振蕩器裝置、光偏轉器以及使用光偏轉器的光學器械的製作方法

2023-11-06 00:31:42 3

專利名稱：振蕩器裝置、光偏轉器以及使用光偏轉器的光學器械的製作方法
技術領域：
本發明涉及 一種振蕩器裝置，該振蕩器裝置具有用于振蕩運動 的被支撐的可動元件； 一種具有該振蕩器裝置的光偏轉器； 一種例如 使用該光偏轉器的光學器械，例如成像裝置或顯示裝置；以及一種制 造振蕩裝置的方法。本發明的光偏轉器適合用在基於光偏轉掃描而投 射圖象的投影顯示裝置中和例如具有電子照相過程的雷射束印表機或 數字複印機的成像裝置中。
背景技術：
對於這樣的光偏轉器，已經提出了各種類型的光學掃描系統或光 學掃描裝置，該光學掃描系統或光學掃描裝置中，具有反射表面的可 動元件正弦地振蕩以使光偏轉。與採用旋轉多邊形反射鏡(多角反射 鏡)的掃描光學系統相比，具有基於諧振現象而正弦振蕩的光偏轉器 的光學掃描系統具有如下有利的特徵。即，可以將光偏轉器的尺寸制 造地非常小；能量消耗非常低；特別是由單晶矽製成並且由半導體工 藝生產的這些光偏轉器在理論上不具有金屬疲勞性並且具有優良的耐 用性。
在基於諧振現象的這樣的光偏轉器中，對於期望的驅動頻率來講， 預先確定了期望達到的固有振蕩模式的頻率。存在一些用於製造光偏 轉器的方法的較好提議。
日本未審公開(Laid-Open )專利申請No.2002-40355公開了 一種 方法，其中，採用了包括可動板的平面電反射鏡，該可動板具有反射 表面和線圏，並且被彈性地支撐，以相對扭轉軸線進行振蕩運動，並且其中，電反射鏡具有形成在所述可動板的相對端部處的質量負載部 分。雷射束投射在該質量負載部分上，以去除其質量，從而調整轉動
慣量(moment of inertia )。由此實現所需的頻率。
日本未審公開專利申請No.2004-219889公開了 一種方法，其中，
可動板塗覆有例如典型的樹脂的質量件，基於與上述類似的原理來調 整頻率。

發明內容
在上述的方法中，如果應當進行大量的調整，則需要花費大量的 時間來進行調整加工過程。此外，採用在這些方法中用到的調整原理， 非常難以迅速和同時地調整頻率和重心位置。
根據本發明的一個方面，這些不便之處可以通過製造這樣的振蕩 器裝置的方法來消除，該振蕩器裝置具有振蕩部件、彈性支撐部以及 支撐部件，該振蕩部件由彈性支撐部彈性地支撐以繞振蕩軸線振蕩。
該方法的特徵在於用可動元件和用於調節該振蕩部件的質量的質量 調節部件形成所述振蕩部件，同時在該可動元件和該質量調節部件的 一部分之間形成空腔；然後採用雷射束照射該質量調節部件，以部分 地去除該質量調節部件的鄰近於該空腔的材料。所述這樣去除的材料 包括質量調節部件的未被雷射束照射的部分。
根據本發明的另 一方面，本發明提4^了 一種製造振蕩器裝置的方 法，該振蕩器裝置包括振蕩部件、彈性支撐部和支撐部件，該振蕩部 件由該彈性支撐部彈性地支撐以繞振蕩軸線振蕩，所述方法的特徵在 於由可動元件形成所述振蕩部件，該可動元件具有用於調節該振蕩 部件質量的突出部，該突出部從該可動元件沿平行於該振蕩軸線的方 向延伸；以及將雷射束投射到該突出部的切割位置處，從而部分地去 除該可動元件，去除的部分包括該突出部的範圍從該切割位置延伸到 該突出部的末端處的未被雷射束照射到的部分；其中，通過控制該切 割位置來調整由雷射束投射實現的去除的量。
根據本發明的另一方面，本發明提供了一種製造振蕩器裝置的方 法，該振蕩器裝置具有振蕩部件、彈性支撐部和支撐部件，該振蕩部件由該彈性支撐部彈性地支撐以繞振蕩軸線振蕩，所述方法的特徵在
於由可動元件形成所述振蕩部件，該可動元件具有多個用於調節該 振蕩部件的質量的突出部，所述突出部設置在該振蕩軸線的相對兩側； 沿切割線切割至少一個所述突出部，從而部分地去除該可動元件，去 除包括該突出部的範圍從該切割線延伸到該突出部的末端的部分；其 中，對該切割線的位置進行控制，以調整該振蕩部件的轉動慣量和該 振蕩部件的重心與該振蕩軸線的偏離距離。
根據本發明的又一個方面，本發明提供一種振蕩器裝置，其包括: 振蕩部件；彈性支撐部；以及支撐部件，其中，所述振蕩部件由所述 彈性支撐部彈性地支撐，以繞振蕩軸線振蕩；其中，所述振蕩部件具 有可動元件和用於調節所述振蕩部件質量的質量調節部件；並且其中， 在所述可動元件和所述質量調節部件的一部分之間形成空腔。
根據本發明的又一方面，本發明提供一種振蕩器裝置，其包括 振蕩部件；彈性支撐部；以及支撐部件，其中所述振蕩部件由所述彈 性部件彈性地支撐，以繞振蕩軸線振蕩；其中，所述振蕩部件包括可 動元件，該可動元件具有用於調節所述振蕩部件質量的突出部；其中 該突出部從所述可動元件沿平行於該振蕩軸線的方向延伸；並且其中， 該突出部沿垂至於該振蕩軸線的平面的橫截面積在振蕩軸線的方向上 是恆定的。
根據本發明的另一個方面，本發明提出了一種振蕩器裝置，其包 括振蕩系統；以及用於齟動所述振蕩系統的驅動裝置；其中所述振 蕩系統包括第一振蕩部件、第一彈性支撐部、第二振蕩部件、第二彈 性支撐部；以及支撐部件；其中，所述第一振蕩部件包括第一可動元 件，該第一可動元件具有用於調節所迷第一振蕩部件質量的突出部； 其中，所述第二振蕩部件包括第二可動元件，該第二可動元件具有用 於調節所述第二振蕩部件質量的突出部；其中，在所述第一和第二可 動元件中的每一個上，所述突出部從其可動元件沿平行於該振蕩軸線 的方向延伸，並且該突出部沿垂直於該振蕩軸線的平面的橫截面積在 振蕩軸線方向上是恆定的；其中，所述第一可動元件經由所述第一彈性支撐部由所述第二可動元件支撐，以繞振蕩軸線振蕩；其中，所述 第二可動元件經由所述第二彈性支撐部由所述支撐部件支撐，以繞振 蕩軸線振蕩；並且其中所述振蕩系統具有至少兩個頻率不同的固有振 蕩才莫式。
