塗布單元以及使用該塗布單元的圖案修正裝置的製作方法

2023-10-11 20:15:19 2

專利名稱：塗布單元以及使用該塗布單元的圖案修正裝置的製作方法
技術領域：
本發明涉及一種塗布單元以及使用該塗布單元的圖案修正裝置，尤其涉及對基板 上的微小區域塗布液狀材料的塗布單元；以及對形成在基板上的微小圖案的缺陷部進行修 正的圖案修正裝置。更特定而言，本發明涉及對平板顯示器的製造工藝中所產生的微小圖 案(配線)的開放缺陷(日文*一7 >欠陥)、液晶濾色器的白缺陷(日文白抜汁欠陥) 或是掩模缺陷等各種各樣的圖案缺陷進行修正的塗布單元以及使用該塗布單元的圖案修 正裝置。
背景技術：
近年來，伴隨著液晶顯示器、等離子顯示器、EL顯示器等平板顯示器的大型化、高 精細化，形成於玻璃基板上的配線(電極)及液晶濾色器等中存在缺陷的可能性增高，因而 為實現成品率的提高而提出了對缺陷進行修正的圖案修正裝置。例如，在液晶顯示器的玻璃基板的表面上形成有微小的配線。當配線斷線時，有採 用分配方式的噴嘴將導電性墨水(液狀材料、修正液)塗布在斷線部的方法(例如參照專 利文獻1)或採用噴墨方式的噴嘴將導電性墨水塗布在斷線部的方法(例如參照專利文獻 2)。專利文獻1 日本專利特開2006-202828號公報專利文獻2 日本專利特開2009-182169號公報然而，在分配方式中，由於需要將分配器的噴嘴前端的內徑製成非常細來塗布修 正墨水，因此，噴嘴前端容易堵塞，此外，由於分配器主體由很細的玻璃管制成，因此，存在 噴嘴前端容易因碰撞等而受到損傷這樣的技術問題。此外，在噴墨方式中，由於較理想地是進一步減小從噴嘴噴出的液滴，因此需進一 步小地形成噴嘴的孔徑。由於若噴嘴的孔徑進一步變小，則在利用壓力或熱來噴出修正墨 水的方法中會使修正墨水的噴出變難，因此，提出了在這種情況下利用靜電的方式。此外，在噴墨方式中，為了能改進噴嘴堵塞而穩定地進行塗布，先在基板外進行修 正墨水的預噴(日文捨^打^ )，隨後返回基板上的缺陷部來塗布修正墨水。然而，現今 的液晶基板已存在超過:3mX;3m大小的液晶基板，此時，可以想像會出現在基板外進行預噴 後再返回缺陷部會耗費時間、在對缺陷部進行修正時噴嘴會堵塞而無法對缺陷部噴出修正 墨水的情形。此外，若使噴嘴相對於基板沿水平方向高速移動，則還能想到會有因風而使噴 嘴前端的修正墨水乾燥、修正墨水的噴出變困難的情形。作為解決上述問題的方法，在專利文獻2中，公開了在對配置在噴嘴的正下方的 預噴臺預噴修正墨水之後，在預噴臺(預噴構件)退讓和噴嘴下降後實際進行塗布。然而， 需要在確認了預噴臺已朝橫向退讓後使噴嘴下降以將基板與噴嘴調整成固定縫隙，由於設 置了用於分別對這兩個軸進行控制的驅動元件而使機構佔地很大，因此會存在難以在較小 的空間內收納所有的機構這樣的技術問題。此外，由於能想像根據所使用的修正墨水的種類和噴嘴前端的噴出部內徑不同，即使在預噴後噴嘴也會在幾秒鐘後再次堵塞的情形，因此，需要在很短時間內進行預噴臺 的退讓和噴嘴的下降。而且，若在縮小噴嘴與預噴臺之間的縫隙的狀態下對預噴臺的相同 位置持續預噴(噴出)修正墨水，則堆積在預噴臺的修正墨水的積液會與噴嘴前端接觸，可 能會對之後的噴出穩定性帶來不良影響。

發明內容
