全自動雙面曝光機的製作方法
2023-11-06 03:48:17 2
專利名稱：全自動雙面曝光機的製作方法
技術領域：
本實用新型涉及一種曝光機，尤其涉及一種全自動雙面曝光機。
背景技術：
現有的全自動雙面曝光機，通常是將各作業流程設計於同一平面及同一軸線進 行，而基本的作業流程就有入料一第一面曝光一翻板一第二面曝光一出料等流程；故全自 動雙面曝光機僅裝設基本流程的作業裝置，就已經有相當程度的機臺長度，若要進一步加 裝提升曝光品質的額外裝置(諸如清潔裝置)，則必須加長機臺長度，不然就是受限於機臺 長度而捨棄安裝。然而，全自動雙面曝光機所需的曝光光束，通常可由雙光源或是單光源搭 配光路切換模組予以提供；而如圖1所示的單光源曝光模組IO，是將單一光源11的光束於 鏡碗12中集光後，向上投射至一可切換偏轉向的冷光鏡13，反射後經由第一聚焦鏡14a照 射於第一平面反射鏡15a，再反射至第一曲面反射鏡16a，而反射成平行光束照射於第一曝 光區；再者，將該冷光鏡13切換偏轉向，則可經第二聚焦鏡14b、第二平面反射鏡15b與第 二曲面反射鏡16b，而由第二光路照射於第二曝光區。 次按，若將上述的單光源曝光模組10應用於現有的全自動雙面曝光機，現有的設 計方式是將單一光源11及其鏡碗12設置於曝光機臺的後側，避開曝光機各作業裝置的設 置軸線，以壓低單光源曝光模組10的設置高度，以免曝光機臺的整體高度過高。但如此一 來，最終所形成的平行光束照射面相對於曝光區並未完全重合(具有偏斜角度)，故必須加 大平行光束的照射面積才能照射到整個曝光區，但加大照射面積勢必會降低照射強度，亦 即必須增長曝光時間而降低產速。
實用新型內容本實用新型所要解決的主要技術問題在於，克服現有技術存在的上述缺陷，而提
供一種全自動雙面曝光機，具有不增加機臺長度即可加裝品質提升裝置的功效，和具有平
行光束照射面與曝光區完全重合的功效。 本實用新型解決其技術問題所採用的技術方案是 —種全自動雙面曝光機，其特徵在於，包括一機臺，於同一軸線上至少設置有入
料區、第一面曝光區、下降翻板區、上升供板區、第二面曝光區與出料區；一入料移載裝置，
跨設於該機臺的入料區、第一面曝光區與下降翻板區的上方，而將板件由入料區移載至第
一面曝光區，再由第一面曝光區移載至下降翻板區；第一曝光裝置，設置於該機臺的第一面
曝光區，而以搭配有升降機構的第一頂昇平臺，承接該入料移載裝置自入料區移載過來的
板件，再由該第一頂昇平臺將板件頂升貼靠於第一曝光平臺的下緣；一下降翻板裝置，設置
於該機臺的下降翻板區，而以一搭配有升降機構及翻轉機構的吸板平臺，吸著住該入料移
載裝置自第一面曝光區移載過來的板件，並下降且將板件翻面，而由第一輸送平臺承接板
件；一上升供板裝置，設置於該機臺的上升供板區，而以搭配有升降機構的第二輸送平臺，
承接自第一輸送平臺輸送過來的板件且上升供板；一出料移載裝置，跨設於該機臺的上升供板區、第二面曝光區與出料區的上方，而將由該上升供板裝置供板的板件移載至第二面 曝光區，再由第二面曝光區移載至與出料區；第二曝光裝置，設置於該機臺的第二面曝光 區，而以搭配有升降機構的第二頂昇平臺，承接該出料移載裝置自上升供板區移載過來的 板件，再由該第二頂昇平臺將板件頂升貼靠於第二曝光平臺的下緣；一單光源曝光模組，設 置於該機臺的上方且與各工作區位於同一軸線上，而將單一光源的光束於鏡碗中集光後， 向上投射至一可切換偏轉向的冷光鏡，反射後經由第一或第二聚焦鏡照射於第一或第二平 面反射鏡，再反射至第一或第二曲面反射鏡，而反射成平行光束照射於第一或第二曝光平
