玻璃基板的研磨方法及研磨裝置的製作方法
2023-10-22 01:40:57 1
專利名稱：玻璃基板的研磨方法及研磨裝置的製作方法
技術領域：
本發明涉及玻璃基板的研磨方法及研磨裝置。
背景技術：
液晶顯示器等FPD (Flat Panel Display 平板顯示器)用玻璃基板例如利用浮法窯爐等的玻璃帶成形裝置，將成形為帶狀的玻璃帶在折斷工序中折斷加工成規定的矩形形狀尺寸的玻璃基板，在倒角工序中對其進行倒角加工，從而製造出規定的外形尺寸的玻璃基板。並且，該玻璃基板經由設置於倒角工序的後段的清洗工序及檢查工序而被向研磨工序移送，通過研磨除去表面的微小的凹凸或波紋度，而製造成滿足FPD用玻璃基板所要求的平坦度的薄板狀。在所述研磨工序中，將玻璃基板的非研磨麵吸附固定於工作檯，將工作檯向研磨部輸送，一邊對玻璃基板的研磨麵供給研磨液(漿液)一邊通過研磨工具來研磨玻璃基板的研磨麵。在該研磨時，研磨液從玻璃基板的緣部浸入玻璃基板的非研磨麵的緣部，產生作為研磨液的成分的氧化鈰或因研磨而削落的玻璃的成分附著於玻璃基板的非研磨麵的緣部而汙染緣部的不良情況。為了防止該不良情況，在專利文獻1的晶片的研磨方法中，在晶片的非研磨麵上形成由合成樹脂制的保護材料構成的保護膜。經由該保護膜將晶片的非研磨麵固定於研磨夾具，從而保護晶片的非研磨麵的緣部免受研磨液的汙染。另外，在專利文獻2所公開的晶片的研磨方法中，在晶片的非研磨麵與晶片載置用板之間夾設多元醇等緩衝材料，從而保護晶片的非研磨麵的緣部免受研磨液的汙染。專利文獻1 日本特開昭62-512 號公報專利文獻2 日本特開平6-61203號公報然而，被稱為連續式研磨裝置的玻璃基板的研磨裝置利用規定的環路一邊輸送吸附固定玻璃基板的非研磨麵的工作檯一邊對玻璃基板的研磨麵進行研磨。即，在構成環路的工作檯的輸送路徑上依次設有玻璃基板的吸附固定部、研磨部、玻璃基板的卸下部、工作檯清洗部。研磨前的玻璃基板的非研磨麵被吸附固定在位於所述吸附固定部的工作檯上， 然後，通過工作檯向所述研磨部輸送而進行研磨。接下來，研磨後的玻璃基板通過工作檯向所述卸下部輸送，在此從工作檯卸下玻璃基板。卸下了玻璃基板的工作檯在通過所述清洗部期間被清洗，準備作為下一個玻璃基板的吸附用工作檯。在此，專利文獻1所公開的研磨方法是在晶片的非研磨麵上預先形成保護膜後進行研磨的方法。而且，專利文獻2所公開的研磨方法是在晶片的非研磨麵與晶片載置用板之間設置保護膜的方法。然而，玻璃基板的尺寸的縱橫尺寸超過IOOOmm的玻璃基板是主流，但難以對此種大型的玻璃基板預先形成所述保護膜。而且，由於另外需要用於形成保護膜的設備，因此存在難以將專利文獻1的研磨方法用於玻璃基板的研磨方法中。
另一方面，若在通過工作檯直接吸附玻璃基板的玻璃基板的研磨裝置中採用在晶片的非研磨麵與晶片載置用板之間設置保護膜的專利文獻2的研磨方法，在研磨時，玻璃基板不穩定，因此這種方法不可行。所述玻璃基板的研磨裝置的工作檯的吸附面由自身具有吸附性的片材構成。若對片材的表面進行乾燥，則片材自身的吸附性減弱，在玻璃基板的研磨中，玻璃基板有可能會破裂。因此，為了防止吸附固定在該片材上的玻璃基板的非研磨麵的乾燥或提高片材的自身吸附性，而需要經由防止乾燥用液將玻璃基板吸附固定在片材上。這種情況下也需要將防止乾燥用液良好地供給到玻璃基板與片材之間。
發明內容
