熱塑性薄膜的熱處理方法,熱塑性薄膜及其製造方法

2023-10-24 00:12:47 1

專利名稱：：熱塑性薄膜的熱處理方法,熱塑性薄膜及其製造方法
技術領域：
：本發明涉及適合用於偏振片、液晶顯示板用光學補償薄膜、防反射薄膜、液晶顯示裝置等中的熱塑性薄膜的熱處理方法、熱塑性薄膜及其製造方法。
背景技術：
：以往，一直實施的是將熱塑性薄膜拉伸以使面內延遲、厚度方向延遲表現出來，並作為液晶顯示元件的相位差膜來使用，從而試圖擴大視角。特別是近年來，為了向TN液晶顯示的電視機用途展開，需要在組裝到液晶顯示裝置中時可以實現高對比度的相位差膜。作為相位差膜，己知有將熱塑性薄膜拉伸後得到的膜，例如進行在縱(長度)方向上拉伸的方法(縱向拉伸)、在橫(寬度)方向上拉伸的方法(橫向拉伸)或依次進行縱向拉伸和橫向拉伸的方法(依次雙軸拉伸)、同時進行縱向拉伸和橫向拉伸的方法(同時雙軸拉伸)。但是，通過這些方法，無法在組裝入液晶顯示裝置中時實現高對比度，具有生產率差等問題。例如，在日本特開2001-305342號公報中記載了利用單軸拉伸來製造相位差膜的方法，但通過該方法製造的相位差膜的慢軸朝向縱方向，不通過輥對輥方式進行與起偏器、偏振片的粘貼，生產率會顯著降低。因此，日本特開2007-108529號公報提出了使慢軸朝向橫方向且NZ值為0.卯1.20的薄膜。另外，日本特開2006-133720號公報通過同時進行橫向拉伸和縱向鬆弛，實現了NZ值0.9-1.1。但是，這些方法中，隨著液晶顯示裝置的畫面尺寸增大，熱處理後在畫面的中央和端部的對比度差(對比度不均)顯著存在，而且發生漏光，從而期待進行改良。
發明內容為了解決上述現有技術的問題，本發明的目的在於提供組裝到大型液晶顯示裝置中時在整個面上不會發生對比度差、也不會發生漏光的熱塑性薄膜的熱處理方法、熱塑性薄膜及其製造方法。本發明的上述目的通過具有以下構成的本發明來實現。本發明的熱塑性薄膜的熱處理方法，其特徵在於，在橫方向上拉伸熱塑性薄膜後，將該薄膜用2根以上的搬送用輥在入口側的搬送速度(VI)和出口側的搬送速度(V2)之比(V2/V1)為0.6~0.999下在熱處理區域中搬送，所述熱處理區域按照輥搭接長度(laplength)(D)與輥間長度(G)之比(G/D)為0.013的方式來配置。根據[l]，其特徵在於，所述輥搭接長度(D)與輥間長度(G)之比(G/D)為0.05~0.9。根據[1]或[2]，其特徵在於，在輥上固定薄膜的兩端。根據[1][3]的任一項，其特徵在於，在玻璃化轉變溫度為(Tg-20)°C(Tg+50)"C下進行熱處理。根據[1][4]的任一項，其特徵在於，所述橫方向的拉伸(橫向拉伸)倍率為1.1倍3倍。根據[1][5]的任一項，其特徵在於，所述熱塑性薄膜由醯化纖維素、環烯烴、含有內酯環的聚合物、或聚碳酸酯系聚合物構成。根據[1][6]的任一項，其特徵在於，所述熱塑性薄膜是通過熔融制膜法製成的。根據mm的任一項，其特徵在於，所述熱塑性薄膜的表面粗糙度(Ra)為0.005(im0.04拜。根據[1][8]的任一項，其特徵在於，所述熱塑性薄膜是通過接觸輥制膜法製成的。根據[1][9]的任一項，其特徵在於，所述熱處理後的熱塑性薄膜的面內延遲Re為50150nm(更優選為7095nm)。本發明的熱塑性薄膜，其特徵在於，厚度方向的延遲/面內的延遲(Rth/Re)的比值為0.5以上但小於1，在寬度方向上測定的Rth/Re比的範圍為0.01-0.1，在80。C、200小時下的熱尺寸變化為0.001%~0.3%。本發明的熱塑性薄膜，其特徵在於，其是通過[1][10]任一項所述的熱塑性薄膜的熱處理方法來製備的。本發明的偏振片、液晶顯示板用光學補償薄膜、防反射膜、液晶顯示裝置，其特徵在於，其使用了上述本發明的熱塑性薄膜。本發明的熱塑性薄膜的製造方法，其特徵在於，在橫方向上拉伸熱塑性薄膜後，將該薄膜用2根以上的搬送用輥在入口側的搬送速度(VI)和出口側的搬送速度(V2)之比(V2/V1)為0.60.999下在熱處理區域中搬送，所述熱處理區域按照輥搭接長度(D)與輥間長度(G)之比(G/D)為0.01~3的方式來配置。如上所述，根據本發明的熱塑性薄膜，不僅可以在組裝入大型液晶顯示裝置中時減小整個面上的對比度差，而且還可以抑制漏光。另外，根據本發明的熱塑性薄膜的製造方法及熱處理方法，可以高效地製造具有上述特徵的熱塑性薄膜。另外，本發明的偏振片、光學補償薄膜、防反射膜、液晶顯示裝置具有優異的光學特性。由附圖與下述優選實施方式的說明可以更加清楚上述目的、特徵和優點。圖1為表示製造本實施方式的熱塑性薄膜的薄膜製造裝置的概略構成圖。圖2為表示熱處理區域中的多個輥的配置狀態的立體圖。圖3為表示熱處理區域中的多個輥的輥搭接長度(D)和輥間長度(G)的說明圖。圖4為表示適用本實施方式的熱塑性薄膜的液晶顯示裝置的一例的概略構成圖。具體實施例方式以下詳細說明本發明的熱塑性薄膜及其製造方法和其用途。以下所述構成要件的說明有時是根據本發明的代表實施方式進行的，但本發明並非局限於這種實施方式。另外，本說明書中使用""表示的數值範圍是指將""前後所記載的數值作為下限值和上限值而包括在內的範圍。首先，在說明本發明的熱塑性樹脂薄膜之前，參照圖1圖4說明用於6製造熱塑性薄膜的本實施方式的製造裝置(以下記為薄膜製造裝置10)。如圖1所示，該薄膜製造裝置10為製造可以用於液晶顯示裝置等中的熱塑性薄膜F的裝置。將作為熱塑性薄膜F的原材料的粒料狀醯化纖維素樹脂、環烯烴樹脂、聚碳酸酯樹脂或含有內酯環的聚合物樹脂導入乾燥機12內並將其乾燥後，通過擠出機14擠出該粒料，通過齒輪泵16供給至過濾器18。接著，通過過濾器18過濾雜質，從口模20擠出熔融樹脂(熔融了的熱塑性樹脂)。熔融樹脂用第1流延輥28和接觸輥24挾持並進行擠壓成形後，用第l流延輥28將其冷卻固化，製成規定表面粗糙度的薄膜狀，進而，通過第2流延輥26、第3流延輥27進行搬送，從而獲得未拉伸薄膜Fa。該未拉伸薄膜Fa可以在此階段巻繞，也可以連續地供給於進行長跨度拉伸的橫向拉伸42。另外，將暫時巻繞後的未拉伸薄膜Fa再次供給至橫向拉伸42，也可以獲得同樣的效果。橫向拉伸部42中，如圖1所示，在垂直於搬送方向的寬度方向上拉伸未拉伸薄膜Fa，製成橫向拉伸薄膜Fb。還可以在橫向拉伸前設置預熱部36、在橫向拉伸後設置熱固定部44。由此，可以減小拉伸中的彎曲(光學軸的偏移)。優選預熱溫度高於橫向拉伸溫度、熱固定溫度低於橫向拉伸溫度。S卩，通常彎曲向著寬度方向中央部行進的方向而凹陷，但在預熱溫度>拉伸溫度、拉伸溫度>後熱處理溫度下可以減小彎曲。預熱、後熱處理可以進行其中之一，也可以進行兩者。橫向拉伸後進行熱處理，在此使薄膜在縱方向上收縮。在進行此的熱處理區域46中，如圖2所示，不用夾具把持橫向拉伸薄膜Fb的側端部，按照在TD方向(橫方向)上不收縮、僅在MD方向(縱向)上收縮的方式，用多根輥48a48d來搬送橫向拉伸薄膜Fb。此時，如圖3所示，多根輥48a48d按照輥搭接長度(D)與輥間長度(G)之比(G/D)達到0.01-3的方式來配置。由此，通過薄膜與輥的摩擦，可以抑制橫方向的收縮。而且，薄膜Fb在入口側的輥48a的搬送速度(VI)和出口側的輥48d的搬送速度(V2)之比(V2/V1)為0.60.999下進行搬送，同時進行熱處理。即，薄膜Fb在熱處理區域縱向收縮。通過薄膜Fc在熱處理區域進行熱處理，可以製造取向角、延遲被調整後的最終產品的熱塑性薄膜F。該薄膜F通過巻繞部49巻繞。還可以在橫向拉伸前或後進行縱向拉伸。縱向拉伸可以通過在一對捏合輥之間搬送薄膜、並使出口側捏合輥的搬送速度大於入口側捏合輥的搬送速度來實現。根據捏合輥間的距離(L)與縱向拉伸入口處的薄膜寬度W之比(L/W)的大小，拉伸方式有所不同，L/W較小時，可以採用日本特幵2005-330411號公報、日本特開2006-348114號公報所記載的縱向拉伸方法。該方式雖然Rth易於增大，但可以將裝置小型化。另一方面，L/W較大時，可以使用日本特開2005-301225號公報所記載的縱向拉伸方式。該方式雖然可以減小Rth，但裝置易於變大。圖4為適用如上製造的熱塑性薄膜F的液晶顯示裝置50的概略構成圖。液晶顯示裝置50為依次層疊偏振片52、液晶單元54、偏振片56而構成，偏振片56上介由擴散板58安裝有導光板60。導光板60上導入來自背光62的照明光。偏振片52通過用防反射膜64和光學補償薄膜68挾持起偏器66而構成。液晶單元54為在玻璃基板70上安裝形成有R、G、B的像素的濾色器72，接著依次配置液晶層74、TFT層76和玻璃基板78。偏振片56為用光學補償薄膜80和保護膜84挾持起偏器82而構成。此時，通過圖1所示的薄膜製造裝置10製造的熱塑性薄膜F可以用作構成液晶顯示裝置50的防反射膜64、光學補償薄膜68、80、保護膜84。接著，進一步詳細地說明本發明的熱塑性薄膜及其製造方法。本發明明確了熱處理後的對比度降低是由於Rth/Re比和Rth/Re比的範圍，進而完成了本發明。另外，熱處理是指8(TC下進行200小時的乾燥處理。Rth/Re比優選為0.5以上但小於1，更優選為0.55-0.9，進一步優選為0.6-0.8。超過或低於該範圍時，熱處理後的對比度均降低。本說明書中，Re(人)、Rtha)分別表示波長X的面內延遲和厚度方向的延遲。Re(入)是在KOBRA21ADH或WR(王子計測機器株式會社制)中使波長Xnm的光沿薄膜法線方向入射而測定的。至於測定波長Xrim的選擇，可以通過手動交換波長選擇濾波器來測定，或者可以通過程序等交換測定值來測定。所測定的薄膜為用單軸或雙軸的折射率橢圓體表示時，通過以下的方法計算Rtha)。Rtha)如下求得以面內慢軸(通過KOBRA21ADH或WR判斷)作為傾斜軸(旋轉軸)(沒有慢軸時以薄膜面內的任意方向為旋轉軸)，從相對於薄膜法線方向由法線方向以IO度等級分別傾斜至單側50度的方向入射波長Xnm的光，共計測定6點上述Rea)，根據所測定的延遲值和平均折射率的假設值及所輸入的膜厚值，通過KOBRA21ADH或WR進行計算。上述中，在為具有以法線方向的面內慢軸為旋轉軸、在某個傾斜角度下延遲值為0的方向的薄膜時，大於該傾斜角度的傾斜角度下的延遲值在將其符號變更為負後，通過KOBRA21ADH或WR進行計算。另外，還可以以慢軸作為傾斜軸(旋轉軸)(沒有慢軸時以薄膜面內的任意方向作為旋轉軸)、從任意傾斜的2個方向測定延遲值，根據該值和平均折射率的假設值和所輸入的膜厚值，通過下式(1)和式(2)計算Rth。formulaseeoriginaldocumentpage9式(1)上述Re(e)表示從法線方向傾斜角度e後的方向的延遲值。式(i)的mc表示面內的慢軸方向的折射率、ny表示面內的垂直於nx的方向的折射率、nz表示垂直於nx和ny的方向的折射率。d為膜厚。Rth-((nx+ny)/2-nz)xd式(2)所測定的薄膜不能用單軸或雙軸的折射率橢圓體表示、即為沒有光學軸的薄膜時，可以通過以下方法算出Rtha)。Rtha)如下求得以面內慢軸(通過KOBRA21ADH或WR判斷)作為傾斜軸(旋轉軸)，從相對於薄膜法線方向從-50度以IO度等級分別傾斜至+50度的傾斜方向入射波長？aim的光，共計測定11點上述Rea)，根據所測定的延遲值和平均折射率的假設值及所輸入的膜厚值，通過KOBRA21ADH或WR進行計算。在上述測定中，平均折射率的假設值可以使用聚合物手冊(JOHNWILEY&SONS,INC)、各種光學薄膜的目錄值。