材料噴 嘴，用於噴塗液體，以^^層和/ia立化形成產品流的粒子。特別優逸以底部噴 塗工藝使用測量、監測和/或調節J^向上定向產品流的方法(也1t^在噴霧嘴
處於入;Mil區域內和絲向上喻;^位JJi)。特別m過程設備，特別是在
這裡為Wurster設備具有一個或多個Wurster管作為傳導裝置。在不同於一個 或多個所要測量的產品流的區域內，例如Wurster管外面或在與傳導^f目距
的M區域內，可以進^f目反的產品流(來自此前通過噴塗已塗層和/或e^立化
的落下產品粒子，其例如在底部附近可以重新員到產品流並JLii樣^進行 回絲動)。
本發明的—非常to的實施方式涉及一種依據本發明的方法，其中在按 照Wurster原理工作的流化床設備(下面也稱為Wurster設備)內部的一個或 多個Wurster管內部測量、監測和/或調節產品流。
但怍為選澤，依據本發明的方法jtM卜也可以用於環繞ii^設備的豎軸旋轉
10(至少差^Jl)水平循環的產品流。循環例如可以通過至少一個相應構成的入
;Mis^L^W，例Miiii當成型的縫隙或開口， ^f吏ii^氣體至少部分
產生與底部平4詢運動分量，如在Conidur板、Gill板(GUI plates)或具有重
疊^^部件的入^yi，在其間隙之間可以使相應定向的過程氣體流入，相關
的例子;^"參閱EP 0 507 035、 WO 97/23284、 EP0 370 167、 W098/173柳或 特別是DE 331 48 87和US 4591324。財優點的是，依據4^L明的相應雄 i殳^^或相應方法除了至少一個/NJ^y^卜，還具有至少一個(可在逸當的時間 可打開和關閉的)側面出口， ；W繼續處理的產品由於迴轉運動時的離心力可 以通itil些出口側面排出.依據本發明的這種方法絲包拾排出(特別是自 動)4i^Ail達到產品流的確定特'M^b皮傳感^^目應產生的測量信號情況 下例:ft。自動產生或ii^t^/或結束。
產品流表示由通過一個或多個入^ite^輸逸的過程氣體(承^t)^^itit^
規定(理想情況下儘可能流化)的流(=沐化產品至少差本上定向的產品運動)， 其中，產品;i指所要加工和在該方法結束時加工好的中間產品或最終產品中的 粒子，如津i^物、經itj^層的豐i^物、片劑、豐辨、膠嚢、擠壓物、晶體、粉 M^^R的材料或相當小的物體。這種產品粒子的粒度例如處於孩Mi至毫 米範圍內，例如(約)50 jim - 25 mm或(約)200 pm -10 mm。由此(與沒 有傳導裝置的純流/f^的區別在於)形成一種定向的產品運動-例如沿傳導裝 ^與其向下相反的向上面上。"定向"(=差本上定向)&匕方面特別A^示 粒子的淨;M"有確定(例如線性或圓形)的方向，其中，例如由於^M匕、重力 和渴^^會出,部偏差 一 單個孩狄立的運動與淨;肖目符，藉助孩^L^Wl得 的測量信號艦清晰，而相A/品;姚均勻，獲得的測量信號矛械清*恆定。 出乎意料的是，(不同於賄^t^中輸的那樣)測量糾可以毫無問艦
這樣調整，使sjL影響或t;^t程的影響很小，因為特別是不是(至少不狄)
分析衰減，而JLilJ^頻率和振幅方面，最好在兩個^方面測量由粒子A^J" 的;^皮^f也分析粒^動，也M(至少)i^考慮到由於雙重作用運動粒
子M時的頻率變化情況下。
分析^w率選棒Ii實施，從而確保僅測量流動的粒子^f^請制固定的 ^^^ua^m^l^^i的幹4t影響。因jtbN應的微波傳感裝置;i^如^4^立^H十數器那樣工作，可以測定^r個
時間#幹4^立子量的測量信號。
為從#>絲一個或多個#^皮傳感裝置的發4^#收單;^續傳￡11^/或(全 部或部分)分析測量信號，糊錢 一個(絲為每個微波傳感敘單獨沐) 與其連接的^"衝斤電子^^，該裝置可以直接或通過Wfc部件，如果例如由於缺
乏"-#^匕的數字輸出需要的話，通娜w數字轉換器和/或^ia件，如匹配電 壓的電阻或勒以部件，形成並向其fe^/f^/或控制單元，例如向適當編程的計
#4幾(Computer,例如CP)繼續傳送測量過程中形成的測量信號(例如電流 或電壓信號)，計#^^如可以顯示或列表或圖形顯示測量信號或^^析或例如 ii可以通ii^;f斤電子^^ii^ti殳4"控制。