本發明鑑於此種情況而作出，其目的在於提供一種能夠防止研磨液對玻璃基板的非研磨麵的緣部的汙染且能夠將玻璃基板的非研磨麵良好地吸附固定在工作檯上的玻璃基板的研磨方法及研磨裝置。為了實現上述目的，本發明的玻璃基板的研磨方法包括液體噴霧工序，朝向吸附固定玻璃基板的非研磨麵的工作檯對所述工作檯的吸附固定玻璃基板的非研磨麵的整個區域的區域從第一噴嘴噴出防止乾燥用液，接著相對於所述工作檯對所述工作檯的吸附固定玻璃基板的非研磨麵的緣部的區域從第二噴嘴噴出緩衝液；玻璃基板固定工序，經由所述防止乾燥用液將玻璃基板的非研磨麵的整個區域吸附固定於所述工作檯，並且經由所述緩衝液將所述玻璃基板的非研磨麵的緣部吸附固定於所述工作檯；及研磨工序，一邊向非研磨麵被吸附固定於所述工作檯上的所述玻璃基板的研磨麵供給研磨液一邊利用研磨工具研磨該研磨麵。為了實現上述目的，本發明的玻璃基板的研磨裝置包括工作檯，吸附固定玻璃基板的非研磨麵；液體噴霧部，具有第一噴嘴和第二噴嘴，所述第一噴嘴朝向所述工作檯，對所述工作檯的吸附固定玻璃基板的非研磨麵的整個區域的區域噴出防止乾燥用液，所述第二噴嘴相對於所述工作檯，對所述工作檯的吸附固定玻璃基板的非研磨麵的緣部的區域噴出緩衝液；玻璃基板固定部，經由所述防止乾燥用液將玻璃基板的非研磨麵的整個區域吸附固定於所述工作檯，並且經由所述緩衝液將所述玻璃基板的非研磨麵的緣部吸附固定於所述工作檯；及研磨部，一邊向非研磨麵被吸附固定於所述工作檯上的所述玻璃基板的研磨麵供給研磨液一邊利用研磨工具研磨該研磨麵。根據本發明，首先從第一噴嘴朝向工作檯噴出防止乾燥用液，對吸附固定玻璃基板的非研磨麵的整個區域的區域塗敷防止乾燥用液，接著從第二噴嘴朝向工作檯噴出緩衝液，相對於工作檯，對吸附固定玻璃基板的非研磨麵的緣部的區域塗敷緩衝液。接著，通過玻璃基板固定部，經由所述防止乾燥用液將玻璃基板的非研磨麵的整個區域吸附固定於工作檯，並且經由所述緩衝液將玻璃基板的非研磨麵的緣部吸附固定於工作檯。接著，利用研磨部，一邊向玻璃基板的研磨麵供給研磨液一邊利用研磨工具研磨研磨麵。在該研磨中，由於玻璃基板的非研磨麵的緣部受到緩衝液的保護，因此所述緣部不會被研磨液汙染。如上所述，本發明從液體噴霧部朝向工作檯噴出防止乾燥用液及緩衝液，因此能夠防止研磨液對玻璃基板的非研磨麵的緣部的汙染，且能夠將玻璃基板的非研磨麵良好地吸附固定在工作檯上。根據本發明的玻璃基板的研磨方法，所述液體噴霧工序優選，一邊使所述工作檯及所述第一、第二噴嘴中的至少一方相對移動，一邊從所述第一噴嘴噴出所述防止乾燥用液並從所述第二噴嘴噴出所述緩衝液。根據本發明的玻璃基板的研磨裝置，所述液體噴霧部優選，一邊使所述工作檯及所述第一、第二噴嘴中的至少一方相對移動，一邊從所述第一噴嘴噴出所述防止乾燥用液並從所述第二噴嘴噴出所述緩衝液。使工作檯移動時，首先，將空的工作檯沿著工作檯輸送路徑向液體噴霧部輸送。並且，一邊沿著工作檯輸送路徑輸送該工作檯，一邊從第一噴嘴朝向工作檯噴出防止乾燥用液，對工作檯塗敷防止乾燥用液，並且從第二噴嘴朝向工作檯噴出緩衝液，對工作檯塗敷緩衝液。另外，使第一、第二噴嘴移動時，使第一、第二噴嘴相對於被固定的工作檯的上表面移動而對工作檯噴出防止乾燥用液及緩衝液。然而，一邊使工作檯沿著輸送路徑移動一邊對玻璃基板進行研磨時，為設第一、第二噴嘴形成為固定型並利用現存的工作檯輸送設備朝向輸送中的工作檯噴出防止乾燥用液及緩衝液的結構，由於不用附加噴嘴行動裝置就能夠噴出防止乾燥用液及緩衝液，因此優選。根據本發明的玻璃基板的研磨方法及研磨裝置，優選，所述防止乾燥用液和所述緩衝液為同一液體。根據本發明的玻璃基板的研磨方法及研磨裝置，優選，所述液體為多元醇。