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光學記錄媒體染料、光學記錄媒體及其製造方法

2023-11-01 16:06:07 1

專利名稱:光學記錄媒體染料、光學記錄媒體及其製造方法
技術領域:
本發明涉及一種信息存儲領域信息記錄載體中的光碟片記錄用染料的製造方法及其用途,特別是涉及一種高密度光碟片記錄用bis-styryl染料的光學記錄媒體染料、光學記錄媒體及其製造方法。
背景技術:
鑑於時代的進步,需要大量信息的流通,而大量信息的流通,需要一個儲存密度更高、更小型化,而製作成本更低的儲存媒體,磁性儲存媒體已不敷所需,而光學記憶儲存材料正是研究開發的目標。目前結合有機合成化學及光化學的機能性色素,正積極的利用了光的特性,作各種工業開發利用,包括非線性光學組件、光碟資料的記錄與顯示、光阻、熱/光/電感測與指示劑、能量的轉換與儲存、醫療與生物等。
在現有技術中,在1981年,Law等人首度將花青色素(3,3′-diethyl-12-acetyl-thiatetracyanine perchlorate)應用於光碟片的製作上(請參考K.Y.Law,P.S.Vincett,and G.E.Johnson,Appl.Phys.Lett.,39,718(1981))。選擇此類有機色素的主要原因是為了要配合使用近紅外光雷射讀寫頭。其製造的方法,是將花青色素與聚醋酸乙烯酯(polyvinyl acetate,PVAc)相混,再利用旋轉塗布的方法製作成光碟片。隨著花青色素在光記憶材料上的應用成功,爾後即不斷地有不同種類的染料結構被用來作此用途的開發,如日本專利072,254,167、09,193,545、09,194,545、09,226,250、09,274,732、10,044,066、11,310,728等皆為此類應用相關的專利。基本上利用有機染料當作光學記錄材料,主要是因為其可利用較簡便的旋轉塗布法將記錄材料塗著於基板上,相較於真空蒸鍍塗布法,除了能夠縮短製程外,並可降低生產成本,因此,有機染料的安定性及其對有機溶劑的溶解特性便相當重要。

發明內容
本發明的主要目的在於,提供一種新的光學記錄媒體染料、光學記錄媒體及其製造方法,所要解決的主要技術問題是使其合成在λ=300nm-800nm的波長範圍有極強吸收的新型bis-styryl染料,而可適用於高記錄密度光碟片用,並且具有高敏感度及光、熱等化學穩定性,以及對有機溶劑具有良好的溶解性。另外,此類染料因為具有特殊的接口附著性,而有助於碟片PI error的改善,而具有產業上的利用價值。
本發明的目的及解決其主要技術問題是採用以下的技術方案來實現的。依據本發明提出的一種光學記錄媒體染料,為一種應用於光碟記錄系統的bis-styryl染料,其具有如下式(I)的化學式 Y是選自氧原子、硫原子、含取代基的碳原子(C-R5)、以及含取代基的氮原子(N-R6)其中之一。
R1是選自碳數1至18(」C1-18」)的烷基(alkyl group)、苯基、含有滷素原子(halogen atom)的烷基、烷氧取代基(alkoxyl group substitute)的C1-18的烷基、C1-18的醚基(ether group)、酮基(ketone group)的C1-18的烷基、以及對二烷基苯(p-alkyl benzyl group)其中之一。
R2、R3、R5、R6、R7可為相同或不同的基團,其是選自氫原子、滷素原子、碳數1至8(」C1-8」)的烷基、C1-8的烷氧基(alkoxyl group)、C1-8的烷酯基(alkylate group)、羧基(carboxyl group)、C1-8的烷氧羰基(alkoxycarbonyl group)、C1-6的烷基銨次烴基氧羰基(alkylaminealkylenecarboxy group)、金剛烷基(adamantyl group)、氨基(amide group)、胺基(amino group,N-R2)、硫磺基(sulfo group)、硫基(sulfonyl group)、硼酸(boronic acid)、硝基(nitro group,NO2)、三氟甲基(trifluoromethyl group)、氟化磺酸基(sulfonic acid fluoridegroup)、磺酸基(sulfonic acid group)、羥基(hydroxyl group)、二茂鐵基(ferrocenyl group)、氰基(cyano group,CN)、雜環(heterocyclicgroup)、以及含氮雜環(nitrogen containing heterocyclic group)其中之一。