測量或獲得測量信號可以連續、脈動式或按間隔進行，其中，對於脈衝或 間隔測量來說測量時間可以不同，例如具有優點的是相對短的測量時間，例如 在不到一秒直至/L^"l中的範圍內。例如，這一點在均勻和同時相應中斷的孩b皮 ,情況下，通過調整i^慮時間或掃^^l例如在分析電子裝^Jiii行，
例如在0.2-200秒的範圍內，在1具有優點的方案中為l-30秒。 (特別^^、射的)賴U^^發明的框架內是指頻率為300 MHz—300 GHz， 例如具有優點的是1 一 100 GHz，例如24.125 GHz ± 100 MHz的^P茲波。
依據本發明的方法4^發明進一步艦的實施方式中，也可以用於將利用 具有確^X寸的^^M^t床設4^據該方法獲得的數^Ht息^ill^具有 較小或^iUC寸的設備上(縮小iUU^ )，絲自動藉助相應的軟^Np硬體進行。
"從刷沐騎床設備中選取的過程設備上"特別是指在刷^,床設備 的內部(^ttbl:例如不是在,的管內)。
;^照>^1據^_發明的方法，特別是可以測定^^匕產品流和/或特別是i^匕的質 量(例如與產品流中各自粒子的流化度、粒度和/或ii^相關)，特別是在無需
校準的情況下，特別是測定產品流的均勻度和/或數量(例如與產品流中粒子的
*^/或^>1相關)，並自動和/或手動與額定^lt進行tb^和相應itk^校正。無 校準的測量就可以說明產品流的質量並由於其簡單而特別艦。"質量"或"數 量"^jJi方面特別是不涉及產品-級，也tfc^說，其不自動表明特徵。
本發明還涉及一個或多個^^^^各自 一個發^^收單元以及一個波導 管的微波傳感裝置其4^#下述方法中的應用。本發明的另一種實施方式涉;sjt用於實祐儂據於本發明方法的或特別A^斤
iU的Wo特別;UJiil下iM於該方法的部分所iO:的J^^l^f床設備.
扭種情況下她
(A) 用於實^Jii^下i^r法的裝置，該裝^A—種以沐化M4I^床 設備的方^於塗層和/^^立化的iif呈設備，財一個或多個噴霧嘴(*#別是 ^"基本(=直接或;^:)向上的噴霧裝置)和一個或多^fH^^^亥^X
具有至少一個孩&皮傳感^i:， *#;^於，所ii傳導^^置4^一處於it禾呈i殳備內
部(=不屬於其壁)的至少一個壁W用於由這種銜皮^J"^I^斤;^的銜皮輻
射朝向產品流方式的定向產品運動的輸入w^至少一個用於由這種產品流的
粒子所>^#的孩&皮^#朝向產品流的輸入*。
(B) 在這種情況下^Hfeii按前面段落所述的裝置，^#棘於，為輸 入由一個或多個微波傳感裝置照射的微波輻射具有各自至少一個微波的波導 管，其貫穿傳導^ch於過程設備內部的壁，4^上具有孩^Ut射的蓋板， 及其遠端在所述的壁朝向產品流的面上與所述的壁朝向產品流的平面M齊 平，而連^fb皮傳感裝置的近端則處於所述的壁背對產品流的面上。
(C) 特別是#^面結構^>^4按前面 (B)所述的裝置，^#徵 在於，該裝置具有兩個或多個所述的傳導裝置並包^個孩&皮傳感裝置，後者 具有兩個或多個可選##通的所述波導管，每個波導管通向傳導裝置之一處於 裝置內部的各自一個壁。
(D) 進一步^^按前面段落所述的裝置，其特徵在於，其中具有一個中 央垂直調節機構，該機構可以向上或向下移動傳導裝置的位置，特別是因為該 裝置具有明顯和緊湊的結構。
(E) 進一步^^^按鄉(D)所述的裝置，^#絲於，中^#直調節機 構與微波傳感裝置和波導管並JLifi^皮導管與傳導裝置的壁固定連接，從而所 述的所有《J^部分均可以共同垂直調節。
(F) iiii—步^^^按鄉(B)所述的裝置，^#棘於，財一個或多 錯導W械個做傳感裝置具有做絲的一個絲單狄一個接收單元 以及每個孩&皮傳感M具有一個所述的波導管。這可以^f測量每^導M,
(G) 進一步^^^按鄉(F)所述的裝置，*#絲於，其中一個或多個 傳導M具有一個或多M直調節機構。這一點例如可以使傳導裝置的高度有
13利於改^^產品^ge^。
(h) 進一步^^it按鄉(f)或(g)所述的裝置，^#棘於，其中一
個或多^N^導M具有中央垂直調節機構。這一點例如可以產生非常緊湊的結 構。
(i) 進一步艦按W (f) — (h)之一所述的組將絲於，每個 傳導M具有帶波^的孩&皮傳感M,
(j)特別她按段落(i)所述的裝置，絲絲於，每個微波傳感n 平j^a傳導裝置的中央垂直調節械的區域內和糾與其固定連絲因此可