對於平均折射率的值還未知的，可以使用阿貝折射計來測定。以下例示出主要的光學薄膜的平均折射率值，醯化纖維素(1.48)、環烯烴聚合物(1.52)、聚碳酸酯(1.59)、聚甲基丙烯酸甲酯(1.49)、聚苯乙烯(1.59)。通過輸入這些平均折射率的假設值和膜厚，KOBRA21ADH或WR算出nx、ny、nz。另外，NZ值由NZ=0.5+(Rth/Re)算出。另外，在寬度方向上測定的Rth/Re比的範圍優選為0.010.1、更優選為0.010.09、進一步優選為0.02~0.08。Rth/Re比的範圍是指在寬度方向上20等份點的測定值的最大值與最小值之差。由此，即便組裝到大型畫面中時，也可以抑制熱處理後的畫面內的對比度不均。當Rth/Re比的範圍超過該範圍時，熱處理後面內的對比度不均增大。另一方面，小於該範圍時，由於下述理由而不優選。SP，當減小Rth/Re比的範圍時，有必要增加後述的縱向收縮處理量，與此相伴，在寬度方向上薄膜變形為白鐵皮板狀，這會由於熱處理而顯著化、從而增加對比度不均。另外，本發明明確了熱處理後的漏光的原因是由於熱處理前後的熱塑性薄膜的尺寸變化所引起的。當由於熱處理而發生尺寸變化時，液晶顯示裝置內與所粘貼的玻璃板之間會發生尺寸差所導致的應力，這會發生光彈性變化，結果發生漏光。伴隨熱處理的熱尺寸變化為0.001%0.3%、更優選為0.003%0.25%、進一步優選為0.005%~0.2%。超過該範圍時，漏光增大，低於該範圍時，漏光也增大。這是由於玻璃板也發生尺寸變化，因此即便低於該範圍，也會在與玻璃板之間產生尺寸差。製備這種熱塑性薄膜的重點在於具有以下特徵的熱塑性薄膜的熱處理方法在橫方向(TD)上拉伸薄膜後，將該薄膜在按照輥搭接長度(D)與輥間長度(G)之比(G/D)為0.013的方式配置的熱處理區域中，在入口側的搬送速度(VI)和出口側的搬送速度(V2)之比(V2/V1)為0.60.999下進行搬送，同時進行熱處理。當通過橫向拉伸來製作要求均一性的光學薄膜時，利用拉幅機來進行。發生通過拉伸而伸長的部分、為了配合物資平衡而厚度降低、垂直方向(MD)的縮幅(neckin)。但是，在拉幅機拉伸中，在MD方向上向薄膜施加搬送張力，難以引起縮幅，僅該部分發生厚度降低。由此，在厚度方向上被壓縮，面取向發展，Rth增加、並大於Re。剛如此進行拉幅機拉伸後Rth>Re，通過僅在MD上使其收縮，可以在不降低Re的情況下僅降低Rth。g卩，當同時在MD、TD上收縮時，Re、Rth同時降低，雖然Rth〉Re，但僅降低MD時，面內取向(Re)不會變化，可以僅增加厚度、僅降低Rth。其結果可以實現RtlKRe。對於這種用於Rth降低的拉伸後的MD收縮，上述特開2007-108529號公報和特開2006-133720號公報中通過減緩MD方向的夾具搬送速度並通過在縱方向上收縮而實現。在拉幅機內把持在夾具上的狀態是指，如特開2007-108529號公報和特開2006-133720號公報所述，在橫向拉伸後在拉幅機內進行熱收縮時，或者同時進行上述橫向拉伸和熱收縮時，由於用夾具把持來進行橫向拉伸，因此熱收縮也把持在夾具上。但是，在該方法中，有必要預先在鄰接的夾具間設置間隙來進行橫向拉伸，以使得可以在MD方向上收縮，其結果，用夾具部分把持的部分與未用夾具間把持的部分發生拉伸不均，Rth/Re比的範圍易於增大。與此同時，面內的熱尺寸變化不均也易於增加。熱尺寸變化不均易於引起對比度不均和漏光，從而不優選。熱尺寸變化不均是指在寬度方向上5等分的點在MD、TD方向上測定的10點熱尺寸變化中的最大值和最小值除以平均值而以百分率表示的值，優選10°/。以下、更優選7%以下、進一步優選5%以下。而且，在寬度方向上相向的一對夾具間與未用夾具把持的部分處，收縮處理時的收縮行為會發生差異。這會導致未被夾具把持的部分除了可以在MD方向上收縮，還可以在TD方向上收縮。另一方面，一對夾具間在TD上完全不能收縮。這樣，易於在TD上發生伴隨拉伸的殘留形變，這通過熱處理會引起TD的熱收縮。為了配合伴隨該熱收縮的物資平衡，MD伸長。這些尺寸變化會引起漏光。這樣，在拉幅機內，即同時在夾具上把持並使其縱向收縮時，在薄膜內易於發生殘留形變，這通過熱而釋放，熱處理後的Rth/Re比的範圍或熱尺寸變化、熱尺寸變化不均易於增大。與此相對，本發明中，橫向拉伸結束並離開拉幅機後(從夾具上卸下後)，使其在縱方向上收縮，在拉幅機內不使其收縮。gP，由於兩端不被夾具把持，因此在整個寬度上可以均等地使其縱向收縮。因而，Rth/Re比的範圍難以增大，也可以抑制熱尺寸變化不均。這樣，本發明的重點在於，在不用夾具把持的狀態下、不在TD方向上使其收縮而僅引起MD(縱向)收縮。為了僅在MD收縮而不在TD上收縮，本發明在配置於熱處理區域中的多個輥之間搭接熱塑性薄膜，同時使其通過。由此，通過輥和薄膜的摩擦，可以抑制TD方向的收縮。此時，通過使入口側的搬送速度(VI)快於出口側的搬送速度(V2)，且使V2/V1為0.6~0.999、更優選0.65-0.99、進一步優選0.65-0.95、更進一步優選0.70.85，從而可以僅使MD收縮。高於該範圍時，不能縱向收縮，Rth/Re超過本發明的範圍，不優選。低於該範圍時，在輥上熱塑性薄膜引起滑動、發生擦傷劃痕，不優選。這種V2/V1可以通過使入口側的輥搬送速度快於出口側的輥搬送速度來實現。為了獲得用於抑制薄膜的TD收縮的必要的摩擦力，優選薄膜在輥上搭接的長度(D)與輥間長度(G)之比(G/D)為0.01~3、更優選為0.03~1、進一步優選為0.050.5。超過該範圍時，輥間變長、摩擦力降低、發生TD收縮、Re降低、Rth/Re超過本發明的範圍，不優選。而且，Rth/Re比的範圍、熱收縮不均也增大，不優選。這在由於輥間較長時，薄膜兩端相比較於中央部更易於收縮(這是由於當考慮將薄膜分割為中央、兩端這3部分時，雖然中央不被兩端限制、但兩端僅一端被中央限制，從而易於縱向收縮)，Rth/Re比的範圍、熱收縮不均易於增大。另一方面，比值(G/D)小於該範圍時，完全不發生TD方向的收縮，在薄膜內易於發生殘留形變，其結果，發生TD熱收縮、伴隨其的MD伸長，熱尺寸變化超過本發明的範圍，不優選，g卩，通過除了縱向收縮以外還使其橫向(TD)收縮一些，可以抑制熱尺寸變化的發生、熱尺寸變化不均。這種熱尺寸變化如上所述成為漏光的原因。而且，Rth/Re比的範圍也增大，不優選。這是由於可以縱向收縮的長度不充分、不能整個面均勻地縱向收縮，因此Re、Rth會發生不均，Rth/Re比的範圍增大。為了充分地獲得輥與熱塑性薄膜之間的摩擦力，熱塑性薄膜的表面粗糙度(Ra)優選為0.005|im~0.04|im、更優選為0.007pm0.035^im、進一步12優選為0.009^im0.030^im。超過該範圍時，無法產生充分的摩擦力，Rth/Re超過本發明的範圍，相反，低於該範圍時，由於與輥的摩擦會發生擦傷劃痕，而且基本不發生TD方向的鬆弛、熱尺寸變化增大，結果發生漏光，不優選。該表面粗糙度是指測定拉伸、縱向收縮後的熱塑性薄膜的值。本來，縱向收縮處理中的表面粗糙度反映在摩擦力上，但縱向收縮處理前後由於表面粗糙度不變化，因此使用縱向收縮後的值。具有這種表面的薄膜可以通過後述的接觸輥制膜法來實現。其通過用表面平滑的輥由兩面挾持剛流延後的薄膜，與未使用其的情況相比，可以實現更高的平滑性、實現上述的表面粗糙度。進行這種縱向收縮時的輥的根數優選為2根~100根、更優選為3根50根、進一步優選為4根20根。優選輥的直徑優選為5cm100cm、更優選為10cm80cm、進一步優選為15cm60cm。而且，本發明中，優選在輥上固定薄膜兩端。"固定"是指使寬度方向的尺寸變化為10%以下。這可以通過在輥的兩端或整個寬度上施加靜電來進行，還可以使輥的兩端或整個面製成抽吸轉筒(suctiondrum)以吸引薄膜來進行。另外，還可以在輥上的端部或整個寬度上設置捏合輥來固定薄膜。捏合輥的根數優選在1根輥上設置1根~20根，更優選2根~10根。而且，還優選將輥製成擴展輥(expanderroll)。這些方法可以單獨實施，還可以組合實施。縱向收縮的溫度優選為玻璃化轉變溫度(Tg-20)°C~(Tg+50)°C、更優選為(Tg-10)°C~(Tg+40)°C、進一步優選為(Tg-5)°C~(Tg+35)°C。超過該範圍時，Re易於降低，Rth/Re易於超過l。另一方面，低於該範圍時，Rth、Re均不會降低，Rth/Re超過本發明的範圍。另外，不能充分地消除拉伸中的殘留形變，熱尺寸變化增大、漏光易於增加。這種縱向收縮可以向通過熱塑性薄膜的輥內部通入熱介質來進行加熱，也可以從設置於熱塑性薄膜上部的熱源(IR加熱器、滷素加熱器等)進行加熱，還可以在導入有調溫風的熱處理區域內實施。這種收縮處理所需要的時間並無特別限定，優選1秒鐘~10分鐘、更優選為5秒鐘~8分鐘、進一步優選為10秒鐘~5分鐘。如此獲得的熱塑性薄膜的Re優選為20nm300nm、更優選為30nm280nm、進一步優選為40nm250nm、特別優選為50nm150nm、最優選為70nm95nm。另外，本發明的熱處理後所得的熱塑性薄膜可以滿足用以下2式特定的區域的光學特性。Rth=(-3/8)Re+80Rth=(-3/8)Re+100(其中，Re為-10~150nm、特別優選50nm150nm、最優選70nm95nm。)以下依次說明本發明。(1)熱塑性薄膜的原材料本發明中使用的熱塑性薄膜並無特別限定，優選可以舉出醯化纖維素、含有內酯環的聚合物、環狀烯烴、聚碳酸酯。其中優選醯化纖維素、環狀烯烴，更優選含有乙酸酯基、丙酸酯基的醯化纖維素、通過加聚獲得的環狀烯烴，進一步優選通過加聚獲得的環狀烯烴。(a)醯化纖維素醯化纖維素例如可以使用日本特開2001-188128號公報、日本特開2006-142800號公報、日本特開2007-98917號公報所記載的醯化纖維素，總醯基取代度優選為2.13.0，乙醯基的取代度優選為0.05~2.5、更優選為0.05-0.5或1.5~2.5。丙醯基取代度優選為0.1~2.8、更優選為0.11.2或2,3~2.8。(b)環狀烯烴環狀烯烴優選由降冰片烯系化合物聚合而得到。該聚合可以通過開環聚合、加聚的任一種方法進行。加聚例如可以舉出日本專利3517471號公報記載的方法、日本專利3559360號公報、日本專利3867178號公報、日本專利3871721號公報、日本專利3907908號公報、日本專利3945598號公報、日本特表2005-527696號公報、日本特開2006-28993號公報、國際公開第2006/004376號小冊子所記載的方法。特別優選日本專利3517471號公報所記載的方法。開環聚合例如可以舉出國際公開第98/14499號小冊子、日本專利3060532號公報、日本專利3220478號公報、日本專利3273046號公報、日本專利3404027號公報、日本專利3428176號公報、日本專利3687231號公報、日本專利3873934號公報、日本專利3912159號公報所記載的方法。其中優選國際公開第98/14499號小冊子、日本專利3060532號公報記載的方法。這些環狀烯烴中更優選加聚得到的環狀烯烴。(c)含有內酯環的聚合物是指具有下述通式(1)所示的內酯環結構的聚合物。通式(1)中，R1、R2、R各自獨立地表示氫原子或碳原子數為1~20的有機殘基。有機殘基還可以含氧原子。通式(l)的內酯環結構的含有比例優選為590重量％、更優選為1070重量％、進一步優選為10~50重量°/。。