R4是選自氫原子、烷基、烷氧基、滷素原子、硝基、磺酸基、酸基、磺酸基(sulfonic acid group)、含取代基或不含取代基的苯環其中之一。
X是選自滷素原子、過氯酸根(perchlorate,ClO4-)、四氟硼酸根(fluoroborate,BF4-)、四苯硼酸根(tetraphenyl boron,BPh4-)、六氟磷酸根(hexfluorophoshpate,PF6-)、六氟銻酸根(hexfluoroantimonate,SbF6-)、四氰代二甲基苯離子(7,7′,8,8′-tetracyanoquinonedimethane,TCNQ-)、四環氰基乙烯離子(tetracyanoethylene,TCNE-)、苯磺酸根(naphthalenesulfonic acid)、苯磺酸鹽(benzenesul fonates)及有機金屬錯合物(organometallic complex)其中之一。
本發明的目的及解決其主要技術問題還採用以下技術方案來實現。依據本發明提出的一種光學記錄媒體,其至少包括一第一透明基板;一記錄層,配設於上述基板上,其中該記錄層至少包括一染料,且該染料的化學結構式如下 其中,Y是選自氧原子、硫原子、含取代基的碳原子(C-R5)、以及含取代基氮原子(N-R6)其中之一。
R1是選自碳數1至18(」C1-18」)的烷基(alkyl group)、苯基、含有滷素原子(halogen atom)的烷基、烷氧取代基(alkoxyl group substitute)的C1-18的烷基、C1-18的醚基(ether group)、酮基(ketone group)的C1-18的烷基、以及對二烷基苯(p-alkyl benzyl group)其中之一。
R2、R3、R5、R6、R7可為相同或不同的基團,其是選自氫原子、滷素原子、碳數1至8(」C1-8」)的烷基、C1-8的烷氧基(alkoxyl group)、C1-8的烷酯基(alkylate group)、羧基(carboxyl group)、C1-8的烷氧羰基(alkoxycarbonyl group)、C1-6的烷基銨次烴基氧羰基(alkylaminealkylenecarboxy group)、金剛烷基(adamantyl group)、氨基(amide group)、胺基(amino group,N-R2)、硫磺基(sulfo group)、硫基(sulfonyl group)、硼酸(boronic acid)、硝基(nitro group,NO2)、三氟甲基(trifluoromethyl group)、氟化磺酸基(sulfonic acid fluoridegroup)、磺酸基(sulfonic acid group)、羥基(hydroxyl group)、二茂鐵基(ferrocenyl group)、氰基(cyano group,CN)、雜環(heterocyclicgroup)、以及含氮雜環(nitrogen containing heterocyclic group)其中之一。
R4是選自氫原子、烷基、烷氧基、滷素原子、硝基、磺酸基、酸基、磺酸基(sulfonic acid group)、含取代基或不含取代基的苯環其中之一。
X是選自滷素原子、過氯酸根(perchl ora te,ClO4-)、四氟硼酸根(fluoroborate,BF4-)、四苯硼酸根(tetraphenyl boron,BPh4-)、六氟磷酸根(hexfluorophoshpate,PF6-)、六氟銻酸根(hexfluoroantimonate,SbF6-)、四氰代二甲基苯離子(7,7′,8,8′-tetracyanoquinonedimetbane,TCNQ-)、四環氰基乙烯離子(tetracyanoethylene,TCNE-)、苯磺酸根(naphthalenesulfonic acid)、苯磺酸鹽(benzenesulfonates)及有機金屬錯合物(organometallic complex)其中之一。
一反射層,配設於該記錄層上;以及一第二基板,配設於該反射層上。
本發明的目的及解決其技術問題還可以採用以下的技術措施來進一步實現。
前述的光學記錄媒體染料,其中所述的記錄層的厚度是為70nm至200nm。
前述的光學記錄媒體染料,其中所述的反射層的厚度是為50nm至300nm。
前述的光學記錄媒體染料,其中所述的記錄層是為旋轉塗布、滾壓塗布、含浸或噴墨而形成的層狀記錄層,即形成該記錄層的方法是選自旋轉塗布法、滾壓塗布法、含浸法與噴墨法的其中之一而製成。
