分離式噴淋頭結構的製作方法
2023-06-25 22:42:51
分離式噴淋頭結構的製作方法
【專利摘要】本發明公開了一種分離式噴淋頭結構，包括：氣體分配部，至少具有第一氣體分配腔室和第一氣體管，所述第一氣體分配腔室用於提供第一氣體，所述第一氣體管的一端與所述第一氣體分配腔室相連通；冷卻部，與所述氣體分配部的下表面相連接，所述冷卻部下方為反應區域，所述冷卻部中至少設置有第一延伸管，所述第一延伸管一端與所述第一氣體管的另一端相連接，來自所述第一氣體分配腔室的氣體經過所述第一氣體管和所述第一延伸管流向反應區域；其中所述冷卻部的上表面以及所述氣體分配部的下表面具有臺階設計，且所述冷卻部的上表面的臺階設計的形狀與氣體分配部的下表面的臺階設計的形狀互補，使得所述冷卻部與氣體分配部之間的連接界面為臺階表面。
【專利說明】分離式噴淋頭結構
【技術領域】
[0001]本發明涉及一種分離式噴淋頭，尤其是一種避免氣體溢出在焊接縫隙中的分離式噴淋頭結構。
【背景技術】
[0002]現有的MOCVD設備中，通常使用噴淋頭來向反應腔中均勻的輸入反應氣體。現有技術中的噴淋頭，為降低製造難度，通常將噴淋頭中的冷卻部21與氣體分配部22分開製造，如圖1所示。然後通過焊接技術，如圖2所示，將層疊設置的氣體分配部21與冷卻部22進行焊接連接，使得氣體分配部21的氣體管23對應冷卻部22上的延伸管24，並使得氣體管23與延伸管24對應連接。
[0003]現有技術的噴淋頭中，對層疊設置的氣體分配部21的朝向冷卻部22 —側的下表面與冷卻部22的朝向氣體分配部21 —側的上表面焊接要求很高。在焊接過程中容易造成氣體分配部21與冷卻部22之間產生縫隙；或即使在所述噴淋頭製造過程中，不產生所述縫隙，都由於所述噴淋頭將應用於高溫的反應腔中，多次的升溫降溫使得氣體分配部21與冷卻部22之間由於熱脹冷縮而在最終氣體分配部21朝向冷卻部22 —側的下表面與冷卻部22朝向氣體分配部21 —側的上表面之間形成錯位而最終形成所述縫隙。氣體分配部21的氣體管23容易通過所述縫隙洩露，不僅會對焊接的焊料形成汙染和破壞影響噴淋頭的使用壽命，而且兩種氣體在縫隙之間反應並形成沉積物，更為嚴重的是，洩露的氣體會進入相鄰的氣體管。
【發明內容】
[0004]本發明所要解決的技術問題是提供一種新型分離式噴淋頭結構，其可以在該噴淋頭結構的氣體分配部與冷卻部的連接縫隙位置產生氣體洩漏時減少氣體在氣體分配部與冷卻部之間的連接界面的擴散，減小對焊料的損傷和對噴淋頭使用壽命的影響，以及氣體對相鄰的氣體管的交叉汙染和反應。
[0005]為實現上述技術效果，本發明公開了一種分離式噴淋頭結構，包括:
[0006]氣體分配部，至少具有第一氣體分配腔室和第一氣體管，所述第一氣體分配腔室用於提供第一氣體，所述第一氣體管的一端與所述第一氣體分配腔室相連通；
[0007]冷卻部，與所述氣體分配部的下表面相連接，且所述冷卻部下方為反應區域，所述冷卻部中至少設置有穿設所述冷卻部的第一延伸管，所述第一延伸管一端與所述第一氣體管的另一端相連接，來自所述第一氣體分配腔室的氣體經過所述第一氣體管和所述第一延伸管流向反應區域；
[0008]所述冷卻部的上表面以及所述氣體分配部的下表面具有臺階設計，且所述冷卻部的上表面的臺階設計的形狀與氣體分配部的下表面的臺階設計的形狀互補，使得所述冷卻部與氣體分配部之間的連接界面為臺階表面。
[0009]本發明由於採用了以上技術方案，使其具有以下有益效果是:由於所述冷卻部的上表面以及所述氣體分配部的下表面具有臺階設計，使得所述冷卻部與氣體分配部之間的連接界面為臺階表面，相對於現有技術的冷卻部與氣體分配部連接表面為平面，當第一氣體管和第一延伸管之間發生氣體洩露或者冷卻部與氣體分配部之間發生錯位時，本發明臺階設計能夠阻止氣體在冷卻部的上表面與氣體分配部的下表面之間的擴散，以及通過對相鄰的第一氣體管和第一延伸管的連接面的滲透。