根據本發明的又一方面，本發明提供了一種振蕩器裝置，其包括: 振蕩部件；彈性支撐部；以及支撐部件；其中所述振蕩部件由所述彈 性支撐部彈性地支撐，以繞振蕩軸線振蕩；其中，所述振蕩部件包括 可動元件，該可動元件具有多個用於調節所述振蕩部件質量的突出部； 其中，各突出部成對地形成，每對突出部設置在相對於該振蕩軸線對 稱的位置處；其中，設置在對稱位置處的這些突出部具有彼此不同的 形狀;並且其中，所述振蕩部件的重心設置在振蕩軸線上。
根據本發明的又一方面，本發明提供了一種振蕩器裝置，其包括 振蕩系統；以及用於驅動所述振蕩系統的驅動裝置；其中所述振蕩系 統包括第一振蕩部件、第一彈性支撐部、第二振蕩部件、第二彈性支 撐部以及支撐部件；其中所述第一振蕩部件包括第一可動元件，該第 一可動元件具有多個用於調節所述第一振蕩部件質量的第一突出部； 其中所述第二振蕩部件包括第二可動元件，該第二可動元件具有多個 用於調節所述第二振蕩部件質量的第二突出部；其中所述多個第一突 出部和所述多個第二突出部分別地設置在相對于振蕩軸線對稱的位置 處；齊中，所述多個第一突出部和/或所述多個笫二突出部中的設置在 對稱位置處的那些具有彼此不同的形狀；其中，所述第一振蕩部件的 重心和所述第二振蕩部件的重心設置在振蕩軸線上；其中，所述第一
可動元件經由所述笫一彈性支撐部由所述第二可動元件彈性地支撐， 以繞振蕩軸線振蕩；其中，所述第二可動元件經由所述第二彈性支撐 部由所述支撐部件彈性地支撐，以繞振蕩軸線振蕩；並且其中，所述 振蕩系統具有至少兩個頻率不同的固有振蕩模式。
根據本發明的又一方面，本發明提供一種成像設備，其包括光 源；基於上述振蕩器裝置的光偏轉器；以及感光部件，其中所述光偏 轉器使來自所述光源的光偏轉，以使得所述光的至少 一部分入射到所述感光部件上。
根據本發明的又一方面，本發明提供一種圖象顯示設備，其包括 光源；基於如上所述的振蕩器裝置的光偏轉器；以及圖像顯示部件， 其中，所述光偏轉器將來自所述光源的光偏轉，以使得所述光的至少 一部分入射到所述圖像顯示部件上。
簡而言之，在例如用於執行光學掃描的光偏轉器的振蕩器裝置和 製造這樣的振蕩器裝置的方法中，振蕩部件可包括可動元件和質量調 節部件，並且在該可動元件和該質量調節部件之間可形成空腔。採用 該布置，可以迅速地去除相對較大的質量。此外，可動元件可形成有 用於質量調節的突出部，這確保快速地去除相對較大的質量。這確保 以較大的調節範圍和較高的速度調節該振蕩部件的轉動慣量或其重心 位置。


結合附圖考慮本發明優選實施例的以下說明，本發明的這些和其
它目的、特徵和優點變得更加顯而易見。
圖1A是根據本發明笫一可工作的示例的光偏轉器的平面圖。 圖1B是第一可工作的示例的振落系統的在沒有反射表面的那側
的平面圖。
圖2是剖視圖，其示出了本發明第一可工作的示例中的振蕩部件 和驅動裝置。
圖3是剖視圖，顯示了根據本發明第一可工作的示例的振蕩部件 的另一種結構。
圖4A是根據本發明第二可工作的示例的光偏轉器的平面圖。 圖4B是第二可工作的示例的振蕩系統在沒有形成反射表面的一 側的平面圖。
圖5是剖視圖，其用於說明本發明第二可工作的示例中的振蕩部件。
圖6是剖視圖，其用於說明本發明第二可工作的示例中的彈性支撐部。
圖7A是平面圖，其用於說明根據本發明的雷射束加工過程中的 一個過程。
圖7B是平面圖，其用於說明根據本發明的雷射束加工過程中的 另一過程。
圖7C是剖視圖，其用於說明與圖7B相應的過程。
圖8是示意圖，其用於說明根據本發明第二可工作的示例製造帶
有凹槽的可動元件的過程。
圖9是示意圖，其用於說明根據本發明第二可工作的示例用於制
造扭轉彈簧的過程。
圖IOA是根據本發明第三可工作的示例的振蕩系統的平面圖。 圖10B是根據本發明第四可工作的示例的質量調節部件的平面圖。
圖11是曲線圖，其用於說明根據本發明第三可工作的示例的振蕩 器裝置中的第一可動元件的位移角。
圖12是曲線圖，其用於說明根據本發明第三可工作的示例的振蕩 器裝置中的第一可動元件的角速度。
圖13是局部平面圖，其示出了本發明第三可工作的示例的第一可 動元件和突出部。
圖14是根據本發明第五可工作的示,的振蕩器裝置的平面圖。
圖15是根據本發明第五可工作的示例的振蕩器裝置的驅動基底 的平面圖。
圖16是根據本發明第五可工作的示例的振蕩器裝置的剖視圖。 圖17是根據本發明第六可工作的示例的振蕩器裝置的平面圖。 圖18是根據本發明第六可工作的示例的振蕩器裝置的剖視圖。 圖19是根據本發明可工作的示例的具有光偏轉器的光學器械的 透視圖。
圖20是公知類型的光偏轉器的透視圖。
具體實施方式
現在參照附圖對本發明的優選實施例進行說明。
以下將說明本發明的一個優選實施例。根據該實施例的振蕩器裝 置可以具有至少一個設置成圍繞振蕩軸線振蕩的振蕩部件。該振蕩部 件可以包括可動元件，該可動元件具有用於調節該振蕩部件的質量的 質量調節部件。空腔可以形成在可動元件和質量調節部件之間。通過 該空腔，該質量調節部件的一部分可以保持成與該可動元件間隔開。 該空腔可以是形成在可動元件或質量調節部件上的凹槽或槽口。
