鹼性洗淨劑的製作方法

2023-10-31 20:49:22 1

專利名稱：鹼性洗淨劑的製作方法
技術領域：
本發明是有關於一種用以去除附著於電子部件、金屬部件及陶瓷部件等部件上的油脂、樹脂及微粒等的鹼性洗淨劑，更詳細地說，是關於一種用作液晶面板的垂直配向聚亞胺膜(特別是半燒成膜)的剝離液，或是用作半導體組件電路及液晶面板的半導體組件電路等電路製造時的光阻剝離液的鹼性洗淨劑。
背景技術：
一直以來，鹼性洗淨劑相較於中性洗淨劑，因為對於油脂、樹脂及微粒等的去除能力較為顯著，所以廣泛地使用在電子部件、金屬部件及陶瓷部件等的生產現場。但是，因為鋁等非鐵金屬容易被鹼性洗淨劑所腐蝕，所以目前在一部份或全部使用鋁的電子部件等部件的洗淨方法，是不會使用鹼性洗淨劑的。例如是電子部件，特別是液晶面板的聚亞胺配向膜，之前是水準配向型，隨著對廣視角的液晶面板的需求越來越強，垂直配向型的聚亞胺配向膜有增加的趨勢。如果是水準配向型的聚亞胺配向膜玻璃基板，在完全燒成(燒成溫度約180℃)前的半燒成狀態，此時不合格品可以N-甲基吡咯烷酮(N-methylpyrrolidone)等溶劑剝離其配向膜，且不會腐蝕鋁薄膜(內聯機)。但是在配向膜為垂直配向型的聚亞胺配向膜時，因為其在半燒成狀態的時候，無法使用N-甲基吡咯烷酮等溶劑加以剝離，所以須使用鹼性洗淨劑加以剝離，如日本專利申請案早期公開第平6-306661號所述者。在這個時候，因為玻璃基板的鋁薄膜(內聯機)會被腐蝕，所以鋁薄膜的部分用蠟等物質進行保護再進行洗淨，接著再以烴類溶劑等溶劑去除蠟以使基板及鋁薄膜復原，或是將配向膜及鋁薄膜同時完全剝離及溶解，而僅使基板復原。
此外，關於半導體組件電路等的製程，為了去除形成內聯機時所產生的光阻殘留物，一直以來都是使用胺系剝離劑來進行。但是，胺系剝離劑具有腐蝕基板上的鋁及鎢等的金屬內聯機及金屬薄膜的問題。這個問題可以使用含有第四級銨氫氧化物、糖類的水溶液來解決，日本專利申請案早期公開第平4-48633號所述者，但是在光阻的剝離性及抑制金屬內聯機的腐蝕這兩方面，並無法同時完全滿足。

發明內容
本發明的目的就是提供一種金屬(特別是鋁)非腐蝕性佳的新型洗淨劑、洗淨方法及以此洗淨劑進行洗淨的電子部件。
本發明人為達成上述目的，積極研究而完成本發明。
換言之，本發明提出一種鹼性洗淨劑，由鹼性成分(A)、不含氮原子且數量平均分子量在92-400的三-八價的多價醇類(B)、及選自不含氮原子且數量平均分子量在62-250的二價醇類(C1)及不含氮原子且數量平均分子量在32-500的一價醇類(C2)所組成的族群中至少一醇類(C)所組成。
本發明提出一種洗淨方法，適用於電子部件、電器部件或鋁建材，其特徵在於使用本發明的洗淨劑，以選自超音波洗淨、噴淋(shower)洗淨、噴灑(spray)洗淨、浸漬及浸漬搖動中一或多種的方法進行洗淨。
本發明提出一種電子部件、電器部件或鋁建材，是以本發明的洗淨方法進行洗淨、衝洗後，乾燥而得。
本發明的洗淨劑具有金屬(特別是鋁)非腐蝕性佳的優點，例如是液晶面板用的玻璃基板及半導體基板的鋁內聯機、濾光部件不會受到破壞，且半燒成垂直配向聚亞胺膜、光阻可在短時間內被剝離及洗淨。因此，關於配向膜剝離洗淨製程(玻璃基板復原製程)，不再是如習知般只能使玻璃基板復原，還可以同時使鋁內聯機、濾光部材復原。