根據本發明，使用同一液體作為防止乾燥用液和緩衝液時，優選多元醇。此外，可以例示水作為防止乾燥用液。然而，由於多元醇比水的防止乾燥作用高，因此優選多元醇。 而且，多元醇也優選作為防止研磨液對玻璃基板的緣部的汙染的防止汙染液。多元醇的種類並未特別限定，具體而言，例示有甘油、聚乙二醇、乙二醇、丙二醇、 二乙二醇等。而且，防止乾燥用液及緩衝液既可以由兩種以上的多元醇構成，也可以將多元醇和水混合而形成多元醇水溶液。根據本發明的玻璃基板的研磨方法，優選，在與所述工作檯正交的方向上，在所述工作檯的上方配置多個將所述第一噴嘴和所述第二噴嘴通用化而成的同一通用噴嘴，從所述通用噴嘴朝向所述工作檯噴出所述液體。根據本發明的玻璃基板的研磨裝置，優選，在與所述工作檯正交的方向上，在所述工作檯的上方配置多個將所述第一噴嘴和所述第二噴嘴通用化而成的同一通用噴嘴，從所述通用噴嘴朝向所述工作檯噴出所述液體。根據本發明，對吸附固定玻璃基板的非研磨麵的整個區域的工作檯的區域塗敷從多個通用噴嘴噴出的多元醇等同一液體，並且對吸附固定玻璃基板的非研磨麵的整個緣部的工作檯的區域塗敷所述液體。如此通過使用同一液體，能夠使第一、第二噴嘴通用化，因此能夠簡化相對於噴嘴的液體供給系統。由此，本發明能夠以簡單的設備構成液體噴霧部。在本發明中，設置了朝向工作檯噴出防止乾燥用液及緩衝液的液體噴霧工序，但也可以取代該工序，而設置對玻璃基板的非研磨麵的整個區域塗敷防止乾燥用液並對所述非研磨麵的緣部塗敷緩衝液的工序。
[發明效果]根據本發明的玻璃基板的研磨方法及研磨裝置，由於從液體噴霧部朝向工作檯噴出防止乾燥用液及緩衝液，因此能夠防止研磨液對玻璃基板的非研磨麵的緣部的汙染，且能夠將玻璃基板的非研磨麵良好地吸附固定在工作檯上。
圖1是表示實施方式的玻璃基板的研磨裝置的整體結構的俯視圖。圖2是從工作檯輸送路徑的下遊側觀察到的液體噴霧部的結構的主視圖。圖3是圖2所示的液體噴霧部的俯視圖。圖4是表示通過第二噴嘴組噴出緩衝液的區域和未噴出緩衝液的區域的說明圖。圖5是表示第二噴嘴組的電磁閥的開閉動作的時間圖。圖6是從工作檯輸送路徑的下遊側觀察到的另一實施方式的液體噴霧部的結構的主視圖。圖7是圖6所示的液體噴霧部的俯視圖。圖8是表示向通用噴嘴供給多元醇的液體配管系統的框圖。圖9是表示用於對向通用噴嘴供給的多元醇的噴射進行開-閉控制的空氣配管系統的框圖。圖10是表示液體噴霧部中的變更工作檯的速度的區域的說明圖。圖11是表示液體噴霧部中的工作檯的速度的時間圖。標號說明G玻璃基板10玻璃基板的研磨裝置12 工作檯14液體噴霧部16玻璃基板固定部18 研磨部20a 20d 第一噴嘴22第一噴嘴組24液體供給系統26 吸附區域28a ^n 第二噴嘴30第二噴嘴組32液體供給系統34A、34B 區域36A、36B 區域40液體噴霧部4 42η 通用噴嘴43a 43η 流量計44通用噴嘴組
46液體供給系統
48多元醇供給部
50A、50B 區域
52電磁閥
54,56,58 通用噴
60、62、64 電磁閥
66吸附區域
70罐
72泵
74流量計
76止回閥
78過濾器