該振蕩器裝置可包括振蕩系統和用於驅動該振蕩系統的驅動裝 置。該振蕩系統可包括例如如上所述的振蕩部件、支撐部件和彈性支 撐部。該可動元件可以由該彈性支撐部彈性地支撐，從而可以繞振蕩 軸線相對於支撐部件振蕩。該可動元件可以具有反射表面(光偏轉元 件)，以提供光偏轉器。
在製造例如如上所述的振蕩器裝置的方法中，為了執行對圍繞振 蕩軸線的至少一個固有振蕩模式的頻率的調節和對該振蕩部件的重心 位置相對于振蕩軸線的調節以及對準中的至少一個，可以進行如下程 序，其中上述對圍繞振蕩軸線的至少一個固有振蕩模式的頻率的調節 用於使所述頻率與目標頻率匹配。例如，可以藉助雷射束切掉質量調 節部件的懸置在空腔之上的一部分。關於質量調節部件的懸置在所述 空腔之上的所述部分的形狀，該質量調節部件的一部分可以延伸跨過 空腔或其可以作為突出部在該空腔上部分地延伸。在後者的情況中， 一旦設定了位置(離開振蕩軸線的距離)和突出部的質量，則可以預 先檢測到通過切斷突出部(例如，通過採用雷射束切割突出部的基部) 能夠獲得的轉動慣量或重心位置的調節量。如果設置例如如上所述的 多個空腔和突出部，則可以非常精確和迅速地調節轉動慣量或重心位 置。
特別地，在該實施例中，質量調節部件可以設置在可動元件上， 並且這不需要擴大可動元件的表面面積。因此，可以設置質量調節部 件而不會在可動元件繞振蕩軸線振蕩的期間增加空氣的阻力。
在製造根據本發明另 一 實施例的振蕩器裝置的方法中，使雷射束沿例如圓周的環狀形狀(封閉的曲線)掃描式地偏轉的同時，雷射束可 以投射到質量調節部件的與可動元件分隔開的部分上，以去除質量調 節部件的由雷射束所照射的材料，從而提供振蕩部件。由於質量調節 部件的被封閉的環所環繞的區域(該區域沒有被雷射束照射)與可動 元件分隔開，所以其可以被去除掉。這意味著，從振蕩部件繞振蕩軸 線的轉動慣量中減去了由去除部分所產生的轉動慣量的量。或者，由 於減小了與去除部分相應的質量，所以重心部分得以調節。
採用該方式，可以根據需要控制振蕩系統的固有振蕩模式的頻率 或該振蕩系統的重心位置。即，通過合適地選擇從質量調節部件中去 除的部分的體積和位置，可以根據需要調節轉動慣量或重心部分。特 別地，通過合適地選擇質量調節部件的密度(例如，通過將質量調節 部件的比重或相對密度保持為較小)，可以根據需要選定頻率調節的分 辨率，而不考慮待去除的體積的解析度或用於定位的解析度。此外，
由於空腔的存在，所以當雷射束投射成沿著封閉曲線去除質量時，可 以同時去除由封閉曲線所包圍的質量的部分。因此，可以較快地去除
較多的質量。
這確保了在相對較大的調節範圍內和以較高的速度調節轉動慣量 或重心位置。此外，由於空腔的存在，通過雷射束照射只能精確地去 除質量調節部件，而不會去除任何可動元件的材料。因此，確保了高 精度的調節。即，如果沒有這樣的空腔，則在雷射束照射期間，可能 會去除正好位於質量調節部件之下的可動元件的部分。空腔的設置能 確保避免該情況的發生。
具有設置成繞振蕩軸線振蕩的振蕩部件的振蕩器裝置可以如下來 實現。在該實施例中，振蕩部件可包括具有突出部的可動元件，該突 出部用來調節振蕩部件的質量。即，在該實施例中，質量調節部件可 能不是單獨設置，而是，可動元件本身的一部分可用來實現質量調節 部件的功能。關於該突出部的形狀，示例可以是沿平行于振蕩軸線延 伸的突出部，以及可以是沿垂直于振蕩軸線延伸的突出部。作為一種
替代方案，可動元件可以形成為梯形(trapezoidal shape)或紡錘形(spindle like shape)，並且可以將其銳角拐角用作突出部。
特別地，關於沿平行于振蕩軸線的方向延伸的突出部，通過調節 雷射束將要投射在其上的切割位置，可以使從該切割位置到突出部末 端的去除量得以調節。
此外，根據該實施例，雷射束加工區域的尺寸可以是恆定的和較 小的，而不需要考慮去除量是大還是小。因此，即使擴大了去除量， 也可以將雷射束加工所產生的對振蕩器裝置的傳熱保持得較小。
另外，通過精細調節切割位置，可以提高除去量的解析度。因此 同時實現大調節範圍和清晰的解析度。另外，關於垂直于振蕩軸線的 剖面，突出部可以具有均勻的剖面形狀，該剖面形狀在振蕩軸線的方 向上是一致的。此時，從切割位置至突出部末端的長度和振蕩部件圍 繞振蕩軸線的轉動慣量調節量具有近似成比例的關係。因此，可以非 常容易地調節轉動慣量。
所有的突出部可以在平行于振蕩軸線的方向上延伸。此時與突出 部在垂直于振蕩軸線的方向上延伸相比，降低振蕩的位移角或相位的 不穩定性。這是因為這種不穩定性可以歸咎於從環境大氣施加至振蕩 元件上的阻力的變化。尤其是在大約若干亳米的極小尺寸的振蕩器裝 置中，空氣阻力的變化是非常嚴重的問題並且當該設備具有一個遠離 振蕩軸線的部分時是非常顯著的(位移速度高)。如果所有突出部平 行于振蕩軸線，那麼不僅掃描穩定伴而且轉動慣量的快速調節同時實 現。既使在突出部僅形成於最遠離振蕩軸線的振蕩元件的位置上的情 況下也可以有效地獲得這一點。
通過基於半導體製造技術的微處理程序可以單片整體地製造可動 元件和振蕩部件的突出部。因此具有轉動慣量調節機構的振蕩部件可 以非常精確地製造。