因此，本發明的主要目的在於提供一種能以簡單的結構迅速地進行預噴構件的退 讓和塗布元件的下降的塗布單元以及使用該塗布單元的圖案修正裝置。本發明的塗布單元包括對基板上的微小區域塗布液狀材料的塗布元件；承接塗 布元件預噴的液狀材料的預噴構件；在進行液狀材料的預噴的預噴動作時將預噴構件插入 塗布元件與基板之間，在預噴動作結束之後使預噴構件從塗布元件與基板之間退讓的驅動 元件；以及設置在塗布元件與預噴構件之間的、隨著預噴構件插入到塗布元件與基板之間 而使塗布元件上升、隨著預噴構件從塗布元件與基板之間退讓而使塗布元件下降的仿形機 構(凸輪機構)。較為理想的是，仿形機構包括設置成可朝上下方向移動的、裝設塗布元件的Z工 作臺；固定於Z工作檯的滾筒；以及設置成可朝水平方向移動的、裝設預噴構件的X工作 臺，在X工作檯的上端部形成有仿形面，滾筒與X工作檯的仿形面抵接，當X工作檯移動時 滾筒沿仿形面移動。此外，較為理想的是，仿形機構在預噴構件從塗布元件與基板之間退讓時，在預噴 構件離開塗布元件下方時使塗布元件下降。此外，較為理想的是，仿形面包括水平部和傾斜部，在預噴構件從塗布元件與基板 之間退讓時，當滾筒與水平部抵接時只進行預噴構件的退讓動作，當滾筒與傾斜部抵接時 同時進行預噴構件的退讓動作和塗布元件的下降動作。此外，較為理想的是，在仿形面的水平部設有突起部或向上傾斜部，以使塗布元件 在預噴構件離開塗布元件下方的規定期間內上升。此外，較為理想的是，還包括將塗布元件固定在Z工作檯上的固定構件，在塗布元 件的下端與固定構件的基準面之間的距離被設定成預先確定的基準長度的狀態下，固定構 件被安裝到Z工作檯上。此外，較為理想的是，還包括設於固定構件且對塗布元件進行保護的保護套。此外，較為理想的是，保護套可朝上下方向移動地設於固定構件。此外，較為理想的是，保護套被形成為筒狀，塗布元件被插入到保護套內。當塗布 元件通過固定構件安裝到Z工作檯時，使保護套的下端位於比塗布元件的下端更靠下方的 位置以保護塗布元件，在安裝結束時，使保護套朝上方移動以使塗布部的下端部露出。此外，較為理想的是，還包括將保護套保持在上方以使塗布元件的下端部露出的 保持元件。此外，較為理想的是，驅動元件使預噴構件朝第一方向移動。上述塗布單元還包括 副驅動元件，該副驅動元件在每次進行液狀材料的預噴時使預噴構件朝與第一方向不同的 第二方向移動，將預噴構件表面上的沒有被預噴液狀材料的部分配置在塗布元件的下方。此外，較為理想的是，還包括檢測元件，該檢測元件檢測出預噴構件朝第二方向移動的次數；以及告知元件，該告知元件根據由檢測元件檢測出的次數到達預先確定好的 次數來對圖案修正裝置的使用者告知這一情況。此外，較為理想的是，當要除去被預噴到預噴構件的表面的液狀材料時，設置供液 狀材料的溶劑滲入的片材來代替塗布元件，使片材與預噴構件的表面接觸，並利用副驅動 元件使預噴構件移動。此外，較為理想的是，還包括擦拭元件，該擦拭元件被設置在預噴構件的表面上 的同與塗布元件相對的位置不同的位置上，使供液狀材料的溶劑滲入的片材與預噴構件的 表面接觸，並擦拭被副驅動元件移動的預噴構件的表面的液狀材料。此外，較為理想的是，塗布元件包括第一容器，該第一容器的底部的至少一部分 由膜形成，並在膜上開有與缺陷部相對應形狀的通孔；第二容器，該第二容器包括筒部，該 筒部以其下端的開口部的邊緣圍住通孔的形態配置在膜上，並對其內部注入液狀材料；導 引部，該導引部將第二容器支承成可朝上下方向移動；以及噴嘴，該噴嘴的前端的噴射口與 第二容器的上端部隔開縫隙相對，並設置成與膜的上表面大致垂直。