具體實施例方式以下，根據附圖，詳細說明本發明的實施方式的玻璃基板的研磨方法及研磨裝置的優選的方式。圖1是表示實施方式的玻璃基板的研磨裝置10的整體結構的俯視圖。在圖1中， 箭頭表示對矩形形狀的玻璃基板G的非研磨麵進行吸附固定的矩形形狀的工作檯12的工作檯輸送路徑。在工作檯輸送路徑上，從工作檯輸送路徑的上遊側朝向下遊側依次配置有液體噴霧部14、玻璃基板固定部16及研磨部18。而且，在研磨部18的下遊側設有未圖示的玻璃基板卸下部和工作檯清洗部。在研磨部18中，玻璃基板G以玻璃基板G的非研磨麵被工作檯12吸附固定的狀態一邊被沿著工作檯輸送路徑輸送一邊被沿著工作檯輸送路徑配置的多臺研磨工具連續研磨。此時，一邊對玻璃基板G的研磨麵供給研磨液，一邊通過旋轉的所述研磨工具對研磨麵進行研磨。並且，在研磨部18的出口，玻璃基板G被製造成滿足FPD用玻璃基板所要求的平坦度的薄板狀。配置於研磨部18的研磨工具的臺數並不限於多臺。即，根據玻璃基板 G的尺寸，也可以是一臺研磨工具。研磨結束後的玻璃基板G被從研磨部18送出並送入到所述玻璃基板卸下部，在此從工作檯12卸下玻璃基板。然後，卸下了玻璃基板G的工作檯12在通過所述工作檯清洗部時被清洗液清洗，然後為了吸附固定下一個玻璃基板G而再次被輸送至液體噴霧部14。 如上所述，工作檯輸送路徑構成為環狀，以使工作檯12依次通過液體噴霧部14、玻璃基板固定部16、研磨部18、玻璃基板卸下部及工作檯清洗部。實施方式的工作檯12在工作檯輸送路徑上配置多臺，而且，在一臺工作檯12上吸附固定有兩張玻璃基板G。配置在工作檯輸送路徑上的工作檯12的臺數並未被限定，而且吸附固定在工作檯12上的玻璃基板G的張數也不限於兩張。即，根據玻璃基板G的尺寸， 既可以是一張，也可以是三張以上。圖2是從工作檯輸送路徑的下遊側觀察到的液體噴霧部14的結構的主視圖。艮口， 工作檯12從圖2的紙面內側朝向紙面外側輸送。而且，圖3是液體噴霧部14的俯視圖。在圖3中，工作檯12上圖示的雙點劃線表示定位於工作檯12並被吸附固定的玻璃基板G的緣部。如圖2所示，在工作檯輸送路徑的上方配置有對工作檯上的吸附區域噴出防止乾燥用液的由四個第一噴嘴20a、20b、20c、20d構成的第一噴嘴組22。所述第一噴嘴20a 20d在與工作檯輸送路徑正交的方向上固定於工作檯12的上方的未圖示的臺架上，並經由液體供給系統M與防止乾燥用液供給部(未圖示)連結。通過從所述第一噴嘴20a 20d 噴出的防止乾燥用液，而對圖3所示的雙點劃線所包圍的玻璃基板G的非研磨麵的整個區域被吸附固定的吸附區域26塗敷防止乾燥用液。防止乾燥用液的噴霧區域也可以是工作檯12的整個面，但從節約防止乾燥用液的觀點出發，優選吸附區域沈。該第一噴嘴20a 20d經由電磁閥與所述防止乾燥用液供給部連結。該電磁閥由未圖示的控制部進行間歇開閉控制，使得該電磁閥僅在吸附區域沈通過第一噴嘴20a 20d的下方期間打開。因此，通過第一噴嘴20a 20d僅對吸附區域沈塗敷防止乾燥用液。另外，在工作檯輸送路徑的上方配置由14個第二噴嘴^aJ8bJ8CJ8dJ8e、 28f,28g,28h,28i,28j\28k,281,28m,28n構成的第二噴嘴組30，所述第二噴嘴組30對工作檯12上的玻璃基板G的非研磨麵的緣部被吸附固定的區域噴出緩衝液。所述第二噴嘴 28a 28η在與工作檯輸送路徑正交的方向上固定於工作檯12的上方的未圖示的臺架上， 並經由液體供給系統32與緩衝液供給部(未圖示)連結。緩衝液是用於防止研磨液對玻璃基板G的非研磨麵的汙染的液體。第二噴嘴28a ^n中的配置在兩側的兩個第二噴嘴^a、28n分別與圖3中的雙點劃線所示的玻璃基板G的緣部中的相對的短邊部所通過的區域34A、34B相對配置。這兩個第二噴嘴^a、28n經由電磁閥與所述緩衝液供給部連結。