一種四氯化矽氫化製備三氯氫矽的方法
2023-11-11 15:28:22
專利名稱：一種四氯化矽氫化製備三氯氫矽的方法
技術領域：
本發明涉及一種四氯化矽氫化製備三氯氫矽的方法。
背景技術：
近年來，隨著世界性傳統能源枯竭和石油價格持續攀升的不斷加劇，全球正在積極開發利用可再生能源。太陽能作為可再生的潔淨能源，因其清潔、安全、資源豐富得到了快速發展。因而，作為太陽能電池原料的高純多晶矽的需求不斷增加。多晶矽生產工藝中，生產I噸多晶矽會產生10噸以上的四氯化矽和約1-5噸的氯化氫。由於還沒有大規模、高效率和安全地消化處理生產多晶矽過程中所產生的SiCl4的方法，大量的高含量氯化合物只能囤積，給環境安全帶來了極大的隱患。為了減少多晶矽生產物耗、降低生產成本，避免環境汙染，最有效、最經濟的方法就是將四氯化矽氫化轉化為三氯氫矽，把三氯氫矽作為原料再送回多晶矽系統生產多晶矽，從而形成「閉環」生產。目前，工業上主要通過兩種方法將四氯化矽進行氫化轉化。一種技術路線是SiCl4熱氫化，即將SiCl4和H2在1200-1500°c的高溫和0. 6MPa壓力下轉化為SiHCl3，其化學反應式為SiCl4+H2 — SiHCl3+HCl。該方法反應溫度高，能耗大，一次轉化率低，最高為18%。另一種技術路線是SiCl4冷氫化，即在金屬催化劑的作用下，在一定的溫度、壓力下，使H2與SiCl4混合氣體與矽粉在反應器內以沸騰狀態接觸進行氫化的過程，該過程使用的催化劑主要為金屬鎳、銅等負載型催化劑，且載體一般為三氧化二鋁。例如，CN1436725A公開了一種四氯化娃氫化生產三氯氫娃的冷氫化方法,其中娃粉、SiCl4和H2在內膽加熱的沸騰床反應器中反應生產三氯氫矽。其中催化劑為氧化鋁負載的Ni催化劑(一般稱為鎳觸媒)，由於Al2O3基的載體在反應過程中形成氯化鋁和水而流失，因此該催化劑壽命較短。而且由於AlCl3升華容易帶入後續系統，使得對於多晶矽這種對產品純度要求很高的反應來講，增加了產品提純淨化的難度。CN101972657A公開了一種四氯化矽氫化製備三氯氫矽的催化劑，該催化劑以鎳作為活性組分，以二氧化矽作為載體，具體製備方法如下將鎳源溶解後加入到矽源中進行沉澱，待沉澱完成後加入到鹼液中，將多餘的鎳沉澱完全，將沉澱在100-150°C溫度下乾燥5-10小時，然後在400-500°C下焙燒5-10小時。該方法製備得到的催化劑有效提高了催化劑的活性，但該方法製備得到的催化劑仍存在活性組分分布不均勻，催化劑呈氧化態，工業上使用過程中還原水分帶入SiCl4加氫系統，從而造成裝置堵塞停車的缺陷。
由此可見，現有的四氯化矽氫化製備三氯氫矽過程中，存在如下缺點催化劑的穩定性較差，從而導致活性組分易流失且易結塊，且流失後作為雜質進入後續系統，影響整體工藝的經濟性。因此，開發高轉化率、高穩定性的四氯化矽氫化製備三氯氫矽的工藝是非常必要的。本發明的其他特徵和優點將在隨後的具體實施方式
部分予以詳細說明
發明內容
以下對本發明的具體實施方式
進行詳細說明。應當理解的是，此處所描述的具體實施方式
