有機el用基板及其製造方法
2023-10-18 08:47:44 1
專利名稱：有機el用基板及其製造方法
技術領域：
本發明涉及一種用於在其表面以規定的圖案形狀形成空穴輸送層、有機EL(電致發光)層等有機層的有機EL用基板及其製造方法。
背景技術：
以往的有機EL元件是以如下說明的方法製造。首先，在玻璃基板等透明基板的表面上成膜透明的ITO(銦錫氧化物)膜。接著，使用光刻技術將成膜在該基板上的ITO膜，圖案化形成為多個條紋狀的第一電極。該第一電極相當於陽極。接著，以包圍條紋狀的第一電極的方式，在基板上形成突出的電絕緣性的間隔物(間隔壁)。
而且，為了在基板上以規定的圖案形狀形成空穴輸送層、有機EL層等有機層，如下在基板上塗敷含有用於形成空穴輸送材料、有機EL材料等的有機層的材料的塗敷液。例如在專利文獻1記載的有機EL元件的製造方法中，向以間隔物包圍的第一電極上注入空穴輸送材料而形成空穴輸送層之後，對間隔物的頂部進行使用了CF4氣體的等離子處理，從而使間隔物的頂部氟化(疏液化)。接著，在對應於各色的第一電極上經由空穴輸送層按順序分別形成紅、綠、藍色的有機EL材料。此時，由於間隔物的頂部被疏液化，所以能夠阻止各色的有機EL材料越過間隔物的頂部而移動。
接著，通過真空蒸鍍法，在基板上以與第一電極垂直的方式並列設置多個相對向的條紋狀的第二電極，在第一電極與第二電極之間夾有有機EL材料。該第二電極相當於陰極。這樣，製造出第一電極與第二電極以單純XY矩陣狀排列的可顯示全色的有機EL元件。
這樣，在以往的技術中，由於將空穴輸送材料的塗敷範圍限定在間隔物間，同時對間隔物的頂部實施等離子處理來進行疏液化，所以能夠阻止在間隔物間塗敷的各色有機EL材料向其他的間隔物間移動，從而能夠有效防止有機EL材料的混色。
專利文獻1JP特開2004-55159號公報(第5、6頁，圖1)
然而，近年來從製造效率的觀點出發不斷在追求基板尺寸的大型化，而當對大尺寸的基板實施等離子處理時，會產生下面的問題。即，在為了使間隔物疏液化而實施的等離子處理中，真空室是必須的。這裡，雖然對於小尺寸的基板能夠對應該基板而使室體積小型化，但是隨著基板尺寸變大，室體積也變大。因此，在真空室內生成等離子就變得困難，從其規模以及生產節拍的觀點出發，使用真空室的等離子處理也變得不現實。然而並沒有有效的手段來使在這樣的大尺寸的基板上形成的間隔物疏液化，並防止有機EL材料的混色。
發明內容
本發明是鑑於上述問題而提出的，其目的在於提供一種在向形成在基板上的間隔物間供給有機EL材料時、即使是大的基板尺寸也能夠防止有機EL材料在相鄰間隔物間混色的有機EL用基板及其製造方法。
本發明的有機EL用基板是一種在其表面具有對應於規定的圖案而形成的間隔物的有機EL用基板，為了實現上述目的，其特徵是，間隔物的至少頂部表面是由疏液性感光材料形成的。
在這樣構成的發明中，由於間隔物自身的頂部表面具有疏液性，所以在向間隔物間分別供給多個色的有機EL材料時，即使該有機EL材料越過間隔物的頂部而要移動，也能夠由具有疏液性的間隔物頂部來阻止各色的有機EL材料向其他間隔物間移動，從而有效的防止有機EL材料的混色。並且，由於用具有疏液性的材料來形成間隔物的頂部表面自身，所以不需要對間隔物實施等離子處理(疏液化處理)。從而，如在「背景技術」中所說明的那樣，基板尺寸不受真空室的體積的限制，即使是大尺寸的基板也能夠可靠的防止有機EL材料在相鄰的間隔物間混色。