前述的光學記錄媒體染料,其中所述的第二基板配設於該反射層上的結構是為旋轉塗布、網印、或熱融膠貼合到反射層的層狀一體結構,即將該第二基板貼合到反射層的方法是選自旋轉塗布法、網印法、熱融膠法而製成。
本發明的目的及解決其主要技術問題還採用以下技術方案來實現。依據本發明提出的一種記錄媒體的製造方法,其包括以下步驟提供一bis-styryl染料,具有如下式(I)的化學式 其中,Y是選自氧原子、硫原子、含取代基的碳原子(C-R5)、以及含取代基的氮原子(N-R6)其中之一。
R1是選自碳數1至18(」C1-18」)的烷基(alkyl group)、苯基、含有滷素原子(halogen atom)的烷基、烷氧取代基(alkoxyl group substitute)的C1-18的烷基、C1-18的醚基(ether group)、酮基(ketone group)的C1-18的烷基、以及對二烷基苯(p-alkyl benzyl group)其中之一。
R2、R3、R5、R6、R7可為相同或不同的基團,其是選自氫原子、滷素原子、碳數1至8(」C1-8」)的烷基、C1-8的烷氧基(alkoxyl group)、C1-8的烷酯基(alkylate group)、羧基(carboxyl group)、C1-8的烷氧羰基(alkoxycarbonyl group)、C1-6的烷基銨次烴基氧羰基(alkylaminealkylenecarboxy group)、金剛烷基(adamantyl group)、氨基(amide group)、胺基(amino group,N-R2)、硫磺基(sulfo group)、硫基(sulfonyl group)、硼酸(boronic acid)、硝基(nitro group,NO2)、三氟甲基(trifluoromethyl group)、氟化磺酸基(sulfonic acid fluoridegroup)、磺酸基(sulfonic acid group)、羥基(hydroxyl group)、二茂鐵基(ferrocenyl group)、氰基(cyano group,CN)、雜環(heterocyclicgroup)、以及含氮雜環(nitrogen containing heterocyclic group)其中之一。
R4是選自氫原子、烷基、烷氧基、滷素原子、硝基、磺酸基、酸基、磺酸基(sulfonic acid group)、含取代基或不含取代基的苯環其中之一。
X是選自滷素原子、過氯酸根(perchlora te,ClO4-)、四氟硼酸根(fluoroborate,BF4-)、四苯硼酸根(tetraphenyl boron,BPh4-)、六氟磷酸根(hexfluorophoshpate,PF6-)、六氟銻酸根(hexfluoroantimonate,SbF6-)、四氰代二甲基苯離子(7,7′,8,8′-tetracyanoquinonedimethane,TCNQ-)、四環氰基乙烯離子(tetracyanoethylene,TCNE-)、苯磺酸根(naphthalenesulfonic acid)、苯磺酸鹽(benzenesulfonates)及有機金屬錯合物(organometallic complex)其中之一。
提供一第一基板,其為具有一訊號表面的透明基板;將該bis-styryl染料溶解於一有機溶劑中,以形成一染料溶液;將該染料溶液塗布於該第一基板並進行烘乾,以形成一記錄層;形成一反射層於該記錄層上;以及將一第二基板貼合於該第一基板上。
本發明的目的及解決其技術問題還可以採用以下的技術措施來進一步實現。
前述的記錄媒體的製造方法,其中所述的記錄層的厚度是為70nm至200nm。
前述的記錄媒體的製造方法,其中所述的反射層的厚度是為50nm至300nm。
前述的記錄媒體的製造方法,其中所述的形成該記錄層於該第一基板上的方法,是選自旋轉塗布法、滾壓塗布法、含浸法與噴墨法的其中之一。
前述的記錄媒體的製造方法,其中所述的將該第二基板貼合到該第一基板的方法,是選自旋轉塗布法、網印法、熱融膠法。
本發明與現有技術相比具有明顯的優點和有益效果。由以上技術方案可知,為了達到前述發明目的,本發明的主要技術內容如下本發明光學記錄媒體染料、光學記錄媒體及其製造方法,主要是為合成在λ=300nm-800nm的波長範圍有極強吸收的新型bis-styryl染料,可適用於高記錄密度光碟片用,並且具有高敏感度及光、熱等化學穩定性,以及對有機溶劑具有良好的溶解性。另外,此類染料因具有特殊的接口附著性,而有助於碟片PI error的改善。
(1)本發明的bis-styryl染料本發明的用於高密度光碟記錄系統的bis-styryl染料,具有如下化學式(I)的化學結構 其中,Y是選自氧原子、硫原子、含取代基的碳原子(C-R5)、以及含取代基的氮原子(N-R6)其中之一。