[0010]本發明進一步的改進在於，所述第一分配部還包括第二氣體分配腔室和第二氣體管，所述第二氣體分配腔室設置於所述第一氣體分配腔室下方，所述第一氣體管貫穿所述第二氣體分配腔室；所述冷卻部還包括穿設所述冷卻部的第二延伸管，所述第二氣體管的一端與所述第二氣體分配腔室相連，所述第二氣體管的另一端與所述第二延伸管相連接，來自第二氣體分配腔室的氣體通過所述第二氣體管和第二延伸管流向反應區域。通過該改進，可進一步避免第一氣體分配腔室和第二氣體分配腔室種的兩種不同反應氣體進入到冷卻部的上表面與氣體分配部的下表面之間的所述縫隙之中反應形成顆粒沉積物。
[0011]本發明進一步的改進在於，所述冷卻部的頂部具有多個冷卻部凹陷，所述冷卻部凹陷使得所述冷卻部的上表面為具有臺階設計的表面，所述氣體分配部的底部具有多個氣體分配部凸起，所述氣體分配部凸起使得所述氣體分配部的下表面為具有臺階設計的表面，所述氣體分配部凸起的形狀和位置與所述冷卻部凹陷的形狀和位置對應，使得所述氣體分配部凸起插設於所述冷卻部凹陷，並且將所述冷卻部凹陷填滿。
[0012]本發明進一步的改進在於，所述冷卻部凹陷和所述氣體分配部凸起環繞所述第一氣體管與所述第一延伸管的連接界面和/或所述第二氣體管與所述第二延伸管的連接界面設置，這樣可以更好的防止氣體洩漏在氣體冷卻部與氣體分配部的連接界面的擴散。
[0013]本發明進一步的改進在於，所述冷卻部凹陷位於所述第一延伸管和/或所述第二延伸管的頂部，與所述第一延伸管和或所述第二延伸管相連通，所述氣體分配部凸起位於所述第一氣體管和/或所述第二氣體管的底部，所述第一氣體管和/或所述第二氣體管的另一端貫穿所述氣體分配部凸起。
[0014]本發明進一步的改進在於，所述氣體分配部凸起為塊狀凸起，每個所述塊狀凸起的形狀和尺寸相同，所述冷卻部凹陷的形狀和尺寸與所述塊狀凸起的形狀和尺寸對應。
[0015]本發明進一步的改進在於，所述氣體分配部凸起與所述氣體分配部的下表面連接為一體。
[0016]本發明進一步的改進在於，所述氣體分配部凸起的高度大於等於2毫米。
[0017]本發明進一步的改進在於，所述冷卻部的頂部具有多個冷卻部凸起，所述冷卻部凸起使得冷卻部的上表面為具有臺階設計的表面，所述氣體分配部的底部具有多個氣體分配部凹陷，所述氣體分配部凹陷使得所述氣體分配部的下表面為具有臺階設計的表面，所述氣體分配部凹陷的形狀和位置與所述冷卻部凸起的形狀和位置對應，使得所述冷卻部凸起插設於所述氣體分配部凹陷，並且將所述氣體分配部凹陷填滿。
[0018]本發明進一步的改進在於，所述冷卻部凸起和所述氣體分配部凹陷環繞所述第一氣體管與所述第一延伸管的連接界面和/或所述第二氣體管與所述第二延伸管的連接界面設置。
[0019]本發明進一步的改進在於，所述冷卻部凸起位於所述第一延伸管和/或所述第二延伸管的頂部，所述第一延伸管和/或所述第二延伸管的一端貫穿所述冷卻部凸起，所述氣體分配部凹陷位於所述第一氣體管和/或所述第二氣體管的底部，所述第一氣體管和/或所述第二氣體管與所述氣體分配部凹陷相連通。
[0020]本發明進一步的改進在於，所述冷卻部凸起為塊狀凸起，每個所述塊狀凸起的形狀和尺寸相同，所述氣體分配部凹陷的形狀和尺寸與所述塊狀凸起的形狀和尺寸對應。
[0021]本發明進一步的改進在於，所述冷卻部凸起與所述冷卻部的上表面結合為一體。
[0022]本發明進一步的改進在於，所述冷卻部凸起的高度大於等於2毫米。
【專利附圖】
【附圖說明】
[0023]圖1是現有的分離式噴淋頭的分解結構示意圖。