這裡，在間隔物的至少頂部表面由疏液性感光材料形成這點中，(1)可以由疏液性感光材料形成間隔物全體；(2)可以通過利用疏液性感光材料形成上述間隔物的包含頂部表面的上層部，另一方面，利用非疏液性感光材料形成間隔物的下層部，從而使間隔物為兩層構造。如後者那樣，通過使間隔物為以疏液性感光材料和非疏液性感光材料構成的兩層構造，能夠使有機EL層、空穴輸送層等的有機層自身的剖面輪廓(剖面形狀)適當化。即，當間隔物全體，即不只間隔物的頂部表面，連側面都具有疏液性時，向間隔物間供給的、包含有機EL材料、空穴輸送材料等用於形成有機層的材料(有機層形成材料)的塗敷液不會在間隔物側面濡溼。因此，有機層(除去塗敷液中的溶劑後)的剖面輪廓因表面張力而變成山形(凸形)。而從以下的理由來看，有機層的剖面輪廓以凹形最為合適。即，這是因為，當有機層與間隔物側面接觸的面積變小時，在夾著有機層的電極間有可能會引起短路不良，此外從有機層的膜厚控制性的觀點出發也優選該有機層以沿著間隔物側面的方式形成彎月形。
因此，通過利用疏液性感光材料形成間隔物上層部，另一方面，利用非疏液性感光材料形成間隔物下層部，可獲得以下的作用效果。即，通過使間隔物頂部帶有疏液性，從而防止供給有機EL材料時的有機EL材料的混色，另一方面，通過使間隔物下層部的側面具有非疏液性，從而使包含有機層形成材料的塗敷液在間隔物側面濡溼，不會使有機層的剖面輪廓變成山形。即，通過只使間隔物上層部具有疏液性，使間隔物下層部為非疏液性，能夠將有機層的剖面輪廓適當化而成為凹形。由此，能夠防止夾著有機層的電極間的短路不良，同時該有機層以沿著間隔物側面的方式形成彎月形，從而能夠提高有機層的膜厚控制性。
本發明的有機EL用基板的製造方法的一個方式，為了實現上述目的，具有在基板上塗敷疏液性感光材料而形成疏液性感光材料層的塗敷工序；對應於規定的圖案對基板上的疏液性感光材料層曝光之後進行顯影，從而形成對應於圖案的間隔物的工序。
在這樣構成的發明中，通過對應於規定的圖案對塗敷在基板上的疏液性感光材料層曝光之後進行顯影，從而對應於該圖案(感光區域或者非感光區域)形成間隔物。這樣，通過使被圖形化材料自身為疏液性感光材料，能夠簡單的形成具有疏液性的間隔物、即全體具有疏液性的間隔物。
另外，在用疏液性感光材料和非疏液性感光材料使間隔物為兩層構造的情況下，在使用規定的曝光波長的光對應於規定的圖案來形成間隔物時，優選疏液性感光材料以及非疏液性感光材料對該曝光波長都具有感光度。由此，如以下所述，能夠簡單的製造有機EL用基板。
即，本發明的有機EL用基板的製造方法的其他方式，具有在基板上塗敷非疏液性感光材料而形成非疏液性感光材料層的第一塗敷工序；在非疏液性感光材料層上塗敷疏液性感光材料而形成疏液性感光材料層的第二塗敷工序；對應於規定的圖案對基板上的非疏液性感光材料層和疏液性感光材料層同時曝光之後進行顯影，從而形成對應於圖案的間隔物的工序。
在這樣構成的發明中，在基板上的第一層形成非疏液性感光材料層，在第二層形成疏液性感光材料層。而且，通過對應於規定的圖案同時對第一層和第二層曝光後進行顯影，從而對應於該圖案形成間隔物。這樣，通過對第一層和第二層進行一次曝光、顯影，就能夠形成間隔物，所以與按各層進行曝光、顯影的情況相比，能夠簡化製造工藝。另外，通過這樣獲得的由兩層構造構成的間隔物，能夠實現有機層的剖面輪廓的適當化，同時能夠可靠的防止有機EL材料的混色。
此外，在本發明中，所謂疏液性意味著相對於含有有機EL材料、空穴輸送材料等用於形成有機層的材料(有機層形成材料)的塗敷液的疏油性和疏水性兩者。即，向間隔物間供給的塗敷液(溶液)是油性，即意味著對於溶液(主要是溶媒)的主要成分是油的液體而具有疏油性；塗敷液是水性，即意味著對於溶液(主要是溶媒)的主要成分是水的液體而具有疏水性。