該電磁閥由未圖示的控制部進行間歇開閉控制，使得該電磁閥僅在區域34A、34B通過兩個第二噴嘴^aJSn的下方期間打開。因此，通過兩個第二噴嘴^a、28n僅對區域34A、34B塗敷緩衝液。另一方面，除第二噴嘴28a及噴嘴28η之外的噴嘴^b ^m與圖3中的雙點劃線所示的玻璃基板G的緣部中的相對的長邊部所通過的區域36Α、36Β相對配置。而且，所述第二噴嘴28b 28m經由電磁閥與所述緩衝液供給部連結。該電磁閥由未圖示的控制部進行間歇開閉控制，使得該電磁閥僅在區域36A、36B通過第二噴嘴^b ^m的下方期間打開。即，第二噴嘴^b ^m中，通過所述控制部控制電磁閥的開閉，以在圖4所示的 A E的分割區域中的與圖3的區域36A、36B相當的分割區域A、C(E也同樣)通過第二噴嘴^b ^m的下方期間如圖5所示使電磁閥打開。因此，通過12個第二噴嘴^b 28m 僅對區域36A、36B塗敷緩衝液。如上所述，對圖3中的由雙點劃線包圍的玻璃基板G的非研磨麵的大致整個區域被吸附固定的吸附區域26塗敷防止乾燥用液，並且對圖3中雙點劃線所示的玻璃基板G的非研磨麵的緣部的區域34A、34B、36A、36B塗敷緩衝液。而且，由於第一噴嘴組22配置在工作檯輸送路徑的上遊側且第二噴嘴組30配置在工作檯輸送路徑的下遊側，因此在區域 34A、34B、36A、36B中，在防止乾燥用液的上層塗敷緩衝液。如此，塗敷有防止乾燥用液和緩衝液的工作檯12沿著工作檯輸送路徑被輸送到圖1所示的玻璃基板固定部16。在此，玻璃基板G的非研磨麵在工作檯12上被定位且吸附固定在圖3中的由雙點劃線所示的玻璃基板G的位置。吸附固定在工作檯12上的兩張玻璃基板G沿著工作檯輸送路徑被輸送到圖1的研磨部18，在此如上所述通過多個研磨工具對玻璃基板G的研磨麵進行連續研磨。接著，說明如上所述構成的玻璃基板的研磨裝置的作用。首先，沿著工作檯輸送路徑將空的工作檯12向液體噴霧部14輸送。然後，一邊沿著工作檯輸送路徑輸送該工作檯12，一邊從第一噴嘴組22朝工作檯12噴出防止乾燥用液， 並對圖3的吸附區域沈塗敷防止乾燥用液。然後，從第二噴嘴組30朝向工作檯12噴出緩衝液，並對玻璃基板G的非研磨麵的緣部的區域34A、34B、36A、36B塗敷緩衝液。接著，將該工作檯12向玻璃基板固定部16輸送，在此將玻璃基板G的非研磨麵的整個區域經由所述防止乾燥用液吸附固定在工作檯12上，並將玻璃基板G的非研磨麵的整個緣部經由所述緩衝液吸附固定在工作檯12上。接著，將該工作檯12向研磨部18輸送，在此一邊對玻璃基板G的研磨麵供給研磨液，一邊通過研磨工具對研磨麵進行研磨。在該研磨中，玻璃基板G的非研磨麵的緣部受到緩衝液的保護，因此所述緣部不會被研磨液汙染。如此，根據上述實施方式的研磨裝置10，在工作檯輸送路徑上設置液體噴霧部 14，從第一噴嘴組22朝向沿著工作檯輸送路徑輸送中的工作檯12噴出防止乾燥用液，並從第二噴嘴組30噴出緩衝液。因此，根據該玻璃基板的研磨裝置10，在一邊輸送工作檯12 —邊研磨非研磨麵吸附固定在工作檯12上的玻璃基板G的玻璃基板的研磨裝置10中，能夠防止研磨液對玻璃基板G的非研磨麵的緣部的汙染，並能夠將玻璃基板G的非研磨麵良好地吸附固定在工作檯12上。可以例示多元醇、多元醇水溶液、水作為防止乾燥用液，且可以例示多元醇、多元醇水溶液作為緩衝液。圖6 圖11是用於說明液體噴霧部的另一實施方式的圖。圖6是從工作檯輸送路徑的下遊側觀察到的另一實施方式的液體噴霧部40的結構的主視圖。而且，圖7是液體噴霧部40的俯視圖。