一種應力探測器的製作方法
2024-03-20 01:22:05 1
專利名稱：一種應力探測器的製作方法
技術領域：
本實用新型涉及傳感器領域，尤其涉及到一種應力探測器。
背景技術：
磁光克爾效應是指偏振光從磁性介質表面反射之後，受磁性介質的磁化強度影響，偏振光的偏振方向發生變化。對於製備成的器件，探測其偏振方向的變化，就能反應磁化強度的變化。另一方面，磁化強度與材料的應力狀態密切相關，利用應力、磁化強度、偏振光之間的耦合關係，開發高靈敏度的應力探測器是十分有意義的。
實用新型內容本實用新型提供一種應力探測器，具有結構簡單、使用方便、高靈敏度探測力的優點。本實用新型所採取的技術方案為，一種應力探測器，包括柔性基底、磁性介質、雷射源、探測器，其中，磁性介質生長在柔性基底上，雷射源與探測器位於磁性介質的上方，以磁性介質的法線呈鏡面對稱分布。本實用新型的雷射源發射的雷射照射到磁性介質上，反射到探測器中，柔性基底方便貼到需要進行應力探測的待測體上，當應力變化時，磁性介質的磁化強度發生改變，探測器探測到的雷射強度發生變化，進而探測出應力的大小，由於磁光克爾效應的高靈敏度，使得本實用新型具有高靈敏度探測力的優點，同時，結構簡單、使用方便。
圖1為本實用新型的結構示意圖。圖中:1柔性基底、2磁性介質、3雷射源、4雷射、5探測器。
具體實施方式
以下結合附圖實施例對本實用新型作進一步詳細描述。圖1為本實用新型的結構示意圖，柔性基底1、磁性介質2、雷射源3、雷射4、探測器5，其中，磁性介質2生長在柔性基底I上，雷射源3與探測器5位於磁性介質2的上方，以磁性介質2的法線呈鏡面對稱分布。本實用新型的雷射源3發射的雷射4照射到磁性介質2上，反射到探測器5中，柔性基底I方便貼到需要進行應力探測的待測體上，當應力變化時，磁性介質2的磁化強度發生改變，探測器5探測到的雷射強度發生變化，進而探測出應力的大小，由於磁 光克爾效應的高靈敏度，使得本實用新型具有高靈敏度探測力的優點，同時，結構簡單、使用方便。
權利要求1.一種應力探測器，包括柔性基底、磁性介質、雷射源、探測器，其特徵在於:所述的磁性介質生長在柔性基底上，雷射源與探測器位於磁性介質的上方。
2.根據權利要求1所述的一種應力探測器，其特徵在於:所述的雷射源與探測器以磁性介質的法線呈鏡面對 稱分布。
專利摘要本實用新型提供一種應力探測器，包括柔性基底、磁性介質、雷射源、探測器，其中，磁性介質生長在柔性基底上，雷射源與探測器位於磁性介質的上方，以磁性介質的法線呈鏡面對稱分布。本實用新型的雷射源發射的雷射照射到磁性介質上，反射到探測器中，柔性基底方便貼到需要進行應力探測的待測體上，當應力變化時，磁性介質的磁化強度發生改變，探測器探測到的雷射強度發生變化，進而探測出應力的大小，由於磁光克爾效應的高靈敏度，使得本實用新型具有高靈敏度探測力的優點，同時，結構簡單、使用方便。
文檔編號G01L1/12GK203148604SQ201320082879
公開日2013年8月21日 申請日期2013年2月22日 優先權日2013年2月22日
發明者胡雨航 申請人:胡雨航