振蕩器裝置可以包括振蕩系統和用以驅動振蕩系統的驅動裝置， 振蕩系統具有兩個設置成圍繞振蕩軸線振蕩的振蕩部件。在該實施例 中，第一振蕩部件可以包括具有在平行于振蕩軸線的方向上延伸的突 出部的第一可動元件。類似地，第二振蕩部件可以包括具有在平行于振蕩軸線的方向上延伸的突出部的第二可動元件。關于振蕩軸線作為 法線的剖面(也就是說垂直于振蕩軸線的剖面)，形成在第一和第二 振蕩部件上的各突出部的剖面面積在振蕩軸線的方向上是恆定的。振 蕩系統可以具有兩個圍繞振蕩軸線的固有的振蕩模式。在該實施例中， 通過調節第一和第二可動元件的突出部的相應地雷射束將要被投射到 的切割位置，可以調節除去量。
由於第一和第二振蕩部件都具有在平行于振蕩軸線的方向上延伸 的突出部，該振蕩軸線是振蕩系統的共同的軸線，相同的切割方向可 以用於第一和第二可動元件。因此簡化切割設備。
在製造如上所述的振蕩器裝置的方法中，為了不僅進行至少一個 圍繞振蕩軸線的固有振蕩模式的頻率的調節以將該頻率與目標頻率匹 配，並且同時進行振蕩部件重心的調節，可以進行以下程序。從可動 元件伸出的突出部的 一部分可以切除。例如它可以通過雷射束切除。 通過調節雷射束將要投射到的切割位置，可以調節從切割位置至突出 部末端的除去量。多個突出部可以形成在關于振蕩軸線的對稱位置上， 具有對稱的形狀。當然，這些成對設置的突出部具有不同的除去量， 因此它們的最終形狀是不同的。
通過除去突出部的至少一部分，振蕩部件的轉動慣量可以根據除 去量進行調節。另外由於成對突出部的除去量的非對稱關係，振蕩部 件重心與振蕩軸線的偏移距離可以同時調節。此時，可以獲得產生類 似有利的通過如上所述除去突出部可獲得的優點。另外由於轉動慣量、 重心和偏移距離都可以利用相同突出部進行調節，可以非常快地進行 處理。另外，用於調節的突出部的數量可以較小，並且因此振蕩部件 的轉動慣量和質量可以較小。因此振蕩器裝置作為整體可以緊湊。由 於在振蕩期間施加至振蕩部件上的空氣阻力較小，振蕩部件的振蕩穩 定性顯著提高。
具有設置成圍繞振蕩軸線振蕩的振蕩部件的振蕩器裝置可以如下 實施。在該實施例中，振蕩器裝置的所有突出部可以平行于振蕩軸線 延伸，並且垂直于振蕩軸線的剖面面積可以在振蕩軸線的方向上恆定。這些設置成關于振蕩軸線對稱的位置上的突出部可以具有相互不同的 長度。
根據該實施例，除去長度的總和涉及轉動慣量的調節量，而突出 部的除去長度的比例涉及振蕩部件重心與振蕩軸線的偏移距離的調節 量。因此關於要從各突出部除去的形狀， 一旦在轉動慣量調節量的基 礎上確定總量並且在偏移距離調節量的基礎上確定除去長度的比例， 那麼不僅轉動慣量而且重心偏移距離可以同時調節。在此，轉動慣量 調節量和除去長度總量是成比例的關係。因此，轉動慣量調節量和重 心偏移距離調節量可以非常容易地和精確地確定。
在這種情況下，可以獲得通過平行于振蕩軸線的突出部可獲得的 類似有利的結果。通過基於半導體製造技術的微處理程序，可動元件 和振蕩部件的多個突出部又可以單片電路地製造。因此，允許高精度 調節轉動慣量和重心偏移距離的結構方便地提供。
具有設置成圍繞振蕩軸線振蕩的振蕩部件的振蕩器裝置可以如下 實施。在該實施例中，作為驅動裝置的永久磁體可以設置在一個可動 元件上，以便對從線圏在振蕩系統外部施加的電磁力做出響應，可以 驅動具有磁體的可動元件。在該實施例中，永久磁體可以設置在可動 元件上，並且永久磁體的重心可以偏離振蕩軸線。例如由於處理錯誤， 永久磁體的設定位置可以隨機偏離，引起重心偏離。但是，通過按類 似於上述的方式除去形成於可動元件上的突出部的至少一部分，可動 元件的重心可以偏離振蕩軸線以確保7JC久磁體的重心偏離通過可動元
件的重心偏離而抵消。也就是說，通過如下除去突出部的至少一部分， 這些偏移可以相互抵消。即突出部可以這樣除去，使得在(i)從永久 磁體重心至振蕩軸線與連接永久磁體與可動元件的線段之間的交點的 距離和(ii)從可動元件重心至前述交點的距離之間的比例近似等於 永久磁體和可動元件的質量反比。通過該程序，振蕩部件的重心作為 整體可以放置在振蕩軸線上。
如上所述，在包括基於能夠較大地驅動振蕩部件的電磁力的驅動 裝置的小尺寸振蕩器裝置中，頻率的調節和重心的偏移距離的調節可以同時進行。永久磁體的/f茲特性可以通過加熱輕易地降低。考慮到這 一點，上述大除去量不需要擴大加工區域的實施例是非常有益的，益 處在於使得由於雷射束加工引起的熱傳遞較小並且在於完成了帶有具 有良好磁特性的永久磁體的可動元件。
作為可以略微不同於前述實施例的振蕩器裝置可以包括振蕩系統 和用以驅動振蕩系統的驅動裝置，其中該振蕩系統包括兩個設置成圍 繞振蕩軸線振蕩的振蕩部件。在該實施例中，第一振蕩部件可以包括
具有多個在平行于振蕩軸線的方向上延伸的突出部的第一可動元件。 類似地，第二振蕩部件可以包括具有多個在平行于振蕩軸線的方向上 延伸的突出部的第二可動元件。振蕩系統可以具有兩個圍繞振蕩軸線 的固有的振蕩模式。通過調節第一和第二可動元件的各突出部的雷射 束將要投射到的切割位置，這些突出部的除去量可以調節。由於第一 和第二振蕩部件具有在平行于振蕩軸線的方向上延伸的突出部，該振 蕩軸線是振蕩系統的共同的軸線，相同的切割方向可以用於第一和第 二可動元件。因此簡^化切割。
在一實施例中，其中如上所述，振蕩部件包括具有用於調節其質 量的質量調節部件的可動元件並且空腔限定在可動元件與質量調節部 件之間，頻率調節和重心偏移距離調節可以同時如下進行。即質量調 節部件可以設置在振蕩軸線的對面，並且這些質量調節部件的除去量 及其與振蕩軸線的距離可以如上所述地確定，這基於轉動慣量調節量