圖7的工作檯12上圖示的雙點劃線表示定位並吸附固定在工作檯12 上的玻璃基板G的緣部。在圖6、圖7所示的液體噴霧部40中，噴出相同液體即多元醇作為防止乾燥用液及緩衝液。而且，液體噴霧部40具備將第一噴嘴和第二噴嘴通用化而成的、由相同結構的 14 個通用噴嘴 42a、42b、42c、42d、42e、42f、42g、42h、42i、42j、42k、421、42m、42n 構成的通用噴嘴組44。所述通用噴嘴4 42η在與工作檯輸送路徑正交的方向上固定在工作檯 12上方的未圖示的臺架上，並經由液體供給系統46與圖8、圖9所示的多元醇供給部48連結。在圖8中示出了向通用噴嘴42a 42η供給多元醇的液體配管系統，圖9中示出用於對向通用噴嘴4 42η供給的多元醇的噴射進行開-閉控制的空氣配管系統。即，通過電磁閥52、60、62、64開-閉控制來自泵72的壓縮空氣，使用如此控制的壓縮空氣來使通用噴嘴42a 42η的各活塞動作，從而對多元醇的噴射進行開-閉控制。通用噴嘴4 42η中的配置在兩側的兩個通用噴嘴42a、42n與圖7中雙點劃線表示的玻璃基板G的緣部中的相對的短邊部所通過的區域50A、50B相對配置。如圖8所示， 這兩個通用噴嘴42a、42η經由流量計43a、43η、液體供給系統46、過濾器78而與多元醇供給部48連結。而且，圖9所示的電磁閥52由未圖示的控制部進行間歇開閉控制，使得該電磁閥僅在區域50A、50B通過兩個通用噴嘴42a、42n的下方期間打開。因此，通過兩個通用第二噴嘴42a、42η僅對區域50Α、50Β塗敷多元醇。另一方面，除通用噴嘴4 及噴嘴42η之外的通用噴嘴42b 4 !與圖7中的雙點劃線所示的玻璃基板G的緣部中的相對的長邊部所通過的區域52A、52B相對配置。而且，如圖9所示，所述通用噴嘴42b 42m的系統被分割成通用噴嘴42b 42e、通用噴嘴42f 42i、以及通用噴嘴42j 4 !這三個而構成通用噴嘴小組M、56、58。所述通用噴嘴小組 M、56、58經由電磁閥60、62、64與泵72連結，而且，如圖8所示，經由流量計43b 43m、液體供給系統46、過濾器78而與多元醇供給部48連結。電磁閥60、62、64由未圖示的控制部進行間歇開閉控制，使得該電磁閥60、62、64僅在包含區域52A、52B在內的圖7中雙點劃線所包圍的玻璃基板G的吸附區域66通過12個通用噴嘴42b 42m的下方期間打開。如圖8所示，多元醇供給部48構成包括積存多元醇的罐70、向罐70供給壓縮空氣的未圖示的泵、計測向罐70供給的壓縮空氣量的流量計74、及防止從罐70向液體供給系統 46輸送的多元醇的回流的止回閥76。根據該多元醇供給部48，通過從所述泵向罐70供給壓縮空氣，而將罐70內的多元醇從止回閥76經由過濾器78向液體供給系統46輸送。罐70、流量計74及止回閥76如圖 8所示能夠並列設置兩臺。然而，為了發揮防止研磨液對玻璃基板的非研磨麵的緣部的汙染這一緩衝液的功能，而優選將作為緩衝液向工作檯12塗敷的多元醇的量(每單位面積的塗敷量)設定成多於作為防止乾燥用液而塗敷的多元醇的量(每單位面積的塗敷量)。換言之，使工作檯12的輸送速度一定而使來自全部的通用噴嘴4 42η的多元醇噴霧量相同時，無法進行上述設定。而且，將來自全部的通用噴嘴4 42η的多元醇噴霧量設定成向與緣部對應的區域50Α、50Β、52Α、52Β噴霧的作為緩衝液的塗敷量時，向區域 66塗敷多餘的多元醇，而浪費了多元醇。