僅用於說明和解釋本發明，並不用於限制本發明。針對以上技術缺陷，本發明欲通過改變催化劑的製備方法使得製備得到的催化劑用於四氯化矽氫化製備三氯氫矽過程中活性高、穩定性好，從而提供一種適合於工業化應用的、高效的四氯化矽氫化製備三氯氫矽的方法。
由背景技術可知，目前一般採用現有技術常用的負載型鎳基催化劑進行四氯化矽氫化，仍沒有針對四氯化矽氫化的專用催化劑，而現有技術的常用的負載型鎳基催化劑用於四氯化矽氫化過程中存在催化劑穩定性較差、活性組分易流失且易結塊等問題。本發明的發明人推測是由於四氯化矽氫化與傳統的加氫反應有較大差別，從而導致採用按照現有技術的製備方法(一般採用可溶性鹽負載到載體上，乾燥、焙燒得到)製備得到的加氫催化劑用於四氯化矽氫化過程中容易存在前述問題，基於此，本發明的發明人試圖設想是否能開發出一種新的加氫催化劑的製備方法使得製備得到的催化劑能夠更加適用於四氯化矽氫化反應，從而日後能夠作為四氯化矽氫化反應的專用催化劑。因此，本發明的發明人打破常規思路進行試驗發現，在傳統的製備加氫催化劑的負載過程中(一般為採用可溶性鹽負載到載體上的負載過程)加入沉澱劑進行負載，並引入金屬M作為活性組分，可以使得按照本發明的方法製備得到的催化劑用於四氯化矽氫化製備三氯氫矽的反應中不再存在前述存在的穩定性差導致活性降低的問題，基於這個發現，完成了本發明。本發明提供了一種四氯化矽氫化製備三氯氫矽的方法，該方法包括在催化劑存在下，將四氯化矽、氫氣氣流和矽粉接觸，得到三氯氫矽；其中，所述催化劑按如下方法製備將可溶性鎳鹽、金屬M的可溶性鹽化合物、能夠提供二氧化矽的矽源與能夠沉澱鎳和/或金屬M離子的沉澱劑在溶劑中接觸，將接觸所得產物過濾，並將所得固體依次進行乾燥和焙燒，其中，所述M選自I B、II B、II A和除Ni以外的第VIII族金屬中的一種或多種。按照本發明的方法製備三氯氫矽，具有以下優點(I)本發明的方法，催化劑中的SiO2載體不會像傳統的加氫催化劑中的載體那樣容易帶入後續系統，尤其對於多晶矽這種對純度要求很高的反應，可以大幅度降低後續產品的提純淨化過程；(2)本發明的方法，在四氯化矽氫化製備三氯氫矽的反應氣氛下SiO2載體穩定，催化劑骨架不會像傳統的加氫催化劑中的載體那樣容易破壞，因此具有更長的使用壽命，從而可以有效提聞加料中娃粉與催化劑的比例；(3)本發明的方法，催化劑活性相比於現有技術常用的鎳鹽、銅鹽催化劑活性提聞。
具體實施例方式本發明提供了一種四氯化矽氫化製備三氯氫矽的方法，該方法包括在催化劑存在下，將四氯化矽、氫氣氣流和矽粉接觸，得到三氯氫矽；其中，所述催化劑按如下方法製備得到將可溶性鎳鹽、金屬M的可溶性鹽化合物、能夠提供二氧化矽的矽源與能夠沉澱鎳和/或金屬M離子的沉澱劑在溶劑中接觸，將接觸所得產物過濾，並將所得固體依次進行乾燥和焙燒，其中，所述M選自I B、II B、II A和除Ni以外的第VIII族金屬中的一種或多種。本發明中，所述可溶性鎳鹽、矽源與金屬M的可溶性鹽化合物的用量可選範圍較寬，具體可以根據所需獲得的催化劑中各組分的量而定，針對本發明，優選所述可溶性鎳鹽、矽源與金屬M的可溶性鹽化合物的用量使得製備得到的催化劑中，以催化劑的總重量為基準，以氧化物計，鎳的含量為30-65重量％、金屬組分M的含量為0. 5-40重量％、矽的含量為30-60重量％。