[0024]圖2是現有的分離式噴淋頭的接合結構示意圖。
[0025]圖3是本發明分離式噴淋頭結構的第一種實施例的分解結構示意圖。
[0026]圖4是本發明分離式噴淋頭結構的第一種實施例的接合結構示意圖。
[0027]圖5是本發明分離式噴淋頭結構的第一種實施例中氣體分配部的下表面示意圖。
[0028]圖6是本發明分離式噴淋頭結構的第二種實施例的分解結構示意圖。
[0029]圖7是本發明分離式噴淋頭結構的第二種實施例的接合結構示意圖。
[0030]圖8是本發明分離式噴淋頭結構的第二種實施例中氣體分配部的下表面示意圖。
[0031]圖9是本發明分離式噴淋頭結構的第三種實施例的分解結構示意圖。
[0032]圖10是本發明分離式噴淋頭結構的第三種實施例的接合結構示意圖。
[0033]圖11是本發明分離式噴淋頭結構的第三種實施例中氣體分配部的下表面示意圖。
【具體實施方式】
[0034]下面結合附圖和【具體實施方式】對本發明作進一步詳細的說明。
[0035]首先參閱圖3-5所示，本發明的分離式噴淋頭結構主要包括一氣體分配部11和一冷卻部12，並通過該氣體分配部11的下表面與冷卻部12的上表面相互連接成型。氣體分配部11的下表面為氣體分配部11的朝向冷卻部12—側的表面，其具有臺階設計。冷卻部12的上表面為冷卻部12的朝向氣體分配部11 一側的表面，其具有與氣體分配部11的下表面對應的臺階設計，其中:
[0036]氣體分配部11內包含至少一個氣體分配腔室用以提供氣體。在本實施例中，氣體分配部11包括一第一氣體分配腔室111和一第二氣體分配腔室112，其中第一氣體分配腔室111與第二氣體分配腔室112相互獨立且分層設置，第二氣體分配腔室112設置於第一氣體分配腔室111下方，第一氣體分配腔室111和第二氣體分配腔室112分別連接有第一氣體管1131和第二氣體管1132，第一氣體分配腔室111用於提供第一氣體，第二氣體分配腔室112用於提供第二氣體。作為一個實施例，所述第一氣體包括MO源氣體，所述MO源氣體為三甲基鎵、三甲基鋁或三甲基鎂中的一種或者多種的混合；所述第二氣體包括NH3氣體；作為本發明的又一實施例，所述第一氣體包括NH3氣體，第二氣體包括MO源氣體，所述MO源氣體為三甲基鎵、三甲基鋁或三甲基鎂中的一種或者多種的混合。
[0037]冷卻部12的上表面與氣體分配部11的下表面相連接，該冷卻部12內部中空形成有一冷卻腔121，其下方為反應區域，冷卻部12中設置有穿設於冷卻腔121的第一延伸管1221和第二延伸管1222，第一延伸管1221 —端與第一氣體管1131的另一端相連接，來自第一氣體分配腔室111的第一氣體經過第一氣體管1131和第一延伸管1221經冷卻腔121冷卻後流向反應區域；第二延伸管1222—端與第二氣體管1132的另一端相連接，來自第二氣體分配腔室112的第二氣體經過第二氣體管1132和第二延伸管1222經冷卻腔121冷卻後流向反應區域。
[0038]作為本發明的主要改進，冷卻部12的上表面以及氣體分配部11的下表面具有臺階設計，且冷卻部12的上表面的臺階設計的形狀與氣體分配部11的下表面的臺階設計的形狀互補，使得冷卻部12與氣體分配部11之間的連接界面為臺階表面。由於冷卻部12的上表面以及氣體分配部11的下表面具有臺階設計，使得冷卻部12與氣體分配部11之間的連接界面為臺階表面，相對於現有技術的冷卻部與氣體分配部連接表面為平面，當第一氣體管1131和第一延伸管1221之間發生氣體洩露或者冷卻部12與氣體分配部11之間發生錯位時，本發明中的臺階設計能夠阻止氣體在冷卻部12的上表面與氣體分配部11的下表面之間的擴散，以及在相鄰的第二氣體管1132和第二延伸管1222的連接界面處的滲透。