以缺陷部和通孔位置 對齊的狀態，使膜與基板隔開縫隙地相對。上述塗布單元還包括氣體噴射元件，該氣體噴射 元件通過噴嘴噴射氣體以將第二容器朝下方按壓，使膜中的包括通孔在內的範圍朝下方突 出而使通孔的下側的開口部與基板接觸，通過通孔對缺陷部塗布液狀材料。此外，較為理想的是，塗布元件包括噴墨方式的噴嘴。此外，較為理想的是，塗布元件包括分配方式的噴嘴。此外，較為理想的是，塗布元件包括多個副塗布元件。上述塗布單元還包括選擇元 件，該選擇元件選擇多個副塗布元件中的某一個副塗布元件。多個副塗布元件中的被選擇 元件選擇出的副塗布元件對基板上的微小區域塗布液狀材料。本發明的圖案修正裝置對形成於基板上的微小圖案的缺陷部進行修正，其包括 對微小圖案的缺陷部塗布修正液的塗布元件；承接塗布元件預噴的修正液的預噴構件；在 進行修正液的預噴的預噴動作時將預噴構件插入塗布元件與基板之間，在預噴動作結束之 後使預噴構件從塗布元件與基板之間退讓的驅動元件；以及設置在塗布元件與預噴構件之 間的、隨著預噴構件插入到塗布元件與基板之間而使塗布元件上升、隨著預噴構件從塗布 元件與基板之間退讓而使塗布元件下降的仿形機構。此外，還包括用於對基板的表面進行觀察的觀察光學系統。觀察光學系統包括倍 率彼此不同的多個物鏡；具有在下表面固定有多個物鏡的可動板，使可動板沿水平方向移 動以使多個物鏡中被選擇出的物鏡的光軸與觀察光學系統的光軸一致的XY工作檯。塗布 元件、預噴構件、驅動元件以及仿形機構被設置在可動板的下表面。此外，較為理想的是，還包括距離傳感器，該距離傳感器被設置在可動板的下表 面，用於對距基板的距離進行測定來防止塗布元件的下端與基板接觸。此外，較為理想的是，還包括位置調整元件，該位置調整元件基於距離傳感器的測 定結果來調整XY工作檯的上下方向的位置，防止塗布元件的下端與基板接觸。此外，較為理想的是，塗布元件包括多個副塗布元件。上述圖案修正裝置還包括選 擇元件，該選擇元件選擇多個副塗布元件中的某一個副塗布元件。多個副塗布元件中的被 選擇元件選擇出的副塗布元件對缺陷部塗布修正液。此外，較為理想的是，各副塗布元件塗布與其它副塗布元件不同種類的修正液。
此外，較為理想的是，各副塗布元件將修正液塗布成與其它副塗布元件不同的形 狀。在本發明的塗布單元中，設有對基板上的微小區域塗布液狀材料的塗布元件； 承接塗布元件預噴的液狀材料的預噴構件；在進行液狀材料的預噴的預噴動作時將預噴構 件插入塗布元件與基板之間，在預噴動作結束之後使預噴構件從塗布元件與基板之間退讓 的驅動元件；以及設置在塗布元件與預噴構件之間的、隨著預噴構件插入到塗布元件與基 板之間而使塗布元件上升、隨著預噴構件從塗布元件與基板之間退讓而使塗布元件下降的 仿形機構。因此，由於設置了仿形機構，因此能以簡單的結構迅速地進行預噴構件的退讓和 塗布元件的下降。