除了通式(1)所示的內酯環結構以外，還優選將選自(甲基)丙烯酸酯、含羥基單體、不飽和羧酸、下述通式(2a)所示的單體中的至少1種進行聚合而構建的聚合物結構單元(重複結構單元)。CH2=C——R4(2a)通式(2a)中，W表示氫原子或甲基，X表示氫原子、碳原子數為120的烷基、芳基、-OAc基、-CN基、-C0-R5基或-C-0-R6基，Ac基表示乙醯基，RS和RS表示氫原子或碳原子數為120的有機殘基。例如可以使用國際公開第2006/025445號小冊子、日本特開2007-70607號公報、日本特開2007-63541號公報、日本特開2006-171464號公報、日本特開2005-162835號公報所記載的化合物。(d)聚碳酸酯系樹脂通過表面聚合法或熔融聚合法使二羥基成分與碳酸酯前體發生反應而獲得，例如可以優選使用日本特開2006-277914號公報所記載的物質或曰本特開2006-106386號公報、日本特開2006-284703號公報所記載的物質。(e)添加劑這些熱塑性薄膜中可以添加0~20質量％的垸基鄰苯二甲醯基垸基乙醇酸酯類、磷酸酯類、羧酸酯類、多元醇類作為增塑劑。可以添加03質量%的下述穩定劑磷酸鹽系穩定劑(例如三(4-甲氧基-3,5-二苯基)磷化物、三(壬基苯基)磷化物、三(2，4-二叔丁基苯基)磷化物)、苯酚系穩定劑(例如2,6-二叔丁基-4-甲基苯酚、2,2-亞甲基雙(4-乙基-6-叔丁基苯酚)、2,5-二叔丁基氫醌、季戊四醇四[3-(3,5-二叔丁基-4-羥基苯基)丙酸酯、4,4-硫代雙-(6-叔丁基-3-甲基苯酚)、l,l，-雙(4-羥基苯基)環己垸、十八烷基-3-(3,5-二叔丁基-4-羥基苯酚)丙酸酯]、環氧化合物、硫醚化合物)。可以添加01000ppm的二氧化矽、氧化鈦、二氧化鋯、氧化鋁、碳酸鈣、粘土等無機微粒、交聯丙烯酸、交聯苯乙烯等有機微粒作為消光劑。另外，還優選添加紫外線吸收劑(例如2,4-二羥基二苯甲酮、2-羥基-4-甲氧基二苯甲酮、2,2-亞甲基雙[4-(1,1,3，3-四甲基丁基)-6-[(2H-苯並三唑-2-基)苯酚]])或紅外線吸收劑、延遲調整劑。(2)熱塑性薄膜的制膜本發明中使用的薄膜可以使用熔融制膜、溶液制膜的任何方法，更優選利用熔融制膜法。(a)熔融制膜法i)造粒上述熱塑性樹脂與添加物優選在熔融制膜前進行混合併造粒。粒料化可以如下製作乾燥上述熱塑性樹脂和添加物後，使用雙螺杆混煉擠出機在150'C30(TC下熔融後，擠出成麵條狀，並將其在空氣中或水中固化、截斷，從而製作。另外，還可以通過利用擠出機熔融後在水中由模口直接擠出、同時進行剪切的水下剪切法來進行粒料化。擠出機可以使用單螺杆擠出機、非嚙合型不同方向旋轉雙螺杆擠出機、嚙合型不同方向旋轉雙螺杆擠出機、嚙合型相同方向旋轉雙螺杆擠出機等。擠出機的轉速優選為10rpm1000rpm、更優選為20rpm700rpm。擠出滯留時間為IO秒鐘以上但IO分鐘以內、更優選為20秒鐘5分鐘以內。優選的粒料大小優選為10mm3~1000mm3、更優選為30mm3~500mm3。ii)混煉熔融優選在熔融制膜前減少粒料中的水分。優選的千燥溫度為40~200°C、更優選為6015(TC。由此，含水率優選為1.0質量％以下、更優選為0.1質量％以下。乾燥後的粒料介由擠出機的供給口被供給至料筒內進行混煉、熔融。料筒內由供給口側開始依次由供給部(區域A)、壓縮部(區域B)、測量部(區域C)構成。擠出機的螺杆壓縮比優選為1.5~4.5、料筒長度與料筒內徑之比(L/D)優選為20~70、料筒內徑優選為30mm150mm。擠出溫度優選為19030(TC。為了防止由於殘存氧所導致的熔融樹脂的氧化，優選使擠出機內為不活性(氮氣等)氣流中來實施、或者在使用帶有通氣孔的擠出機進行真空排氣的同時來實施。過濾為了過濾樹脂中的雜質，優選設置組裝有斷路器板式的過濾或薄片型過濾器的過濾裝置。過濾可以1段進行，也可以多段過濾。過濾精度優選為15|im~3|im、更優選為10^im3^im。濾材優選使用不鏽鋼。濾材的構成可以使用編織線材的構成、也可以使用燒結金屬粉末的構成(燒結濾材)，其中優選燒結濾材。iv)齒輪泵為了減少噴出量的變動並提高厚度精度，優選在擠出機和口模之間設置齒輪泵。由此，可以使口模內的樹脂壓力變動幅度為±1%以內。為了提高利用齒輪泵帶來的定量供給性能，還可以使用改變螺杆的轉速、將齒輪泵前的壓力控制在恆定的方法。v)口模利用如上構成的擠出機來進行熔融，將熔融樹脂根據需要經由過濾機、齒輪泵連續地送至口模。口模可以是T口模、魚尾式口模、懸塗口模的任何類型。另外，為了樹脂溫度的均勻性提高，還優選就在口模前放入靜態混合機。T口模出口部分的間隙一般為膜厚的1.0~10倍、優選為1.25倍。口模優選能夠以550mm間隔調整厚度。另外，下述的自動厚度調整口模也是有效的計算下遊的薄膜厚度、厚度偏差，並將該結果反饋於口模的厚度調整。除了單層制膜裝置之外，還可以使用多層制膜裝置來製造。如此，從樹脂由供給口進入擠出機至離開口模的滯留時間優選為3分鐘40分鐘、更優選為4分鐘30分鐘。vi)流延在流延滾筒上冷卻固化從口模擠出至片材上的熔融樹脂(熔融物)，從而獲得薄膜。此時，優選遮擋口模和流延滾筒之間以抑制風的影響。熔融物接觸於流延滾筒時，優選使用靜電施加法、氣刀法、氣室(airchamber)法、吸氣嘴(vacuumnozzle)法、接觸輥法等來提高流延滾筒與熔融物的粘附，其中優選接觸輥法。這種粘附提高法可以在熔融物的整個面上實施，還可以在一部分上實施。接觸輥法是指在流延滾筒上放置接觸輥來對薄膜表面進行整形。此時，接觸輥並非通常的剛性高的輥，優選是具有彈性的輥。由此，可以通過過剩的面壓來抑制表面凹凸在本發明的範圍以下。因此，有必要使輥的外筒厚度薄於通常的輥，外筒的壁厚Z優選為0.05mm7.0mm、更優選為0.2mm5.0mm、進一步優選為0.3mm3.5mm。可以舉出下述接觸輥在金屬軸上放置接觸輥，在其間通入熱介質(流體)，在外筒和金屬軸之間設置彈性體層，在彈性體層和外筒之間充滿熱介質(流體)。利用接觸輥進行的擠壓越弱，則越可以降低Rth，從而優選，但過小時無法達成本發明的表面粗糙度，相反過大時則雖然表面粗糙度變小，但Rth易於增加。因此，接觸輥的面壓優選為0.1MPa5Mpa、更優選為0.2MPa3MPa、進一步優選為0.3MPa2MPa。這裡的面壓是指擠壓接觸輥的力除以熱塑性薄膜和接觸輥的接觸面積後得到的值。接觸輥的溫度優選設定為60'C16(rC、更優選設定為70。C15(TC、進一步優選設定為80°C~140°C。這種溫度控制可以通過在這些輥內部通入調溫了的液體、氣體來達成。如此，更優選在內部具有調溫機構。接觸輥的材質優選為金屬、更優選為不鏽鋼，還優選在表面實施鍍覆。18另一方面，在橡膠輥或以橡膠為襯套的金屬輥中，橡膠表面的凹凸過大、無法製成具有上述表面凹凸的熱塑性薄膜，從而不優選。接觸輥、流延輥的表面的算術平均高度Ra為100nm以下、優選為50nm以下、進一步優選為25nm以下。接觸輥例如可以使用日本特開平11-314263號公報、日本特開2002-36332號公報、日本特開平11-235747號公報、國際公開第97/28950號小冊子、日本特開2004-216717號公報、日本特開2003-145609號公報所記載的接觸輥。流延滾筒(輥)更優選使用多根並進行緩慢冷卻(其中，使用上述接觸輥時按照接觸於最上遊側(接近口模的一側)的最初流延輥的方式來配置)。一般使用3根冷卻輥就可以較好地進行，但並非局限於此。輥的直徑優選為100mm1500mm、更優選為150mm1000mm。多根輥的間隔以面間計優選為0.3mm300mm、更優選為lmm100mm、進一步優選為3mm30mm。流延滾筒優選為60°C~160°C、更優選為70°C150°C、進一步優選為80°C~140°C。之後，從流延滾筒上剝離，經過捏合輥後進行巻繞。巻繞速度優選為10m/分鐘100m/分鐘、更優選為15m/分鐘80m/分鐘、進一步優選為20m/分鐘70m/分鐘。制膜寬度優選為0.7m3m、更優選為lm2m。制膜後(未拉伸)的厚度優選為40^im300(am、更優選為6(Him250nm、進一步優選為80,200jim。vii)修整、增厚加工、巻繞還優選在如此拉伸制膜後將兩端進行修整。通過修整切落的部分破碎，可以再次作為原料來使用。另外，還優選在單側或兩端進行增厚加工(滾花處理)。利用增厚加工形成的凹凸的高度優選為lpm5(^m、更優選為3^im20pm。增厚加工可以是在兩面上形成凸起，也可以在單面上形成凸起。增厚加工的寬度優選為lmm50mm、更優選為3mm30mm。擠出加工可以在室溫300。C下實施。還優選在巻繞前在單面或兩面上粘上層疊膜。層疊膜的厚度優選為5pm10(^m、更優選為10pm~5(Him。材質為聚乙烯、聚酯、聚丙烯等，並無特別限定。優選的巻繞張力為2kg/m寬度50kg/m寬度、更優選為5kg/m寬度30kg/m寬度。(溶液制膜)i)溶解根據溶液制膜中使用的熱塑性樹脂來選擇溶劑，製備樹脂的高濃度溶液(濃液)。醯化纖維素、聚碳酸酯優選使用二氯甲烷系溶劑，例如可以使用日本特開2001-188128號公報的段落所記載的溶劑。另夕卜，為環烯烴時，可以使用二氯甲垸、烴系溶劑(甲苯、二甲苯、苯、環己烷等)，例如可以使用日本特開2007-108529號公報的段落所記載的溶劑。這些濃液中的熱塑性樹脂的濃度優選為5質量％~40質量％、更優選為10質量％~30質量％。此時，優選同時溶解上述添加劑。為了溶解，還可以使用冷卻、升溫法。冷卻、升溫法可以使用日本特開平11-323017號公報、日本特開平10-67860號公報、日本特開平10-95854號公報、日本特開平10-324774號公報、日本特開平11-302388號公報的方法。ii)溶液制膜將製備後的濃液暫時儲存並除去氣泡後，經過高精度泵(例如加壓型定量齒輪泵)送至加壓型口模，從模口(狹縫)均勻地流延至環形行走的流延部的支撐體(傳送帶、滾筒)上。此時，可以以單層流延、也可以以2種以上多層流延。在支撐體大致一周的剝離點處，剝離半乾的濃液膜(也稱為料片)。支撐體(傳送帶、滾筒)優選預先設置為-30'C3(TC。用夾具挾持剝離後的料片的兩端，在保持寬度的同時用拉幅機進行搬送乾燥，接著，用乾燥裝置的輥組進行搬送乾燥後，在修整後進行滾花(模具壓制)加工，然後利用巻繞機巻繞為規定的長度。制膜寬度優選為0.7m3m、更優選為lm2m。制膜後(未拉伸)的厚度優選為40pm~300|am、更優選為6(^m250^im、進一步優選為80,~200拜。這種溶液制膜還可以使用公開技法(公技號2001-1745、2001年3月15日發行、發明協會)所記載的方法。[拉伸工序]將如此熔融制膜、溶液制膜後得到的熱塑性薄膜進行橫向拉伸。優選的拉伸倍率為1.1倍~3倍、更優選為1.2倍~2.5倍、進一步優選為1.3倍~2.3倍。拉伸倍率是指拉伸後長度除以拉伸前長度而得到的值。拉伸溫度優選為(Tg-10)°C~(Tg+50)。C、更優選為(Tg-5)°C~(Tg+40)°C、進一步優選為Tg(Tg+30)°C。還優選在這種橫向拉伸的前後中的一個或兩者組合縱向拉伸。優選的縱向拉伸溫度為(Tg-10)°C(Tg+40)°C、更優選為Tg(Tg+20)°C。優選的拉伸倍率為1.05倍~2.5倍、更優選為1.1倍~1.8倍，優選小於橫向拉伸倍率、更優選為橫向拉伸倍率的0.8倍以下。這些拉伸有必要在不含殘留溶劑(0.1質量％以下)的狀態下實施。