另外，本發明的洗淨劑在去除油份、指紋、樹脂及微粒的能力也是相當出色。
為讓本發明的上述和其它目的、特徵和優點能更明顯易懂，下文特舉較佳實施例，作詳細說明如下。
具體實施例方式
在本發明中的鹼性成分(A)，例如是(A1)金屬氫氧化物[鹼金屬氫氧化物(氫氧化鋰、氫氧化鈉及氫氧化鉀等)、鹼土族金屬氫氧化物(氫氧化鈣、氫氧化鎂及氫氧化鋇等)]、(A2)碳酸鹽[鹼金屬碳酸鹽(碳酸鈉及碳酸鉀等)、鹼土族金屬碳酸鹽(碳酸鈣、碳酸鎂及碳酸鋇等)]、(A3)磷酸鹽[鹼金屬磷酸鹽(焦磷酸鈉、焦磷酸鉀、三聚磷酸鈉及三聚磷酸鉀等)、鹼土族金屬磷酸鹽(焦磷酸鈣、焦磷酸鎂、焦磷酸鋇、三聚磷酸鈣、三聚磷酸鎂及三聚磷酸鋇等)]、(A4)矽酸鹽[鹼金屬矽酸鹽(矽酸鈉及矽酸鉀等)、鹼土族金屬矽酸鹽(矽酸鈣、矽酸鎂及矽酸鋇等)]、(A5)氨、(A6)羥胺、(A7)下列一般式(1)所示的有機鹼及這些物質的混合物。
——(R5O)p-H(2)式中，R1例如是碳數為1-24的烴基，更佳的是碳數1-14的烴基，R2、R 3及R4中每一個為氫原子、碳數為1-24(更佳的是碳數為1-14)的烴基或一般式(2)所表示的官能基，R5為碳數2-4的烷撐基，p為1-6的整數。
在一般式(1)中，R1例如是直鏈或分枝的飽和或不飽和烴基、脂環式烴基及含有芳香環的烴基等。
直鏈或分枝的飽和烴基，例如是烷基(甲基、乙基，正、異、二級及三級丁基，辛基、2-乙基己基、十八烷基(octadecyl)等)。直鏈或分枝的不飽和烴基，例如是烯基(乙烯基、丙烯基、烯丙基及丁烯基等)。脂環式烴基，例如是環烷基(環己烷等)。含有芳香環的烴基，例如是芳烴基(苯基及萘基等)、芳烷基(苯甲基及苯乙基等)、烷芳烴基(甲苯基、乙苯基、壬苯基、甲萘基及乙萘基等)。
在這些烴基中，以洗淨性的觀點來看，較佳的是烷基及烯基。
若R1碳數在24以下，會有較佳的洗淨性(或剝離性，以下同)。
R2、R3及R4為烴基的時候，此烴基例如是與R1相同的烴基，其較佳的烴基也如同R1。若R2、R3及R4碳數在24以下，會有良好的洗淨性。
在一般式(2)中，R5例如是乙烯基、丙烯基及丁烯基等碳數為2-4的烯烴基。
若R5碳數在4以下，會有良好的洗淨性。p為1-6(較佳為1-3)的整數，若p在6以下，會有良好的洗淨性。
有機鹼(A7)，例如是結合氮原子的下列(1)-(5)的陽離子和氫氧化物陰離子的鹽及這些物質的混合物中至少一個烴基。
(1)含有四個烴基的四級銨陽離子含有四個碳數1-6的烷基的四烴基銨，例如是四甲基銨、四乙基銨、四(正或異)丙基銨、四(正、異或三級)丁基銨、四戊基銨及四己基銨等。
含有三個碳數1-6的烷基的四烴基銨，例如是三甲基庚基銨、三甲基辛基銨、三甲基癸基銨、三甲基十二烷基銨、三甲基硬脂基(stearyl)銨、三甲基苯甲基銨、三乙基己基銨、三乙基辛基銨、三乙基硬脂基銨、三乙基苯甲基銨、三丁基苯甲基銨、三丁基辛基銨及三己基硬脂基銨等。
含有二個碳數1-6的烷基的四烴基銨，例如是二甲基二辛基銨、二乙基二辛基銨及二甲基二苯甲基銨等。