[0039]作為本發明中臺階設計的第一種較佳實施方式，冷卻部12的頂部具有多個冷卻部凹陷15，冷卻部凹陷15使得冷卻部12的上表面為具有臺階設計的表面，氣體分配部11的底部具有多個氣體分配部凸起14，氣體分配部凸起14使得氣體分配部11的下表面為具有臺階設計的表面，氣體分配部凸起14的形狀和位置與冷卻部凹陷15的形狀和位置對應，使得氣體分配部凸起14能夠插入冷卻部凹陷15，並且將冷卻部凹陷15填滿，這樣能夠使得氣體分配部11的與冷卻部12的連接界面為臺階表面。
[0040]如圖3-5所示，在第一氣體管1131和第一延伸管1221之間分別設計氣體分配部凸起14和冷卻部凹陷15，當各氣體分配部凸起14分別插入對應的冷卻部凹陷15中時，即在各氣體分配部凸起14和冷卻部凹陷15下表面交接位置形成了如圖4所示的多個連接界面a。具體來說:冷卻部凹陷15位於第一延伸管1221的頂部，環繞第一延伸管1221設置並與第一延伸管1221相連通，氣體分配部凸起14位於第一氣體管1131的底部，環繞第一氣體管1131設置，且第一氣體管1131的另一端貫穿氣體分配部凸起14。
[0041]作為本發明的第二種較佳實施方式，參閱圖6-8所示，氣體分配部凸起14和冷卻部凹陷15也可以分別設計在第二氣體管1132和第二延伸管1222之間，當各氣體分配部凸起14分別插入對應的冷卻部凹陷15中時，即在各氣體分配部凸起14和冷卻部凹陷15下表面交接位置形成了如圖7所示的多個連接界面a。具體來說:冷卻部凹陷15位於第二延伸管1222的頂部，環繞第二延伸管1222設置並與第二延伸管1222相連通，氣體分配部凸起14位於第二氣體管1132的底部,環繞第二氣體管1132設置,且第二氣體管1132的另一端貫穿氣體分配部凸起14。
[0042]以上兩種實施例中的氣體分配部凸起14為塊狀凸起，當然，在其他的實施例中，氣體分配部凸起14也可以有其他設計，比如，氣體分配部凸起14不是獨立的塊狀凸起，氣體分配部凸起14可以為形成在一個耐熱板上的多個塊狀凸起，與耐熱板一體化形成。為了便於製作和降低成本，每個塊狀凸起的形狀和尺寸相同，在其他的實施例中，每個氣體分配部凸起14的形狀和尺寸也可以與其他的氣體分配部凸起14的形狀和尺寸不同。冷卻部凹陷15的形狀和尺寸與塊狀凸起的形狀和尺寸對應，這樣是為了使得氣體分配部凸起14能夠插入冷卻部凹陷15，使得氣體分配部11與冷卻部12之間形成臺階設計。[0043]在以上兩種實施例中，氣體分配部凸起14具體形狀為圓柱體狀，如圖3-5所示，氣體分配部凸起14的側壁與冷卻部凹陷15的側壁相互平行，且與氣體分配部11的底面相互垂直。氣體分配部凸起14與氣體分配部11的下表面連接為一體。優選的，氣體分配部凸起14的高度大於等於2毫米，氣體分配部凸起14的高度是指氣體分配部11的下表面至氣體分配部凸起14的下表面之間的高度。冷卻部12採用不鏽鋼材料製造，且冷卻部12在受熱後的變型小於1.5mm。
[0044]上述兩種實施方案中的氣體分配部凸起14的形狀也可以採用其他形狀，結合圖6?8所示，其主要結構與上一實施例相同，區別在於氣體分配部凸起14的形狀為幾何多邊柱體狀，如8圖中採用的是矩形柱狀結構，此時氣體分配部凸起14的側壁與凹陷15也形成與之對應的矩形柱結構，兩者的側壁完全嚙合。進一步的，可在冷卻部12的側部設置至少兩個鎖扣16，氣體分配部11的側部對應鎖扣16形成複數扣槽17，通過鎖扣16與扣槽17的卡和連接，將氣體分配部11與冷卻部12相互壓合。