以連同與其和傳導^E之一的各自一個壁連接的波矜自動垂直調節。這樣可 以通過垂直調節枳構和無需傳導裝置壁上長孔的情況下達到可簡單垂直調節的目的。
(k)同才fffeit按鄉(f)或(g) ^^—所ii^置的特棘於， 一個或多 個銜皮傳感裝置處於itf呈設備外壁的外面並各自通過貫穿夕卜壁和各自貫穿傳導 裝置壁的波導管與裝置的內部連接。這一點例如可以產生^f的可4^觸性。
(l)進一步^i^按段落(k)所述的裝置，^#棘於，外壁和/或每個 傳導裝置的壁為一個或多個波導管貫穿具有相應數量的長孔，其在環繞各自穿 過的波導管的區域內通iliil^置密封。
(m)特別^ffe^按鄉(h) - (l)之一所述的裝置，^#棘於，每個 傳導裝置具有帶各自 一個波導管的微波傳感裝置，從而例如可以單獨測量每個
產品流0
(n)同##別^^按段落(a) - (m)之一所述的裝置，^Nr棘於，
該裝置^(^vM^的區域內具有一個或多個單一材料或多材料，方式的噴霧嘴。
(o)特界H^t按M (a) - (n)之一所述的裝置用於底部噴塗工藝。 (p)還特別她按W (a) - ( o)之一所述的組絲絲於，該裝
置具有一個或多個Wurster管方式的一個或多個傳導裝置，因此是一種按照
Wurster原理工作的i^^^設備。
(q)特別^^按鄉(a) - ( p)之一所述的裝置，該裝置絲一個或多
個微波傳感裝置和至少一個分析電子裝置，後者可以在頻率和振幅方面，主要
，率選擇，對通過產品流的粒子^Jt的孩i^C進行^4斤。(R)還特別^i^按段落(A) - (Q)之一所述的裝置，^#姊於，每 個微波傳感裝置通過分析電子裝置和/或通過^^部件與分析單it^/或控制單
本發明還涉及""^tit^於依據本發明的方法或特別;U;此iU具有至少一 個m^^置的過銜殳備，其中W卜壁、入itttUN或處於it^設備內部的傳導 裝置中選取的至少一個界線具有至少一個用於由這種孩^U^M照射的樹J皮 4Mt朝向產品流方式的定向產品運動(7)的輸入"^lHi^至少一個用於由這種產
品流的粒子M的^i皮4l^朝向產品流的輸入"w (也^61特別是一個或多個
輸A^輸出部位不一定非得安^Eit^設備內部一個或多個傳導裝置的區域 內，而是必須安^^卜壁Jii^^i^Ji，而;i作為it^V或4卜充可以安^ 入itti^Ji)，其中，J^輸A^輸出^H^卜實現^^ (A)或郷(B)-
()之一或多項所述的其^#徵，其中，過程設備為產生^i^上水平循環的
產品流(特別是藉助至少-HH^上面為7K平循環所述的方法中相應構成的入流 底板)構成##別是可以具有至少一個(用於側面排出產品)可(側面打開和 關閉的)出口。 t^v^目應的過程設備上為輸入一個或多個孩ib皮傳感裝置的微 波具有微波的各自至少一個波導管，其貫穿至少一個所述的界線，^i^上具 有孩ib:fot^的蓋^A其遠端處於界線朝向產品流的面上，而連《^#>皮傳感裝置 的近端則處於界線背對產品流的面上。具有優點的是，這種裝置可以具有兩個 或多個所述的界線並包括一個銜皮傳感裝置，^^"兩個或多個可選##通的 波導管，^^個波導管各自通向處於裝置(it^設備)內部的界線^^一。作為 選擇，每個微^^置可以具有銜皮旨的一個發射單;^一個接收單it^:個 微波傳感裝置具有一個所述的波導管。在上面該段落中所述的過程設備中，微 ^^置可以特別M的方式處於過程設備的外面^t過貫穿過程設備外壁的波 導管與裝置的內部連接。特別皿的i^上述的過程設備，其中噴霧嘴以單或 多材料鋪的方式^X^X^^的區域內，特別A^底部齎塗工藝iU。此 夕卜在上述的過程設備中，可以具有各自至少一個分析單元，其在頻率或頻率和 振幅方面，主要頻率選擇分析通過產品流的粒子絲的孩&皮絲，特別是在考 慮到由產品流內部的粒子M的，頻率變化的情況下'
本發明還涉及一種Jiii或下述的方法，該方法^^1所述的裝置之一或在該 裝置上實施。本發明線的M實施方式H^4在於^U'漆求中，特別是^E通過參考 容納的^/^M，J要求中。本發明的M實施方^ii一步形成的是，iMfe念或 說明通iihi^下述(也包^5^'漆求中)專用或M的定義單項或多項替代。
附圖示出依據本發明的M或方法或其測量結果(可以M的)實施例. 其中