根據本發明，由於間隔物的至少頂部表面是由疏液性材料形成的，所以在向間隔物間供給有機EL材料時，能夠有效地防止有機EL材料在相鄰的間隔物間混色。並且，由於不需要對間隔物實施等離子處理，所以也不用將基板尺寸限定為可對應等離子處理的尺寸，即使是大的基板尺寸也能夠可靠的防止有機EL材料的混色。
圖1A～圖1C是表示本發明的有機EL用基板的製造方法的第一實施方式的圖。
圖2A～圖2F是表示有機EL元件的製造方法的一個實施方式的圖。
圖3A～圖3D是表示本發明的有機EL用基板的製造方法的第二實施方式的圖。
圖4A～圖4B是表示在間隔物間形成的有機層的剖面輪廓的圖。
具體實施例方式
(第一實施方式)圖1是表示本發明的有機EL用基板的製造方法的第一實施方式的圖。在本實施方式中，首先，如圖1A所示，在其表面圖案化形成了第一電極11R、11G、11B的基板1上，通過旋塗等塗膜方法塗敷成為後述的間隔物(間隔壁)材料的疏油性感光材料(塗敷工序)。由此，在基板1上形成疏油性感光材料層3。在這裡，第一電極11R、11G、11B例如是將ITO(銦錫氧化物)膜圖案化形成為多根條紋狀，相當於陽極。此外，由於要使光(來自於後述的有機EL層的發光)從基板內表面(下表面)一側透出的關係，基板1使用玻璃基板、透明塑料基板等，另外，最好也使用透明電極作為第一電極11R、11G、11B；在上述的ITO膜以外，可使用氧化錫膜、氧化銦和氧化鋅的複合氧化物膜等。
作為疏油性感光材料，可以使用感光性聚醯亞胺、丙烯酸樹脂、環氧樹脂中含有疏油性化合物的材料。作為疏油性化合物，適於使用在分子中含有全氟烷基或者聚氟烷基的氟類界面活性劑、或含氟類樹脂。以下列舉出疏油性化合物的例子。
含氟類樹脂莫蒂巴 (モデイバ一) F-110F-210(以上日本油脂製造)氟歐拉德(フルオラ一ド) FC-725(住友3M製造)氟類界面活性劑氟歐拉德(フルオラ一ド) FC-430FC-171FC-170C(以上住友3M製造)艾斯託普(エストツプ) EF-122BEF-802B(以上三菱金屬製造)
下面，使疏油性感光材料層3對應於間隔物形狀，在曝光後進行顯影。具體的說，對應於上述的各第一電極(11R、11G、11B)的圖案，以填充第一電極11R、11G、11B間的方式形成間隔物30(間隔物形成工序)。由此，能夠防止後述形成的有機EL材料的混色、防止來自像素與像素之間的光外洩等。這裡，疏油性感光材料3為光硬化性材料(負片型)時，如圖1B所示，使光透過間隔物形成區域，用掩模4對要除去的區域進行遮光。另一方面，疏油性感光材料3為利用光可除去地變質的材料(正片型)時，用掩模4對間隔物形成區域進行遮光，從而使光透射到除去區域。
這樣，當曝光結束後，如圖1C所示，留下疏油性感光材料3中間隔物形成區域，通過使用溶劑等對其他區域進行顯影而將其溶解除去。其結果，具有疏油性的間隔物30以規定的圖案、即以填充各第一電極(11R、11G、11B)間的方式在基板1上圖案化形成。由此，能夠向夾在間隔物30之間的各元件空間SP，有選擇的供給含有空穴輸送材料、有機EL材料等有機層形成材料的塗敷液。