和重心偏移距離調節量。然後基於這種確定，可以除去一部分質量調 節部件。通過該程序，可以簡單且非常精確地進行頻率調節和重心偏 移距離調節。
可動元件可以設有反射表面以構成光偏轉器，並且它可以用作為 良好調諧至期望的頻率或重心偏移量的光偏轉器，用於成像或圖像顯 示。如果固有振蕩模式的頻率是良好調諧的，由於這種光偏轉器可以 用高的振幅放大係數驅動，該設備可以是緊湊的並且可以用低的功率 消耗進行驅動。換言之，如果重心與振蕩軸線的偏移量是良好調諧的， 振蕩軸線難以在掃描期間轉變。因此，性能的降低例如掃描線的彎曲或者降低的可再現性可以良好地避免。
採用這種光偏振器的成像設備可包括光源、例如如上所述的光偏 振器和感光部件，其中光偏振器可以偏轉來自光源的光線，使得至少 一部分光線可以入射到感光部件上。
採用這種光偏振器的顯像設備可以包括光源、例如如上所述的光 偏振器和顯像部件，其中光偏振器可以偏轉來自光源的光線，使得至 少一部分光線入射到顯像部件上。
特別地，振蕩系統可以包括兩個振蕩部件並且反射表面可以設置
在其中一個振蕩部件的可動元件上以便提供光偏振器。在該實施例中， 為了成像或者顯像，具有兩個良好調諧成二倍或三倍頻率關係的圍繞 振蕩軸線的固有振蕩模式的光偏振器是可以利用的。這種光偏振器不 僅在其可用大振幅放大係數驅動方面而且在通過基於正弦波的按前述 頻率關係的組合波驅動提高光學掃描的角速度的均勻性方面是有利 的。因此，反射表面由于振蕩期間的角速度的改變的變形可以良好避 免。另外，由於對於光點形成的光源的調製定時可以無需顧慮角速度 的非均勻性地設定，簡化調製電路。
另外如果重心偏移量是良好調諧的，可能由於阻礙振蕩系統的兩 個固有振蕩模式的獨立性的耦合引起的不希望的振蕩起伏是良好降低 的。這種振蕩起伏可以通過降低重心偏移量和通過將兩個固有振蕩模 式調諧成"整數祠乘，，的關係而降低。由於這種振蕩起伏可以引起振蕩 部件圍繞振蕩軸線的角速度的改變以及導致光學掃描的不穩定性，它 們應該被避免。下面參照附圖描述本發明的具體可工作的示例。
現在，將描述根據本發明的第四可工作的示例的振蕩器裝置。圖 10B是設置在可動元件上的質量調節部件419的平面示意圖，所述可 動元件被布置成繞振蕩軸線振蕩。本可工作的示例的質量調節部件 419具有多個突起420，所述突起420從所述質量調節部件419伸出， 懸於(hangover)空腔430之上。在本例中，為了將繞振蕩軸線的固 有振蕩模式的頻率調到目標頻率，或者將振蕩部件的重心位置調整成 與振蕩軸線對齊，如圖10B中的虛線所示，利用雷射束將突起430的 基部切除。更具體地，以適當的去除體積切除適當數量的突起430。 一旦各突起的位置(距振蕩軸線的距離)及其質量被設定，則能夠預 先確定4要通過切割所述突起獲得的轉動慣量或'重心位置的調整量。 因此，可以非常精確地控制轉動慣量或重心位置。
[第五可工作的示例
圖14、 15和16表示根據本發明的振蕩器裝置的第五個可工作的 示例的光偏轉器。圖14是該光偏轉器的振蕩系統的平面圖，圖15是 具有用於驅動所述振蕩系統的驅動裝置的驅動基片的平面圖。圖16 是沿著圖14中的A-A線剖開的剖視圖，表示組裝了振蕩系統和驅動 基片的結構。在本可工作的示例中，如圖所示，可動元件513形成有突起503a、 503b、 503c和503d，並且這提供了振蕩部件。振蕩系統 包括該振蕩部件、 一對彈性支撐部512和支撐部件511。可動元件513 例如在垂直于振蕩軸線517的方向上具有1.5mm的尺寸，在平行于振 蕩軸線的方向上具有1mm的尺寸。
在本可工作的示例中，可動元件513由所述一對彈性支撐部512 彈性支撐，以便圍繞振蕩軸線517扭轉振蕩。如圖所示，突起503a 和503b與突起503c和503d在夾著振蕩軸線的對稱位置處與可動元件 513連接起來。所有這些突起都沿著平行于振蕩軸線517的方向延伸。 將所述成對突起503a和503b (或503c和503d )相互比較，可以看出 它們具有不同的長度。即，在對稱的位置處與可動元件相連接的突起 具有相關于振蕩軸線517不對稱的形狀。
圖15表示驅動基片518和一對驅動電極519。如圖所示，驅動電 極519相關于振蕩軸線517對稱地形成。進而，如圖16所示，驅動基 片518和振蕩系統組裝起來，在它們之間插入有間隔件520，以便在 它們之間保持適當的間隔。因此，可動元件513與驅動電極519對置， 它們之間間隔有空腔。可動元件513電接地。因此，通過交替地向對 稱設置的驅動電極519施加高壓，在可動元件513和施加了電壓的驅 動電極519之間產生靜電引力。這導致了圍繞振蕩軸線517的轉矩， 其對振蕩系統進行驅動。
本可工作的示例中的光偏轉器的驅動原理與第一個可工作的示例 相同。然而，由於諸如材料物理特性的偏差或工藝上的誤差等各種誤 差因素，例如，頻率fi可能偏離基準頻率fo。在圖14所示的結構中， 存在由於在幹蝕刻工藝過程中掩模形狀誤差造成的工藝誤差瑕疵 400。由於在半導體製造工藝中的意外因素，有可能造成這種工藝誤差 瑕瘋，並且產品的成品率將因此而降^f氐。該工藝誤差瑕疵400可能是 類似這裡所示的突起或者凹口的形狀瑕疵，或者可能是粘附的碎渣等。
