一種薄片或超薄片標準具製作方法

2023-10-07 03:29:49 2

專利名稱：一種薄片或超薄片標準具製作方法
技術領域：
本發明涉及雷射製作領域，尤其涉及該領域的一種薄片或超薄片標準具的 製作方法。
背景技術：
在雷射領域中，標準具可以運用於光纖通訊製作寬帶可調濾光片，也可以 運用於光學檢測領域製作可調諧雷射器。但傳統標準具一般較厚，以保證鍍反 射膜不易變形，而一般超薄實心標準具由於太薄，製作和擦拭易碎，操作很不 方便，同時鍍膜層易變形，亦不易夾持。在光纖通訊領域，人們往往需要
50nm-200nm的帶寬的濾光片，在可調諧雷射器中，往往亦需要幾十-幾百nm濾 光片，這往往需要^f效米^:量級厚的標準具，採用傳統方式則不易製作或無法制 作。

發明內容
為解決上述問題，本發明提供一種方法製作微米數量級厚的標準具。 為實現上述目的，本發明的一種薄片或超薄片標準具製作方法，包含如下 步驟
步驟11，第一光學基片一表面鍍第一部分反射膜，第二光學基片一表面鍍 光膠膜；
步驟12,通過深化光膠方式將鍍有第一部分反射膜的第一光學基片表面與 鍍有光膠膜的第二光學基片表面粘結成為一體； '步驟13,將第二光學基片通過光學加工成薄片； 步驟14,將第二光學基片非鍍有光膠膜面鍍第二部分反射膜； 或者步驟14可以為
步驟151，第三光學基片一表面鍍第二部分反射膜；
步驟152,通過深化光膠方式將鍍有第二部分反射膜的第三光學基片(30) 與加工成薄片的第二光學基片粘結成為一體。
本發明的另一種薄片或超薄片標準具製作方法，包含如下步驟 包含如下步驟
步驟21,將第二光學基片通過光學加工成薄片；
步驟22,將第一光學基片一表面鍍第一部分反射膜，第二光學基片一表面
鍍光膠膜；
步驟23,通過深化光膠方式將鍍有第一部分反射膜的第一光學基片表面與 加工成薄片且鍍有光膠膜的第二光學基片表面粘結成為一體；
步驟24,將第二光學基片非鍍有光膠膜面鍍第二部分反射膜； 或者步驟24可以為
步驟251，第三光學基片一表面鍍第二部分反射膜；
步驟252,通過深化光膠方式將鍍有第二部分反射膜的第三光學基片與加工 成薄片的第二光學基片粘結成為一體。
為提高大規模生產效率，可以利用上述的製作方法製作大片薄片或超薄片 標準具後，再切割成小片薄片或超薄片標準具。
採用本發明能夠解決採用傳統方式不易製作或無法製作的微米量級厚的標 準具的技術難題。