[0045]當採用本發明的分離式噴淋頭結構時，來自第一氣體分配腔室111中的第一氣體經過第一氣體管1131和第一延伸管1221流向反應區域，當第一氣體管1131和第一延伸管1221之間發生氣體洩露或者冷卻部12與氣體分配部11之間發生錯位時，第一氣體只會在第一氣體管1131和第一延伸管1221的連接界面a處擴散，而不會在冷卻部12的上表面與氣體分配部11的下表面之間的連接界面b擴散。由於連接界面的臺階設計，使得洩露的氣體不會擴散至相鄰的氣體管，或者對焊料產生影響。
[0046]在上述第一種實施例的基礎上，作為本發明的第三種較佳實施方式，參閱圖9?11所示，在冷卻部12的頂部也具有多個冷卻部凸起140，冷卻部凸起140使得冷卻部12的上表面同樣形成具有臺階設計的表面，氣體分配部11的下表面配合該冷卻部凸起140設置多個氣體分配部凹陷150，氣體分配部凹陷150使得所述氣體分配部的下表面為具有臺階設計的表面，氣體分配部凹陷150的形狀和位置與冷卻部凸起140的形狀和位置對應，使得冷卻部凸起140能夠插入氣體分配部凹陷150，並且將氣體分配部凹陷150填滿。
[0047]冷卻部凸起140和氣體分配部凹陷150分別設計在第二氣體管1132和第二延伸管1222之間，當各冷卻部凸起140分別插入對應的氣體分配部凹陷150中時，即在各冷卻部凸起140和氣體分配部凹陷150上表面交接位置形成了如圖10所示的多個連接界面C。冷卻部凸起140位於第二延伸管1222的頂部，第二延伸管1222的一段貫穿冷卻部凸起140，氣體分配部凹陷150位於第二氣體管1132的底部，第二氣體管1132與氣體分配部凹陷150相連通。冷卻部凸起140為塊狀凸起，每個塊狀凸起的形狀和尺寸相同，氣體分配部凹陷150的形狀和尺寸與塊狀凸起的形狀和尺寸對應。冷卻部凸起140與冷卻部12的上表面結合為一體。且冷卻部凸起140的高度即冷卻部12的上表面至冷卻部凸起140的上表面之間的高度，大於等於2毫米。
[0048]採用該種實施例的結構時，第一氣體分配腔111和第二氣體分配腔112的第一氣體管1131和第二氣體管1132分別用於提供兩種反應氣體，如此，當冷卻部12與氣體分配部11之間壓合後即便發生因連接不足夠牢固或因受熱變形而在相互移動時而產生間隙界面b時，第一氣體分配腔111中的氣體處在界面a處，而第二氣體分配腔112中的氣體溢出處在界面c處，兩種反應氣體均不會在冷卻部12的上表面與氣體分配部11的下表面之間的連接界面b擴散。而且將第一氣體和第二氣體的滲漏界面錯開，也就不會發生兩種反應氣體容易進入到縫隙之中，並在該縫隙中反應行程顆粒沉積物的現象。
[0049]更進一步的，可以在第三實施例的基礎上作進一步的結構變化，氣體分配部11上的凸起與凹陷的位置關係還可以進行替換，即將凸起設置於第二氣體分配腔112的氣體管底部，而將凹陷設置於第一第一氣體分配腔111的氣體管底部，同樣的，將冷卻部12的凸起與凹陷位置也進行相對應的調整，同樣可以達到本發明的效果。
[0050]以上結合附圖實施例對本發明進行了詳細說明，本領域中普通技術人員可根據上述說明對本發明做出種種變化例。因而，實施例中的某些細節不應構成對本發明的限定，本發明將以所附權利要求書界定的範圍作為本發明的保護範圍。
【權利要求】
1.一種分離式噴淋頭結構，其特徵在於，所述結構包括: 氣體分配部，至少具有第一氣體分配腔室和第一氣體管，所述第一氣體分配腔室用於提供第一氣體，所述第一氣體管的一端與所述第一氣體分配腔室相連通； 冷卻部，與所述氣體分配部的下表面相連接，且所述冷卻部下方為反應區域，所述冷卻部中至少設置有穿設所述冷卻部的第一延伸管，所述第一延伸管一端與所述第一氣體管的另一端相連接，來自所述第一氣體分配腔室的氣體經過所述第一氣體管和所述第一延伸管流向反應區域； 所述冷卻部的上表面以及所述氣體分配部的下表面具有臺階設計，且所述冷卻部的上表面的臺階設計的形狀與氣體分配部的下表面的臺階設計的形狀互補，使得所述冷卻部與氣體分配部之間的連接界面為臺階表面。