圖1是表示作為圖案修正裝置的修正對象的TFT(薄膜電晶體)陣列基板的圖。圖2是表示對圖1所示的漏極線的開放缺陷塗布修正墨水後的狀態的圖。圖3是表示本發明一實施方式的圖案修正裝置的整體結構的立體圖。圖4是表示圖3所示的塗布部的結構的剖視圖。圖5是表示圖4所示的塗布部的動作的剖視圖。圖6是表示圖4所示的塗布部的動作的其它的剖視圖。圖7是表示圖3所示的塗布單元的結構的主視圖。圖8是圖7的VIII-VIII線剖視圖。圖9是圖8的A向視圖。圖10是表示圖7 圖9所示的塗布單元的動作的圖。圖11是表示圖7 圖9所示的塗布單元的動作的其它的圖。圖12是表示圖7 圖9所示的塗布單元的動作的另外其它的圖。圖13是表示圖3 圖12所示的圖案修正裝置的動作的流程圖。圖14是表示實施方式的變形例的圖。圖15是用於說明圖14所示的變形例的效果的圖。圖16是表示實施方式的其他變形例的圖。圖17是表示實施方式的又一變形例的圖。圖18是表示實施方式的又一變形例的圖。圖19是表示實施方式的又一變形例的圖。圖20是表示實施方式的又一變形例的圖。圖21是表示實施方式的又一變形例的圖。圖22是表示對圖21所示的預噴板的表面進行擦拭的方法的圖。圖23是表示實施方式的又一變形例的圖。圖M是表示實施方式的又一變形例的圖。圖25是表示實施方式的又一變形例的圖。圖沈是表示圖25所示的包括保護套的塗布單元的結構的圖。圖27是表示圖沈所示的塗布單元的動作的圖。圖28是表示圖沈所示的塗布單元的動作的其它的圖。
(符號說明)ITFT陣列基板2玻璃基板3柵極線3a柵極電極4、5柵極絕緣膜6像素電極7半導體膜8漏極線8a漏極(日文8b開放缺陷部9源極(曰文乂10TFT11保護膜12修正墨水1 修正圖案13圖案修正裝置14平臺15卡盤16XY調節架16a X軸調節架16b Y軸調節架17、2M軸調節架18觀察光學系統19塗布單元20塗布部21預噴部22雷射器23燒成裝置24物鏡26圓筒構件Wa導引孔27膜27a通孔28墨水容器^a開口部28b栓㈨蓋29a氣體供應孔
29b通氣孔30接頭31氣體噴射裝置32調節器33電磁閥34計時器35氣體供應源36、65預噴板37底板38、39直線導引軸承38a、39a滑動部38b、39b導軌部40Z工作檯40a上表面41滾筒42、45、49、55 磁鐵43X工作檯43a水平部43b傾斜部43c突起部44固定臺44a端面44b Π44c孔46電動機47、66驅動裝置48夾具48a端面50照相機51保護套51a長孔51b凸緣52 M銷56限位件57XYZ調節架58物鏡切換器58a可動板59距離傳感器60、67預噴控制部
61,68擦拭單元62、69片材63、70支柱51、71保護套71a,71b 槽72桿73柱塞73a球73b彈簧74切換裝置75塗布控制部76選擇部77液狀絕緣材料
具體實施例方式首先，對包括本申請的塗布單元的圖案修正裝置的修正對象進行說明。在此，雖然 對作為修正對象的液晶面板的TFT陣列基板進行說明，但修正對象不限定於此。圖1 (a)是表示作為修正對象的TFT陣列基板1的主要部分的俯視圖，圖1 (b)是 圖1(a)的IB-IB線剖視圖。在圖1(a)、圖1(b)中，TFT陣列基板1包括玻璃基板2。在玻 璃基板2的表面上形成有朝圖中的左右方向延伸的柵極線3，並且在柵極線3的規定位置形 成有朝圖中的下方突出的柵極電極3a。柵極線3和柵極電極3a的表面被柵極絕緣膜4覆 蓋，柵極絕緣膜4和玻璃基板2的表面被柵極絕緣膜5覆蓋。多個像素電極6以矩陣狀形成在柵極絕緣膜5的表面。柵極線3被配置在圖中的 上下方向上相鄰的兩個像素電極6之間的區域。在柵極電極3a的上方隔著柵極絕緣膜4、 5形成有半導體膜7。