含有一個碳數1-6的烷基的四烴基銨，例如是甲基三辛基銨、乙基三辛基銨及甲基辛基二苯甲基銨等。
(2)含有三個烴基的三級胺陽離子含有三個碳數1-6的烷基的三烴基胺陽離子，例如是三甲基胺陽離子、三乙基胺陽離子及三丁基胺陽離子等。
含有二個碳數1-6的烷基的三烴基胺陽離子，例如是二甲基辛基胺陽離子、二甲基硬脂基胺陽離子、二乙基辛基胺陽離子、二丁基辛基胺陽離子及二甲基苯甲基胺陽離子等。
含有一個碳數1-6的烷基的三烴基胺陽離子，例如是甲基二辛基胺陽離子、乙基二辛基胺陽離子及甲基辛基苯甲基胺陽離子等。
(3)含有二個烴基的二級胺陽離子含有二個碳數1-6的烷基的二烴基胺陽離子，例如是二甲基胺陽離子、二乙基胺陽離子、二丁基胺陽離子及二己基胺陽離子等。
含有一個碳數1-6的烷基的二烴基胺陽離子，例如是甲基辛基胺陽離子、乙基辛基胺陽離子、丁基辛基胺陽離子、己基辛基胺陽離子、甲基硬脂基胺陽離子、甲基苯甲基胺陽離子及乙基苯甲基胺陽離子等。
(4)含有一個烴基的一級胺陽離子單烴基(碳數1-6)胺陽離子，例如是甲基胺陽離子、乙基胺陽離子、丁基胺陽離子及己基胺陽離子等。
(5)含有氧烯烴基的陽離子(i)含有一個氧烯烴基的陽離子，例如是羥乙基三甲基胺陽離子、羥乙基三乙基胺陽離子、羥丙基三甲基胺陽離子、羥丙基三乙基胺陽離子、羥乙基二甲基乙基胺陽離子及羥乙基二甲基辛基胺陽離子等。
(ii)含有二個氧烯烴基的陽離子，例如是二羥乙基二甲基胺陽離子、二羥乙基二乙基胺陽離子、二羥丙基二甲基胺陽離子、二羥丙基二乙基胺陽離子、二羥乙基甲基乙基胺陽離子、二羥乙基甲基辛基胺陽離子及雙(2-羥乙氧乙基)辛基胺陽離子等。
(iii)含有三個氧烯烴基的陽離子，例如是三羥乙基甲基胺陽離子、三羥乙基乙基胺陽離子、三羥乙基丁基胺陽離子、三羥丙基甲基胺陽離子、三羥丙基乙基胺陽離子及三羥乙基辛基胺陽離子等。
在鹼性成分(A)中，以洗淨性及衝洗的觀點來看，較佳的是(A1)及(A7)。在(A1)中以洗淨性的觀點來看，較佳的是鹼金屬氫氧化物，更佳的是氫氧化鈉及氫氧化鉀。在(A7)中，以洗淨性及衝洗的觀點來看，較佳的是上述(1)及(2)的鹽，更佳的是(1)的鹽，特別是含有四個碳數1-6的烷基的四烷基銨氫氧化物，特佳的是四甲基銨氫氧化物及四乙基銨氫氧化物。
上述的化合物，也可以混合使用。
在本發明中，不含氮原子且數量平均分子量為92-400[數量平均分子量以下略記為Mn，是以膠體透析層析儀(Gel Permeation Chromatography，GPC)進行測定而得]的三-八價的多價醇類(B)，例如是三-八價的脂肪族多價醇類(甘油、三羥甲基乙烷、三羥甲基丙烷、二甘油、三甘油、四甘油、五甘油、2-甲基甘油、1，2，4-丁三醇、甘蔗糖、葡萄糖、果糖、核醣、麥芽糖、海藻糖、木糖、丁四醇、木糖醇、山梨糖醇、甘露醇、蔗糖等)及這些物質的氧化烯基(碳數為2-3)的附加物(附加的氧化烯基的數目為1-7個)等。
在上述的物質中，以洗淨性及衝洗的觀點來看，較佳的是甘油、二甘油、三甘油及山梨糖醇。