.圖l是本發明實施例一示意圖； 圖2是本發明實施例二示意圖。
具體實施例方式
現結合

對本發明進一步說明。
如圖l所示，本發明的一種薄片或超薄片標準具製作方法，包含如下步驟 步驟ll,第一光學基片(10)—表面鍍第一部分反射膜(101)，第二光學基
片(20) —表面鍍光膠膜(201);
步驟12,通過深化光膠方式將鍍有第一部分反射膜(101)的第一光學基片 (10)表面與鍍有光膠膜(201)的第二光學基片(20)表面粘結成為一個整體
體；
'步驟13,將第二光學基片(20)通過光學加工成薄片；薄片厚度根據要求 製作加工。
步驟14，將第二光學基片(20)非鍍有光膠膜面的另一面鍍上第二部分反 射膜(301);
或者步驟14可以用下列的步驟151和步驟152實現另一種的標準具結構 步驟151,第三光學基片(30) —表面鍍第二部分反射膜(301); 步驟152，通過深化光膠方式將鍍有第二部分反射膜(301)的第三光學基片 (30)與加工成薄片的第二光學基片(20)粘結成為一體。
如圖2所示，為本發明的另一種薄片或超薄片標準具製作方法，包含如下
步驟
包含如下步驟
步驟21，將第二光學基片(20)通過光學加工成薄片；薄片厚度根據要求 製作加工。
步驟22,將第一光學基片(10)—表面鍍第一部分反射膜(101),第二光學 基片(20) —表面鍍光膠膜(201);
步驟23,通過深化光膠方式將鍍有第一部分反射膜(101)的第一光學基片 (10)表面與加工成薄片且鍍有光膠膜(201)的第二光學基片(20)表面粘結 成為一體；
步驟24,將第二光學基片(20)非鍍有光膠膜面鍍第二部分反射膜(301);
或者步驟24可以用下列的步驟251和步驟252實現另一種的標準具結構
步驟251，第三光學基片(30) —表面鍍第二部分反射膜(301);
步驟252,通過深化光膠方式將鍍有第二部分反射膜(301)的第三光學基片 (30)與加工成薄片的第二光學基片(20)粘結成為一體。
為提高大規模生產效率，可以利用上述的製作方法製作大片薄片或超薄片 標i,具後，再切割成小片薄片或超薄片標準具。
本發明的方法可以用來製作幾個微米厚到幾百孩i片厚的標準具。它可用在 光纖通訊中製作可調濾光片或者可調雷射器的可調濾光片。
儘管結合優選實施方案具體展示和介紹了本發明，但所屬領域的技術人員 應該明白，在不脫離所附權利要求書所限定的本發明的精神和範圍內，在形式 上和細節上可以對本發明做出各種變化，均為本發明的保護範圍。
權利要求
1、一種薄片或超薄片標準具製作方法，其特徵在於包含如下步驟步驟11，第一光學基片(10)一表面鍍第一部分反射膜(101)，第二光學基片(20)一表面鍍光膠膜(201)；步驟12，通過深化光膠方式將鍍有第一部分反射膜(101)的第一光學基片(10)表面與鍍有光膠膜(201)的第二光學基片(20)表面粘結成為一體；步驟13，將第二光學基片(20)通過光學加工成薄片；步驟14，將第二光學基片(20)非鍍有光膠膜面鍍第二部分反射膜(301)；或者步驟14可以為步驟151，第三光學基片(30)一表面鍍第二部分反射膜(301)；步驟152，通過深化光膠方式將鍍有第二部分反射膜(301)的第三光學基片(30)與加工成薄片的第二光學基片(20)粘結成為一體。
2、 一種薄片或超薄片標準具製作方法，其特徵在於 包含如下步驟'步驟21,將第二光學基片(20)通過光學加工成薄片； 步驟22,將第一光學基片(10)—表面鍍第一部分反射膜(IOI),第二光學 基片(20) —表面鍍光膠膜(201);步驟23,通過深化光膠方式將鍍有第一部分反射膜(101)的第一光學基片 (10)表面與加工成薄片且鍍有光膠膜(201)的第二光學基片(20)表面粘結 成為一體；步驟24，將第二光學基片(20)非鍍有光膠膜面鍍第二部分反射膜(301); 或者步驟24可以為步驟251,第三光學基片(30) —表面鍍第二部分反射膜(301); 步驟252,通過深化光膠方式將鍍有第二部分反射膜(301)的第三光學基片 (30)與加工成薄片的第二光學基片(20)粘結成為一體。
3、 如權利要求1或2所述的薄片或超薄片標準具製作方法，其特徵在於 利用所述製作方法製作大片薄片或超薄片標準具後，再切割成小片薄片或超薄 片標準具。
全文摘要
本發明涉及雷射製作領域，尤其涉及該領域的一種薄片或超薄片標準具的製作方法。本發明採用深化光膠方法將光學基片和另一鍍有反射膜的光學基片深化光膠，將其中一基片拋光成薄片或超薄片；或將一光學基片鍍膜後與另一薄片或超薄片深化光膠，構成兩片式光學基片；再在光學基片薄片一面鍍上反射膜，或在第三片光學基片上鍍上反射膜與兩片式基片薄片一面深化光膠，從而製成薄片式或超薄片式標準具。故，本發明能夠解決採用傳統方式不易製作或無法製作微米數量級厚的標準具的技術難題。
文檔編號B32B37/12GK101349774SQ200810071690
公開日2009年1月21日 申請日期2008年8月28日 優先權日2008年8月28日
發明者凌吉武, 礪 吳, 英 邱, 陳衛民 申請人:福州高意通訊有限公司