對於整個振蕩部件的轉動慣量而言，如400所示的這種工藝誤差 瑕瘋將成為誤差因素。在這些情況下，如從公式(1)看出的那樣，在 振蕩系統的固有振蕩模式的頻率f,中也將產生誤差，並且，將再也無法獲得良好的振幅放大係數。進而，工藝誤差瑕疵400將導致整個振 蕩部件的重心位置從設計位置沿著意想不到的方向偏離。如果產生這 種偏離距離，則會導致不希望的振蕩，這對于振蕩系統的振蕩而言是 極不理想的。由於這可能導致可動元件513的反射表面的傾斜誤差， 所以掃描特性將因此降低。
在沒有這種重心偏移的理想狀態下，可動元件513根據頻率fo的 驅動信號圍繞振蕩軸線517扭轉振蕩。另一方面，如果重心偏離振蕩 軸線517，根據所述扭轉振蕩，在可動元件上沿著從振蕩軸線517到 重心位置的方向產生慣性力。該慣性力又導致在重心偏離方向上的不 希望的特徵頻率的振蕩。結果是掃描特性被降低。
上述掃描特性的降低可以通過對固有振蕩模式的頻率f,和重心偏 離距離兩者進行調整來避免，並且因此獲得低功耗光偏轉器。
再次參照已經參照第三可工作的示例描述過的圖13，將對同時調 整固有振蕩模式的頻率&和重心偏離距離兩者的方法進行說明。這裡， 對於圖14的可動元件513而言，圖13中的附圖標記302應當讀作 "513"，並且，對於圖14的突起503c而言，附圖標記303應當讀作 "503c"。
延伸通過突起503c的中心軸線C穿過突起503c的厚度(即，其 在附圖紙張法向上的長度)的中心，並且，平行于振蕩軸線517。突 起503c與位置無關、(沿著以中心軸線C作為法線的截面)具有統一 的截面形狀。即，例如，在位置A和位置B，其具有相同的截面形狀。
關於突起503c的去除，所要去除的體積根據頻率A相對於基準頻 率fo的差(餘數)以及重心位置的偏離距離來確定。為了所述去除， 沿著以中心軸線C作為法線的切割截面(即，沿著垂直於所述中心線 C的截面)切割所述突起503c。在此，通過調整切割位置，對去除量 進行調整。
例如，通過雷射束照射，在位置A或位置B切割所述突起503c。 去除的長度La或Lb的轉動慣量等於所去除的質量與中心軸線C和 振蕩軸線517之間的距離Dc的平方的乘積。由於去除量與所述長度成比例，所以，要通過質量去除提供的在位置A和B處的轉動慣量調 整量的比等於長度La和Lb的比。
另一方面，如圖14所示，在相對于振蕩軸線517相互對稱的位置 形成所述突起。圖14表示按照上述方法部分地去除所述突起之後的結 構。在這一質量去除之前，可以以相同的寬度和相同的長度形成所述 成對的突起503a和503b以及所述成對的突起503c和503d。因此， 對於成對的突起503a和503b以及成對的突起503c和503d，去除的 長度是不同的。通過調整這一比率，可以對振蕩部件的重心的偏離距 離。
在這一可工作的示例中，首先測量振蕩系統的固有振蕩模式的頻 率，並且，推斷出用於將該頻率調到其設計值所需的轉動慣量的調整 量。頻率測量可以根據關於用光接收元件檢測的掃描束的信息、由可 以設置在所述彈性支撐部上的壓電阻抗檢測出的信息等來進行。根據 推斷出的量，可以確定要去除的突起503a- 503d的長度的總和。在制 造具有至少一個圍繞振蕩軸線固有振蕩模式的本可工作的示例的振蕩 器裝置的方法中，這一工藝包括下述步驟。即，包括測量振蕩器裝 置的圍繞振蕩軸線的固有振蕩模式的頻率的步驟；以及，根據測量出 的頻率確定多個突起的去除量的總和的步驟。
隨後，根據重心位置的偏離距離，確定所述成對的突起503a和 503b或成對的突起503c和503d的去除長度的比。可以通過測量掃描 光束的掃描軌ii並計算與理想的掃描軌跡的差(餘數)來確定所述重 心位置的偏離距離。在生產具有至少一個圍繞振蕩軸線的固有振蕩模 式的本可工作的示例的振蕩裝置的方法中，這一工藝包括下述步驟。 即，包括驅動振蕩器裝置的步驟；檢測振蕩器的振蕩部件的振蕩狀 態或驅動波形的步驟；以及，將檢測出的振蕩狀態與目標振蕩狀態進 行比較、並根據該比較確定凸起的去除量的比、以便減小偏離距離的 步驟。
上面提到的確定去除量的總和的步驟和確定去除量的比的步驟可 以被概括為包括下述步驟的工序即，驅動振蕩器裝置的步驟；檢測振蕩器裝置的振蕩部件的振蕩狀態的步驟；以及，將檢測出的振蕩狀 態與目標振蕩狀態進行比較、並且根據該比較確定對要從所述突起去 除的形狀的步驟。
根據如上所述確定的去除的長度，改變雷射束的照射位置，並且 將突起503a - 503d加工成相對于振蕩軸線517具有非對稱的長度。借 助這一工序，在本可工作的示例中，可以同時進行固有振蕩模式的頻 率的調整和重心偏離距離的調整。特別是，在本可工作的示例中，轉 動慣量的調整量與加工長度成比例，可以同時確定加工目標值。
[第六可工作的示例
下面，將描述根據本發明的第六個可工作的示例的振蕩器裝置及 其製造方法。圖17是本示例的振蕩器裝置的平面圖，所述振蕩器裝置 包括兩個用於圍繞振蕩軸線604振蕩的振蕩部件。在本可工作的示例 中，所述兩個振蕩部件分別包括具有第一和第二突起603和621的第 一和第二可動元件602和620，分別用於調節振蕩部件的質量。第一 可動元件602由第一彈性支撐部(扭力彈簧)605彈性支撐，以便相 對於第二可動元件620圍繞振蕩軸線604進行扭轉振蕩。第二可動元 件620由第二彈性支撐部(扭力彈簧)606彈性支撐，以便相對於支 撐部601圍繞振蕩軸線604振蕩。在第二可動元件620上固定有永磁 體651。這些永磁體651在第二可動元件620的兩個彼此相對的表面 上，在圖17中表示出了一個表面。