在本發明中，不含氮原子且Mn為62-250的二價醇類(C1)，例如是二羥基烷類(碳數為2-8的二羥基烷類乙二醇、1，2丙烯乙二醇、1，3-丙烯乙二醇、1，4-丁二醇、1，6-己二醇及新戊基乙二醇等)、脂環式二醇類(碳數為6-15的二醇類環己烷-1，2-、1，3-、1，4-二醇、環戊烷-1，2-、1，3-二醇及氫化雙酚A等)、分子中含有一個醚基的二醇類(二次乙基乙二醇及二丙烯乙二醇等)及這些物質的混合物。(C1)的分子量較佳的是在62以上且未滿150的範圍。
在本發明中，不含氮原子且Mn為32-500的一價醇類(C2)，例如是碳數為1-12的脂肪族醇類、此醇類中附加碳數為2-4的烯烴基氧化物的化合物及這些物質的混合物。碳數為1-12的脂肪族醇類，具體來說，例如是甲醇、乙醇、異丙醇及丁醇等。醇類中附加碳數為2-4的烯烴基氧化物的化合物，例如是乙二醇單甲醚、二乙二醇單甲醚、丙烯乙二醇單甲醚及乙二醇單丁謎等。
在(C)中，以洗淨性及耐腐蝕性的觀點來看，較佳的是(C1)中的乙二醇、丙烯乙二醇及二丙烯乙二醇、(C2)中的乙二醇單甲醚、二乙二醇單甲醚，更佳的是丙烯乙二醇及二乙二醇單甲醚。
關於本發明的洗淨劑，其中(A)，(B)及(C)的含量，以洗淨性及耐腐蝕性的觀點來看，以該鹼性成分(A)、(B)及(C)的總重量為基準，(A)較佳的含量為0.1-25％(以下「％」表示「重量％」)，更佳為0.2-15％，(B)較佳的含量為1-25％，更佳為2-15％，(C)較佳的含量為60-95％，更佳為75-93％。此外，(A)與(B)的重量比，以洗淨姓及耐腐蝕性的觀點來看，較佳為10/90-99/1，更佳為20/80-80/20。
在本發明的洗淨劑中，除了(A)、(B)及(C)以外，必要時更可包括接口活性劑(D)、含有醯胺的親水性溶劑(E)、其它添加劑及/或水。
接口活性劑(D)，例如是非離子接口活性劑(D1)、陰離子界面活性劑(D2)、陽離子界面活性劑(D3)及兩性界面活性劑(D4)及這些物質的混合物。但是，在(D1)中，並不包括(B)及(C)的範圍中的醇類。此外，在(D3)中，並不包括一般式(1)所示的有機鹼。
(D1)，例如是烯烴基氧化物附加型非離子界面活性劑[高級醇類(碳數為8-18)、烷基酚(碳數為10-24)、高級脂肪酸(碳數為12-24)或高級烷基胺(碳數為8-24)等中，直接附加氧化烯基[碳數為2-4，例如是氧化乙烯基(以下簡稱EO)、氧化丙烯基、氧化丁烯基，以下同]的產物(Mn為158-200,000)；聚氧烯烴基乙二醇(Mn為150-6,000)與高級脂肪酸(碳數為12-24)等反應的產物；在二醇類[上述(C1)中所述的物質]或三-八價的多價醇[上述(B)中所述的物質]等含有羥基的化合物與高級脂肪酸(碳數為12-24)反應所得的酯化物上附加氧化烯基的產物(Mn為250-30,000)、在高級脂肪酸(碳數為8-24)醯胺上附加氧化烯基的產物(Mn為200-30,000)、在多價醇(上述的物質)烷基(碳數為8-60)醚上附加氧化烯基的產物(Mn為120-30,000)等]，及多價醇(碳數為3-20)型非離子界面活性劑[多價醇脂肪酸(碳數為8-60)酯、多價脂肪酸烷基(碳數為8-60)醚、脂肪酸(碳數為8-60)烷醇醯胺]等。