圖1示出-^典型的底部噴J^IU^^設備的側面截面示意圖，財(作為 傳導裝置#^的)Wurster管(也狄Wurster設備)和內裝孩^皮傳感^f^
波導管；
圖2示出一種按照底部喻凃原理工作的典型刷t床設備(從上面)的 截面示意圖，具有(作為傳導裝置舉例的)三個Wurster管輛目應數量通it^皮 ■^f連接、處於流化^^夕h^^r Wurster管中央垂直調節的銜皮傳感裝置；
圖3示出一種按照底部喻凃原理工作的典型^^床設備(從上面)的 截面示意圖，具有(作為傳導裝置舉例的)三個Wurster管並通過波導管與 Wurster管連接以及與中央垂直調節裝置連接、處於^4匕^^內部的銜皮傳 感器裝置；
圖4示出^U匕時入;M^1與Wurster管之間40 mm與50 mm -巨離相比不
均勻流^^例的測量lt據曲線圖5示出不同過程空氣量對Wurster管內沐/^^態影響舉例的測量數據曲
線圖6示出測定所需的最小所需產量時產品容器不同填充量情況下Wurster 管內沐化測量數據的典型曲線圖。
M實施方式
下面的舉例圖示說明本>發明，而不受其P艮制，^a也可以i兌明依^據;^發明的 方法、依據本發明的^I^N^據本發明的應用的他&實施方式 用於依據本發明方法的依據本發明的裝置
依據本發明的方法4可能的測^iU的結構依據圖l對單管-^Vurster-塗層工藝iif呈#^說明。 i^E典型J^ft為按照底部t凃工藝工作(^t l:M的)的iiU匕床設備示出的ii^i殳備1 (例如可以是CPCG15型^^^i殳備=Glatt-粉末制粒機，GlattGmbH， Binzen， Deuchland， ^JH於下面的舉例中)，具 有塗層容器2。該容器向下穿it^ii裡由典型地作為(^^i^的)篩分;fe^！ 成、同時也作為FJUi產品穿過的篩子的入a^3隔開。^可選#^凸緣 5的噴霧嘴4負責將塗層材樸凃覆到所提供的粒子上,粒子利用通itA;;(Uyi3 ^的i^呈氣^^傳導M 6 (il^典型,為(Ht^to的)立管或Wurster 管示出)進行定向的產品運動7 (產品流)。賴b皮M由孩ib皮傳感裝置8 (M 銜皮的(^^分別有一個)^^收單#需要時的分析電子裝置)直接或 ^ &皮導管9輸入傳導紹6內。情;錄明，適當的位置為傳導裝置6的 上部、中間或下部區域，其中，傳導裝置6的絲坦中心作為最佳位置^^1。 ^Ka^—定必須，與傳導裝置6處於過程設備內部的壁10 ##構成(至少一 個)長孔11，通過該長孑1^固定安^_ ^十料元8和需要時具有i^端12 和朝向產品流的鄉13 (需要利用孩^fot^的材^W閉)的波導管9情況下， 傳導裝置6可以垂直調節(例如在^JD直徑22.86 cm和高度60 cm以及材料厚 度3 cm的Wurster管情況下，正如後面的#^'1中所^^)的那樣，長孔ll處於 Wurster管嫂下部6.5 -12.5 cm和/或Ji^下部23.5 - 29.5 cm的區域內)。長 孔ll (il^在的多^L孔)由在工作時通i^T、繞波^貫穿區域的適當^A裝 置14覆蓋，使其沒有通過長孔11的4^流動影響測量。傳導裝置6可以通過 垂直調節機構15 (這裡例如作為固定的臂和環繞Wurster管的環形區域， Wurster管在其內部可以向Jiiil向下移動)在其與入;Mi13的距離上變化。 孩^C由流化的固詢M^H^立子^t並由接收單^艮^^Ht助在8內g 構威和/或單獨的分析電子裝置*^在>^^信號的頻率*振幅方面進行。沉農減
;fit動的粒子可以通it^率選^i分析得到抑制。這一點的a^R點是，可以
在靜止的粒子床與流化的粒子流之間進行區分。波導管的近端12和由此的^^皮 傳感器裝置8扭匕方面可以有利iM:於it^設備的夕卜壁16夕I^P並因此易於接 觸，從而波導管貫穿外壁16。為itb^卜壁16上可以具有一個或(如需要在不 同高座Jiii行測量的情況下)多^Ht必卜壁16不由波導管貫穿的區域環繞波導 管覆蓋和密封的適當M裝M蓋的孔(例如在Wurster設備GPCG15中170 mm、 385 mm或555 mm的高JLL )。
為在過程設備l內^A^多^ft導裝置6，特別U管，依據圖2具有務似於圖1所示的外置孩&皮傳感器裝置8。扭匕方面，特別是可以具有一個所 有傳導裝置6共用的中央垂直調節輔15， 9為波導管，利用其^f衡皮絲