在本可工作的示例中，第一和第二可動元件602和620自身的一 部分形成沿著平行于振蕩軸線604的方向延伸的突起603和621。與 第五個可工作的示例類似，這些突起603和621最初相對于振蕩軸線 604以對稱的形狀形成在對稱的位置。然後，與第五個可工作的示例 類似，利用雷射束將所述突起的希望的部分切掉，藉此，從這些突起 上去除掉適當量的非對稱長度。
第一可動元件602和第一突起603構成第一振蕩部件，第二可動 元件620、第二突起621和永磁體651構成第二振蕩部件。這些振蕩部件可以圍繞振蕩軸線604成一整體地振蕩。
本可工作的示例的振蕩器裝置由包括永磁體651和固定線圈652
的驅動裝置根據綜合驅動信號來進行驅動，所述綜合驅動信號以基準 頻率ffl (由所使用的系統的規格確定的目標驅動頻率)和為該基準頻 率的兩倍的頻率2f。為基礎。圖18是沿著圖17的A-A線剖開的剖視 圖。如圖18所示，所述固定線圏沿著箭頭H的方向產生磁場。該磁 場作用到安裝於第二可動元件上的永磁體651上，以便產生圍繞振蕩 軸線304轉矩，藉此轉矩驅動所述振蕩系統。
振蕩器裝置具有圍繞振蕩軸線604的兩個固有頻率&和f2，並且 這些振蕩頻率被調到與頻率fo和2fo大致匹配。因此，在本可工作的 示例中，當釆用固有振蕩模式的高振幅放大係數時，實現了基於具有 頻率fo和2f。和兩個信號的組合波驅動。所述組合波驅動方法與已經 結合附圖11和12描述過的第三可工作的示例相同。
在本可工作的示例中，振蕩系統圍繞振蕩軸線604的兩個固有振
蕩模式的頻率&和f2具有"整數倍"的關係。因此，第一和第二振蕩部
件的轉動慣量應當滿足下述公式(5)的關係。
I2/I^4n2/(n4-2n2+l) …(5)
其中，^和12分別是第一和第二振蕩部件的轉動慣量，n是代表 &/&的整數。
本可工作的示例的振蕩系統在頻率和f2之間具有二倍的關係， 因此，滿足下述公式(6)的關係。
12/1^1.78 ".(6)
即，在本可工作的示例中，第二振蕩部件具有比第一振蕩部件大 的轉動慣量。通過將永磁體651 (驅動裝置)僅放置在第二可動元件 620上，有效地提供了轉動慣量的這種量級的關係。因此，利用永磁體651，獲得了適合於實現兩個固有振蕩模式的振蕩部件結構。
這裡，將考慮一種情況，其中，如圖17和18所示，永磁體651 被沿著圖中向左的方向偏離地附著或設置。永磁體651的重心668向 左偏離振蕩軸線604。另一方面，對於突起621，如圖17所示，突起 621中位於永/磁體651所偏向的那一側的一個的去除量較大。例如， 可以才艮據以測量掃描軌跡為基礎的方法來確定相對于振蕩軸線604不 對稱的非對稱突起621的去除長度的比，所述的方法已經參照第五個 實施例描述過了。
點669表示第二可動元件的重心，其中，將突起621以上述那樣 的非對稱長度部分地去除。連接重心668與重心669的線段穿過振蕩 軸線604。氺J茲體651和第二可動元件620的重心多巨振蕩軸線604的 偏離距離的比大致等於永磁體651和第二可動元件620的質量的反比。 由於這些關係，整個第二振蕩部件的重心被置于振蕩軸線604上。
至於可能造成重心偏離振蕩軸線604的因素，可能存在不同的因 素，例如已經參照第五個可工作的示例描述過的工藝上的誤差。總之， 按照上面描述的本可工作的示例的方法，可以對振蕩部件的重心的這 種距離偏差進行調整。
在振蕩系統包括多個自由度的振蕩系統時，上述振蕩部件的重心 偏差所導致的不希望的振蕩會導致多個固有振蕩模式之間耦合，並且， 掃描再現性將因此而大大'降低。特別是，由於在本可工作的示例中， 兩個固有振蕩模式的頻率具有"二倍的關係"，所以，上面提到的不希 望的振蕩的頻率將是基準頻率的兩倍，即，等於另一頻率。因此，兩 個固有振蕩模式將被強有力地耦合在一起。除了掃描軌跡彎曲之外， 這還將導致掃描的再現性嚴重降低。
在本可工作的示例中，突起603和621被非對稱地去除，通過這
樣做，具有兩個固有振蕩模式的振蕩系統的兩個頻率fi和f2以及兩個
振蕩部件的重心偏離距離可以被同時調整。這使得以低功率消耗驅動 的組合波和良好的掃描再現性成為可能。按照這種方式，能夠同時且 迅速地調整振蕩部件的轉動慣量和重心位置。[第七個可工作的示例I
圖19是示意性的透視圖，表示結合有根據本發明的光偏轉器的光 學器械的可工作的示例。在本例中，成像裝置被表示為光學器械。在 圖19中，3003表示的是根據本發明的光偏轉器，並且其用於一維地 掃描入射到其上的光。3001表示的是雷射源，3002表示的是透鏡或透 鏡組。3004表示的是記錄透鏡或透鏡組，3005表示的是鼓形感光部件。
從雷射源3001發出的雷射束已經由相對於光偏轉掃描時間的預 定強度調製進行了調製。該經過強度調製的光穿過透鏡或透鏡組 3002，並且藉助光學掃描系統(光偏轉器)3003,被一維掃描偏轉。 利用記錄透鏡或透鏡組3004，將掃描偏轉的雷射束聚焦到感光部件 3005上，以便在其上形成圖像。
感光部件3005圍繞旋轉軸線在垂直於掃描方向的方向上旋轉，並 且被圖中未示出的充電器均勻充電。通過用光掃描感光部件的表面， 在被掃描的表面部分中形成靜電潛像。隨後，通過採用圖中未示出的 顯影裝置，按照該靜電潛像形成調色劑圖像，並且隨後將該調色劑圖 像轉印並定影到圖中未示出的轉印片材上，從而在該片材上形成圖像。