R1是選自碳數1至18(「C1-18」)的烷基(alkyl group)、苯基、含有滷素原子(halogen atom)的烷基、烷氧取代基(alkoxyl group substitute)的C1-18的烷基、C1-18的醚基(ether group)、酮基(ketone group)取代的C1-18的烷基、以及對二烷基苯(p-alkyl benzyl group)其中之一。
R2、R3、R5、R6、R7可為相同或不同的基團,其是選自氫原子、滷素原子、碳數1至8(」C1-8」)的烷基、C1-8的烷氧基(alkoxyl group)、C1-8的烷酯基(alkylate group)、羧基(carboxyl group)、C1-8的烷氧羰基(alkoxycarbonyl group)、C1-6的烷基銨次烴基氧羰基(alkylaminealkylenecarboxy group)、金剛烷基(adamantyl group)、氨基(amide group)、胺基(amino group,N-R2)、硫磺基(sulfo group)、硫基(sulfonyl group)、硼酸(boronic acid)、硝基(nitro group,NO2)、三氟甲基(trifluoromethyl group)、氟化磺酸基(sulfonic acid fluoridegroup)、磺酸基(sulfonic acid group)、羥基(hydroxyl group)、二茂鐵基(ferrocenyl group)、氰基(cyano group,CN)、雜環(heterocyclicgroup)、以及含氮雜環(nitrogen containing heterocyclic group)其中之一。
R4是選自氫原子、烷基、烷氧基、滷素原子、硝基、磺酸基、酸基、磺酸基(sulfonic acid group)、含取代基或不含取代基的苯環其中之一。
X是選自滷素原子、過氯酸根(perchlorate,ClO4-)、四氟硼酸根(fluoroborate,BF4-)、四苯硼酸根(tetraphenyl boron,BPh4-)、六氟磷酸根(hexfluorophoshpate,PF6-)、六氟銻酸根(hexfluoroantimonate,SbF6-)、四氰代二甲基苯離子(7,7′,8,8′-tetracyanoquinonedimethane,TCNQ-)、四環氰基乙烯離子(tetracyanoethylene,TCNE-)、苯磺酸根(naphthalenesulfonic acid)、苯磺酸鹽(benzenesulfonates)及有機金屬錯合物(organometallic complex)其中之一。
此類染料在紫外與可見光區有極大的吸收,而可作為高密度光碟片的記錄層上的光學記錄材料。
(2)本發明的bis-styryl染料的製法本發明的用於高密度記錄媒體光碟片用的bis-styryl染料,具有如下化學式(I)的化學結構 其製造方法,包括下列(a)-(c)的步驟步驟(a)將具有如下式(II)及(III)化學式的化合物,在適當的合成條件下合成為如下式(IV)的bis-styryl染料。
步驟(b)在進行上述反應前,首先合成具有如下化學式(II)的化合物 其中,Y是選自氧原子、硫原子、含取代基的碳原子(C-R5)、以及含取代基的氮原子(N-R6)其中之一。
R1是選自碳數1至18(」C1-18」)的烷基(alkyl group)、苯基、含有滷素原子(halogen atom)的烷基、烷氧取代基(alkoxyl group substitute)的C1-18的烷基、C1-18的醚基(ether group)、酮基(ketone group)的C1-18的烷基、以及對二烷基苯(p-alkyl benzyl group)其中之一。
以下舉出幾類化合物,具有上述化學式(III)、(V)與(VI),但是本發明的範圍並不受限於下面的實施例。
其中,關於具有以下化學式(III)的化合物, 首先,當R3為氫原子時,化學式(III)的化合物可為以下化學式(III-1)所示的化合物其中之一。


其次,當R3為烷基、烷氧基、烷酯基及滷素原子時,化學式(III)的化合物可為以下化學式(III-2)所示的化合物其中之一。

其中,關於具有以下化學式(V)的化合物, 首先,當Y為含取代基的碳原子時,化學式(V)的化合物可為以下化學式(V-1)所示的化合物其中之一。
其次,當Y為氧或硫原子時,化學式(V)的化合物可為以下化學式(V-2)所示的化合物其中之一。
其次,當Y為氮原子時,化學式(V)的化合物可為以下化學式(V-3)所示的化合物其中之一。