下面，針對使用如上述製造的有機EL用基板來製造有機EL元件的製造方法進行說明。圖2是表示有機EL元件的製造方法的一個實施方式的圖。首先，向各間隔物間、即各元件空間SP有選擇的供給空穴輸送材料，從而在各元件空間SP內，在第一電極(11R、11G、11B)上形成空穴輸送層5。具體的說，預先準備用於形成空穴輸送層5的、用溶媒溶解了有機化合物、例如PEDOT(polyethylene dioxythiophene)-PSS(poly-styrene sulphonate)的空穴輸送材料，以噴嘴掃描的方式向各元件空間SP有選擇的供給後，通過對基板1進行加熱處理來使空穴輸送材料乾燥，從而形成空穴輸送層5(圖2A)。
接著，在與第一電極11R對應的間隔物間，通過噴嘴掃描方式供給紅色的有機EL材料(EL聚合物)7R，在第一電極11R之上經由空穴輸送層5而形成有機EL層9R。具體的說，如圖2B所示，向間隔物間供給有機EL材料7R，直到從與第一電極11R對應的間隔物間充溢出而在間隔物30的頂部形成盈餘。當然在有機EL材料中含有的溶質部分不滿1wt％。即，殘留的溶劑(溶媒)通過烘培而從溶液中除去。因此，為了在間隔物間(各元件空間SP)以規定的膜厚形成由溶質部分構成的有機層，要通過使有機EL材料超越間隔物30的頂部而呈盈餘狀態來提高塗敷量。此外，作為供給有機EL材料7R的裝置，例如可以使用記載在JP特開2002-75640號公報中的塗敷裝置等。
此時，因為間隔物30自身以疏油性材料形成，所以間隔物30的頂部具有疏油性，有機EL材料7R不會越過間隔物30而流入到周邊的間隔物間，而只停在間隔物30的頂部內呈盈餘狀態。而且，當有機EL材料7R的供給結束時，通過由烘培裝置等對基板1進行加熱處理，使有機EL材料7R乾燥(除去有機EL材料中的溶劑)，從而形成有機EL層9R(圖2C)。
接著，在第一電極11G之上經由空穴輸送層5而形成綠色的有機EL層9G，進而在第一電極11B之上經由空穴輸送層5而形成藍色的有機EL層9B(圖2D)。此外，由於這些形成工序與紅色時相同，所以在這裡省略說明。另外，有機EL層的形成可以分別按各色進行，也可以同時供給三色的有機EL材料7R、7G、7B並使其乾燥。
如上所述，當針對三色有機EL層9R、9G、9B的形成結束時，如圖2E所示，在基板1上通過真空蒸鍍法等，以與第一電極11R、11G、11B垂直而且相對的方式，多條並列地形成條紋狀的第二電極13。通過這樣的構成，在起陽極作用的第一電極11R、11G、11B與起陰極作用的第二電極13之間，夾著有機EL層9R、9G、9B。另外，製造第一電極11R、11G、11B與第二電極13以單純XY矩陣狀排列的能夠全色顯示的有機EL顯示裝置。此外在本實施方式中，在基板1上層疊形成由環氧樹脂、丙烯酸樹脂、液體玻璃等密封材料構成的密封層15，來防止各有機EL元件的劣化以及損傷等(圖2F)。
如上所述，根據本實施方式，由於用疏油性材料形成間隔物30自身，所以即使有機EL材料7R、7G、7B越過間隔物30的頂部而要移動，也能由具有疏油性的間隔物30的頂部阻止各有機EL材料向其他間隔物間移動，有效防止有機EL材料7R、7G、7B的混色。而且，由於用具有疏油性的材料形成間隔物30自身，所以不需要對間隔物30的頂部表面重新實施等離子處理(疏油化處理)。因此，不會像以往的裝置那樣，為了實施等離子處理而使基板尺寸受到限制，即使是大尺寸的基板1，也能確實防止有機EL材料7R、7G、7B的混色。
進而，由於具有疏油性的同時，由感光性材料形成間隔物30，所以不需要新塗敷抗蝕劑等(蝕刻用的掩模)來進行圖案化。即，在基板1上塗敷疏油性感光材料，通過將該感光材料自身直接曝光後進行顯影，可以對應於間隔物形成區域而以期望的圖案形成具有疏油性的間隔物。