因此，在實施方式的液體噴霧部40中，將來自除兩側的通用噴嘴42a、42n之外的 12個噴嘴42b 42m的噴霧量設定成作為向區域52A、52B噴霧的緩衝液的塗敷量。而且， 將來自兩側的通用噴嘴42a、42n的噴霧量設定成比來自其他通用噴嘴42b 4 !的噴霧量多出若干量，然後，工作檯12的輸送速度如下所述控制。在此，所謂多出若干量是指來自通用噴嘴42a、42n的噴霧量為來自其他通用噴嘴42b 42m的噴霧量的100倍以上。S卩，在圖10所示的A E的分割區域中，將與圖7的區域52A、52B相當的分割區域A、C(B也同樣)設定成如圖11所示的通常的工作檯輸送速度Si，將與圖7的區域66相當的分割區域B(D也同樣)設定成如圖11所示的比Sl高的速度S2。作為向與緣部對應的區域5 OA、5 0B、5 2A、5 2B噴射的緩衝液的塗敷量，優選為 0. OOlml/cm2，優選為作為向區域66噴射的緩衝液的塗敷量的100倍以上。由此，塗敷在圖7的區域52A、52B上的多元醇的量成為作為緩衝液優選的量，向區域66噴射的多元醇量成為比作為緩衝液的優選量少的作為防止乾燥用液的優選量。而且， 工作檯輸送速度S2為高速，但由於來自兩側的通用噴嘴42a、42n的噴霧量設定成比來自其他通用噴嘴42b 42m的噴霧量多出若干量，因此向區域50A、50B噴出的多元醇的量成為作為緩衝液的優選量。在此，所謂多出若干量是指來自通用噴嘴42a、42n的噴霧量為來自其他通用噴嘴42b 42m的噴霧量的100倍以上。通過使用同一液體的多元醇作為如此噴射的液體，從而能夠將圖2、圖3所示的第一噴嘴組22和第二噴嘴組30通用化，因此能夠簡化對通用噴嘴4 42η的液體供給系統。由此，該實施方式的液體噴霧部40與圖2、圖3所示的液體噴霧部14相比成為簡單的設備。在液體噴霧部40中，使工作檯12的輸送速度可變而控制多元醇的塗敷量，但並不限於此。例如，使工作檯12的輸送速度一定，將來自兩側的通用噴嘴42a、42n的噴霧量設定成作為緩衝液的最佳量，並控制其它12個通用噴嘴42b 4 !的噴霧量。即，當區域52A、 52B通過通用噴嘴42b 4 !的下方時，將噴霧量設定成作為緩衝液的最佳量，當區域66通過通用噴嘴42b 42m的下方時，將噴霧量設定成作為防止乾燥用液的最佳量即可。此種流量控制可以通過使用流量可變閥並具備根據工作檯12的移動位置而控制流量可變閥的開度的控制部來實現。另外，在實施方式中，說明了工作檯為移動型而第一、第二噴嘴為固定型的結構， 但並不限於此。即，也可以使工作檯為固定型而使第一、第二噴嘴為移動型，在固定的工作檯的上方一邊使第一、第二噴嘴移動，一邊向工作檯噴出防止乾燥用液、緩衝液，而在工作檯上形成所希望的噴霧圖案。另一方面，也可以使工作檯及第一、第二噴嘴為固定型。這種情況下，為了在工作檯上將所希望的噴霧圖案形成於工作檯，而在工作檯的上方配置金屬掩摸等掩模部件來對工作檯整體噴出通用的液體(多元醇)。由此，能夠將噴霧圖案形成於工作檯。通過與噴霧圖案一致地在工作檯的上方調整第一噴嘴、第二噴嘴的配置位置，也能夠在工作檯上形成所希望的噴霧圖案。詳細或參照特定的實施方式說明了本發明，但對於本領域技術人員來說，不脫離本發明的範圍和精神而能夠施加各種修改或變更的情況是不言自明。本申請是基於2010年6月1日提出申請的日本專利申請2010-U6083的申請而做出的，並且在此作為參照而引用其內容。
權利要求