2.如權利要求1所述的結構，其特徵在於，所述第一分配部還包括第二氣體分配腔室和第二氣體管，所述第二氣體分配腔室設置於所述第一氣體分配腔室下方，所述第一氣體管貫穿所述第二氣體分配腔室；所述冷卻部還包括穿設所述冷卻部的第二延伸管，所述第二氣體管的一端與所述第二氣體分配腔室相連，所述第二氣體管的另一端與所述第二延伸管相連接，來自第二氣體分配腔室的氣體通過所述第二氣體管和第二延伸管流向反應區域。
3.如權利要求2所述的結構，其特徵在於:所述冷卻部的頂部具有多個冷卻部凹陷，所述冷卻部凹陷使得所述冷卻部的上表面為具有臺階設計的表面，所述氣體分配部的底部具有多個氣體分配部凸起，所述氣體分配部凸起使得所述氣體分配部的下表面為具有臺階設計的表面，所述氣體分配部凸起的形狀和位置與所述冷卻部凹陷的形狀和位置對應，使得所述氣體分配部凸起插設於所述冷卻部凹陷，並且將所述冷卻部凹陷填滿。
4.如權利要求3所述的結構，其特徵在於:所述冷卻部凹陷和所述氣體分配部凸起環繞所述第一氣體管與所述第一延伸管的連接界面和/或所述第二氣體管與所述第二延伸管的連接界面設置。`
5.如權利要求4所述的結構，其特徵在於:所述冷卻部凹陷位於所述第一延伸管和/或所述第二延伸管的頂部，與所述第一延伸管和或所述第二延伸管相連通，所述氣體分配部凸起位於所述第一氣體管和/或所述第二氣體管的底部，所述第一氣體管和/或所述第二氣體管的另一端貫穿所述氣體分配部凸起。
6.如權利要求3所述的結構，其特徵在於:所述氣體分配部凸起為塊狀凸起，每個所述塊狀凸起的形狀和尺寸相同，所述冷卻部凹陷的形狀和尺寸與所述塊狀凸起的形狀和尺寸對應。
7.如權利要求3所述的結構，其特徵在於:所述氣體分配部凸起與所述氣體分配部的下表面連接為一體。
8.如權利要求3所述的結構，其特徵在於:所述氣體分配部凸起的高度大於等於2毫米。
9.如權利要求2所述的結構，其特徵在於:所述冷卻部的頂部具有多個冷卻部凸起，所述冷卻部凸起使得冷卻部的上表面為具有臺階設計的表面，所述氣體分配部的底部具有多個氣體分配部凹陷，所述氣體分配部凹陷使得所述氣體分配部的下表面為具有臺階設計的表面，所述氣體分配部凹陷的形狀和位置與所述冷卻部凸起的形狀和位置對應，使得所述冷卻部凸起插設於所述氣體分配部凹陷，並且將所述氣體分配部凹陷填滿。
10.如權利要求9所述的結構，其特徵在於:所述冷卻部凸起和所述氣體分配部凹陷環繞所述第一氣體管與所述第一延伸管的連接界面和/或所述第二氣體管與所述第二延伸管的連接界面設置。
11.如權利要求10所述的結構，其特徵在於:所述冷卻部凸起位於所述第一延伸管和/或所述第二延伸管的頂部，所述第一延伸管和/或所述第二延伸管的一端貫穿所述冷卻部凸起，所述氣體分配部凹陷位於所述第一氣體管和/或所述第二氣體管的底部，所述第一氣體管和/或所述第二氣體管與所述氣體分配部凹陷相連通。
12.如權利要求9所述的結構，其特徵在於:所述冷卻部凸起為塊狀凸起，每個所述塊狀凸起的形狀和尺寸相同，所述氣體分配部凹陷的形狀和尺寸與所述塊狀凸起的形狀和尺寸對應。
13.如權利要求8所述的結構，其特徵在於:所述冷卻部凸起與所述冷卻部的上表面結合為一體。
14.如權利要求9所述的`結構，其特徵在於:所述冷卻部凸起的高度大於等於2毫米。
【文檔編號】B23K37/00GK103521956SQ201310470103
【公開日】2014年1月22日 申請日期:2013年10月10日 優先權日:2013年10月10日
【發明者】蘇育家 申請人:光達光電設備科技（嘉興）有限公司