根據本可工作的示例，能夠採用被很好地調到所需頻率的光偏轉 器。因此，能夠以高的幅度放大係數進行驅動，並且因此，可以使裝 置緊湊，並且能夠降低功率消耗。進而，能夠使光的偏轉掃描的角速 度在感光部件3005表面的有效區域內大致均等。另外，通過採用本發 明的光偏轉器，減小了掃描位置的變動，並且實現了能夠形成清晰圖 像的成像裝置。
儘管已經參照這裡所公開的結構對本發明進行了說明，但本發明 不限於前述細節，並且本申請應當覆蓋在所附權利要求的改進目的或 範圍內可以得出的改型或變化。
權利要求
1.一種製造振蕩器裝置的方法，所述振蕩器裝置具有振蕩部件、彈性支撐部和支撐部件，所述振蕩部件由所述彈性支撐部彈性地支撐，以便可繞振蕩軸線進行振蕩，所述方法包括由可動元件形成所述振蕩部件，所述可動元件具有用於調節所述振蕩部件質量的突起，所述突起沿與所述振蕩軸線平行的方向從所述可動元件延伸，並且，所述突起成對地形成，每對突起設置於相對所述振蕩軸線對稱的位置，每個突起的沿與所述振蕩軸線垂直的平面的截面積在所述振蕩軸線方向上是恆定的，以及將雷射束投射到所述突起的切割位置，以部分地去除所述可動元件，所述去除包含所述突起中未被雷射束照射的、範圍涉及從所述切割位置到該突起的末端部的部分，其中，所述突起被切割，致使所述突起的除去長度的總量等於預定長度，以便由此調節所述振蕩部件的轉動慣量。
2. 如權利要求l所述的方法，其中，根據繞所述振蕩器裝置的振 蕩軸線的固有震蕩模式的頻率與目標頻率之間的差來確定所述突起的 除去長度的總量。
3. 如權利要求2所述的方法，其中，處在相對於所述震蕩軸線對 稱的位置的突起的除去量的比例被確定，以便降低所述震蕩部件的重 心偏離所述振蕩軸線的偏離多巨離。
4. 如權利要求3所述的方法，其中，所述突起中的每一個都僅形 成在所述振蕩部件上最遠離所述振蕩軸線的位置。
5. 如權利要求4所述的方法，其中，所迷振蕩器裝置具有用於驅 動所述振蕩部件的永久磁體和線圈，並且所述永久磁體設置在所述振 蕩部件上。
6. —種製造振蕩器裝置的方法，所述振蕩器裝置具有第一振蕩部 件、第一彈性支撐部、第二振蕩部件、第二彈性支撐部和支撐部件， 所述第一振蕩部件通過所述第一彈性支撐部由所述第二振蕩部件彈性地支撐，以便可繞振蕩軸線振蕩，所述第二振蕩部件通過所述第二彈 性支撐部由所述支撐部件彈性地支撐，以便可繞所述振蕩軸線振蕩， 所述振蕩器裝置具有至少兩個固有振蕩模式，所述兩個固有振蕩模式具有不同的頻率，所述方法包括由第一可動元件形成所述第一振蕩部件，所述第一可動元件具有 用於調節所述第一振蕩部件質量的突起，所述用於調節所述笫一振蕩 部件質量的突起沿與所述振蕩軸線平行的方向從所述笫一可動元件延 伸，並且，所述用於調節所述第一振蕩部件質量的突起成對地形成，每對用於調節所述第一振蕩部件質量的突起設置於相對所述振蕩軸線 對稱的位置，每個用於調節所述第一振蕩部件質量的突起的沿與所述 振蕩軸線垂直的平面的截面積在所述振蕩軸線方向上是恆定的，並由 笫二可動元件形成所述第二振蕩部件，所述第二可動元件具有用於調 節所述第二振蕩部件質量的突起，所述用於調節所述第二振蕩部件質 量的突起沿與所述振蕩軸線平行的方向從所述第二可動元件延伸，並 且，所述用於調節所述第二振蕩部件質量的突起成對地形成，每對用 於調節所述第二振蕩部件質量的突起設置於相對所述振蕩軸線對稱的 位置，每個用於調節所述第二振蕩部件質量的突起的沿與所述振蕩軸 線垂直的平面的截面積在所述振蕩軸線方向上是恆定的；將雷射束投射到所述突起的切割位置，以部分地去除所述第一可 動元件和第二可動元件中的至少一個，所述去除包含所述突起中未被 雷射束照射的、範圍涉及從所述切割位置到該突起的末端部的部分，其中，所述突起被切割，致使所述突起的除去長度的總量等於預 定長度，以便由此調節所述第一可動元件和所述第二可動元件中的至 少一個的轉動慣量。
7. 如權利要求6所述的方法，其中，根據繞所述振蕩器裝置的振 蕩軸線的固有震蕩模式的頻率與目標頻率之間的差來確定所述突起的除去長度的總量。
8. 如權利要求7所述的方法，其中，處在相對於所述震蕩軸線對 稱的位置的突起的除去量的比例被確定，以便降低所述震蕩部件的重心偏離所述振蕩軸線的偏離距離。
9. 如權利要求8所述的方法，其中，所述突起中的每一個都僅形 成在所述振蕩部件上最遠離所述振蕩軸線的位置。
10. 如權利要求9所述的方法，其中，所述振蕩器裝置還包括用 於驅動所述振蕩部件的永久磁體和線圏，所述永久磁體被設置在所述 振蕩部件上。
11. 如權利要求IO所述的方法，其中，形成在相對於所述震蕩軸 線對稱的位置並設置在所述第二振蕩部件上的突起的除去量的比例被 確定，以便降低所述第二震蕩部件的重心偏離所述振蕩軸線的偏離距 離。
全文摘要
本發明涉及振蕩器裝置、光偏轉器以及使用光偏轉器的光學器械，能夠大範圍且高速度地進行振蕩部件的轉動慣量或者重心位置的調節。其中，該振蕩部件繞振蕩軸線(17)振蕩，並且該振蕩部件包含可動元件(11)和質量調節部件(19)，在可動元件(11)和質量調節部件(19)之間限定有空腔(30)，從而，通過對質量調節部件(19)進行雷射束照射，該質量調節部件的與空腔相鄰近的一部分被部分地去除，該要被去除的部分包含所述質量調節部件中未被雷射束照射的部分。
文檔編號G02B26/08GK101598852SQ20091013294
公開日2009年12月9日 申請日期2007年6月7日 優先權日2006年6月7日
發明者加藤貴久, 古川幸生, 秋山貴弘 申請人:佳能株式會社