^A做傳感器M 8的銜:fc^^:單元，銜皮傳感器裝置還可以^
一個與傳導M 6的內部空間連接的測量電子裝置。噴霧嘴4 ^it^Ui面示 出。
但依據目的並且具有優點的是，^b皮傳感M 8依據圖3中心例:W5X^ 過程設備l的旁i^N或重疊i5^在中心 一 作為選#>皮導管9也可以各自單獨交 #^接通具有各自一個發#^#^單元的中央#>皮傳感裝置(例如藉助僅可以 接通各自一個來自傳導^￡ 6的波導管9的多路^1# )，從而藉助銜皮傳感 器裝置8 4阿以對通過傳導裝置6 (M作為Wureter管示出)隔開的單個產 品流區域進行測量。微波傳感器裝置8和波導管9在這種情況下可與中央垂直 調節機構15 (^it裡與賴改傳感器裝置8共同示意示出)無^AiL特別AJ: 接與其連接(換句^i兌，麵一種情況下不再需絲直調節減單獨的臂，因 為波導管9同時^ail種功能，而在第,情況下，需要從中央垂直調節才^ 15到傳導裝置6的連，)並可以^^獨或作為單/ti逸向傳導裝置6 (M 作為立管示出)。在波導管與中央垂直調節枳構相互連接構成時，可以和肖可垂 直調節的傳導裝置6壁10與波導管9的^ 13之間的密封件，因為無需^^) 長孔11。如果垂直調節才雄15的臂和波導管9的臂或多個波導管9單^it向各 傳導裝置6，那麼只^*有可垂直調節性，依據目的每傳導裝置6就需t ^H^孔U或在不妙波導管的位置情況下，扭匕方面^t 各自J^卜利用可以使 一個或多個波導管9穿過的M裝置14密封。每*導裝置6 ^ 具有一個本 身的微波傳感器裝置8和一個波導管9，但也可以如上所述的結構那#^具有 一個微波傳感裝置，其通過#波導管交替進行其測量。W^導裝置6的測 量信號可以需要時通過各自已經與銜皮傳感器裝置8 #^成的分析電子裝置 在向其繼續傳ilt^在一個或多個(例如也可與設備控制裝置^#構成的)分析 單元內單獨或共同分才/f^可^Wt。
糊2:校準
為進行工作，必須首先^^l^孩b皮傳感^i置8 ^^準。因為為W^U匕另一 方面不需要^H4il物料流量，所以完全可以例如僅在測量範圍方面調^#波 傳感裝置(也tUX^準)，il^""^艦的實財式。為jtbiif呈設備i，特別是按照J^部喻凃原理工作的諒^^設備或其Coating容器2加入計劃量的粒 子^i殳備在一個或多個所要求的it^氣體i^時各自以確定調整的時間M工 作並確定與此同時出現的最小和最大值，賴b皮傳感裝置8的信號輸出端向後置 (需要時與銜皮傳感裝置l^成)的分析電子裝置提供原始數據值。分析電
子敘將原雜號轉^^可利用的測量信號，然後直^t助分析電子^j:和/或
藉助可與設備控制M^M^成的分;f/f^/或調節單iL^一步處理，例:fto^準、 可視化、儲存(例如為放M縮小收集實驗數據)和/或用於(例如也自動)調 節設備。批方面，^^準系lfc^t樣調整，使產品床靜止時^U零信辨流 4域大時(=首先用於各自的噴^ii^^M立子至少儘可能^^的產品流，W卜 ^於每個時間^iii^產品流內的粒子最大i^粒子^，因為例如^子
i^L過高(過程氣W^t高)時例如噴霧不再足夠，從而^il裡應考慮最大
適用的粒子i;^iJL並因jtbit程氣體逸變)收到不同於零信^例如舉例中最大
(或M最大信號例如25 - 100%範圍內4€供)的測量信號。如果^^t出現受
卩賦其強;1^變化，那麼在孩&皮傳感裝置輸出端上產生同樣變化的測量信號，
從而可以se^過程M。
依據本發明，利用孩b皮傳^^t^可以滿足依據本發明方法^^的下列應用 領域，其中，圖4 - 6中所^:的典型數據用於舉例1中所提到的GPCG15流 ^^i殳備，具有直徑22.86 cm和高度60 cm以及材料厚度3 cm的Wurster管 絲ii^目應的波導管連接SolidFlo^型孩b皮傳感裝置(如上面所彩ij的，與其 通過Shunt電阻(470Q )與16比特的銜W數字轉換器(AD-USB 4 von Conrad) 連接，^f對^^r入端通過lkO電PJ^地)和SolidFlow⑧分析電子裝置FME 輸出端上的轉接器連接計算機，其中，^^I利用轉換器提供的軟體"A1MJSB Data Monitor",以便記錄電壓分布、確定4^換器的掃;^l和^^lt^f^^在計 ^^Ui和輸入Excel,絲過USB接口轉換器上的RS485利用SWR軟體"FME 配置考踏，嗜出分析電子裝置FME的校J1M^據或通過計^4^角定和儲存不同產 品的核^lfc據^i行分析電子裝置的總調整)