其原因在於，含有殘留溶劑時，產生來自薄膜面內的揮散不均，Rth/Re比的範圍(不均)增大。拉伸後的薄膜厚度優選為2(Vm150pm、更優選為30pm~12(^m、進一步優選為40jxm100^im。拉伸後的薄膜如上所述進行縱向收縮。這可以在拉伸後在線地進行，也可以在拉伸後暫時巻繞後進行。[薄膜的加工]如此獲得的本發明的熱塑性薄膜可以單獨使用，還可以將其與偏振片組合使用，還可以在其上設置液晶層或控制了折射率的層(低反射層)或硬塗層後使用。這可以通過以下工序達成。(表面處理)(1)醯化纖維素薄膜通過進行表面處理，可以提高與各功能層(例如下塗層和背層)的粘接。例如，可以使用輝光放電處理、紫外線照射處理、電暈處理、火焰處理、酸或鹼性皂化處理。這裡所說的輝光放電處理包括在10—320Torr(0.13~2700Pa)的低壓氣體下發生的低溫等離子體處理。另夕卜，大氣壓下的等離子體處理也是優選的輝光放電處理。其中特別優選鹼性皂化處理。鹼性皂化處理可以浸漬在皂化液中(浸漬法)、也可以塗覆皂化液(塗覆法)。浸漬法時，可以通過使NaOH或KOH等pH為10~14的水溶液在加熱至20'C8(TC的槽內經過0.1分鐘10分鐘後，進行中和、水洗、乾燥，從而達成。為塗覆法時，可以使用浸塗法、幕式淋塗法、擠出塗布法、棒塗法和E型塗覆法。鹼性皂化處理塗覆液的溶劑優選使用用於提高潤溼性的醇系溶劑，特別優選異丙醇。另外，還可以使用表面活性劑的水溶液作為溶劑。鹼性皂化塗覆液的鹼可以使用KOH、NaOH等。皂化塗覆液的pH優選為10以上，更優選為12以上。皂化條件優選室溫下5秒鐘~5分鐘，特別優選20秒鐘~3分鐘。皂化反應後優選進行水洗。可以連續進行塗覆式皂化處理和後述的取向膜的塗覆設置，可以減少工序數。這些皂化方法例如可以舉出日本特開2002-82226號公報、國際公開第02/46809號小冊子的內容所記載的方法。為了與功能層粘接，還優選設置下塗層。該層可以在上述表面處理後塗覆設置，也可以不進行表面處理而塗覆設置。下塗層的詳細情況記載於發明協會公開技報(公技號2001-1745、2001年3月15日發行、發明協會)的32頁。這些表面處理、下塗工序可以在制膜工序的最後加入，還可以單獨實施，還可以在後述的功能層賦予工序中實施。(2)醯化纖維素以外的本發明的熱塑性薄膜醯化纖維素以外的本發明的熱塑性薄膜可以使用輝光放電處理、紫外線照射處理、電暈處理、火焰處理、酸或鹼性處理。這裡所說的輝光放電處理包括在l(r3~20Torr(0.13~2700Pa)的低壓氣體下發生的低溫等離子體處理。另外，大氣壓下的等離子體處理也是優選的輝光放電處理。其中優選輝光放電處理、電暈處理、火焰處理，更優選電暈處理。為了與功能層粘接，還優選設置下塗層。該層可以在上述表面處理後進行塗覆設置，還可以不進行表面處理而塗覆設置。下塗層的詳細情況記載於發明協會公開技報(公技號2001-1745、2001年3月15日發行、發明協會)32頁。這些表面處理、下塗工序可以在制膜工序的最後加入，還可以單獨實施，還可以在後述的功能層賦予工序中實施。(功能層的賦予)在本發明的熱塑性薄膜上優選組合發明協會公開技報(公技號2001-1745、2001年3月15日發行、發明協會)3245頁詳細記載的功能性層。其中優選的是賦予偏振層(偏振片)、賦予光學各向異性層(光學補償層)、賦予防反射層(防反射膜)。光學各向異性層優選按照補償液晶顯示裝置的黑顯示時液晶單元中液晶性化合物的方式來設計。黑顯示時的液晶單元中的液晶性化合物的取向狀態根據液晶顯示裝置的模式而不同。該液晶單元中的液晶性化合物的取向狀態記載於IDWOO、FMC7-2的P411414等中。光學各向異性層在支撐體上直接由液晶性化合物形成，或者介由取向膜由液晶性化合物形成。取向膜優選具有10,以下的膜厚。光學各向異性層所用的液晶性化合物包括棒狀液晶性化合物和盤狀液晶性化合物。棒狀液晶性化合物和盤狀液晶性化合物可以是高分子液晶也可以是低分子液晶，而且還包括低分子液晶發生交聯從而不顯示液晶性的化合物。光學各向異性層可以通過將含有液晶性化合物和根據需要含有的聚合性引發劑或任意成分的塗覆液塗覆在取向膜上而形成。作為本發明的取向膜的優選例子記載於日本特開平8-338913號公報中。(棒狀液晶性化合物)作為棒狀液晶性化合物，優選使用偶氮甲鹼類、氧化偶氮類、氰基聯苯類、氰基苯基酯類、苯甲酸酯類、環己羧酸苯酯類、氰基苯基環己烷類、氰基取代苯基嘧啶類、垸氧基取代苯基嘧啶類、苯基二噁唑類、二苯乙炔類和鏈烯基環己基苄腈類。其中，棒狀液晶性化合物還包括金屬絡合物。另外，在重複單元中含有棒狀液晶性化合物的液晶聚合物也可以作為棒狀液晶性化合物來使用。即，棒狀液晶性化合物可以與(液晶)聚合物鍵合。棒狀液晶性化合物例如可以採用季刊化學總說第22巻液晶化學(1994)日本化學會編的第4章、第7章和第11章以及液晶設備手冊、日本學術振興會第142委員會編的第3章所記載的化合物。棒狀液晶性化合物的雙折射率優選為0.001-0.7的範圍。棒狀液晶性化合物為了固定其取向狀態，優選具有聚合性基團。聚合性基團優選不飽和聚合性基團或環氧基，更優選為不飽和聚合性基團、最優選烯鍵式不飽和聚合性基團。(盤狀液晶性化合物)盤狀液晶性化合物包括C.Destrade等人的研究報告(Mol.Cryst.71巻、111頁(1981年))所記載的苯衍生物、CDestrade等人的研究報告(Mo1.Cryst.122巻、141頁C1985年)、Physicslett,A，78巻、82頁(1990))所記載的三亞茚(tmxene)衍生物、B.Kohne等人的研究報告(Angew.Chem.96巻、70頁(1兆4年))所記載的環己烷衍生物和J.M，Lehn等人的研究報告(J.C.S.，Chem.Commun.,1794頁(1985年))、J.Zhang等人的研究報告(J.Am.Chem.Soc.116巻、2655頁U994年))所記載的氮雜冠類、苯基乙炔系大環。作為盤狀液晶性化合物，還包括相對於分子中心的母核，直鏈的垸基、烷氧基、取代苯甲醯氧基作為母核側鏈而取代成放射線狀結構的化合物。分子或分子的集合體優選為具有旋轉對稱性、可以賦予一定取向的化合物。由盤狀液晶性化合物形成的光學各向異性層的最終光學各向異性層所含化合物並非必須是盤狀液晶性化合物，例如還包括下述化合物低分子的盤狀液晶性分子具有由於熱和光而反應的基團，結果由於熱、光發生反應而聚合或交聯、高分子量化，從而失去液晶性。盤狀液晶性化合物的優選例子記載於日本特開平8-50206號公報中。另外，盤狀液晶性化合物的聚合在日本特開平8-27284號公報中有記載。為了通過聚合將盤狀液晶性化合物固定，有必要在盤狀液晶性化合物的圓盤狀芯上鍵合聚合性基團作為取代基。但是，當在圓盤狀芯上直接鍵合聚合性基團時，聚合反應中難以保持取向狀態。因此，在圓盤狀芯與聚合性基團之間引入連接基團。因而，具有聚合性基團的盤狀液晶性化合物優選為下述式(5)所示的化合物。通式(5)D(-LQ)r通式(5)中，D為圓盤狀芯、L為二價的連接基團、Q為聚合性基團、24r為412的整數。以下表示圓盤狀芯(D)的例子。以下各例中，LQ(或QL)表示二價連接基團(L)與聚合性基團(Q)的組合。CD1)(D2)formulaseeoriginaldocumentpage26(D15)通式(5)中，二價連接基團(L)優選為選自亞垸基、亞鏈烯基、亞芳基、-CO-、-NH-、-O-、-S-和它們的組合中的二價連接基團。二價連接基團(L)更優選為至少組合有2個選自亞垸基、亞芳基、-CO-、-NH-、-0-和-S-中的二價基團的二價連接基團。二價連接基團(L)最優選為至少組合有2個選自亞垸基、亞芳基、-CO-和-O-中的二價基團的二價連接基團。亞烷基的碳原子數優選為1~12。亞鏈烯基的碳原子數優選為212。亞芳基的碳原子數優選為6~10。以下示出二價連接基團(L)的例子。左側鍵合於圓盤狀芯(D)、右側鍵合於聚合性基團(Q)。AL表示亞垸基或亞鏈烯基、AR表示亞芳基。亞烷基、亞鏈烯基和亞芳基還可以具有取代基(例如烷基)。formulaseeoriginaldocumentpage28通式(5)的聚合性基團(Q)根據聚合反應的種類來決定。以下示出聚合性基團(Q)的例子。(Ql)(Q2)(Q3)—CH=CH2——C=CH—CH2—C3CH(Q4)Q5)(Q6)八——NH2——S03H-CH2—CH—CH2柳(Q8)(Q9)—C=CH2—CH=CH——CH3-N=C=SI(Qio)(QU)(Q12)—SH—CHO—OH(Q13)(Q14)(Q15)—C02H——n=C=0—CH-CH——C2H5(Q")(Q17)(Q18)^~CH=CH——n-C3H7—CH=C—CH3/\T——CH_CH2聚合性基團(Q)優選為不飽和聚合性基團(Ql、Q2、Q3、Q7、Q8、Q15、Q16、Q17)或環氧基(Q6、Q18)、更優選為不飽和聚合性基團、最優選為烯鍵式不飽和聚合性基團(Ql、Q7、Q8、Q15、Q16、Q17)。具體的r值根據圓盤狀芯(D)的種類來決定。多個L和Q的組合可以不同，但優選相同。混合取向中，盤狀液晶性化合物的長軸(圓盤面)與支撐體面所成的角度、即傾斜角在光學各向異性層的深度(即垂直於透明支撐體的)方向上，隨著與偏振膜面的距離的增加而增加或減少。角度優選隨著距離的增加而增加。而且，傾斜角的變化可以是連續增加、連續減少、間歇增加、間歇減少、包含連續增加和連續減少的變化或者包含增加和減少的間歇變化。間歇變化包含在厚度方向途中傾斜角不變化的區域。即便包含角度不變化的區域，只要作為整體發生增加或減少即可。但是，優選傾斜角連續地變化。盤狀液晶性化合物的長軸(圓盤面)的平均方向(各分子的長軸方向的平均)一般可以通過選擇盤狀液晶性化合物或取向膜的材料或者通過選擇摩擦處理方法來進行調整。另外，表面側(空氣側)的盤狀液晶性化合物的長軸(圓盤面)方向一般可以通過選擇盤狀液晶性化合物或與盤狀液晶性化合物一起使用的添加劑的種類來進行調整。與盤狀液晶性化合物一起使用的添加劑的例子可以舉出增塑劑、表面活性劑、聚合性單體和聚合物等。長軸的取向方向變化的程度與上述同樣，也可以通過液晶性化合物和添加劑的選擇來調整。與盤狀液晶性化合物一起使用的增塑劑、表面活性劑和聚合性單體優選與盤狀液晶性化合物具有相容性、並可以賦予盤狀液晶性化合物的傾斜角的變化或者不妨礙取向。添加成分中優選添加聚合性單體(例如具有乙烯基、乙烯氧基、丙烯醯氧基或甲基丙烯醯氧基的化合物)。上述化合物的添加量相對於盤狀液晶性化合物通常為1~50質量％的範圍、優選為530質量％的範圍。混合使用聚合性的反應性官能團數為4以上的單體時，可以提高取向膜和光學各向異性層之間的粘附性。上述光學各向異性層可以與盤狀液晶性化合物一起含有聚合物。該聚合物優選與盤狀液晶性化合物具有某種程度的相容性，並可以賦予盤狀液晶性化合物以傾斜角的變化。聚合物的例子可以舉出纖維素酯。纖維素酯的優選例子可以舉出醋酸纖維素、醋酸丙酸纖維素、羥丙基纖維素和醋酸丁酸纖維素。為了不妨礙盤狀液晶性化合物的取向，上述聚合物的添加量相對於盤狀液晶性化合物優選為0.1~10質量％的範圍、更優選為0.1~8質量％的範圍、進一步優選為0.1~5質量％的範圍。盤狀液晶性化合物的盤狀向列液晶相-固相轉變溫度優選為70~300°C、更優選為70~170°C。(液晶性分子的取向狀態的固定)可以將取向後的液晶性分子維持取向狀態來固定。固定化優選通過聚合反應來實施。聚合反應包括使用熱聚合引發劑的熱聚合反應和使用光聚合引發劑的光聚合反應。