臺o 前述的全自動雙面曝光機，其中機臺於下降翻板區與上升供板區間進一步設置有 清潔區，而將一清潔裝置設置於該清潔區，該清潔裝置乃對自第一輸送平臺輸送至第二輸 送平臺的板件，進行板件表面的清潔工作。 前述的全自動雙面曝光機，其中單光源曝光模組的冷光鏡，以伺服馬達切換其偏 轉向。 本實用新型的有益效果是，具有不增加機臺長度即可加裝品質提升裝置的功效， 和具有平行光束照射面與曝光區完全重合的功效。
[0010]
以下結合附圖和實施例對本實用新型進一步說明。圖1是本實用新型的結構主視圖。圖2是本實用新型的結構右側視圖。圖中標號說明10單光源曝光模組11單一光源12鏡碗13冷光鏡131伺服馬達14a第一聚焦鏡14b第二聚焦鏡15a第一平面反射鏡15b第二平面反射鏡16a第一曲面反射鏡16b第二曲面反射鏡20機臺20a入料區20b第一面曝光區20c下降翻板區20d上升供板區20e第二面曝光區20f出料區[0032]20g清潔區[0033]30入料移載裝置40第一曝光裝置41第一頂昇平臺42第一曝光平臺50下降翻板裝置51升降機構52反轉機構53吸板平臺54第一輸送平臺60上升供板裝置61升降機構62第二輸送平臺70出料移載裝置80第二曝光裝置81第二頂昇平臺82第二曝光平臺90清潔裝置
具體實施方式首先，請參閱圖1 、圖2所示，本實用新型包括 —機臺20，於同一軸線上至少設置有入料區20a、第一面曝光區20b、下降翻板區 20c、上升供板區20d、第二面曝光區20e與出料區20f ; —入料移載裝置30，跨設於該機臺20的入料區20a、第一面曝光區20b與下降翻 板區20c的上方，而將板件由入料區20a移載至第一面曝光區20b，再由第一面曝光區20b 移載至下降翻板區20c ; 第一曝光裝置40，設置於該機臺20的第一面曝光區20b，而以搭配有升降機構 (圖中未示)的第一頂昇平臺41，承接該入料移載裝置30自入料區20a移載過來的板件， 再由該第一頂昇平臺41將板件頂升貼靠於第一曝光平臺42的下緣，進行板件第一面的曝 光工作； —下降翻板裝置50，設置於該機臺20的下降翻板區20c，而以一搭配有升降機構 51及翻轉機構52的吸板平臺53，吸著住該入料移載裝置30自第一面曝光區20b移載過來 的板件，並下降且將板件翻轉，而由第一輸送平臺54承接板件； —上升供板裝置60，設置於該機臺20的上升供板區20d，而以搭配有升降機構61 的第二輸送平臺62，承接自第一輸送平臺54輸送過來的板件且上升供板； —出料移載裝置70，跨設於該機臺20的上升供板區20d、第二面曝光區20e與出 料區20f的上方，而將由該上升供板裝置60供板的板件移載至第二面曝光區20e，再由第二 面曝光區20e移載至與出料區20f ; 第二曝光裝置80，設置於該機臺20的第二面曝光區20e，而以搭配有升降機構
5(圖中未示)的第二頂昇平臺81，承接該出料移載裝置70自上升供板區20d移載過來的板 件，再由該第二頂昇平臺81將板件頂升貼靠於第二曝光平臺82的下緣，進行板件第二面的 曝光工作； —單光源曝光模組IO，設置於該機臺20的上方且與各工作區位於同一軸線上，而 將單一光源11的光束於鏡碗12中集光後，向上投射至一可切換偏轉向的冷光鏡13，反射後 經由第一或第二聚焦鏡14a、14b照射於第一或第二平面反射鏡15a、15b，再反射至第一或 第二曲面反射鏡16a、16b，而反射成平行光束照射於第一或第二曝光平臺42、82。 此外，該機臺20於下降翻板區20c與上升供板區20d間進一步設置有清潔區20g， 而將一清潔裝置90設置於該清潔區20g，該清潔裝置90乃對自第一輸送平臺54輸送至第 二輸送平臺62的板件，進行板件表面的清潔工作；又，該單光源曝光模組10的冷光鏡13， 以伺服馬達131切換其偏轉向。 