在圖中的左右方向上相鄰的兩個像素電極6之間的區域內形成有朝 圖中的上下方向延伸的漏極線(信號線)8，並且在漏極線8的規定位置上形成有朝圖中的 左側方向突出的漏極8a。上述漏極8a的端部延伸到半導體膜7的一方端部的表面。此外， 從半導體膜7的另一方端部的表面到像素電極6的一端部的表面形成有源極9。這樣就形成了包括柵極電極3a、漏極8a、源極9以及半導體膜7的TFT10。將整體 用保護膜11和取向膜(未圖示)覆蓋，以完成TFT陣列基板1。由TFT陣列基板1、液晶以 及濾色器來構成液晶面板。在此，如圖1(a)所示，在漏極線8存在開放缺陷部Sb。當在形成了保護膜11之後 對開放缺陷部8b進行修正時，需要利用雷射加工來除去保護膜11的一部分而使開放缺陷 部8b露出，塗布修正墨水(導電性墨水)12，在燒成以確保漏極線8的導通之後，再在修正 部位上形成保護膜11。因此，為了能簡化修正手續，較為理想的是，在形成保護膜11之前的 工序中進行開放缺陷部8b的修正。例如，在漏極線8的形成結束時沒有保護膜11，在此時 對開放缺陷部8b進行修正。這樣，當對直線形(I形)的開放缺陷部8b進行修正時，如圖2所示，以與位於缺 陷部8b兩側的漏極線8重合的形態塗布修正墨水。對開放缺陷部8b塗布修正墨水12，進行燒成以得到修正圖案12a。漏極線8的寬度呈微小化趨勢，近來已能製作5μπι以下的漏 極線。修正圖案1 不超過像素電極6的區域而形成為與漏極線8的配線寬度大致相同的 程度，但當超出較大時，也可以增加用雷射器(未圖示)除去超出部的處理。圖3是表示對開放缺陷部8b塗布修正墨水12且能在此後進行燒成的圖案修正裝 置13的整體結構的立體圖。在圖3中，上述圖案修正裝置13在平臺14的中央部設有卡盤 15，在卡盤15上固定有作為修正對象的基板1。此外，平臺14上裝載有龍門式(gantry type)的XY調節架16。XY調節架16包 括X軸調節架16a和門形的Y軸調節架16b。Y軸調節架16b設置成橫跨卡盤15，沿圖中Y 軸方向移動。X軸調節架16a裝載於Y軸調節架16b，沿圖中X方向移動。X軸調節架16a上裝載有可沿上下方向移動的Z軸調節架17。Z軸調節架17上 裝設有觀察光學系統18、塗布單元19、雷射器22以及燒成裝置23。通過控制X軸調節架 16a、Y軸調節架16b以及Z軸調節架17，可使觀察光學系統18、雷射器22、塗布單元19以 及燒成裝置23分別移動到基板1表面的所希望的位置的上方。觀察光學系統18包括物鏡24，其用於觀察基板1上的缺陷部8b等。雷射器22用 於經由觀察光學系統18對基板1上的缺陷照射雷射，並通過雷射打磨來對該缺陷形狀進行 整形或是除去缺陷和在缺陷周圍附著的多餘的修正墨水12。塗布單元19包括塗布修正墨 水12的塗布部20和承接由塗布部20預噴的修正墨水12的預噴部21。在此例中，塗布單 元19通過可沿上下方向進退的Z軸調節架25而被固定於Z軸調節架17。塗布單元19既 可以直接固定於Z軸調節架17，也可以固定於Z軸調節架25以外的構件。此外，燒成裝置 23被用作對塗布在基板1上的修正墨水12進行燒成。圖4是表示塗布部20的結構的剖視圖。在圖4中，上述塗布部20包括圓筒構件 26。圓筒構件沈下端的開口部被圓形的膜27封閉。圓筒構件沈和膜27構成第一容器。 