本發明中，所述將可溶性鎳鹽、金屬M的可溶性鹽化合物、能夠提供二氧化矽的矽源與能夠沉澱鎳和/或金屬M離子的沉澱劑在溶劑中接觸的條件的可選範圍較寬，為了使得按照本發明的方法製備三氯氫矽過程中，催化劑的活性和穩定性進一步提高，針對本發明，優選所述將可溶性鎳鹽、金屬M的可溶性鹽化合物、能夠提供二氧化矽的矽源與能夠沉澱鎳和/或金屬M離子的沉澱劑在溶劑中接觸接觸的條件包括接觸的溫度為20-90°C，優選為50-80°C ；pH為4-8，優選為5-7，特別優選為7。本發明中，所述將可溶性鎳鹽、金屬M的可溶性鹽化合物、能夠提供二氧化矽的矽源與能夠沉澱鎳和/或金屬M離子的沉澱劑在溶劑中接觸的時間可以依據具體情況而定，針對本發明，優選所述接觸的時間為0. l-10h，優選為0. 5-5h。本發明中，所述可溶性鎳鹽的種類的可選範圍較寬，能夠溶於水的可溶性鎳鹽均可用於本發明，針對本發明，優選所述鎳鹽為硝酸鎳、醋酸鎳、氯化鎳和硫酸鎳中的一種或多種，更優選為硝酸鎳。本發明中，所述金屬M優選為鈷、鐵、銅、鎂、鉬、釕和鈀中的一種或多種，特別優選為鈷、鐵、銅和鎂中的一種或多種，如此可以進一步提高本發明的催化劑的活性和穩定性。針對本發明，更優選所述金屬M的可溶性鹽化合物為金屬M的硝酸鹽、金屬M的氯化鹽和金屬M的硫酸鹽中的一種或多種，特別優選為金屬M的硝酸鹽。本發明中，所述能夠提供二氧化矽的矽源可以是二氧化矽或者焙燒後能夠產生二氧化矽的物質，其可選範圍較寬。為了進一步提高按照本發明的方法製備三氯氫矽過程中的催化劑活性和穩定性，針對本發明，優選所述矽源為液體形式，例如為溶膠、凝膠或溶液形式，更優選為矽溶膠、矽凝膠、矽酸酯和水玻璃中的一種或多種。本發明中，更優選所述矽溶膠和/或水玻璃中SiO2的濃度10-40重量％。本發明中，所述沉澱劑的種類的可選範圍較寬，能夠沉澱金屬M離子和/或鎳離子的試劑均可實現本發明目的，優選所述沉澱劑能夠沉澱所述金屬M離子和鎳離子，針對本發明，更優選所述沉澱劑為可溶性碳酸鹽、可溶性氫氧化物和尿素中的一種或多種，特別優選為碳酸鈉、碳酸鉀、碳酸銨、尿素、氨水、氫氧化鈉和氫氧化鉀中的一種或多種。本發明中，所述溶劑的種類的選擇可以參照現有技術進行，一般為水，針對本發明，優選所述溶劑中至少含有水或者全部為水，而適當情況下，可以依據需要加入別的種類的溶劑，例如可以加入有機溶劑。本發明中，實現將可溶性鎳鹽、能夠提供二氧化矽的矽源與能夠沉澱鎳和/或金屬M離子的沉澱劑在溶劑中接觸的方式有多種，例如可以將所述可溶性鎳鹽與沉澱劑分別溶解在所述溶劑中後配製成一定的濃度的溶液，然後各自以溶液形式與矽源進行混合後實現所述接觸，其中，優選配製得到的可溶性鎳鹽溶液的濃度5-100g/L，優選為10-50g/L，沉澱劑溶液的濃度為0. 5-5mol/L。根據本發明的製備方法，按照本發明的前述技術方案均可實現本發明的目的，所述將可溶性鎳鹽、能夠提供二氧化矽的矽源與能夠沉澱鎳和/或金屬M離子的沉澱劑在溶劑中接觸的方式有多種，例如可以將可溶性鎳鹽與沉澱劑在溶劑中進行第一接觸，將第一接觸所得產物過濾，得到固體物料，然後將所述固體物料與所述矽源進行第二接觸。