其中,關於具有以下化學式(VI)的化合物,I-R1-I(VI)
首先,當R1為含取代基或不含取代基的烷基時,化學式(VI)的化合物可為以下化學式(VI-1)所示的化合物其中之一。
其次,當R1為含取代基或不含取代基的對二烷基苯時,化學式(VI)的化合物可為以下化學式(VI-2)所示的化合物其中之一。
步驟(c)取含有碘離子的bis-styryl染料(IV)與NaX或KX或有機金屬錯合物等,在有機溶劑中進行以下的離子交換反應,即可獲得具有化學式(I)的化合物。
其中,X是選自滷素原子、ClO4-、BF4-、PF6-、SbF6-、TCNQ-、TCNE-離子等所組成的族群,以及有機金屬錯合物其中之一。
其次,當X為有機金屬錯合物時,X可為以下化學式(X-1)所示的化合物其中之一。

經由上述,本發明提供了一種高密度光碟片記錄用bis-styryl染料、製造方法及其用途。此染料在光波長λ=300nm至800nm,即紫外光區與可見光區中有極大的吸收及高敏感度,具有極佳的光、熱的化學穩定性及吸收波長易調變等特質,且具有高光化學穩定性及熱化學穩定性的特質,若經由適當調配並塗布於光碟基板上,再利用半導體雷射讀寫,則可做為寫一次型數字多功能雷射視碟片等資料儲存用的記錄材料。另外,此類染料因為具有特殊的接口附著性,而有助於碟片封包接口誤差(PI error)的改善。
本發明的bis-styryl染料在波長為λ=300-800nm的紫外與可見光區具有相當強的吸收係數、高敏感度及高倍數記錄等特質,因而具有相當高的記錄感度及訊號/噪聲比(S/N ratio),故極適合做為光學記錄儲存材料。此外,本發明的bis-styryl染料可溶解於醇類、酮類、酯類、醚類、滷素化合物、或醯胺等有機溶劑中,因此可利用簡單的塗布方式,例如噴布、滾壓塗布、含浸、或旋轉塗布等方法,即可將其塗布在基板上。而本發明的bis-styryl染料除了可做為光學記憶儲存材料外,亦可將其應用於集成電路的光阻、紡織的纖維染色、複寫及印刷等用途上。
綜上所述,本發明特殊的光學記錄媒體染料、光學記錄媒體及其製造方法,提供了在λ=300nm-800nm的波長範圍有極強吸收的新型bis-styryl染料,而可適用於高記錄密度光碟片用,並且具有高敏感度及光、熱等化學穩定性,以及對有機溶劑具有良好的溶解性。另外,此類染料因為具有特殊的接口附著性,而有助於碟片PI error的改善,而具有產業上的利用價值。其具有上述諸多的優點及實用價值,其在產品及製造方法上確屬創新,較現有的光學記錄媒體染料、光學記錄媒體及其製造方法具有增進的多項功效,且製造方法適於實用,具有產業的廣泛利用價值。其不論在產品、製造方法上或功能上皆有較大改進,且在技術上有較大進步,並產生了好用及實用的效果,而確實具有增進功效,從而更加適於實用,誠為一新穎、進步、實用的新設計。
上述說明僅是本發明技術方案的概述,為了能夠更清楚了解本發明的技術手段,並可依照說明書的內容予以實施,以下以本發明的較佳實施例並配合附圖詳細說明如後。


圖1是化合物(I-1)的溶液吸收光譜的光譜圖。
圖2是化合物(I-2)的溶液吸收光譜的光譜圖。
圖3是化合物(I-1)塗布於高密度可錄式光碟片上的反射率對波長的光譜圖。
具體實施例方式
以下結合附圖及較佳的實施例,對依據本發明提出的光學記錄媒體染料、光學記錄媒體及其製造方法其具體結構、製造方法、步驟、特徵及其功效,詳細說明如後。
為了達成本發明的目的,以下舉一較佳實施例,作為本發明特徵的描述,但是本發明並不僅限於此實施例所描述的特徵。
實施例1以下所述的第一實施例,是敘述中間產物(II)的合成。將0.01mole的R1為C4H8的起始物(V),以及0.02mole的R4為H、Y為C(CH3)2的起始物(VI),溶解於20mle的乙酸乙酯(ethyl acetate)中,並加熱至回流溫度反應3-4小時。待反應完後,經過濾烘乾可得米白色固體結晶(II-1),產率70%。其分子結構如下式(II-1)所示 實施例2以下所述的第二實施例,是敘述bis-styryl(I)的合成。將0.02mole的R2為3,5-乙烷呱啶(3,5-dimethylpiperidine)、R3為H的起始物(III),以及0.01mole的化合物(II-1)溶解於20mle乙醇中,並加熱至乙醇的回流溫度反應3-4小時。待反應完後,經過濾烘乾可得灰色固體結晶(IV-1)。接著取(IV-1)0.01mole與NaPF60.01mole溶於25ml乙醇中加熱回流以進行離子置換,待反應完後經過濾烘乾可得紫色固體結晶(I-1),反應產率80%。其分子結構如下式所示 經物性分析後,測得化合物(I-1)的溶液吸收光譜如圖1所示,其折射率(657nm)為2.287+0.044i。