舉例3:依據本發明用於監測過程中流化的方法
為(特別是作為Winter管構成的)每付導裝置6 ^^J單獨的銜皮傳感 裝置8。刷t^it程期間，其中每個銜皮傳感裝置提供測量信號。在每傳導 敘6的區^^品流區域內孩財立均勻^^的情況下，測量信號;bf相同並可以
19H^。在設備控制^fjl，例如可以計算信號的平均值和標準偏差'每個微波
傳感裝置8的單項測量值然後可與該平均^iii行H^。如果一個或多個M 8
的單項值低於或高於平均值，那麼可以中斷過禾lil通^i殳4^ft人員'同樣可 以為平均值確定^LP艮，在低於或高於其時可以釆取行動。同樣可以分析平均值
的標準偏差，如^fe碓偏;t^過確定的柳艮，那麼可以得出過程不均勻的結論。 作為^^^it^呈期間可能的幹擾，噴霧嘴的區域內^^ #、粘M堵S^ 傳導M 6的區域內產品iJC^。如絲時發5(Lii些問題，那麼^JU者可以有針 對'l;iiiM^W目應絲並因jH^it產品的損絲破壞以綠濟損失，特別是在導 致噴霧嘴粘絲堵塞的臨界產品方面，這種測量方法幫助確保產品質量。在準 確掌握ii^方法和風險分析的前提下，依it本發明的測量方法由此;l一項重大 開展並可以在 PAT曙 (Process Analytical Technology ) -US-FDA-Initiative"Guidaiicc for Industry, PAT-A Framework for Innovative Pharmaceutical Development^ Manufacturing, and Quality Assurance; Pharmaceutical cGMPs， September2004")過程中作為方J^fM 。
舉例4:這裡以立管位置為例測定導管裝置的適當位置
不^生產i殳"^上，而JUML實驗室內或在^^^i^行的i殳4Ui，均可以 在傳導裝置6上，特別是在Wurster管上^^)微波測量，以便例如測定設備運 行期間傳導裝置6 (例如立管)與入5M^ 3之間的距離。目標是在傳導裝置 所選,位置上ii^儘可能的均勻流化。測量信號在由所要求的^^匕空氣量時 通過一定的時間所記錄。如果信號如圖4舉例所示不均勻，那麼在一定禾ULh 傳導裝置6的位置，以iif)J均勻的信號。
在圖4所示的舉例中，在空氣量1000 m3/h時對直徑範圍約850 -約1000 Hm的30 kg纖維素豐i^物進^f1i^匕。圖4中40 mm的入卩M^-立管距離的信 號分布明確示出更多的產品i^VWureter管內的時間。流^S^布不平穩，這樣 不適於均勻的噴塗。通過浮JWU^璃只肯^不斷M^過程的情況下才能I"出這種 ^^冰態(^UM立子的產品流)。如果Wurster管在^^^^t相同的情況下 按照50 mm的距離進^^整，那麼出現明顯均勻的信號。
因jH^J^I^:尚未知的情況下，可以在新的未知雄開始時，US^可 靠測定^it用的立管距離或適用的流化空氣量等^lt特別是在提供的粒子迅
iii長並因此^U^Nr性妙的構成中，也可以掌握為通過*過程持續時間改善$彭匕，必須何時提高用於^f匕的過程氣體J^/或立管與入i/lt^L的距離進行 酉洽。通ii^目應的調節算法也可以自動重mit些過程。 #^'J5:調j^最^圭的it程空氣量
在傳導M 6的M^位置(特別是Wurster管位置)上，i^f呈中的 彭化 可以4缺蹄氣體量變化。銜'J用依據械明的測量方法可以測定傳導n 6 區域內(特別是Wurster管內)均勻的雄氣體量。雖然可能由於測量的iH 絲性不高，在沒有單^^準測量系統的情況下雄氣體量不同時，不能直接 得出產品流內所^r^i的粒子量的結論，但該方法可以可靠^M尋出^f乜均勻性的 結論，
圖5示出試驗舉例.其中在空氣量750 m3/h和1000 m3/h時對直徑範圍約 850-約1000 fim的30 kg纖維素津雄物進#^|^危化。750 m3/h的空氣量還不 足以^M^定的和4^^^所需的Winter管位JJi達到均勻的流化(或流動)。 如果空氣量提高到1000 m3/11，那麼形成所4^供產品的均勻滅4匕。