1.一種玻璃基板的研磨方法，包括液體噴霧工序，朝向吸附固定玻璃基板的非研磨麵的工作檯對所述工作檯的吸附固定玻璃基板的非研磨麵的整個區域的區域從第一噴嘴噴出防止乾燥用液，接著相對於所述工作檯對所述工作檯的吸附固定玻璃基板的非研磨麵的緣部的區域從第二噴嘴噴出緩衝液；玻璃基板固定工序，經由所述防止乾燥用液將玻璃基板的非研磨麵的整個區域吸附固定於所述工作檯，並且經由所述緩衝液將所述玻璃基板的非研磨麵的緣部吸附固定於所述工作檯；及研磨工序，一邊向非研磨麵被吸附固定於所述工作檯上的所述玻璃基板的研磨麵供給研磨液一邊利用研磨工具研磨該研磨麵。
2.根據權利要求1所述的玻璃基板的研磨方法，其中，所述液體噴霧工序中，一邊使所述工作檯及所述第一、第二噴嘴中的至少一方相對移動，一邊從所述第一噴嘴噴出所述防止乾燥用液並從所述第二噴嘴噴出所述緩衝液。
3.根據權利要求2所述的玻璃基板的研磨方法，其中，所述防止乾燥用液和所述緩衝液為同一液體。
4.根據權利要求3所述的玻璃基板的研磨方法，其中，所述液體為多元醇。
5.根據權利要求3或4所述的玻璃基板的研磨方法，其中，在與所述工作檯的相對移動方向正交的方向上，在所述工作檯的上方配置多個將所述第一噴嘴和所述第二噴嘴通用化而成的同一通用噴嘴，從所述通用噴嘴朝向所述工作檯噴出所述液體。
6.一種玻璃基板的研磨裝置，包括工作檯，吸附固定玻璃基板的非研磨麵；液體噴霧部，具有第一噴嘴和第二噴嘴，所述第一噴嘴朝向所述工作檯對所述工作檯的吸附固定玻璃基板的非研磨麵的整個區域的區域噴出防止乾燥用液，所述第二噴嘴相對於所述工作檯對所述工作檯的吸附固定玻璃基板的非研磨麵的緣部的區域噴出緩衝液；玻璃基板固定部，經由所述防止乾燥用液將玻璃基板的非研磨麵的整個區域吸附固定於所述工作檯，並且經由所述緩衝液將所述玻璃基板的非研磨麵的緣部吸附固定於所述工作檯 』及研磨部，一邊向非研磨麵吸附固定於所述工作檯上的所述玻璃基板的研磨麵供給研磨液一邊利用研磨工具研磨該研磨麵。
7.根據權利要求6所述的玻璃基板的研磨裝置，其中，所述液體噴霧部一邊使所述工作檯及所述第一、第二噴嘴中的至少一方相對移動，一邊從所述第一噴嘴噴出所述防止乾燥用液並從所述第二噴嘴噴出所述緩衝液。
8.根據權利要求7所述的玻璃基板的研磨裝置，其中，所述防止乾燥用液和所述緩衝液為同一液體。
9.根據權利要求8所述的玻璃基板的研磨裝置，其中，所述液體為多元醇。
10.根據權利要求8或9所述的玻璃基板的研磨裝置，其中，在與所述工作檯的相對移動方向正交的方向上，在所述工作檯的上方配置多個將所述第一噴嘴和所述第二噴嘴通用化而成的同一通用噴嘴，從所述通用噴嘴朝向所述工作檯噴出所述液體。
全文摘要
本發明涉及一種玻璃基板的研磨方法及研磨裝置，所述玻璃基板的研磨方法包括液體噴霧工序，朝向吸附固定玻璃基板的非研磨麵的工作檯對所述工作檯的吸附固定玻璃基板的非研磨麵的整個區域的區域從第一噴嘴噴出防止乾燥用液，接著相對於所述工作檯對所述工作檯的吸附固定玻璃基板的非研磨麵的緣部的區域從第二噴嘴噴出緩衝液；玻璃基板固定工序，經由所述防止乾燥用液將玻璃基板的非研磨麵的整個區域吸附固定於所述工作檯，並且經由所述緩衝液將所述玻璃基板的非研磨麵的緣部吸附固定於所述工作檯；及研磨工序，一邊向非研磨麵被吸附固定於所述工作檯上的所述玻璃基板的研磨麵供給研磨液一邊利用研磨工具研磨該研磨麵。
文檔編號B24B37/04GK102267087SQ20111015212
公開日2011年12月7日 申請日期2011年6月1日 優先權日2010年6月1日
發明者城山厚, 小暮祐二, 河內辰朗, 石丸直彥 申請人:旭硝子株式會社