為了進一步提高按照本發明的方法製備三氯氫矽過程中的催化劑活性和穩定性，本發明的發明人在研究中發現，所述將可溶性鎳鹽、金屬M的可溶性鹽化合物、能夠提供二氧化矽的矽源與能夠沉澱鎳和/或金屬M離子的沉澱劑在溶劑中接觸按如下方式進行有利於進一步提高製備得到的催化劑的活性和穩定性，即本發明優選將可溶性鎳鹽、金屬M的可溶性鹽化合物、能夠提供二氧化矽的矽源與能夠沉澱鎳和/或金屬M離子的沉澱劑在溶劑中接觸的方式為將含有可溶性鎳鹽、金屬M的可溶性鹽化合物、能夠提供二氧化矽的矽源與溶劑的漿液與所述沉澱劑或沉澱劑溶液接觸，且所述含有可溶性鎳鹽、金屬M的可溶性鹽化合物、能夠提供二氧化矽的矽源與溶劑的漿液的PH為3-8，優選為5-7。所述漿液的pH值可以採用現有技術的各種pH調節劑進行調節，例如可以為鹽酸、硝酸、硝酸水溶液、氫氧化鈉、氫氧化鈉水溶液、氫氧化鉀、氫氧化鉀水溶液和氨水中的一種或多種。本發明中，如前所述，所述含有可溶性鎳鹽、金屬的可溶性鹽化合物、能夠提供二氧化矽的矽源與溶劑的漿液可以通過將可溶性鎳鹽溶液、金屬的可溶性鹽化合物溶液與能夠提供二氧化矽的矽源接觸得到。本發明中，所述過濾、乾燥、焙燒的方法均可參照現有技術進行，本發明對此無特殊要求，且乾燥和焙燒的條件均可以為本領域常規的條件，針對本發明，優選焙燒溫度為250-550°C，更優選為300-500°C ;焙燒時間為0. 5_20h，優選為2_8h。同樣，本發明中優選乾燥的溫度為100-120°C。根據本發明的一種優選的實施方式，本發明的製備三氯氫矽的方法中使用的催化劑按如下方法製備I)將可溶性鎳鹽、金屬M的可溶性鹽化合物分別配製成水溶液，將可溶性鎳鹽水溶液與金屬M的可溶性鹽化合物水溶液混合得到混合溶液，將能夠提供二氧化矽的矽源加入到所述混合溶液中得到漿液，調節漿液的PH值；2)然後加入沉澱劑溶液進行接觸，之後過濾、乾燥、焙燒。本發明中所述將四氯化矽、氫氣氣流和矽粉接觸的條件的可選範圍較寬，具體可以參照現有技術進行選擇，針對本發明，優選所述接觸的條件包括溫度為300-600°C，壓力為 0. 5-4MPa，氣時空速為 lOO-lOOOOOh'本發明中，氣時空速指的是氫氣和四氯化矽混合氣相對催化劑的體積空速。本發明中，氫氣氣流、矽粉與四氯化矽的用量的可選範圍較寬，針對本發明，優選氫氣氣流、矽粉與四氯化矽的用量摩爾比為100-10 10-5 I。本發明中，為了使得接觸較為充分，所述接觸均在攪拌條件下進行，在本發明的實施例中各種物質的混合與接觸也均在攪拌條件下進行，之後不再具體強調。按照本發明的方法製備三氯氫矽過程中，催化劑的活性和穩定性均較高從而使得本發明的方法轉化率高，且適合於工業化應用。 下面通過實施例對本發明進行詳細說明，但並不因此而限制本發明。本說明書中，轉化率(％)指的是實際生成的SiHClJ^摩爾數/理論生成的SiHCl3的摩爾數，其中，所述理論生成的SiHCl3的摩爾數是指按照反應計量比加入量最少的原料全部轉化所生成的SiHCl3的摩爾數。