揮刀進軍10nm！臺積電將引進EUV光刻機

2025-02-21 15:27:24

    泡泡網CPU頻道11月27日 光刻系統供應商荷蘭ASML近日宣布，臺積電已經訂購了兩臺量產型的NXE:3350B EUV極紫外光刻機，將在2015年交付使用。

    具體報價沒有公布，但據稱應該接近1億美元級別——同樣是ASML EUV光刻機客戶的Intel(還有IBM、三星)認為合理價格應在2000萬美元左右。

    另外，臺積電此前已經購買的兩臺NXE:3300B也將在ASML的協助下，升級到與NXE:3350B相同的水平。

    據了解，臺積電購買的EUV極紫外光刻機初期將用於300毫米晶圓、10nm工藝，未來還會考慮導入到450毫米晶圓上(目前只有Intel做出來了)。

    今年第三季度，臺積電在EUV技術上的晶圓曝光速度已經達到每天600塊，如果順利的話2016年可達1500塊每天。

    臺積電的10nm工藝雖然還在理論研究階段，但已經有10多家客戶基於它進行了產品設計，涉及手機基帶、GPU、伺服器晶片、遊戲機處理器、FPGA等等，預計2015年下半年就會有客戶完成流片，2015年底試產，2016年底或者2017年量產。

    按照臺積電董事長張忠謀的說法，10nm可以比16nm FinFET工藝帶來25％的性能提升、45％的功耗下降、120％的柵極密度增加。■