(D2)，例如是羧酸(碳數為8-22的飽和或不飽和脂肪酸)或其鹽類、羧甲基化合物的鹽類[碳數為8-16的脂肪族醇類及/或其的EO附加物(附加數目1-10)等的羧甲基化合物的鹽類等]、硫酸酯鹽類[高級醇硫酸酯鹽類(碳數為8-18的脂肪族脂類的硫酸酯鹽類等)等]、高級烷基醚硫酸酯鹽類[碳數為8-18的脂肪族脂類的EO附加物(附加數目1-10)的硫酸酯鹽類]、硫酸化油(天然的不飽和油脂或不飽和的蠟油進行硫酸化後再中和所得的鹽類)、硫酸化脂肪酸脂(對不飽和脂肪酸的低級醇酯類進行硫酸化後再中和所得的鹽類)、硫酸化烯烴(對碳數為12-18的烯烴類進行硫酸化後再中和所得的鹽類)、磺酸鹽[烷基苯磺酸鹽、甲基萘磺酸鹽、磺基琥珀酸酯型、α-烯烴(碳數為12-18)磺酸鹽、Igepon T型(商品名)界面活性劑]及磷酸酯鹽[高級醇(碳數為8-60)磷酸酯鹽、高級醇(碳數為8-60)的EO附加物的磷酸酯鹽、烷基(碳數為4-60)酚的EO附加物的磷酸酯鹽等]等鹽類。
上述鹽類，例如是鹼金屬(鈉、鉀等)鹽、鹼土族金屬(鈣、鎂等)鹽、銨鹽、烷基胺(碳數為1-20)鹽及烷醇胺(碳數為2-12，例如是單、二、三乙醇胺)鹽等。
(D3)，例如是第四級銨鹽型[四烷基(碳數為4-100)銨鹽，例如是氯化十二烷基三甲基銨、氯化二癸基二甲基銨、溴化二辛基二甲基銨、溴化硬脂基三甲基銨；三烷基(碳數為3-80)苯基銨鹽，例如是氯化十二烷基二甲基苯基銨(氯化苯甲烴銨)；烷基(碳數為2-60)啶鹽，例如是氯化十六烷基啶鹽；聚氧烯烴基(碳數為2-4)三烴基銨鹽，例如是氯化聚氧乙烯基三甲基銨；Sapamine型(商品名)四級銨鹽，例如是硬脂醯胺乙基二乙基甲基銨的甲基硫酸鹽]、胺鹽型[脂肪族高級胺(碳數為12-60，例如是十二烷基胺、硬脂基胺、十六烷基胺、硬化牛脂胺、松香胺等)的無機酸(鹽酸、硫酸、硝酸及磷酸)鹽或有機酸(醋酸、丙酸、十二酸、油酸、安息香酸、琥珀酸、己二酸、壬二酸)鹽；低級胺(碳數為1-11)的高級脂肪酸(碳數為12-24，例如是硬脂酸、油酸)鹽；脂肪族胺(碳數為1-30)的EO附加物等的無機酸(上述的無機酸)鹽或有機酸(上述的有機酸)鹽；三級胺(三乙醇胺單硬脂酸酯、硬脂醯胺乙基二乙基甲基乙醇胺等)的無機酸(上述的無機酸)鹽或有機酸(上述的有機酸)鹽等]等。
(D4)，例如是胺基酸兩性界面活性劑[高級烷基胺(碳數為12-18)的丙酸鈉等]、甜菜鹼型兩性界面活性劑[烷基(碳數為12-18)二甲基甜菜鹼等、烷基(碳數為12-18)二羥乙基甜菜鹼等、椰子油脂肪酸醯胺丙基甜菜鹼等]、硫酸酯鹽型兩性界面活性劑[高級烷基(碳數為8-18)胺的硫酸酯鈉鹽、羥乙基咪唑啉硫酸酯鈉鹽等]、磺酸鹽型兩性界面活性劑(五癸基胺基乙磺酸、咪唑啉磺酸等)、磷酸酯鹽型兩性界面活性劑[甘油高級脂肪酸(碳數為8-22)酯化物的磷酸酯胺鹽]等。
在(D1)-(D4)中，以洗淨性及耐腐蝕性的觀點來看，較佳的是(D1)及(D2)，更佳的是(D1)。(D)的含量，以洗淨劑的總重量為基準，較佳為1-20％。