優選光聚合反應。在光聚合引發劑的例子中包括a-羰基化合物(美國專利2367661號、美國專利2367670號的各公報記載)、偶姻醚(美國專利24478828號公報記載)、a-烴取代芳香族偶姻化合物(美國專利2722512號公報記載)、多核醌化合物(美國專利3046127號、美國專利2951758號的各公報記載)、三芳基咪唑二聚物和對-氨基苯基酮的組合(美國專利3549367號公報記載)、吖啶和吩嗪化合物(日本特開昭60-105667號、美國專利4239850號的各公30報記載)和噁二唑化合物(美國專利4212970號公報記載)。光聚合引發劑的使用量優選為塗覆液固體成分的0.01-20質量％的範圍、更優選為0.5~5質量％的範圍。用於液晶性分子聚合的光照射優選使用紫外線。照射能量優選為20mJ/cn^50J/cn^的範圍、更優選為20mJ/cm25000mJ/cm2的範圍、進一步優選為100mJ/cm2800mJ/cm2的範圍。另外，為了促進光聚合反應，可以在加熱條件下實施光照射。還可以在光學各向異性層上設置保護層。上述光學各向異性層可以如下形成製備含有上述液晶性化合物的至少一種和根據需要的聚合性引發劑、氟系聚合物等添加劑的塗覆液，將該塗覆液塗覆在取向膜表面上並進行乾燥而形成。氟系化合物可以舉出以往公知的化合物，具體例如可以舉出日本特開2001-330725號公報說明書中的段落號所記載的氟系化合物等。用於塗覆液製備的溶劑優選使用有機溶劑。有機溶劑的例子包括醯胺(例如N,N-二甲基甲醯胺)、亞碸(例如二甲基亞碸)、雜環化合物(例如吡啶)、烴(例如苯、己烷)、烷基滷化物(例如氯仿、二氯甲烷、四氯乙烷)、酯(例如醋酸甲酯、醋酸丁酯)、酮(例如丙酮、丁酮)、醚(例如四氫呋喃、1,2-二甲氧基乙烷)。優選烷基滷化物和酮。可以並用2種以上的有機溶劑。製作均一性高的光學補償薄膜時，上述塗覆液的表面張力優選為25mN/m以下、更優選為22mN/m以下。塗覆液的塗覆可以通過公知的方法(例如擠出塗覆法、直接凹版塗覆法、逆向凹版塗覆法、口模塗覆法)來實施。(偏振膜)本發明的偏振片中可以使用的偏振膜優選以Optiva公司制的偏振膜為代表的塗覆型偏振膜、或者由粘合劑和碘或二色性色素所構成的偏振膜。偏振膜中的碘和二色性色素通過在粘合劑中取向而表現偏振性能。碘和二色性色素優選沿著粘合劑分子取向，或者二色性色素通過液晶那樣的的自身組織化而在一個方向上取向。常用的起偏器例如可以如下製作將拉伸後的聚合物浸漬在浴槽中的碘或二色性色素的溶液中，使碘或二色性色素滲透至粘合劑中，從而製作。常用的偏振膜從聚合物表面至4pm左右(兩側合起來為8pm左右)分布有碘或二色性色素，為了獲得充分的偏振性能，需要至少l(Him的厚度。滲透度可以通過碘或二色性色素的溶液濃度、同浴槽的溫度、同浸漬時間來控制。如上所述，粘合劑厚度的下限優選為10Pn。另一方面，厚度的上限並無特別限定，從在液晶顯示裝置中使用偏振片時發生的漏光現象的觀點出發，越薄越好。目前，常用偏振片優選為約3(Him以下、更優選為25pn以下、進一步優選為20pm以下。為20pm以下時，漏光現象在17英寸的液晶顯示裝置中觀察不到。偏振膜的粘合劑還可以交聯。交聯的粘合劑可以使用本身可以交聯的聚合物。可以通過光、熱和pH變化使具有官能團的聚合物或在聚合物中導入官能團而得到的粘合劑在粘合劑間發生反應，從而形成偏振膜。另外，可以通過交聯劑在聚合物中導入交聯結構。可以使用作為反應活性高的化合物的交聯劑，在粘合劑間導入來自交聯劑的鍵合基團，將粘合劑之間交聯，從而形成。交聯一般通過將含有聚合物或含有聚合物和交聯劑的混合物的塗覆液塗覆在透明支撐體上後進行加熱來實施。由於只要在最終商品階段可以確保持久性即可，因此使其交聯的處理可以在獲得最終偏振片前的任何階段進行。偏振膜的粘合劑可以使用其本身可以交聯的聚合物或可以通過交聯劑而交聯的聚合物的任一種。聚合物的例子包括聚甲基丙烯酸甲酯、聚丙烯酸、聚甲基丙烯酸、聚苯乙烯、明膠、聚乙烯醇、改性聚乙烯醇、聚(N-羥甲基丙烯醯胺)、聚乙烯基甲苯、氯磺化聚乙烯、硝基纖維素、氯化聚烯烴(例如聚氯乙烯)、聚酯、聚醯亞胺、聚醋酸乙烯酯、聚乙烯、羧甲基纖維素、聚丙烯、聚碳酸酯和它們的共聚物(例如丙烯酸/甲基丙烯酸聚合物、苯乙烯/馬來醯亞胺聚合物、苯乙烯/乙烯基甲苯聚合物、醋酸乙烯酯/氯乙烯聚合物、乙烯/醋酸乙烯酯聚合物)。優選水溶性聚合物(例如聚(N-羥甲基丙烯醯胺)、羧甲基纖維素、明膠、聚乙烯醇、改性聚乙烯醇)，更優選為明膠、聚乙烯醇、改性聚乙烯醇，最優選為聚乙烯醇、改性聚乙烯醇。聚乙烯醇、改性聚乙烯醇的皂化度優選為70~100%、更優選為80~100%、最優選為95~100%。聚乙烯醇的聚合度優選為100~5000。改性聚乙烯醇通過共聚改性、鏈轉移改性或嵌段聚合改性而在聚乙烯醇中導入改性基團而獲得。共聚改性中，可以引入-COONa、-Si(OH)3、N(CH3)3C1、C9H19COO-、-S03Na、-C12H25作為改性基團。鏈轉移改性中，可以引入-COONa、-SH、-SC12H25作為改性基團。改性聚乙烯醇的聚合度優選為1003000。改性聚乙烯醇在日本特開平8-338913號、日本特開平9-152509號和日本特開平9-316127號的各公報中有記載。特別優選皂化度為85~95%的未改性聚乙烯醇和垸基硫代改性聚乙烯醇。聚乙烯醇和改性聚乙烯醇可以並用2種以上。粘合劑的交聯劑多量添加時，可以提高偏振膜的耐溼熱性。但相對於粘合劑添加50質量％以上的交聯劑時，碘或二色性色素的取向性降低。交聯劑的添加量相對於粘合劑優選為0.1-20質量％、更優選為0.515質量％。粘合劑即便在交聯反應結束後，也在某種程度上含有未反應的交聯劑。但是，殘存的交聯劑的量優選為粘合劑中的1.0質量％以下、更優選為0.5質量％以下。粘合劑層中以超過1.0質量°/。的量含有交聯劑時，有時持久性產生問題。即，當將交聯劑的殘留量較多的偏振膜組裝於液晶顯示裝置中並長期使用或者高溫高溼氣氛下長時間放置時，有時發生偏振度的降低。交聯劑在美國再頒專利23297號公報中有記載。另夕卜，硼化合物(例如硼酸、硼砂)也可以作為交聯劑來使用。二色性色素可以使用偶氮系色素、二苯乙烯系色素、吡唑啉酮系色素、三苯基甲烷系色素、喹啉系色素、噁嗪系色素、噻嗪系色素或蒽醌系色素。二色性色素優選為水溶性。二色性色素優選具有親水性取代基(例如磺基、氨基、羥基)。二色性色素的例子包括C.I.直接黃12、C丄直接橙39、C丄直接橙72、C.I.直接紅39、C.I.直接紅79、C丄直接紅81、C.I.直接紅83、C.I.直接紅89、C.I.直接紫48、C.I.直接藍67、C.I.直接藍90、C.I.直接綠59、C.I.酸性紅37。二色性色素記載於日本特開平1-161202號、日本特開平l-172906號、日本特開平1-172907號、日本特開平1-183602號、日本特開平1-248105號、日本特開平1-265205號、日本特開平7-261024號各公報中。二色性色素作以游離酸、或鹼金屬鹽、銨鹽或胺鹽的形式使用。通過配合2種以上的二色性色素，可以製造具有各種色調的偏振膜。使用了在使偏振軸垂直時呈現黑色的化合物(色素)的偏振膜、或者按照呈現黑色的方式配合了各種二色性分子的偏振膜或偏振片的單板透射率和偏振率均優異，從而優選。為了提高液晶顯示裝置的對比度，優選偏振片的透射率高，優選偏振度也高。偏振片的透射率在波長550nm的光下優選為30~50%範圍、更優選為35~50%範圍、最優選為4050%範圍(偏振片的單板透射率的最大值為50%)。偏振度在波長550nm的光下優選為90~100%的範圍、更優選為95~100%的範圍、最優選為99~100%的範圍。可以介由粘接劑來配置偏振膜和光學各向異性層、或者偏振膜和取向膜。粘接劑可以使用聚乙烯醇系樹脂(包括乙醯乙醯基、磺酸基、羧基、利用氧化烯基的改性聚乙烯醇)或硼化合物水溶液。其中優選聚乙烯醇系樹脂。粘接劑層的厚度在乾燥後優選為O.Ol-lOpm的範圍、特別優選為0.055|im的範圍。(偏振片的製造)從合格率的觀點出發，偏振膜優選將粘合劑相對於偏振膜的長度方向(MD方向)傾斜1080度後進行拉伸(拉伸法)，或者在摩擦(摩擦法)後用碘、二色性染料進行染色。傾斜角度優選按照與粘貼在構成LCD的液晶單元兩側的2張偏振片的透射軸與液晶單元的縱向或橫方向所成的角度相對應的方式來進行拉伸。通常的傾斜角度為45度。但是，最近開發了在透射型、反射型和半透射型LCD中並非45度的裝置，拉伸方向優選可以對應LCD的設計任意地調整。在為拉伸法時，拉伸率優選為2.5-30.0倍、更優選為3.0~10.0倍。拉伸可以通過在空氣中的乾式拉伸來實施。另外，還可以實施浸漬於水中的狀態下的溼式拉伸。乾式拉伸的拉伸率優選為2.5-5.0倍、溼式拉伸的拉伸率優選為3.0-10.0倍。拉伸工序可以包含斜向拉伸並分數次進行。通過分成數次，即便進行高倍率拉伸也可更均勻地拉伸。斜向拉伸前，也可以在橫向或縱向上進行若干的拉伸(防止寬度方向收縮的程度)。這裡所說的拉伸率是指拉伸前在薄膜上標記標點，以其拉伸前長度(L)與拉伸後長度(L，)之比(L，/L)來表示。拉伸可以通過將雙軸拉伸中的拉幅機拉伸在左右不同的工序中進行來實施。上述雙軸拉伸與通常薄膜制膜中進行的拉伸方法相同。雙軸拉伸中，由於利用左右不同的速度進行拉伸，因此有必要使拉伸前的粘合劑薄膜的厚度左右不同。在流延制膜中，可以通過在口模上造成錐度，從而使粘合劑溶液的流量產生左右差異。如上所述，可以製造相對於偏振膜的MD方向傾斜10~80度並進行拉伸而得到的粘合劑薄膜。摩擦法中，可以應用作為LCD的液晶取向處理工序而廣泛採用的摩擦處理方法。即，通過將膜的表面用紙、紗布、毛氈、橡膠或尼龍、聚酯纖維在恆定方向上摩擦，從而獲得取向。一般來說，通過使用平均地植有長度和粗度均勻的纖維而成的布進行數次左右的摩擦來實施。優選使用輥本身的正圓度、圓柱度、偏差(偏芯)均為30pm以下的摩擦輥來實施。薄膜相對於摩擦輥的摩擦角度優選為0.1~90度。但如日本特開平8-160430號公報所述，通過巻繞360度以上，也可以獲得穩定的摩擦處理。將長條薄膜進行摩擦處理時，優選利用搬送裝置以恆定張力的狀態、1100m/min的速度來搬送薄膜。為了設定任意的摩擦角度，摩擦輥優選相對於薄膜行進方向在水平方向上可以自由旋轉。優選在0~60度的範圍內選擇適當的摩擦角度。用於液晶顯示裝置時，優選4050度、特別優選45度。可以將本發明的光學補償薄膜和偏振片用於各種模式的液晶顯示裝置。以下說明各液晶模式的光學各向異性層的優選形態。(TN模式液晶顯示裝置)TN模式的液晶單元是最多用作彩色TFT液晶顯示裝置的，記載於大量文獻中。TN模式的黑顯示時的液晶單元中的取向狀態為在單元中央部棒狀液晶性分子豎起、在單元的基板附近棒狀液晶性分子橫臥的取向狀態。對於單元中央部分的棒狀液晶性分子，可以用垂直取向(homeotropicalignment)(圓盤面橫臥的水平取向)的盤狀液晶性化合物或(透明)支撐體來補償，對於單元基板附近的棒狀液晶性分子，可以用混合取向(長軸的傾斜隨著與偏振膜的距離而變化的取向)的盤狀液晶性化合物來補償。對於單元中央部分的棒狀液晶性分子，可以用平行取向(homogeneousalignment)(長軸橫臥的水平取向)的棒狀液晶性化合物或(透明)支撐體來補償，對於單元基板附近的棒狀液晶性分子，也可以用混合取向的盤狀液晶性化合物來補償。垂直取向的液晶性分子在液晶性分子的長軸平均取向方向與偏振膜面所成角度為85~95度的狀態下取向。