在實際生產中，為了使SiCl4全部轉化為SiHCl3，用於反應的氫氣和矽粉相對於SiCl4大大過量，因此，本領域通常以SiCl4轉化為SiHCl3計的轉化率來表示，即轉化率(% )=生成的SiHCl3的摩爾數 /SiCl4原料的總摩爾數，本說明書中的轉化率即使用此方法進行計算。實施例中，催化劑中各組分含量採用X射線螢光光譜法測定。實施例I(I)將56. 5千克的六水硝酸鎳和25千克的九水硝酸鐵溶解於去離子水中，配製成500升溶液，向上述混合鹽溶液中加入濃度為10重量％的矽酸鈉水溶液320千克，混合均勻得到漿液，用濃度為5重量％的氫氧化鈉水溶液調節漿液的pH值為6 ;將43千克無水碳酸鈉用400升去去離子水溶解得到碳酸鈉水溶液；(2)將上述碳酸鈉水溶液與漿液加入到2000升的反應釜中進行接觸，用濃度為5重量％的氫氧化鈉水溶液調節PH使得接觸的pH值為7，接觸的溫度為80°C，接觸4h後，過濾得到固體，將所得固體乾燥之後在馬福爐中於500°C下焙燒6小時，得到催化劑A。對比例I按照實施例I的方法製備催化劑，不同的是，製備過程中不加入硝酸鐵，具體製備方法如下(I)將62. 5千克的六水硝酸鎳溶解於去離子水中，配製成500升溶液，向上述溶液中加入濃度為10重量％的矽酸鈉水溶液320千克，混合均勻得到漿液，用濃度為5重量％的氫氧化鈉水溶液調節漿液的pH值為5 ;將40千克無水碳酸鈉用400升去離子水溶解得到碳酸鈉水溶液；(2)將上述碳酸鈉水溶液與漿液加入到2000升的反應釜中進行接觸，用濃度為5重量％的氫氧化鈉水溶液調節PH使得接觸的pH值為7，接觸的溫度為80°C，接觸4h後，過濾得到固體，將所得固體乾燥之後在馬福爐中於500°C下焙燒6小時，得到催化劑Dl。對比例2按照實施例I的方法製備催化劑，不同的是，製備過程中硝酸鐵由稀土化合物硝酸鑭代替，具體製備方法如下(I)將56. 5千克的六水硝酸鎳和12. 5千克的六水硝酸鑭溶解於去離子水中，配製成500升溶液，向上述混合溶液中加入濃度為10重量％的矽酸鈉水溶液320千克，混合均勻得到漿液，用濃度為5重量％的氫氧化鈉水溶液調節漿液的pH值為5 ;將43千克無水碳酸鈉用400升去去離子水溶解得到碳酸鈉水溶液；(2)將上述碳酸鈉水溶液與漿液加入到2000升的反應釜中進行接觸，用濃度為5重量％的氫氧化鈉水溶液調節PH使得接觸的pH值為7，接觸的溫度為80°C，接觸4h後，過濾得到固體，將所得固體乾燥之後在馬福爐中於500°C下焙燒6小時，得到催化劑D2。實施例2(I)將42. 5千克的六水氯化鎳和18千克的三水硝酸銅溶解於去離子水中，配製成500升溶液，向上述混合鹽溶液中加入固含量為20重量％的矽溶膠80千克，混合均勻得到漿液，用濃度為5重量％的氫氧化鈉水溶液調節漿液的pH值為5 ;將40千克碳酸銨用400升去離子水溶解得到碳酸銨水溶液；
(2)將上述漿液和碳酸銨水溶液加入到2000升的反應釜中進行接觸，用濃度為5重量％的氫氧化鈉水溶液調節PH使得接觸的pH值為7，接觸的溫度為80°C，接觸4h後，過濾得到固體，將所得固體乾燥之後在馬福爐中於500°C下焙燒6小時，得到催化劑B。實施例3