含有醯胺基的親水性溶劑(E)，在對水的溶解度(g/100g的H2O)在3以上，而分子中含有一個以上醯胺基或水溶性醯胺，例如是2-吡咯烷酮及N-烷基(碳數為1-3)-2-吡咯烷酮等。在這些物質中，以洗淨性及衝洗的觀點來看，較佳的是N-甲基-2-吡咯烷酮、N-乙基-2-吡咯烷酮、N-n-丙基-2-吡咯烷酮及N-異丙基-2-吡咯烷酮，更佳的是N-甲基-2-吡咯烷酮。(E)的含量，以洗淨劑的總重量為基準，從洗淨性、清洗及耐腐蝕性的觀點來看，較佳的是在30％以下，更佳的是1-20％。
水的含量，以洗淨劑的總重量為基準，從洗淨性、清洗及耐腐蝕性的觀點來看，較佳的是在39％以下，更佳的是1-38％，特佳的是2-30％。
其它添加劑(F)，例如是抗鏽劑[胺(碳數為6-30、例如是環己基胺、十二烷基胺、硬脂基胺等)的EO附加物(附加數目2-10)、鉻酸鹽、亞硝酸鹽、胺(碳數為6-30)的高級脂肪酸(碳數為8-30)鹽、二羧酸(碳數為12-24)的鹼金屬(鈉、鉀等)鹽、銨鹽、或烷醇胺鹽(三乙醇胺鹽等)、二羧酸(碳數為12-24)的烷醇醯胺(例如是十二烷基琥珀酸二乙醇醯胺)、二羧酸(碳數為12-24)的烷醇醯胺鹼金屬鹽(例如是十二烷基琥珀酸二乙醇醯胺鈉鹽)等]、抗氧化劑[酚類化合物(2，6，-二-t-丁基-4-甲基酚等)、含硫化合物(雙十二烷基硫二苯胺丙酸鹽等)、胺化合物(辛基化二苯基胺等)、磷化合物(三苯基亞磷酸鹽等)等]、金屬離子螯合劑(乙烯二胺四醋酸鈉、檸檬酸鈉等)、有機酸(檸檬酸、乙醇酸、琥珀酸、酒石酸、乳酸、反丁烯二酸、蘋果酸、乙醯酸、丁酸、吉草酸、草酸、順丁烯二酸、杏仁酸等)及這些物質的鹼金屬(鈉、鉀等)鹽、銨鹽或烷醇胺鹽(如三乙醇胺鹽)等。
(F)的含量，以洗淨劑的總重量為基準，防鏽劑通常在20％以下，較佳的是0.5-10％，抗氧化劑通常在5％以下，較佳的是0.1-1％，金屬離子螯合劑通常在20％以下，較佳的是0.5-10％，有機酸通常在20％以下，較佳的是0.5-10％。
以本發明洗淨劑的重量為基準，(D)、(E)及(F)合計的含量，通常在40％以下，較佳的是在30％以下，更佳的是在20％以下。
本發明的洗淨劑在25℃時的黏度，通常在2-300mm2/s，從洗淨性及衝洗的觀點來看，較佳的是3-100mm2/s，更佳的是4-50mm2/s。其中，黏度是以奧斯瓦特(Ostwald)或烏貝路德(Ubbelohde)等黏度劑進行測定。
本發明的洗淨劑，其適用的用途並無特別限定，可用於各種電子部件及鋁建材等進行洗淨，較佳的是用於電子部件的洗淨，特別是廣泛地用在一部份或全部使用鋁的電子部件等部件的洗淨上。例如是液晶面板用的玻璃基板(配向膜圖案化之前的洗淨、不符合配向膜的玻璃及洗淨)、半導體基板、印刷電路板、電漿顯示玻璃基板、熱感應頭等電子部件、空調冷卻膜、空氣清淨機的鋁電極板、電剃刀等的電器部件、鋁建材等。此外，洗淨的對象(汙垢)為油分、指紋、樹脂、有機微粒等的有機物、無機微粒(例如是玻璃粉、陶瓷粉、金屬粉等)等的無機物。在本發明洗淨劑的這些洗淨對象中，特別適合用於液晶面板用的玻璃基板的洗淨(配向膜進行薄膜化前玻璃基板的洗淨，或配向膜為不符合的玻璃基板的洗淨)。
本發明洗淨劑適用的使用方法，舉例來說，如液晶面板用的玻璃基板的剝離及洗淨方法，為超音波洗淨、噴淋(shower)洗淨、噴灑(spray)洗淨、浸漬、浸漬搖動及這些方法組合的洗淨方法。