另外，這樣由於間隔物30的至少頂部具有疏油性，可獲得以下的作用效果。即，為了避免有機EL材料的混色，也考慮增高間隔物30，使由間隔物30夾著的空間、即元件空間SP的容積比向該空間供給的有機EL材料7R、7G、7B的量大，可以防止來自元件空間SP的有機EL材料7R、7G、7B的溢出。可是，只增高間隔物30會產生這樣的問題導致有機EL元件的大型化；間隔物30的頂部與有機EL層9R、9G、9B的臺階差變大，在該臺階差部分第二電極13易斷路而導致產品質量的低下。相對於此，在本實施方式中因為間隔物30的頂部具有疏油性，所以能夠使有機EL材料7R、7G、7B在間隔物30的頂部呈盈餘狀態，能夠提高有機EL材料的容許塗敷量。即，即使間隔物30的高度比較低，也能夠塗敷形成有機EL層所需量的有機EL材料，能夠製造小型並且良好質量的有機EL元件。
(第二實施方式)圖3是表示本發明的有機EL用基板的製造方法的第二實施方式的圖。該第二實施方式與第一實施方式的最大不同點是使間隔物為兩層構造、即以疏油性感光材料形成間隔物的上層部、而以非疏液性感光材料形成間隔物的下層部這一點上，而其他的結構以及動作基本與第一實施方式相同。因此，以下以不同點為中心進行說明。
首先，如圖3A所示，在其表面圖案化形成了第一電極11R、11G、11B的基板1上，塗敷非疏油性感光材料(第一塗敷工序)。由此，在基板1上形成由下層膜構成的非疏油性感光材料層2。在這裡，作為非疏油性感光材料，除了感光性聚醯亞胺以外，可以使用以往作為間隔物材料(圖案化材料)而使用的丙烯酸樹脂、環氧樹脂等。
接下來，在非疏油性感光材料層(感光性聚醯亞胺層)2之上塗敷與上述同樣的疏油性感光材料，形成構成為上層膜的疏油性感光材料層3(第二塗敷工序；圖3B)。此外，這些非疏油性感光材料和疏油性感光材料，通過旋塗等塗膜方法，控制在規定的膜厚來進行塗敷。例如，以乾燥後的非疏油性感光材料層2與疏油性感光材料層3的高度(膜厚)分別為1μm的方式進行塗敷。
接著，在使非疏油性感光材料層2與疏油性感光材料層3對應於間隔物形狀曝光後進行顯影(間隔物形成工序)。具體的說，如圖3C所示，在用掩模4對間隔物形成區域進行遮光後，對非疏油性感光材料層2與疏油性感光材料層3以單一波長的光同時曝光。這裡，使用感光性聚醯亞胺作為非疏油性感光材料時，具有曝光感光度的波長區域為G線(436nm)、H線(405nm)、I線(365nm)中的任意一個。而在其中推薦I線，用I線曝光時的曝光感光度為150mJ/cm2。另一方面，在本方明中使用的疏油性感光材料對I線的曝光波長具有曝光感光度，與感光性聚醯亞胺共通。因此，通過照射I線，能夠對上層膜、即疏油性感光材料層3與下層膜、即非疏油性感光材料層(感光性聚醯亞胺層)2同時曝光。
這樣，當曝光結束後，如圖3D所示，從非疏油性感光材料層2與疏油性感光材料層3殘留下間隔物形成區域，而通過使用溶劑等對其他區域進行顯影而將其溶解除去。其結果，由非疏油性材料形成的間隔物下層部31、和以疏油性材料形成的間隔物上層部32構成的兩層構造的間隔物300，以規定的圖案、即以填充到各第一電極(11R、11G、11B)間的方式在基板1上圖案化形成。由此，能夠向夾在由間隔物下層部31和間隔物下層部32構成的間隔物300之間的各元件空間SP，有選擇的供給含有空穴輸送材料、有機EL材料等有機層形成材料的塗敷液。
從而，與第一實施方式相同，向各元件空間SP順次填充含有空穴輸送材料以及有機EL材料等有機層形成材料的塗敷液，形成空穴輸送層以及有機EL層。接下來，在其之上以與第一電極11R、11G、11B垂直而且相對向的方式，蒸鍍條紋狀的第二電極13。這裡，在本實施方式中，由於用非疏油性材料形成間隔物下層部31，另一方面用疏油性材料形成間隔物上層部32，所以可獲得以下的作用效果。