平行取向的液晶性分子在液晶性分子的長軸平均取向方向與偏振膜面所成角度小於5度的狀態下取向。對於混合取向的液晶性分子，優選液晶性分子的長軸平均取向方向與偏振膜面所成角度為15度以上、更優選為15度~85度。(透明)支撐體或盤狀液晶性化合物進行垂直取向的光學各向異性層、或棒狀液晶性化合物進行平行取向的光學各向異性層、以及由垂直取向的盤狀液晶性化合物和平行取向的棒狀液晶性化合物的混合體構成的光學各向異性層的Rth延遲值為40nm200nm、Re延遲值優選為070nm。垂直取向(水平取向)的盤狀液晶性化合物層和平行取向(水平取向)的棒狀液晶性化合物記載於日本特開平12-304931號和日本特開平12-304932號各公報中。混合取向的盤狀液晶性化合物層記載於日本特開平8-50206號公報中。(OCB模式液晶顯示裝置)OCB模式的液晶單元為在液晶單元的上部和下部使棒狀液晶性化合物沿基本相反的方向(對稱地)進行取向的彎曲取向模式的液晶單元。使用彎曲取向模式的液晶單元的液晶顯示裝置公開於美國專利4583825號、美國專利5410422號的各公報中。棒狀液晶性化合物由於在液晶單元的上部和下部對稱地進行取向，因此彎曲取向模式的液晶單元具有自我光學補償功能。因此，該液晶模式被稱作OCB(光學補償彎曲)液晶模式。OCB模式的液晶單元也與TN模式同樣，在黑顯示時，液晶單元中的取向狀態為單元中央部處棒狀液晶性化合物豎起、單元基板附近處棒狀液晶性化合物橫臥的取向狀態。由於黑顯示的液晶取向與TN模式為相同狀態，因此優選方式也與TN模式對應相同。但是與TN模式相比，OCB模式由於單元中央部處液晶性化合物豎起的範圍更大，因此對於盤狀液晶性化合物為垂直取向的光學各向異性層或者棒狀液晶性化合物為平行取向的光學各向異性層，有必要進行若干的延遲值調整。具體地說，(透明)支撐體上的盤狀液晶性化合物為垂直取向的光學各向異性層或棒狀液晶性化合物為平行取向的光學各向異性層的Rth延遲值優選為150nm500nm、Re延遲值優選為2070nm。(VA模式液晶顯示裝置)VA模式的液晶單元中，未施加電壓時棒狀液晶性化合物基本垂直地取向。VA模式的液晶單元中，除了(1)在未施加電壓時使棒狀液晶性化合物基本垂直地取向、施加電壓時使其基本水平地取向的狹義VA模式的液晶單元(日本特開平2-176625號公報記載)之外，還包括(2)為了擴大視角而將VA模式多疇化(MVA模式的)的液晶單元(SID97、Digestoftech.Papers(預稿集)28(1977)845記載)、(3)在未施加電壓時使棒狀液晶性化合物基本垂直地取向、施加電壓時使其扭曲多疇取向的模式(n-ASM模式)的液晶單元(日本液晶討論會的預稿集58-59(1998)記載)和(4)SURVAIVAL模式的液晶單元(LCDInternational98上發表)。VA模式的液晶顯示裝置在黑顯示時，液晶單元中的棒狀液晶性化合物幾乎全部為豎起的狀態，因此優選用盤狀液晶性化合物為垂直取向的光學各向異性層或者棒狀液晶性化合物為平行取向的光學各向異性層來補償液晶性化合物，另外，優選用棒狀液晶性化合物為平行取向、棒狀液晶性化合物的長軸平均取向方向與偏振膜的透射軸方向所成角度小於5度的光學各向異性層來補償偏振片的視角依賴性。盤狀液晶性化合物為垂直取向的光學各向異性層或棒狀液晶性化合物為平行取向的光學各向異性層的Rth延遲值優選為150nm500nm、Re延遲值優選為20~70nm。(其它液晶顯示裝置)對於ECB模式和STN模式的液晶顯示裝置，可以用與上述同樣的思考方法進行光學補償。(a)防反射層的賦予(防反射膜)可以在本發明的熱塑性薄膜上賦予防反射層。防反射膜一般是在透明基體上設置也作為防汙性層的低折射率層、以及具有高於低折射率層的折射率的至少一層的層(即高折射率層、中折射率層)而成。作為層疊有折射率不同的無機化合物(金屬氧化物等)的透明薄膜的多層膜，可以舉出下述方法使用化學蒸鍍(CVD)法、物理蒸鍍(PVD)法、烷氧基金屬等金屬化合物的溶膠-凝膠法來形成膠體狀金屬氧化物粒子覆膜後進行後處理(紫外線照射日本特開平9-157855號公報、等離子體處理日本特開2002-327310號公報)，從而形成薄膜。另一方面，作為生產率高的防反射膜，提出了各種將在基質中分散無機粒子而成的薄膜進行層疊塗覆而得到的防反射膜。還可舉出下述防反射膜由在利用上述塗覆形成的防反射膜上的最上層表面具有微細凹凸形狀且賦予了防眩性的防反射層構成的防反射膜。本發明的熱塑性薄膜可以適用於上述任何方式，特別優選的是利用塗覆的方式(塗覆型)。(a-l)塗覆型防反射膜的層構成在基體上由至少依次為中折射率層、高折射率層、低折射率層(最外層)的層構成而形成的防反射膜按照具有滿足以下關係的折射率的方式來設計。高折射率層的折射率>中折射率層的折射率>透明支撐體的折射率>低折射率層的折射率另外，透明支撐體和中折射率層之間還可以設置硬塗層。而且，可以由中折射率硬塗層、高折射率層和低折射率層構成。例如，可以舉出日本特開平8-122504號公報、日本特開平8-110401號公報、日本特開平10-300902號公報、日本特開2002-243卯6號公報、日本特開2000-111706號公報等。另外，還可以對各層賦予其它功能，例如可以舉出防汙性的低折射率層、防靜電性的高折射率層(例如日本特開平10-206603號公報、日本特38開2002-243906號公報等)等。防反射膜的霧度優選為5°/。以下、更優選為3%以下。另外，膜強度在根據JISK5400的鉛筆硬度試驗中優選為H以上、更優選為2H以上、最優選為3H以上。(a-2)高折射率層和中折射率層防反射膜的具有高折射率的層由至少含有平均粒子大小為100nm以下的高折射率無機化合物超微粒子和基質粘合劑的固化性膜而構成。高折射率的無機化合物微粒子可以舉出折射率為1.65以上的無機化合物，優選折射率為1.9以上的無機化合物。例如，可以舉出Ti、Zn、Sb、Sn、Zr、Ce、Ta、La、In等的氧化物、含有這些金屬原子的複合氧化物等。為了製成這種超微粒子，可以舉出用表面處理劑處理粒子表面的方法(例如矽垸偶聯劑等日本特開平11-295503號公報、日本特開平11-153703號公報、日本特開2000-9908號公報、陰離子性化合物或有機金屬偶聯劑日本特開2001-310432號公報等)、製成以高折射率粒子為芯的芯鞘結構的方法(日本特開2001-166104等)、與特定分散劑的並用(日本特開平11-153703號公報、美國專利第6210858號說明書、日本特開2002-2776069號公報等)等。形成基質的材料可以舉出以往公知的熱塑性樹脂、固化性樹脂覆膜等。另外，優選選自含有至少2個以上的自由基聚合性和/或陽離子聚合性的聚合性基團的含多官能性化合物的組合物、含有水解性基團的有機金屬化合物及其部分縮合物組合物中的至少1種組合物。例如可以舉出日本特開2000-47004號公報、日本特開2001-315242號公報、日本特開2001-31871號公報、日本特開2001-296401號公報等所記載的化合物。另外，還優選由烷氧基金屬的水解縮合物獲得的膠體狀金屬氧化物和由垸氧基金屬組合物獲得的固化性膜。例如記載於日本特開2001-293818號公報等中。高折射率層的折射率一般為1.702.20。高折射率層的厚度優選為5nm10(im、更優選為10nmljam。中折射率層的折射率按照處於低折射率層的折射率和高折射率層的折射率之間的值來調整。中折射率層的折射率優選為1.501.70。(a-3)低折射率層低射射率層依次層疊於高折射率層上而成。低折射率層的折射率為1.201.55。優選為1.301.50。優選製成具有耐擦傷性、防汙性的最外層來構建。作為大大提高耐擦傷性的方法，賦予表面以光滑性是有效的，可以適用以往公知的包括有機矽的導入、氟的導入等的薄膜層的方法。含氟化合物的折射率優選為1.35~1.50。更優選為1.36~1.47。另夕卜，含氟化合物優選為以35~80質量％的範圍含有氟原子且具有交聯性或聚合性官能團的化合物。例如，可以舉出日本特開平9-222503號公報說明書段落號、日本特開平11-38202號公報說明書段落號、日本特開2001-40284號公報說明書段落號、日本特開2000-284102號公報等所記載的化合物。有機矽化合物為具有聚矽氧烷結構的化合物，優選在高分子鏈中具有固化性官能團或聚合性官能團、在膜中具有交聯結構的化合物。例如，可以舉出反應性有機矽(例如SILAPLANE(Chisso株式會社制)、兩末端含有矽烷醇基的聚矽氧烷(日本特開平11-258403號公報等)等。具有交聯或聚合性基團的含氟和/或矽氧烷的聚合物的交聯或聚合反應優選如下實施在塗覆含有聚合引發劑、增感劑等且用於形成最外層的塗覆組合物的同時或塗覆之後進行光照射或加熱，從而實施。另外，還優選下述溶膠-凝膠固化膜通過在催化劑共存下的矽垸偶聯劑等有機金屬化物與含有特定含氟烴基的矽垸偶聯劑的縮合反應而發生固化。例如，可以舉出含有聚氟代垸基的矽垸化合物或其部分水解縮合物(曰本特開昭58-142958號公報、日本特開昭58-147483號公報、日本特開昭58-147484號公報、日本特開平9-157582號公報、日本特開平11-106704號公報記載等所記載的化合物)、含有作為含氟長鏈基的聚"全氟代烷基醚"基的甲矽烷化合物(日本特開2000-117902號公報、日本特開2001-48590號公報、日本特開2002-53804號公報所記載的化合物等)等。低折射率層可以含有填充劑(例如二氧化矽、含氟粒子(氟化鎂、氟化鈣、氟化鋇)等一次粒子平均粒徑為1150nm的低折射率無機化合物、日本特開平11-3820號公報的段落號所記載的有機微粒等)、矽烷偶聯劑、潤滑劑、表面活性劑等作為上述以外的添加劑。低折射率層位於最外層的下層時，低折射率可以通過氣相法(真空蒸鍍法、濺射法、離子鍍覆法、等離子體CVD法等)來形成。從可以廉價地製造的方面出發，優選塗覆法。低折射率層的膜厚優選為30200nm、更優選為50150nm、最優選為60~120nm。(a-4)硬塗層硬塗層為了賦予防反射膜以物理強度而設置在透明支撐體的表面上。特別優選設置在透明支撐體和上述高折射率層之間。硬塗層優選通過光和/或熱的固化性化合物的交聯反應或聚合反應來形成。作為上述固化性化合物，優選含有光聚合性官能團、並含有水解性官能團的有機金屬化合物優選為有機烷氧基甲矽烷化合物。這些化合物的具體例子可以舉出與高折射率層中示例的化合物同樣的化合物。硬塗層的具體構成組合物例如可以舉出日本特開2002-144913號公報、曰本特開2000-9908號公報、國際公開第00/46617號小冊子等記載的組合物。高折射率層可以兼作硬塗層。此時，優選使用高折射率層所記載的方法將微粒微細地分散並含有在硬塗層中來形成。硬塗層還可以兼作防眩層(後述)，該防眩層通過含有平均粒子大小為0.2~l(^m的粒子而賦予了防眩功能。硬塗層的膜厚可以根據用途來適當地設計。硬塗層的膜厚優選為0.210pm、更優選為0.5~7|im。硬塗層的強度在根據JISK5400的鉛筆硬度試驗中優選為H以上、更優選為2H以上、最優選為3H以上。另外，在根據JISK5400的錐度試驗中，優選試驗前後的試驗片的磨耗量少。(a-5)前方散射層前方散射層是為了在適用於液晶顯示裝置時賦予使視角在上下左右方向上傾斜時的視角改良效果而設置的。通過在上述硬塗層中分散折射率不同的微粒，還可以兼具硬塗層功能。