(I)將44千克的六水硝酸鎳和18千克的六水硝酸鈷溶解於去離子水中，配製成500升溶液，向上述混合鹽溶液中加入正矽酸四乙酯65千克，，混合均勻得到漿液，用濃度為5重量％的氫氧化鈉水溶液調節漿液的pH值為5 ;將48千克無水碳酸鈉用400升去離子水溶解得到碳酸鈉水溶液；(2)將上述漿液與碳酸鈉水溶液加入到2000升的反應釜中進行接觸，用濃度為5重量％的氫氧化鈉水溶液調節PH使得接觸的pH值為7，接觸的溫度為80°C，接觸4h後，過濾得到固體，將所得固體乾燥之後在馬福爐中於500°C下焙燒6小時，得到催化劑C。實施例4(I)將56. 5千克的六水硝酸鎳和10千克的六水硝酸鎂溶解於去離子水中，配製成500升溶液，向上述混合鹽溶液中加入濃度為10重量％的水玻璃320千克，混合均勻得到漿液，用濃度為5重量％的氫氧化鈉水溶液調節漿液的pH值為7 ;將50千克無水碳酸鈉用500升去離子水溶解得到碳酸鈉水溶液；(2)將上述漿液與碳酸鈉水溶液加入到2000升的反應釜中進行接觸，用濃度為5重量％的氫氧化鈉水溶液調節PH使得接觸的pH值為7，接觸的溫度為80°C，接觸4h後，過濾得到固體，將所得固體乾燥之後在馬福爐中於500°C下焙燒6小時，得到催化劑D。實施例5按照實施例4的方法製備催化劑，不同的是，步驟⑴中，用濃度為5重量％的硝酸水溶液調節漿液的PH值為2，其餘條件均相同，得到催化劑E。實施例6按照實施例4的方法製備催化劑，不同的是步驟(I)中的水玻璃由16千克的矽膠代替，得到催化劑F。實施例I按照實施例4的方法製備催化劑，不同的是步驟(I)中的六水硝酸鎂由四水硝酸鈣代替，得到催化劑G。對比例3按照實施例4的方法製備催化劑，不同的是步驟(I)中的水玻璃由硫酸鋁代替，得到催化劑D3。實驗實施例實驗實施例用於說明採用本發明提供的催化劑，在固定床反應器內採用SiCl4製取SiHCl3的情況。將實施例1-7製備得到的催化劑用造粒機造粒得到微球狀催化劑，微球顆粒大小為 200 u m。在固定床反應器中，在微球狀催化劑存在下,使四氯化娃氣體，氫氣氣流和娃粉接觸，其中，催化劑裝填0. 3g，接觸的溫度為450°C或400°C，接觸的壓力為I. 2MPa，H2/SiCl4(摩爾比)=20，矽粉/SiCl4(摩爾比)=10，氣時空速為2400( '結果見表I。
實驗對比例按照實驗實施例的方法製取SiHCl3，不同的是催化劑分別為50Cu0/50Si02 (洛陽晶輝新能源科技有限公司的市售商品，其含義為氧化銅與二氧化矽的重量比為50 50，其餘相同表示也為此意)、A1203為載體的鎳基負載型催化劑(50. 3Ni0/49. 7A1203、廠家南京昊坤催化劑廠、牌號NCL0505)、對比例1-3製備得到的催化劑D1-D3，結果見表I。表I
權利要求
1.一種四氯化矽氫化製備三氯氫矽的方法，該方法包括在催化劑存在下，將四氯化矽、氫氣氣流和矽粉接觸，得到三氯氫矽；其特徵在於，所述催化劑按如下方法製備將可溶性鎳鹽、金屬M的可溶性鹽化合物、能夠提供二氧化矽的矽源與能夠沉澱鎳和/或金屬M離子的沉澱劑在溶劑中接觸，將接觸所得產物過濾，並將所得固體依次進行乾燥和焙燒，其中，所述M選自IB、IIB、IIA和除Ni以外的第VIII族金屬中的一種或多種。