基於如上構成，本實用新型將板件的翻板工作下潛至機臺內部進行，將現有技術 把各種作業裝置設置於同一平面的設計，改變成立體化設置的設計，節省下來的機臺長度， 則可用以加裝提升曝光品質的額外裝置(諸如清潔裝置)，而具有不增加機臺長度即可加 裝品質提升裝置的功效；另，由於各種作業裝置立體化設置的設計，遂可騰出空間，讓該單 光源曝光模組10的單一光源11及其鏡碗12，與各種作業裝置設置於同一軸線，致使所形成 的照射面不會相對於曝光區有所偏斜，則具有平行光束照射面與曝光區完全重合的功效。 以上所述，僅是本實用新型的較佳實施例而已，並非對本實用新型作任何形式上 的限制，凡是依據本實用新型的技術實質對以上實施例所作的任何簡單修改、等同變化與 修飾，均仍屬於本實用新型技術方案的範圍內。 綜上所述，本實用新型在結構設計、使用實用性及成本效益上，完全符合產業發展 所需，且所揭示的結構亦是具有前所未有的創新構造，具有新穎性、創造性、實用性，符合有 關新型專利要件的規定，故依法提起申請。
權利要求一種全自動雙面曝光機，其特徵在於，包括一機臺，於同一軸線上至少設置有入料區、第一面曝光區、下降翻板區、上升供板區、第二面曝光區與出料區；一入料移載裝置，跨設於該機臺的入料區、第一面曝光區與下降翻板區的上方，而將板件由入料區移載至第一面曝光區，再由第一面曝光區移載至下降翻板區；第一曝光裝置，設置於該機臺的第一面曝光區，而以搭配有升降機構的第一頂昇平臺，承接該入料移載裝置自入料區移載過來的板件，再由該第一頂昇平臺將板件頂升貼靠於第一曝光平臺的下緣；一下降翻板裝置，設置於該機臺的下降翻板區，而以一搭配有升降機構及翻轉機構的吸板平臺，吸著住該入料移載裝置自第一面曝光區移載過來的板件，並下降且將板件翻面，而由第一輸送平臺承接板件；一上升供板裝置，設置於該機臺的上升供板區，而以搭配有升降機構的第二輸送平臺，承接自第一輸送平臺輸送過來的板件且上升供板；一出料移載裝置，跨設於該機臺的上升供板區、第二面曝光區與出料區的上方，而將由該上升供板裝置供板的板件移載至第二面曝光區，再由第二面曝光區移載至與出料區；第二曝光裝置，設置於該機臺的第二面曝光區，而以搭配有升降機構的第二頂昇平臺，承接該出料移載裝置自上升供板區移載過來的板件，再由該第二頂昇平臺將板件頂升貼靠於第二曝光平臺的下緣；一單光源曝光模組，設置於該機臺的上方且與各工作區位於同一軸線上，而將單一光源的光束於鏡碗中集光後，向上投射至一可切換偏轉向的冷光鏡，反射後經由第一或第二聚焦鏡照射於第一或第二平面反射鏡，再反射至第一或第二曲面反射鏡，而反射成平行光束照射於第一或第二曝光平臺。
2. 根據權利要求1所述的全自動雙面曝光機，其特徵在於所述機臺於下降翻板區與 上升供板區間進一步設置有清潔區，而將一清潔裝置設置於該清潔區，該清潔裝置乃對自 第一輸送平臺輸送至第二輸送平臺的板件，進行板件表面的清潔工作。
3. 根據權利要求1或2所述的全自動雙面曝光機，其特徵在於所述單光源曝光模組 的冷光鏡，以伺服馬達切換其偏轉向。
專利摘要一種全自動雙面曝光機，包括機臺，於同一軸線上至少設置有入料區、第一面曝光區、下降翻板區、上升供板區、第二面曝光區與出料區；入料移載裝置跨設於機臺的入料區、第一面曝光區與下降翻板區的上方；第一曝光裝置設置於機臺的第一面曝光區，而以搭配有升降機構的第一頂昇平臺；一下降翻板裝置設置於機臺的下降翻板區；上升供板裝置設置於機臺的上升供板區；出料移載裝置跨設於機臺的上升供板區、第二面曝光區與出料區的上方；第二曝光裝置設置於機臺的第二面曝光區，而以搭配有升降機構的第二頂昇平臺；單光源曝光模組設置於機臺的上方且與各工作區位於同一軸線上。本實用新型具有不增加機臺長度即可加裝品質提升裝置的功效。
文檔編號G03F7/20GK201532523SQ20092021623
公開日2010年7月21日 申請日期2009年9月18日 優先權日2009年9月18日
發明者張鴻明 申請人:川寶科技股份有限公司