過程氣體量的監測和可能的自動調節例如在下述情況下是必要的，即產品 由於梧f生而流動録並為在過程期間均勻^^N應加大過程氣體量。同樣存在 流化的孩討i^受很大^K變化的i^呈，例如在塗覆大量材料的情況下。在這種 情況下，產品的流化狀態同樣^it程期間^jt變化並必須進行跟蹤。依據本發 明掌握變化的沐/f匕狀態，並在需要時(特別是自動)進^it程氣體量的調節。
##J6:測定過禾1^的最小糹^H:
現以另 一應用為例介紹依據本發明用於確定ii^i^內允許的最小產品量
的測量方法。特別是在小賴模的^M匕^it程中，設備填^f^可能少的產品。這
一點在過禾iii行開始時節省M以;sjt常僅少量存在的原始材料。儘管如此，
但重要的"品在過程室內最佳^^匕。因Ab^導裝置的區域內，特別U管內
可供過程^^的產品;^f過少。為後面向損入^#^設備或生產尺寸傳遞過
禾Ht據，理想的是考慮Wurster管內最佳的琉化怍用和噴l:嘴的噴霧^l按此
設計。如^A寸較小或較大而不能》b^iL管內的^^ft用，那麼因jtbit行的計 算在ii^iiU^縮小中可育fe^艦的。實踐中可以通過^U^^皮測量^M^!'J定
M^it程允許的最小填充量。
在"H^^^^中，直徑850 — 1000 pm的^l^雄物逐步加入18"的 Wurster塗層^H內。在每次添加豐M^物^，產品在1000 m3/h的i^X量時各自;^Ut兩^i中。入;M^L與Wurster管的距離為50mm。依據圖6,提供的粒 狀物越多，測量信號的平均值就會上升。Wureter管填^M^多，O^R 供量從20kg起沭i^t物iiJiJ平頂線。對於這些ii^^Hf來說，因此20kg的粒狀 物量為可能的最小量，^it種情況TT以可靠進^U^縮小計算.
權利要求
1. 用於在從流化和輻射床設備中選取的過程設備(1)中塗層和/或粒化的噴塗工藝期間測量、監測和/或調節流化產品的定向產品運動的方法，該方法包括利用一個或多個微波傳感裝置(8)-特別是無接觸地-向一個或多個產品流照射微波輻射，從各自產品流的粒子中接收反射的微波輻射並根據所接收的微波輻射形成和輸出產品流特性化的測量信號。
2. 按擬'J^求1所述的方法，其中，^^皮M的輸A^所述一個或多 個產品流的夕MP區域內進行。
3. 按;M'J要求1或2所述的方法，其中，使用一個或多個樣&皮傳感裝 置(8),每個測量*均具有一個發射單#一個接收單元。
4. 按^U'J^求1-3之一所述的方法，其中，孩b皮騎的輸Ait過一個 或多個波導管(9)進行。
5. 按;M'J要求1 一 4之一所述的方法，其中，每個孩&皮傳感裝置(8) ^ 1一個發射單#一個接收單元以及一個波導管(9),並且每個波導管(9)(13)上由一個對於微波^t足夠⑩的蓋板封閉。
6. 按^U'j要求l-5之一所述的方法，其中，#>皮絲向所^#:查的產 品流內的輸入各自與產品流的主方向垂直或近似垂直進行。
7. 按W'J^求l-6之一所述的方法，其中，孩b皮,的輸A^過程設 備(1)的絲外壁(16)內部具有的一個或多傳導裝置(6) Jiii行，以及 輸Ait過波導管(9)進行，其中，所述一個或多個波導管(9)的鄉(13) 這才f^裝，使其貫穿所述一個或多傳導裝置(6)的各自一個壁(10)且其遠 端(13 )與各自傳導裝置的壁朝向產品流的面缽軒朝向產品流，而鵬(12) 各自處於傳導裝置壁不朝向產品流的面上。
8. 按^Uij要求l-7之一所述的方法，其中，該方法4it種^L^il驗 床設備上實施，即在銜^M者^t床設備中所要測量、所要監測和/或所要調 節的產品流與重力相反，特別;U^向上定向。
9. 按^u'j^求i一8之一所述的方法，其中，^t^法框架內的噴、;^it過一個或多個入^t^區域內所具有的單一材料或多材Wf方式的一個或多 個噴霧嘴(4 )絲上向Jiii行。
10. 按擬'J要求1 - 9之一所述的方法，其中，ii^呈設備(1)是一種按 照底部喻凃工藝工作的Wurster設備，具有一個或多個Wurster管作為傳導裝 置(6)。
11. 按^U'J要求1 —10之一所述的方法，其中，產品流由豐iJL為50 nm -25 mm的粒子城。