實施例3以下所述的第三實施例,是敘述用於藍紫光雷的記錄用染料的合成。如下的分子結構式所示為可用於藍紫光雷射記錄用染料
經物性分析後,測得化合物(I-2)的溶液吸收光譜如圖2所示,其在乙醇溶液中的最大吸收位置為359nm。
利用上述相同的合成反應條件,重複第一與第二實施例的步驟,再搭配前述不同結構的起始反應物(III)、(V)與(VI),即可得到一系列的bis-styryl染料。
應用例1以下所述的第一應用例,是敘述化合物I-1用於高密度可錄式光碟片的製造方法。取具有化學式(I-1)的bis-styryl染料1.5g,溶於2,2,3,3-四氟丙醇(2,2,3,3-tetrafluoropropanol)中,並配製成100g的溶液。
利用旋轉塗布機將所配製的溶液,塗布於一具有溝軌(land)及溝槽(groove)的厚度為0.6mm的透明PC基板上,並經由一塗布製程、一甩開製程、以及一烘乾製程等塗布程序,即可形成一bis-styryl染料層於基板,其厚度約為70nm-200nm。緊接著在bis-styryl染料層上鍍上一層厚度約為50nm-300nm的材料為金或銀的反射層。最後,將已鍍上反射層及bis-styryl染料層的基板與另一片厚度為0.6mm的空白PC基板貼合起來,即可獲得一厚度為120mm的高密度可錄式光碟片(DVD-R),其中上述貼合方式可以是旋轉塗布法、網印法、熱融膠法等等。請參閱圖3所示為其反射率對波長的光譜圖,在波長為635nm或650nm下,該碟片反射率均可大於45%以上。
將此第一應用例中所製作出的高密度可錄式光碟片,利用PULSTECDDU-1000評價測試機來進行以下的寫錄和讀取測試。
寫錄測試的條件如下常線速度(constant linear velocity,「CLV」)為3.5m/s、波長為658nm、數值半徑(numerical aperture,「NA」)為0.6、寫錄功率為7-14mW。
讀取測試的條件如下常線速度(CLV)為3.5m/s、波長為658nm、數值半徑(NA)為0.6、讀取功率為0.5-1.5mW。
如上所述,測得在10mW的寫錄功率下碟片的載波信號噪聲比(carriernoise ratio,「CNR」)值可達60dB。
以上所述,僅是本發明的較佳實施例而已,並非對本發明作任何形式上的限制,雖然本發明已以較佳實施例揭露如上,然而並非用以限定本發明,任何熟悉本專業的技術人員,在不脫離本發明技術方案範圍內,當可利用上述揭示的方法及技術內容作出些許的更動或修飾為等同變化的等效實施例,但是凡是未脫離本發明技術方案的內容,依據本發明的技術實質對以上實施例所作的任何簡單修改、等同變化與修飾,均仍屬於本發明技術方案的範圍內。
權利要求
1.一種光學記錄媒體染料,為應用於光碟記錄系統的bis-styryl染料,其特徵在於其具有如下式(I)的化學式 Y是選自氧原子、硫原子、含取代基的碳原子(C-R5)、以及含取代基的氮原子(N-R6)其中之一。R1是選自碳數1至18(」C1-18」)的烷基(alkyl group)、苯基、含有滷素原子(halogen atom)的烷基、烷氧取代基(alkoxyl group substitute)的C1-18的烷基、C1-18的醚基(ether group)、酮基(ketone group)的C1-18的烷基、以及對二烷基苯(p-alkyl benzyl group)其中之一。R2、R3、R5、R6、R7可為相同或不同的基團,其是選自氫原子、滷素原子、碳數1至8(」C1-8」)的烷基、C1-8的烷氧基(alkoxyl group)、C1-8的烷酯基(alkylate group)、羧基(carboxyl group)、C1-8的烷氧羰基(alkoxycarbonyl group)、C1-6的烷基銨次烴基氧羰基(alkylaminealkylenecarboxy group)、金剛烷基(adamantyl group)、氨基(amide group)、胺基(amino group,N-R2)、硫磺基(sulfo group)、硫基(sulfonyl group)、硼酸(boronic acid)、硝基(nitro group,NO2)、三氟甲基(trifluoromethyl group)、氟化磺酸基(sulfonic acid fluoridegroup)、磺酸基(sulfonic acid group)、羥基(hydroxyl group)、二茂鐵基(ferrocenyl group)、氰基(cyano group,CN)、雜環(heterocyclicgroup)、以及含氮雜環(nitrogen containing heterocyclic group)其中之一。