進行洗淨時，本發明的洗淨劑在必要時以水進行稀釋為佳，更佳的是水的含量在上述水的含量範圍內。
洗淨溫度，通常為10-70℃，較佳的是15-60℃。洗淨時間通常是0.2-120分，較佳的是0.5-30分。水的衝洗溫度通常是5-90℃，較佳的是10-70℃，衝洗的方法同上述所適用的洗淨方法。衝洗後，通常在50-150℃的環境中，較佳的是在60-100℃的環境中，進行加熱乾燥，時間通常在1-120分，較佳的是在3-60分，以得到乾淨的液晶面板用的玻璃基板，如此即可使玻璃基板復原。
實施例以下，以一實施例對本發明進行詳細說明，但此實施例並不用以限定本發明。此外，關於以下的各部份，以質量比(part by weight)表示。
〔實施例1-8、比較例1-4〕表1中所記載的各部份(百分比表示)的各成分，在一升的燒杯中，在室溫下充分地攪拌及混合，以製作出實施例及比較例的洗淨劑。
表1中的代號說明如下A-1氫氧化鈉A-2四n-丁基銨氫氧化物A-3四乙基銨氫氧化物B-1甘油B-2二甘油B-3山梨糖醇C-1丙烯乙二醇C-2乙二醇C-3二乙二醇單甲醚實施例及比較例所得到的洗淨劑的評價方法如下所示，評價結果如表1所示。
1.配向膜剝離性在預先行程ITO膜(銦錫氧化膜)的玻璃基板(25×25mm，厚度為0.75mm)上，塗布聚亞胺樹脂。接著，在80℃進行加熱黏附作業，重複三次，即完成緊密黏附有半燒性的垂直配向聚亞胺膜(膜厚5μm)的玻璃基板實驗片。實驗片在洗淨劑(25℃)中，浸漬特定時間後，置於不鏽鋼網上，以離子交換水噴淋(shower)洗淨一分鐘後，對另一面進行同樣的衝洗步驟。然後，實驗片在70℃循環風乾燥機中乾燥十分鐘後，以顯微鏡觀察配向膜的剝離性，接著給予五種等級的評價。
評價基準
5玻璃基板表面的配向膜全部剝離。
4玻璃基板表面的配向膜少部分殘留。
3玻璃基板表面的配向膜一部分殘留。
2玻璃基板表面的配向膜大部分殘留。
1玻璃基板表面的配向膜全部殘留。
2.光阻剝離性在三英吋的矽晶片上，塗布2μm厚的正光阻(可溶酚醛清漆樹脂)。接著，80℃進行10分鐘的加熱黏附作業，以完成實驗片。實驗片在洗淨劑中，溫度為50℃的環境下，浸漬特定時間後，以離子交換水噴淋(shower)洗淨一分鐘。然後，實驗片在70℃的循環風乾燥機中乾燥十分鐘後，以顯微鏡觀察光阻的剝離性，接著給予五種等級的評價。
評價基準
5晶片表面的光阻全部剝離。
4晶片表面的光阻少部分殘留。
3晶片表面的光阻一部分殘留。
2晶片表面的光阻大部分殘留。
1晶片表面的光阻全部殘留。
3.腐蝕性緊密黏附有鋁薄膜(膜厚0.1μm)的玻璃基板實驗片(25×25mm，厚度為0.75mm)，在洗淨劑(40℃)中，浸漬特定時間後，測定鋁薄膜完全消失而使實驗片變成透明的時間，作為其腐蝕時間。
4.腐蝕性-2鋁實驗片(20×50mm，厚度為1mm)於洗淨劑中浸漬，在50℃的環境中放置一周後，以純水衝洗。接著，在90℃的環境中，乾燥30分鐘後，測量其重量。腐蝕速度的算法以下式表示。

表1