12. 按似'J^求11所述的方法，其中，產品流由粗度為200 fim -10 mm 的粒子城，
13. 按W'J要求1 - 12之一所述的方法，其中，產品流由津i^t物、塗罷 的津i^物、片劑、氺辨、賄、擠壓物、晶體、粉末、^^^#料或相當小 的物體誠。
14. 按^f']^求l-ll之一所述的方法，其中，a的孩"皮2fl^在頻率 和^^幅方面^fc^f斤'
15. 按^'J要求1-14之一所述的方法，該方法^E微波,方面頻率選 棒性實施。
16. 按^UiJ要求1 - 15之一所述的方法，其中所接收的一個或多個測量 信號的分析藉助各自與所述一個或多個銜皮傳感裝置(8)連接的分析電子裝置 和/或分才/^控制單itii行，其中，在後者中也可以將測量結果直接用 |節設 備。
17. 按^U'J要求1-16之一所述的方法，其中，測量利用0.2-200秒的 it^慮時間或掃^l進行。
18. 按似'J^求1 -17之一所述的方法，其中，照射的賴b皮旨頻率為1 一100GHz。
19. 按^U'J^"求1 — 18之一所述的方法，其中，照射的#;皮，的頻率 為24.125 GHz ± 100 MHz。
20. 按WJ要求1 - 19之一所述的方法，其中，為確定沭嫂的ii^設備 進行所接收的測量信號的校準，並將所獲得的數^M言,l^iti"較小或較^^ 寸的設備上。
21. —個或多個^^皮傳感裝置(8)在按^5U'虔求1 一 20之一所述的方法 中的應用。
22. 按^f'j要求21所述的應用，其中，每個孩&皮傳感裝置(8)具有一個發粉一個接收單元以及一個波棘
23. 用於實施按^U'虔求1 — 22之一所i^T法的裝置，其中，該裝^i 一種具有一個或多個噴霧嘴(4)以及一個或多^導^ (6)的^^^或 ^tt床設備形式的塗層和/或粒化的過程設備(1)並具有至少一個孩b皮,裝 置(8)，其特徵在於，所述的傳導裝置(6)之一處於過程設備(1)內部的至 少一個壁(10)具有用於由這種銜皮4^j^X (8)所發射的孩ib皮4l^朝向產品 流方式的定向產品運動(7)的輸入"!Mi^至少一個用於由這種產品流的粒子所 反財的^b皮^f朝向產品流的輸入部位。
24. 用於實施^^^U'J^求1 — 22之一所ii^法的^j:，其中，該^i 一種J^匕^^或^^床設備形狀的塗層和/或粒化的過程設備(1)並具有至少 一個孩b皮,裝置(8)，特別A^此而iMo ^##於，該裝置在至少一個 界線Ji^卜壁(16)、入;M^ (3)和/或處於ii^呈設備內部的傳導裝置(6) 中選取至少一個用於由這種銜皮^J"裝置(8)所發射的銜皮^t朝向產品琉方 式的定向產品運動(7)的輸入^Hi^至少一個用於由這種產品流的粒子所A^ 的孩b皮旨朝向產品流的^^^4fHi。
25. 按W'J要求24所述的裝置，^#棘於，該裝置除了至少一個入流 ;l^卜還具有至少一個用於排出產品的可打開和關閉的側面出口。
26. 按^U'j要求25所述的裝置，^#棘於，過程設備為產^1^上水 平循環的產品流藉助至少一個相應構成的入;M^構成並具有至少一個用於側 面排出產品的可側面打開和關閉的出口。
27. 在^^I按;M'J要求25或26所述裝置的情況下按^M'J^求1 - 22之 一所述的方法，該方法包括產品排出-特別是自動地- ^AiUiJiJ產品 流的確定特'Iiil孩&皮傳感裝置相應產生的測量信號情況下通過至少一個可打開 和關閉的側面出口產生或進^t^/或結束。
全文摘要
本發明涉及一種方法，用於在從流化和輻射床設備中選取的過程設備(1)中塗層和/或粒化的噴塗方法期間測量、監測和/或調節流化產品的定向產品運動，該方法包括利用一個或多個微波傳感裝置(8)無接觸地向一個或多個產品流照射微波輻射，從各自產品流的粒子中接收反射的微波輻射並根據所接收的微波輻射形成和輸出產品流特性化的測量信號。本發明此外還涉及微波傳感裝置(8)的相應應用和相應構成的裝置(1)。
文檔編號B01J2/16GK101426568SQ200780004225
公開日2009年5月6日 申請日期2007年1月23日 優先權日2006年2月3日
發明者B·魯伊, J·A·德雷斯勒, M·斯特魯什卡 申請人:戈拉特有限公司