圖4是表示在間隔物間形成的有機層的剖面輪廓的圖。為了在間隔物間(各元件空間SP)以規定的膜厚形成有機EL層等有機層9，需要通過向間隔物間供給含有有機EL材料等有機層形成材料的塗敷液直到超過間隔物300的頂部而形成盈餘OF，來提高塗敷量。這裡，由於間隔物上層部32以疏油性的材料形成，所以有機EL材料停在間隔物頂部表面內，不會混入到相鄰的元件空間SP，從而防止有機EL材料的混色。
另一方面，如圖4B所示，當不僅是間隔物頂部表面，在側面全體也都具有疏油性時，向間隔物間供給的有機層9的剖面輪廓會由於表面張力而變成山形(凸形)。可是，在山形的剖面輪廓中，有機層9與間隔物30側面接觸的面積變小了，例如在發生曝光不良等時，在第一電極11和第二電極13之間可能會引起短路不良。而且，在引起這樣的短路不良時，在該元件空間SP中形成的有機層9不能作為發光層而起作用，從而導致致命的缺陷。
因此，在本發明中，如圖4A所示，通過以非疏油性材料來形成用來形成有機層9的間隔物下層部31，從而擴大與有機層9的接觸面積，使有機層9的剖面輪廓呈凹形。即，提高與間隔物下層部31接觸的有機層9的表面能量，使有機層9以沿著間隔物(間隔物下層部31)側面的方式形成彎月形。因此，可以確保第一電極11和第二電極13之間的有機層9的膜厚，而防止該電極間的短路不良。
另外，由於使有機層9以沿著間隔物下層部31的側面的方式形成彎月形，可提高膜厚TH的控制性，能夠將形成在間隔物下層部31的有機層9的膜厚TH控制在一定範圍(例如60nm～80nm)內。其結果，能夠從有機層9(發光層)獲得期望的發光強度。
進而，通過控制由兩層構造構成的間隔物300的各層的厚度，來獲得以下這樣的作用效果。即，通過控制由非疏油性材料構成的間隔物下層部31的厚度T1，可以控制有機層9的剖面輪廓以及膜厚TH，另一方面，通過控制由疏油性材料構成的間隔物上層部32的厚度T2，可以在向元件空間SP塗敷包含有機層形成材料的塗敷液時，適當控制塗敷量，以使該塗敷液停在間隔物300的頂部內而呈盈餘狀態。
從而，通過旋塗來塗敷非疏油性感光材料和疏油性感光材料，在分別形成非疏油性感光材料層2與疏油性感光材料層3時，對塗敷條件以及各塗敷材料(感光材料)的液體組成進行調整等，通過適當調整這些感光材料層2、3的各自的膜厚，能夠在元件空間SP形成具有期望的剖面輪廓以及膜厚TH的有機層9。
如以上所述，根據本實施方式，由於用疏油性材料形成間隔物上層部32，所以可獲得與第一實施方式同樣的效果。即，能夠阻止有機EL材料越過間隔物300的頂部而移動，有效地防止有機EL材料的混色。而且，由於包含間隔物頂部表面的間隔物上層部32具有疏油性，所以不需要對間隔物頂部表面重新實施等離子處理(疏油化處理)。因此，不會像以往的裝置那樣，為了實施等離子處理而使基板尺寸受到限制，即使是大尺寸的基板1，也能夠可靠的防止有機EL材料的混色。
進而，由於用非疏油性材料形成用於形成有機層9的間隔物下層部31，所以不會像在具有疏油性的間隔物間形成有機層那樣，有機層的剖面輪廓因表面張力而變成山形。即，由於只使間隔物上層部32具有疏液性，使間隔物下層部31為非疏液性，能夠使有機層9的剖面輪廓適當化而成為凹形。由此，在防止夾著有機層9的第一電極11和第二電極13之間的短路不良的同時，能夠提高有機層9的膜厚控制性。