R4是選自氫原子、烷基、烷氧基、滷素原子、硝基、磺酸基、酸基、磺酸基(sulfonic acid group)、含取代基或不含取代基的苯環其中之一。X是選自滷素原子、過氯酸根(perchlora te,ClO4-)、四氟硼酸根(fluoroborate,BF4-)、四苯硼酸根(tetraphenyl boron,BPh4-)、六氟磷酸根(hexfluorophoshpate,PF6-)、六氟銻酸根(hexfluoroantimonate,SbF6-)、四氰代二甲基苯離子(7,7′,8,8′-tetracyanoquinonedimethane,TCNQ-)、四環氰基乙烯離子(tetracyanoethylene,TCNE-)、苯磺酸根(naphthalenesulfonic acid)、苯磺酸鹽(benzenesulfonates)及有機金屬錯合物(organometallic complex)其中之一。
2.、一種光學記錄媒體,其特徵在於其至少包括一第一透明基板;一記錄層,配設於上述基板上,其中該記錄層至少包括一染料,且該染料的化學結構式如下 其中,Y是選自氧原子、硫原子、含取代基的碳原子(C-R5)、以及含取代基氮原子(N-R6)其中之一。R1是選自碳數1至18(」C1-18」)的烷基(alkyl group)、苯基、含有滷素原子(halogen atom)的烷基、烷氧取代基(alkoxyl group substitute)的C1-18的烷基、C1-18的醚基(ether group)、酮基(ketone group)的C1-18的烷基、以及對二烷基苯(p-alkyl benzyl group)其中之一。R2、R3、R5、R6、R7可為相同或不同的基團,其是選自氫原子、滷素原子、碳數1至8(」C1-8」)的烷基、C1-8的烷氧基(alkoxyl group)、C1-8的烷酯基(alkylate group)、羧基(carboxyl group)、C1-8的烷氧羰基(alkoxycarbonyl group)、C1-6的烷基銨次烴基氧羰基(alkylaminealkylenecarboxy group)、金剛烷基(adamantyl group)、氨基(amide group)、胺基(amino group,N-R2)、硫磺基(sulfo group)、硫基(sulfonyl group)、硼酸(boronic acid)、硝基(nitro group,NO2)、三氟甲基(trifluoromethyl group)、氟化磺酸基(sulfonic acid fluoridegroup)、磺酸基(sulfonic acid group)、羥基(hydroxyl group)、二茂鐵基(ferrocenyl group)、氰基(cyano group,CN)、雜環(heterocyclicgroup)、以及含氮雜環(nitrogen containing heterocyclic group)其中之一。R4是選自氫原子、烷基、烷氧基、滷素原子、硝基、磺酸基、酸基、磺酸基(sulfonic acid group)、含取代基或不含取代基的苯環其中之一。X是選自滷素原子、過氯酸根(perchl orate,ClO4-)、四氟硼酸根(fluoroborate,BF4-)、四苯硼酸根(tetraphenyl boron,BPh4-)、六氟磷酸根(hexfluorophoshpate,PF6-)、六氟銻酸根(hexfluoroantimonate,SbF6-)、四氰代二甲基苯離子(7,7′,8,8′-tetracyanoquinonedimethane,TCNQ-)、四環氰基乙烯離子(tetracyanoethylere,TCNE-)、苯磺酸根(naphthalenesulfonic acid)、苯磺酸鹽(benzenesulfonates)及有機金屬錯合物(organometallic complex)其中之一。一反射層,配設於該記錄層上;以及一第二基板,配設於該反射層上。
3.根據權利要求2所述的光學記錄媒體染料,其特徵在於其中所述的記錄層的厚度是為70nm至200nm。
4.根據權利要求2所述的光學記錄媒體染料,其特徵在於其中所述的反射層的厚度是為50nm至300nm。
5.根據權利要求2所述的光學記錄媒體染料,其特徵在於其中所述的記錄層是為旋轉塗布、滾壓塗布、含浸或噴墨而形成的層狀記錄層,即形成該記錄層的方法是選自旋轉塗布法、滾壓塗布法、含浸法與噴墨法的其中之一而製成。