例如，可以舉出將前方散射係數特定化了的日本特開平11-38208號公報、使透明樹脂和微粒的相對摺射率在特定範圍內的日本特開2000-199809號公報、使霧度值規定為40%以上的日本特開2002-107512號公報等。(a-6)其它層除了上述層之外，還可以設置等離子體層、防靜電層、下塗層或保護層等。(a-7)塗覆方法防反射膜的各層可以利用浸塗法、氣刀塗覆法、幕式淋塗法、輥塗法、繞線棒塗覆法、凹版塗覆法、微凹版法、擠出塗布法(美國專利第2681294號說明書)通過塗覆來形成。(a-8)防眩功能防反射膜可以具有散射外光的防眩功能。防眩功能通過在防反射膜表面上形成凹凸而獲得。防反射膜具有防眩功能時，防反射膜的霧度優選為3~30%、更優選為5~20%、最優選為7~20%。在防反射膜表面形成凹凸的方法只要是可以充分保持它們表面形狀的方法，則可以使用任何方法。例如在低折射率層中使用微粒在膜表面形成凹凸的方法(例如日本特開2000-271878號公報等)、在低折射率層的下層(高折射率層、中折射率層或硬塗層)中添加少量(0.1~50質量％)較大粒子(粒子大小為0.052^im)而形成表面凹凸膜，並在其上維持它們形狀來設置低折射率層的方法(例如日本特開2000-281410號公報、日本特開2000-95893號公報、日本特開2001-100004號公報、日本特開2001-281407號公報等)、將最上層(防汙性層)物理地轉印凹凸形狀至塗覆設置後的表面上的方法(例如壓花加工方法，記載於日本特開昭63-278839號公報、日本特開平11-183710號公報、日本特開2000-275401號公報等)等。以下記載本發明中使用的測定法。(1)Rth/Re比、Rth/Re比的範圍(a)將製成薄膜的兩端各剪切5cm後，在整個寬度上以等間隔採集20個樣品(3cmx3cm的正方形)。此時，在MD(制膜方向)、TD(寬度方向)上平行地剪切正方形的各邊。(b)在25°C、相對溼度60%下調溼樣品膜5小時以上後，使用自動雙折射計(KOBRA-21ADH:王子計測器株式會社制)，在25。C、相對溼度60%下，如上所述，從相對於樣品膜表面垂直的方向和從薄膜面法線每隔10°傾斜至50。的方向上，測定波長550nm下的延遲值。(c)由垂直(法線)方向計算面內的延遲值(Re)、由垂直方向、土10。50。方向的測定值計算厚度方向的延遲值(Rth)。(d)將這些各測定點的Rth/Re比的平均值作為"Re/Rth比"。另外，將20點的Rth/Re比中最大值與最小值之差作為"Rth/Re比的範圍"。(2)熱尺寸變化、熱尺寸變化不均(a)在整個寬度上將下述樣品5等分，進行採樣。i)MD樣品MD15cmxTD5cmii)TD樣品TD15cmxMD5cm(b)在25〔、60%相對溼度下調溼各樣品3小時以上，在此環境中使用基長為10cm的栓規測量長度。將其作為L1。(C)將各樣品放置在8CTC乾燥的環境下200小時後，在25'C、60%相對溼度下調溼3小時以上，在此環境中使用基長為10cm的栓規測量長度。將其作為L2。(d)由下述式測定MD、TD的各點(10點)的熱尺寸變化，將其平均值作為熱尺寸變化。熱尺寸變化(％)=100x|L2-Ll|/Ll(e)將上述10點中的熱尺寸變化(絕對值)的最大值與最小值之差除以10點的熱尺寸變化的平均值並以百分率表示，將其作為熱尺寸變化不均。(3)表面粗糙度使用小型雷射幹涉計(FUJINON株式會社制，F601)來測定Ra。(4)玻璃化轉變溫度(Tg)將樣品20mg放入掃描型示差熱量計(DSC)的測定盤中。將其在氮氣流中以1(TC/分鐘的速度從3(TC升溫至25(rC後(第一次)、以-l(TC/分冷卻至30。C。之後，再次從30'C升溫至25(TC(第二次)。將第二次中基線從低溫側開始偏離的溫度作為玻璃化轉變溫度(Tg)。以下舉出實施例和比較例來更具體地說明本發明的特徵。以下實施例所示的材料、使用量、比例、處理內容、處理順序等只要不脫離本發明主旨，可以適當變更。因此，本發明的範圍並非局限於以下所示具體例子。1.未拉伸薄膜的製備(1)醯化纖維素系薄膜(a)熔融制膜薄膜製備日本特開2007-98917的實施例1的醋酸丙酸纖維素薄膜(厚度為100pm)。將其作為薄膜tfCM。其Tg為146X:。根據日本特開2007-169588號公報的實施例B的實施例101來製備醯化纖維素薄膜(厚度-10(^m、Tg=131°C)。將其作為薄膜弁CN。(b)溶液制膜薄膜製備日本特開2001-188128的實施例1所記載的薄膜No.l(醋酸丙酸纖維素厚度10(Hmi)。將其作為薄膜弁CS。其Tg為15(TC。(2)環烯烴系薄膜(a)熔融制膜薄膜使用下述樹脂來實施熔融制膜。樹脂A:Polyplastics株式會社制TOPAS6013(Tg=130°C)樹脂B:三井化學株式會社制APEL6015T(Tg=145°C)樹脂C:W098/14499的實施例1的化合物(Tg=136°C)樹脂D:日本特開2007-108529實施例中的合成例1所記載的"樹脂A畫1"(Tg=165。C)樹脂E:三井化學株式會社制APEL6013T(Tg=125°C)在ll(TC的真空乾燥機中乾燥這些樹脂，使含水率達到0.1%以下後，使用單螺杆混煉擠出機在26(TC下進行熔融，由齒輪泵送出後，使用過濾精度為5i_im的盤式過濾器進行過濾，經由靜態混合機後，從狹縫間隔為0.8mm、270。C的懸塗口模中將熔融物(熔融樹脂)擠出至設定為(Tg-5)°C、Tg°C、(Tg-10)'C的3個連續流延輥上。此時，以下述面壓使接觸輥接觸於最上遊側的流延輥，製成厚度為100(im的未拉伸薄膜。接觸輥使用日本特開平11-235747號公報的實施例1所記載的輥(記為雙層壓延輥的輥)，並調溫至Tg-5'C(但薄壁金屬外筒厚度為2mm)。之後，在剛要巻繞之前將兩端(整個寬度的各3%)修整後，在兩端進行寬度為10mm、高度為20iim的增厚加工(滾花)。各標準均為以寬度1.5m在30m/分鐘下巻繞3000m。接觸輥壓薄膜^0M1樹脂A(加聚系)0MPa(不使用接薄膜#01^2樹脂A(加聚系)O.lMPa薄膜#0!^3樹脂A(加聚系)IMPa薄膜^0M4樹脂A(加聚系)4.5MPa薄膜A0M5樹脂A(加聚系)6MP3薄膜gOM6樹脂B(加聚系)IMPa薄膜弁OM7樹脂C(開環聚合系)IMPa薄膜#01^18樹脂D(開環聚合系)IMPa薄膜gOM9柳旨E(加聚系)IMPa(b)溶液制膜薄膜根據日本特開2007-108529號公報記載的製造例來製備厚度為100pm的薄膜弁OS。其使用與上述薄膜弁OM8相同的樹脂，Tg為165t:。2.橫向拉伸、縱向收縮以表l-l表l-4、表2-1~表2-3的倍率、在Tg+5。C下將上述未拉伸薄膜在橫方向上進行拉幅機拉伸。之後，以表1-1~表1-4記載的方法進行縱向收縮。縱向收縮是在配置有10根直徑40cm輥的熱處理區域內進行的，以使得達到表l-l表1-4、表2-l表2-3所記載的G/D。另外，一部分的標準為在橫向拉伸前在Tg+10'C下以表1-1~表1-4、表2-1~表2-3記載的拉伸倍率來進行縱向拉伸。表中，縱向拉伸倍率=1是指未進行縱向拉伸。通過上述方法對如此進行橫向拉伸、縱向收縮後的熱塑性薄膜測定Re(寬度20點的平均值)、Rth/Re比、Re/Rth比的範圍、表面粗糙度、熱尺寸變化、熱尺寸變化不均、擦傷劃痕，並記載於表1-1~表1-4、表2-1~表2-3。擦傷劃痕為目視檢查100m來評價強弱。另外，對於實施本發明的例子，與日本特開2007-108529號公報的實施例1同樣地測定的取向角均為90±1°，且慢軸為TD取向。表l-l表1-4中，作為熱尺寸變化率，記載了如上在80°C200小時下的測定值，但與將時間延長至500小時來進行熱處理的值基本相同。另外，表1-1~表1-4的本發明1-2728為在與本發明1-2相同的條件下在縱向收縮處理時在輥上固定了薄膜的例子。本發明l-27在兩端部(各整個寬度的5%)施加靜電(邊緣噴砂(日語原文為工、乂^匕。二y夕、'))來固定薄膜。為此，使用春日電機制靜電邊緣噴砂裝置(直流穩定化電源PSE-2005N和電極HDE-20R-54)，在噴砂電壓為-10kV下實施。本發明1-28通過將輥製成抽吸轉筒來固定薄膜整個寬度。本發明1-29中在輥上將輥徑的1/10的捏合輥(輥徑-X)針對接觸於輥上的長度(摩擦長度-Y)而設置Y/X根。另外，捏合輥使用整個寬度的5%長度的輥，並設置在兩端。3.表面處理(1)醯化纖維素薄膜在2.0N的氫氧化鉀溶液(25°C)中浸漬2分鐘後，用硫酸中和，並用純水洗滌、乾燥。通過接觸角法求得該PK-1的表面能量，結果均為6065mN/m。(2)醯化纖維素薄膜以外的薄膜在下述條件下進行電暈放電處理。電極VETAPONE公司制Coron-Plus發生器CP1C輸出功率900W薄膜搬送速度6m/分鐘4.光學各向異性層用取向膜的製作在這些熱塑性薄膜上使用#16的繞線棒塗覆機以28mL/n^塗覆下述組成的塗覆液。用60。C的熱風乾燥60秒鐘、再用卯。C的熱風乾燥150秒鐘。(O取向膜塗覆液組成下述的改性聚乙烯醇水甲醇戊二醛(交聯劑)20質量份360質量份120質量份1.0質量份改性聚乙烯醇OHO"CCKH.(2)光學各向異性層的製作在取向膜上以1171轉使約.2繞線棒在與薄膜搬送方向相同的方向上旋轉，從而將下述塗覆液連續地塗覆在以30m/分鐘搬送的上述輥薄膜的取向膜面上。在從室溫連續加熱至IO(TC的工序中，將溶劑乾燥，之後在135。C的乾燥區域中，按照對著盤狀液晶化合物層的膜面風速與薄膜搬送方向平行且為1.5m/秒鐘的方式加熱約90秒鐘，從而使盤狀液晶化合物取向。接著，搬送至8(TC的乾燥區域，在薄膜的表面溫度約IO(TC的狀態下通過紫外線照射裝置(紫外燈輸出功率為160W/cm、發光長為1.6m)，照射4秒鐘的照度為600mW的紫外線，進行交聯反應，從而將盤狀液晶化合物固定在其取向上。之後，放冷至室溫，巻繞成圓筒狀，製成輥狀的形態。光學各向異性層的厚度為1.3pm。另外，測定所得光學補償薄膜的彈性模量時，結果為2.4MPa。(光學各向異性層的塗覆液組成)將下述組合物溶解在97質量份的丁酮中來製備下述化學式的盤狀液晶性化合物(1)環氧乙烷改性三羥甲基丙烷三丙烯酸酯(V#360、大阪有機化學株式會社制)醋酸丁酸纖維素(CAB551-0.2、EastmanChemicals公司制)醋酸丁酸纖維素(CAB531-1、EastmanChemicals公司制)下述化學式的含有氟代脂肪基的聚合物1下述化學式的含有氟代脂肪基的聚合物2光聚合引發劑(hW力、年二7—907、Ciba-geigy公司制)增感劑(力卞年二7—DETX、日本化藥株式會社制)盤狀液晶性化合物(1)含有氟代脂肪基的聚合物l(a/b=90/10wt%)41.01質量份4.06質量份0.34質量份0.11質量份0.56質量份0.06質量份1.35質量份0.45質量份含有氟代脂肪基的聚合物2(a/b=98/2wt%)CH廠CH-CH2—CH_,Cf^亂H0'OH使偏振片為正交尼科耳配置，觀察所得光學補償片的不均，結果無論從正面還是從法線傾斜至60度的方向上觀察，均未觀察到不均。(3)偏振片的製作將厚度為80,的聚乙烯醇(PVA)薄膜在3(TC下浸漬在碘濃度為0.05質量％的碘水溶液中60秒鐘，進行染色，接著，在浸漬於硼酸濃度為4質量％濃度的硼酸水溶液中60秒鐘的期間縱向拉伸至原來長度的5倍，然後在5(TC下乾燥4分鐘，獲得厚度為20pm的偏振膜。