本發明的洗淨劑，因為具有較佳的鋁耐腐蝕性，且對油分、指紋、樹脂及微粒有良好的去除能力，所以不僅可用於液晶面板用玻璃基板、半導體用矽基板等電子部件的洗淨用途，也適用於電器部件、金屬部件及建材等的洗淨用途，可利用性相當高。
雖然本發明已以較佳實施例揭露如上，然其並非用以限定本發明，任何熟習此技藝者，在不脫離本發明的精神和範圍內，當可作些許更動與潤飾，因此本發明的保護範圍當視後附的申請專利範圍所界定者為準。
權利要求
1.一種鹼性洗淨劑，其特徵在於其包括一鹼性成分(A)；一多價醇類(B)，不含氮原子且平均分子量在92～400的三～八價醇類；以及至少一醇類(C)，選自不含氮原子且平均分子量在62～250的二價醇類(C1)及不含氮原子且平均分子量在32～500的一價醇類(C2)所組成的族群。
2.根據權利要求1所述的鹼性洗淨劑，其特徵在於其中所述的鹼性成分(A)為一般式(1)所表示的有機鹼，式中R1為碳數1～24的烴基，R2、R3及R4每一個為氫原子、碳數1～24的烴基或一般式(2)所表示的基，R5為碳數2～4的烯烴基，p為1～6的整數。 -(R5O)p-H (2)
3.根據權利要求1或2所述的鹼性洗淨劑，其特徵在於其中所述的鹼性成分(A)為烷基碳數為1或2的四烷基銨氫氧化物。
4.根據權利要求1或2所述的鹼性洗淨劑，其特徵在於其中以該鹼性成分(A)、該多價醇類(B)及該醇類(C)的總重量為基準，該鹼性成分(A)為0.1～25重量％，該多價醇類(B)為1～25重量％，該醇類(C)為60～95重量％。
5.根據權利要求1或2所述的鹼性洗淨劑，其特徵在於其更包括下列物質中的至少一種界面活性劑(D)、含有醯胺的親水性溶劑(E)、抗鏽劑、抗氧化劑、金屬離子螯合劑、以及水。
6.根據權利要求5所述的鹼性洗淨劑，其特徵在於其中以該鹼性洗淨劑的總重量為基準，水為2～30重量％。
7.根據權利要求1或2所述的鹼性洗淨劑，其特徵在於在50℃時，鋁的腐蝕速度在10mdd以下。
8.一種洗淨方法，適用於一電子部件、一電器部件或一鋁建材，其特徵在於使用根據權利要求1或2所述的鹼性洗淨劑，以選自超音波洗淨、噴淋(shower)洗淨、噴灑(spray)洗淨、浸漬及浸漬搖動中一種以上的方法進行洗淨。
9.根據權利要求8所述的洗淨方法，其特徵在於其中所述的電子部件包括一玻璃基板或一矽基板。
10.根據權利要求9所述的洗淨方法，其特徵在於其中所述的玻璃基板或該矽基板為至少一部份使用鋁的基板。
11.一種電子部件、電器部件或鋁建材，其特徵在於是以根據權利要求8所述的洗淨方法進行洗淨、衝洗後，乾燥而得。
全文摘要
本發明提出一種鹼性洗淨劑，由鹼性成分(A)、多價醇類(B)及醇類(C)所組成。其中，多價醇類(B)為不含氮原子且平均分子量在92～400的三～八價的醇類。醇類(C)為選自不含氮原子且平均分子量在62～250的二價醇類(C1)及不含氮原子且平均分子量在32～500的一價醇類(C2)所組成的族群中至少一醇類。
文檔編號C11D7/10GK1693439SQ20051006617
公開日2005年11月9日 申請日期2005年4月21日 優先權日2004年4月30日
發明者山田康博, 川口幸治 申請人:三洋化成工業株式會社