此外，根據本實施方式，由於在基板1上的形成為第一層的非疏油性感光材料層2、與形成為第二層的疏油性感光材料層3，相對於單一的曝光波長(I線)都具有感光度，所以由於能夠通過對第一層和第二層進行一次曝光、顯影而形成間隔物，所以與按各層進行曝光、顯影的情況相比，能夠簡化製造工藝。
此外，本發明並不限於上述的實施方式，在不脫離其宗旨的情況下，可以在上述內容以外進行種種變更。例如，在上述實施方式的有機EL用基板中，雖然用疏油性材料形成間隔物30全體以及間隔物上層部32，但並不限於此，在各元件空間SP塗敷的包含有機層形成材料的塗敷液(溶液)為水溶液時，可以用疏水性材料形成。
另外，在上述實施方式中，在基板1上形成疏液性(疏油性)感光材料層3以及非疏液性感光材料層2時，雖然通過旋塗法進行塗敷，但並不限於此，也可以通過絲網印刷、噴塗塗敷、滾筒塗敷、浸漬塗敷等其他方法來進行塗敷。
如上所述，在本實施方式中，雖然在有機EL元件的第一電極(ITO)11R、11G、11B上形成空穴輸送層和有機EL層等有機層，但是本發明的適用對象並不限於此，而是能夠全面適用在規定的基材上以規定的圖案形狀來形成有機層的有機EL用基板及其製造方法。
權利要求
1.一種有機EL用基板，在其表面具有對應於規定的圖案而形成的間隔物，其特徵在於，上述間隔物的至少頂部表面是由疏液性感光材料形成的。
2.如權利要求1所述的有機EL用基板，其特徵在於，上述間隔物全體是由上述疏液性感光材料形成的。
3.如權利要求1所述的有機EL用基板，其特徵在於，通過由上述疏液性感光材料形成上述間隔物的包含頂部表面的上層部，另一方面，由非疏液性感光材料形成上述間隔物的下層部，從而使上述間隔物為兩層構造。
4.一種使用規定的曝光波長的光對應於上述圖案而形成上述間隔物的權利要求3所述的有機EL用基板，其特徵在於，上述疏液性感光材料以及上述非疏液性感光材料對上述曝光波長都具有感光度。
5.一種有機EL用基板的製造方法，其特徵在於，具有在基板上塗敷疏液性感光材料而形成疏液性感光材料層的塗敷工序；對應於規定的圖案對上述基板上的上述疏液性感光材料層曝光之後進行顯影，從而形成對應於上述圖案的間隔物的工序。
6.一種有機EL用基板的製造方法，其特徵在於，具有在基板上塗敷非疏液性感光材料而形成非疏液性感光材料層的第一塗敷工序；在上述非疏液性感光材料層上塗敷疏液性感光材料而形成疏液性感光材料層的第二塗敷工序；對應於規定的圖案對上述基板上的上述非疏液性感光材料層和上述疏液性感光材料層同時曝光之後進行顯影，從而形成對應於上述圖案的間隔物的工序。
全文摘要
一種向形成在基板上的間隔物間供給有機EL材料時、即使是大基板尺寸也能防止有機EL材料在相鄰間隔物間混色的有機EL用基板及其製造方法。對在基板(1)上通過塗敷形成的非疏油性感光材料層(2)和疏油性感光材料層(3)，對應於間隔物形成區域而用單一波長(I線)的光同時曝光後進行顯影。其結果，形成具有由非疏油性材料構成的下層部(31)和由疏油性材料構成的上層部(32)組成的兩層構造的間隔物(300)。因此可阻止向間隔物(300)供給的有機EL材料越過間隔物(300)頂部而移動，防止有機EL材料的混色。另外，由於形成有機層的間隔物下層部(31)由非疏油性材料形成，所以有機層剖面輪廓不會因表面張力而變化。
文檔編號H01L21/027GK1815749SQ200510133848
公開日2006年8月9日 申請日期2005年12月22日 優先權日2005年2月2日
發明者增市幹雄, 藤本好博 申請人:大日本網目版製造株式會社