2.根據權利要求I所述的方法，其中，所述可溶性鎳鹽、矽源與金屬M的可溶性鹽化合物的用量使得製備得到的催化劑中，以催化劑的總重量為基準，以氧化物計，鎳的含量為30-65重量％、金屬組分M的含量為O. 5-40重量％、矽的含量為30-60重量％。
3.根據權利要求I所述的方法，其中，將可溶性鎳鹽、金屬M的可溶性鹽化合物、能夠提供二氧化矽的矽源與能夠沉澱鎳和/或金屬M離子的沉澱劑在溶劑中接觸的方式為將含有可溶性鎳鹽、金屬M的可溶性鹽化合物、能夠提供二氧化矽的矽源與溶劑的漿液與所述沉澱劑或沉澱劑溶液接觸，且所述含有可溶性鎳鹽、金屬M的可溶性鹽化合物、能夠提供二氧化矽的矽源與溶劑的漿液的pH為3-8，優選為5-7。
4.根據權利要求1-3中任意一項所述的方法，其中，所述將可溶性鎳鹽、金屬M的可溶性鹽化合物、能夠提供二氧化矽的矽源與能夠沉澱鎳和/或金屬M離子的沉澱劑在溶劑中接觸的條件包括接觸的溫度為20-90°C，優選為50-80°C ;pH為4_8，優選為5_7。
5.根據權利要求1-3中任意一項所述的方法，其中，所述金屬M為鈷、鐵、銅、鎂、鉬、釕和鈀中的一種或多種。
6.根據權利要求1-3中任意一項所述的方法，其中，所述金屬M的可溶性鹽化合物為金屬M的硝酸鹽、金屬M的氯化鹽和金屬M的硫酸鹽中的一種或多種，優選為金屬M的硝酸鹽。
7.根據權利要求1-3中任意一項所述的方法，其中，所述可溶性鎳鹽為硝酸鎳、醋酸鎳、氯化鎳和硫酸鎳中的一種或多種，優選為硝酸鎳。
8.根據權利要求1-3中任意一項所述的方法，其中，所述矽源為矽溶膠、矽凝膠、矽酸酯和水玻璃中的一種或多種；所述沉澱劑為可溶性碳酸鹽、可溶性氫氧化物和尿素中的一種或多種，優選為碳酸鈉、碳酸鉀、碳酸銨、尿素、氨水、氫氧化鈉和氫氧化鉀中的一種或多種；所述溶劑中含有水。
9.根據權利要求1-3中任意一項所述的方法，其中，所述將四氯化矽、氫氣氣流和矽粉接觸的條件包括溫度為300-600°C，壓力為O. 5-4MPa，氣時空速為lOO-lOOOOOh'
10.根據權利要求1-3中任意一項所述的方法,其中，氫氣氣流、娃粉與四氯化娃的用量摩爾比為100-10 10-5 I。
全文摘要
一種四氯化矽氫化製備三氯氫矽的方法，包括在催化劑存在下，將四氯化矽、氫氣氣流和矽粉接觸，得到三氯氫矽；所述催化劑按如下方法製備將可溶性鎳鹽、金屬M的可溶性鹽化合物、能夠提供二氧化矽的矽源與能夠沉澱鎳和/或金屬M離子的沉澱劑在溶劑中接觸，將接觸所得產物過濾，並將所得固體依次進行乾燥和焙燒，所述M選自I B、II B、II A和除Ni以外的第VIII族金屬中的一種或多種。按照本發明的方法製備三氯氫矽，具有以下優點在四氯化矽氫化製備三氯氫矽的反應氣氛下SiO2載體穩定，催化劑骨架不會像傳統的加氫催化劑中的載體那樣容易破壞，因此具有更長的使用壽命，且催化劑活性相比於現有技術常用的鎳鹽、銅鹽催化劑活性提高。
文檔編號C01B33/107GK102633263SQ20121010489
公開日2012年8月15日 申請日期2012年4月11日 優先權日2012年4月11日
發明者任延濤, 周冬松 申請人:洛陽晶輝新能源科技有限公司