將光學補償片浸漬於1.5摩爾/L的55。C的氫氧化鈉水溶液中後，用水充分地洗去氫氧化鈉。之後，在0.005摩爾/L的35'C的稀硫酸水溶液中浸漬1分鐘後，浸漬於水中，充分地洗去稀硫酸水溶液。最後在12(TC下將試樣充分地乾燥。將如上迸行了皂化處理的光學補償片與同樣進行了皂化處理的市售醯化纖維素薄膜組合，按照挾持上述偏振膜的方式，使用聚乙烯醇系粘接劑進行粘貼，獲得偏振片。這裡，作為市售的醯化纖維素薄膜，使用FujitacTF80UL(富士膠片株式會社制)。此時，偏振膜和偏振膜兩側的保護膜由於以輥形態製作，因此各輥薄膜的長度方向平行，並連續地粘貼。因此，光學補償片輥長度方向(醯化纖維素薄膜的流延方向)與起偏器吸收軸成為平行的方向。5.TN液晶面板的評價將設置於使用了TN型液晶面板的液晶顯示裝置(MDT-191S、三菱電機株式會社制)的一對偏振片剝離，取而代之，將上述製作的偏振片介由粘著劑粘貼在觀察者側和背光側，每側各為一張，並使光學補償片成為液晶單元側。觀察者側的偏振片的透射軸與背光側的偏振片的透射軸配置成O模式。如此製作的TN液晶面板在80。C下乾燥熱處理200小時。熱處理後，在25"C、60%相對溼度下調溫、調溼8小時後，對液晶顯示裝置實施下述評價。(a)對比度、對比度不均在通常的室內螢光燈照明下，使用分光放射亮度計，測定從液晶顯示裝置的下側透射的亮度。此時的觀察角度在將液晶顯示裝置水平放置的狀態下，在偏離法線080。的方向上以每10。固定極角，在各個角度上以每10。改變液晶顯示裝置的方位角，同時測定液晶顯示裝置開、關時的亮度，計算作為開、關時亮度比的對比度比。從全方位對全部極角、方位角的對比度比加合後得到的值進行點數評價，並作為對比度記載於表1-1~表1-4、表2-l表2-3。另外，將畫面整個區域等分IOO份得到的點進行該測定，評價用對比度的最大值與最小值之差除以平均值並以百分率表示的對比度不均。(b)漏光使液晶顯示裝置進行黑顯示，求出用目視可以確認漏光的範圍，以相對於顯示畫面總面積的百分率表示將該面積。(c)評價結果表I-l表1-4表示了縱向收縮處理等工序條件的研究結果。本發明1-1~1-7、比較例1-1~1-2顯示了縱向收縮下的G/D比的效果，低於本發明範圍的比較例1-1的Rth/Re比的範圍增大、對比度不均增大。另外，熱尺寸變化增大、漏光也增大。另外，G/D比超過本發明範圍時，如比較例1-2所示，Rth/Re比增大、對比度降低。另一方面，G/D比為本發明範圍內的例子顯示了良好的特性。本發明1-81-10、本發明1-23、1-24、比較例1-3、l-4顯示了V2/Vl的效果。V2/V1超過本發明範圍時，如比較例1-3所示，Rth/Re比增加、對比度降低。V2/V1低於本發明範圍時，熱尺寸變化變得過小，漏光增加、縱向收縮處理中的擦傷劃痕也增加。另一方面，V2/V1為本發明範圍內的例子顯示了良好的特性。本發明1-11-1-14顯示了縱向收縮溫度的效果。優選(Tg-20)°C~(Tg+50)°C，超過該範圍時，顯示了Rth/Re比易於增大、對比度降低的傾向。低於上述溫度範圍時，不僅無法降低Rth/Re，而且熱尺寸變化也易於增大，顯示了對比度降低、漏光增加的傾向。另一方面，縱向收縮處理溫度在本發明範圍內的例子顯示了良好的特性。本發明1-15~1-19顯示了改變接觸輥條件、改變表面粗糙度的結果。表面粗糙度過小時，與輥的摩擦過強，如本發明1-19所示，發生擦傷劃痕。表面粗糙度大時，如本發明115所示，Rth/Re比、Rth/Re比的範圍增加、對比度稍有降低、對比度不均稍有增加。另一方面，表面粗糙度為0.00050.004的例子顯示了良好的特性。本發明l-20l-22顯示了拉伸倍率的效果。本發明的優選範圍(1.1倍~3.0倍)下顯示了良好的性能，但3.1倍拉伸的本發明1-22中，Rth/Re比和熱尺寸變化增加，對比度不均和漏光稍有增加。本發明1-2、1-27、1-28、l-29顯示了在縱向收縮時固定兩端的效果。與未固定兩端的本發明1-2相比，固定了兩端的本發明1-27、1-28、1-29(分別為邊緣噴砂法、抽吸轉筒法、捏合輥法)的液晶顯示特性(對比度不均、漏光)有所改善。表2-l表2-3顯示了薄膜種類的效果。進行熔融制膜法間的薄膜材料間的比較。本發明2-3、2-4、2-13的加聚系環烯烴的Re表現性高、Rth/Re比的範圍低、對比度不均和漏光少，特別優異。下一個優異的是本發明2-5、2-6所示的開環聚合系的環烯烴。它們與加聚系(本發明2-3、2-4)相比，Rth/Re比的範圍和熱尺寸變化增加，對比度不均和漏光稍有增加。本發明2-l、2-2、2-12的醯化纖維素與加成、開環聚合的環烯烴相比，Re難以表現，而且Rth/Re比的範圍和熱尺寸變化增加，對比度稍有降低，對比度不均和漏光稍有增加。將使用含有內酯環的聚合物、聚碳酸酯系聚合物來實施本發明時的例子示於本發明2-8~2-10中。聚碳酸酯根據日本特開2006-277914的實施例1、日本特開2006-284703的實施例1來製備(但是，後者在不進行縱向拉伸的情況下來製備未拉伸薄膜)。含有內酯環的聚合物根據國際公開第2006/025445號小冊子記載的實施例1來進行制膜。但以薄膜寬度為1.5m來進行制膜。以這些坯片(未拉伸薄膜)的厚度全部為100pm進行製備。它們也獲得了良好的特性，按照本發明2-10、2-8、2-9的順序獲得良好的結果。比較制膜法的例子為本發明2-1和2-2(醯化纖維素)、本發明2-6、2-7(環烯烴)，與熔融制膜法相比，均是溶液制膜法可以更稍為降低Rth/Re比的範圍和熱尺寸變化，可以更稍降低對比度不均和漏光。本發明2-7和比較例2-1是對在相同薄膜之間進行本發明的縱向收縮的方法及日本特開2007-108529號公報記載的實施例1的方法(同時使用雙軸拉伸機，在橫向拉伸的同時在拉幅機內進行縱向收縮)進行了比較。本發明2-7可以減小Rth/Re比的範圍和熱尺寸變化，結果可以顯著減小對比度不均和漏光。比較例2-2為根據日本特開2006-133720號公報記載的實施例1，在將ZEONOR(Tg=136°C)進行橫向拉伸的同時縱向收縮。另一方面，本發明2-11是在以與比較例2-2同樣的橫向拉伸倍率、如本發明所示橫向拉伸後，根據本發明的條件(G/D)在輥上進行縱向收縮。本發明2-8可以減小Rth/Re比的範圍和熱尺寸變化，結果可以顯著減小對比度不均和漏光。[表l陽l]tableseeoriginaldocumentpage53[表1-2]tableseeoriginaldocumentpage54熱收縮G/W*:在輥上施加靜電(邊緣噴砂)來固定薄膜兩端**:在輥上用抽吸轉筒吸引整個面來固定薄膜***:在輥上用捏合輥擠壓兩端來固定薄膜[表1-3]tableseeoriginaldocumentpage55[表1-4]tableseeoriginaldocumentpage55[表2-1]tableseeoriginaldocumentpage56*PC-1:根據日本特開2006-277914號公報的實施例1來製備PC-1:根據日本特開2006-284703號公報的實施例1來製備內酯根據國際公開第2006/025445號小冊子的實施例1來製備[表2-2]tableseeoriginaldocumentpage57縱向收縮G/W*比較例2-1:根據日本特開2007-108529號公報的實施例1，使用雙軸拉伸機同時實施**比較例2-2:根據日本特開2006-133720號公報的實施例1，使用雙軸拉伸機同時實施(同時進行TD拉伸和縱向收縮)[表2-3]tableseeoriginaldocumentpage586.其它液晶顯示元件的製作將本發明的偏振片用於日本特開平10-48420號公報的實施例1記載的液晶顯示裝置、日本特開平9-26572號公報的實施例1記載的含有盤狀液晶分子的光學各向異性層、塗覆有聚乙烯醇的取向膜、日本特開2000-154261號公報的圖2~9所記載的20英寸VA型液晶顯示裝置、日本特開2000-154261號公報的圖10~15所記載的20英寸OCB型液晶顯示裝置、日本特開2004-12731號公報的圖11所記載的IPS型液晶顯示裝置中。而且，將本發明的低反射膜粘貼在這些液晶顯示裝置的最表層後進行評價，結果獲得良好的液晶顯示元件。7.低反射膜的製作根據發明協會公開技報(公技號2001-1745)的實施例47，將本發明的拉伸熱塑性薄膜製成低反射膜，結果獲得良好的光學性能。權利要求1.熱塑性薄膜的熱處理方法，其特徵在於，在橫方向上拉伸熱塑性薄膜後，將該薄膜用2根以上的搬送用輥在入口側的搬送速度V1和出口側的搬送速度V2之比V2/V1為0.6～0.999下在熱處理區域中搬送，所述熱處理區域按照輥搭接長度D與輥間長度G之比G/D為0.01～3的方式來配置。2.權利要求1所述的熱塑性薄膜的熱處理方法，其特徵在於，所述輥搭接長度D與輥間長度G之比G/D為0.050.9。3.權利要求1所述的熱塑性薄膜的熱處理方法，其特徵在於，在輥上固定薄膜的兩端。4.權利要求1所述的熱塑性薄膜的熱處理方法，其特徵在於，在玻璃化轉變溫度(Tg-20)°C~(Tg+50)。C下進行熱處理。5.權利要求1所述的熱塑性薄膜的熱處理方法，其特徵在於，所述橫方向的拉伸即橫向拉伸的倍率為1.1倍3倍。6.權利要求1所述的熱塑性薄膜的熱處理方法，其特徵在於，所述熱塑性薄膜由醯化纖維素、環烯烴、含有內酯環的聚合物或聚碳酸酯系聚合物構成。7.權利要求1所述的熱塑性薄膜的熱處理方法，其特徵在於，所述熱塑性薄膜是通過熔融制膜法製成的。8.權利要求1所述的熱塑性薄膜的熱處理方法，其特徵在於，所述熱塑性薄膜的表面粗糙度Ra為0.005^im0.04^im。9.權利要求1所述的熱塑性薄膜的熱處理方法，其特徵在於，所述熱塑性薄膜是通過接觸輥制膜法製成的。10.權利要求1所述的熱塑性薄膜的熱處理方法，其特徵在於，所述熱處理後的熱塑性薄膜的Re為50150nm。11.熱塑性薄膜，其特徵在於，厚度方向的延遲/面內的延遲Rth/Re比為0.5以上但小於1，在寬度方向上測定的厚度方向的延遲/面內的延遲Rth/Re比的範圍為0.010.1，在80°C、200小時下的熱尺寸變化為0.001°/。0.3%。12.熱塑性薄膜的製造方法，其特徵在於，在橫方向上拉伸熱塑性薄膜後，將該薄膜用2根以上的搬送用輥在入口側的搬送速度VI和出口側的搬送速度V2之比V2/V1為0.6~0.999下在熱處理區域中搬送，所述熱處理區域按照輥搭接長度D與輥間長度G之比G/D為0.01~3的方式來配置。全文摘要本發明提供熱塑性薄膜的熱處理方法、熱塑性薄膜及其製造方法，在所述熱塑性薄膜的熱處理方法中，在橫方向上拉伸熱塑性薄膜後，將所述薄膜在入口側的搬送速度V1和出口側的搬送速度V2之比V2/V1為0.6～0.999下、在熱處理區域(46)中進行搬送，同時在玻璃化轉變溫度(Tg-20)℃～(Tg+50)℃下進行熱處理，所述熱處理區域按照輥搭接長度D與輥間長度G之比G/D為0.01～3的方式來配置。熱塑性薄膜的特徵在於，Rth/Re比為0.5以上但小於1，在寬度方向上測定的厚度方向的延遲/面內的延遲Rth/Re比的範圍為0.01～0.1，在80℃、200小時下的熱尺寸變化為0.001％～0.3％。文檔編號B29C71/02GK101290358SQ20081009219公開日2008年10月22日申請日期2008年4月18日優先權日2007年4月20日發明者吉田哲也,大歲正明,橋本齊和申請人:富士膠片株式會社