6.根據權利要求2所述的光學記錄媒體染料,其特徵在於其中所述的第二基板配設於該反射層上的結構是為旋轉塗布、網印、或熱融膠貼合到反射層的層狀一體結構,即將該第二基板貼合到反射層的方法是選自旋轉塗布法、網印法、熱融膠法而製成。
7.一種記錄媒體的製造方法,其特徵在於其包括以下步驟提供一bis-styryl染料,具有如下式(I)的化學式 其中,Y是選自氧原子、硫原子、含取代基的碳原子(C-R5)、以及含取代基的氮原子(N-R6)其中之一。R1是選自碳數1至18(」C1-18」)的烷基(alkyl group)、苯基、含有滷素原子(halogen atom)的烷基、烷氧取代基(alkoxyl group substitute)的C1-18的烷基、C1-18的醚基(ether group)、酮基(ketone group)的C1-18的烷基、以及對二烷基苯(p-alkyl benzyl group)其中之一。R2、R3、R5、R6、R7可為相同或不同的基團,其是選自氫原子、滷素原子、碳數1至8(」C1-8」)的烷基、C1-8的烷氧基(alkoxyl group)、C1-8的烷酯基(alkylate group)、羧基(carboxyl group)、C1-8的烷氧羰基(alkoxycarbonyl group)、C1-6的烷基銨次烴基氧羰基(alkylaminealkylenecarboxy group)、金剛烷基(adamantyl group)、氨基(amide group)、胺基(amino group,N-R2)、硫磺基(sulfo group)、硫基(sulfonyl group)、硼酸(boronic acid)、硝基(nitro group,NO2)、三氟甲基(trifluoromethyl group)、氟化磺酸基(sulfonic acid fluoridegroup)、磺酸基(sulfonic acid group)、羥基(hydroxyl group)、二茂鐵基(ferrocenyl group)、氰基(cyano group,CN)、雜環(heterocyclicgroup)、以及含氮雜環(nitrogen containing heterocyclic group)其中之一。R4是選自氫原子、烷基、烷氧基、滷素原子、硝基、磺酸基、酸基、磺酸基(sulfonic acid group)、含取代基或不含取代基的苯環其中之一。X是選自滷素原子、過氯酸根(perchlorate,ClO4-)、四氟硼酸根(fluoroborate,BF4-)、四苯硼酸根(tetraphenyl boron,BPh4-)、六氟磷酸根(hexfluorophoshpate,PF6-)、六氟銻酸根(hexfluoroantimonate,SbF6-)、四氰代二甲基苯離子(7,7′,8,8′-tetracyanoquinonedimethane,TCNQ-)、四環氰基乙烯離子(tetracyanoethylene,TCNE-)、苯磺酸根(naphthalenesulfonic acid)、苯磺酸鹽(benzenesulfonates)及有機金屬錯合物(organometallic complex)其中之一。提供一第一基板,其為具有一訊號表面的透明基板;將該bis-styryl染料溶解於一有機溶劑中,以形成一染料溶液;將該染料溶液塗布於該第一基板並進行烘乾,以形成一記錄層;形成一反射層於該記錄層上;以及將一第二基板貼合於該第一基板上。
8.根據權利要求7所述的記錄媒體的製造方法,其特徵在於其中所述的記錄層的厚度是為70nm至200nm。
9.根據權利要求7所述的記錄媒體的製造方法,其特徵在於其中所述的反射層的厚度是為50nm至300nm。
10.根據權利要求7所述的記錄媒體的製造方法,其特徵在於其中所述的形成該記錄層於該第一基板上的方法,是選自旋轉塗布法、滾壓塗布法、含浸法與噴墨法的其中之一。
11.根據權利要求7所述的記錄媒體的製造方法,其特徵在於其中所述的將該第二基板貼合到該第一基板的方法,是選自旋轉塗布法、網印法、熱融膠法。
全文摘要
一種光學記錄媒體染料、光學記錄媒體及其製造方法,光學記錄媒體染料,為一種bis-styryl染料,有如下化學式(I)的化學結構其中,Y是選自氧原子、硫原子、含取代基的碳或氮原子其中之一。R
文檔編號C09B23/00GK1553445SQ0314081
公開日2004年12月8日 申請日期2003年6月4日 優先權日2003年6月4日
發明者李明家, 廖文毅, 黃建喨, 顏春福, 鄭尊仁, 謝靜玉, 王心心, 蔡蕙冰, 賴啟昌, 馬驥驊, 楊忠烈 申請人:財團法人工業技術研究院

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