在對膜27施加一定張力的狀態下，膜27的外周部與圓筒構件沈的下端面粘接或機械方式 固接。膜27例如是聚醯亞胺膜，其厚度例如為10 25μπι左右。在膜27的大致中央形成有通孔27a。通孔27a被加工成與形成在作為修正對象 的基板1上的漏極線8的開放缺陷部8b相對應的形狀(例如直線狀)。當膜27為聚醯亞 胺的情況下，通過利用YAG第三高次諧波雷射器或第四高次諧波雷射器、或者是準分子激 光器等脈衝雷射器的雷射打磨來加工通孔27a。當對膜27的表面照射雷射以形成通孔27a 時，在膜27的背面側的通孔27a的邊緣上會出現毛邊。為了防止上述毛邊對修正圖案的形 狀帶來不良影響，較為理想的是，將沒有毛邊的膜27的表面側(雷射照射面)朝向塗布部 20的外側(下側)。此外，在通過雷射打磨來形成通孔27a後，在膜27的表面(雷射照射面)上會飛 散有雷射打磨時所產生的垃圾。為了除去這樣的垃圾，也可以以通孔27a為中心來對膜27 的較寬範圍照射低功率的雷射。此時，若切換到YAG第二高次諧波雷射器來用低功率的激 光對以通孔27a為中心的較寬範圍內進行照射，則也可以只除去垃圾，且能防止因雷射器 照射而新產生垃圾。作為雷射器，只要使用能選擇性射出用於對通孔27a進行開孔的雷射 和用於除去垃圾的雷射兩種雷射中的任意一種雷射的雷射器即可。此外，也可對雷射器加 工完成後的膜27包括圓筒構件沈在內洗淨後進行乾燥。此外，在圓筒構件沈內側的中央形成有導引孔^a，導引孔的開口部與膜27的上表面隔開縫隙而大致平行相對。導引孔內插入有圓筒狀的墨水容器觀，墨水容器 28被導引孔26a和膜27支承成可沿上下方向移動。墨水容器觀下端的開口部的邊 緣以圍住膜27的通孔27a的形態與膜27的上表面抵接。在墨水容器觀內預先填充有修 正墨水12，以構成第二容器。藉此，修正墨水12隻被供應到包括通孔27a在內的限定的範圍。作為修正墨水12，當修正對象為配線時，採用金、銀等金屬納米墨水。例如，也可以 採用IPa · s 201 · s左右的粘度形成的金納米墨水。另外，墨水容器28的開口部28a 與膜27相抵接的部分是通過粘接而固接的，但採用高粘度的墨水作為修正墨水12的情況 下，也可以省略粘接。此時，由於修正墨水12被保持在墨水容器觀的端面與膜27的縫隙， 因此，能抑制修正墨水12從墨水容器28中漏出的量。此外，由於修正墨水12隻漏到膜27 的表面上，因此在塗布中不會出現問題。圓筒構件沈上側的開口部被圓板狀的蓋四蓋住。在蓋四的中央部形成有用於 供應氣體的氣體供應孔(噴嘴)29a，在氣體供應孔29a周圍形成有一個或兩個以上的通氣 孔四13。氣體供應孔^a的開口部與墨水容器觀的開口部隔開規定間隔地相對。它們的縫 隙被設定為例如Imm 2mm左右。因此，蓋四作為限位件，即使墨水容器觀朝上方移動， 也不會從導引孔中拔出。也可以將具有氣體通氣性的栓^b內插到墨水容器觀上方 的開口部附近。蓋四的氣體供應孔^a與接頭30的出口相連接，接頭30的入口經由配管(未 圖示)與氣體噴射裝置31相連接。氣體噴射裝置31包括對氣體壓力進行調整的調節器 (R) 32 ；控制氣體向氣體供應孔^a流入的開閉的電磁閥(V) 33 ；以及控制電磁閥33的打開 時間的計時器(T)34。調節器32與氣體供應源(G)35相連接。氣體使用例如氮氣，只要所 使用的修正墨水12不會變差，也可以使用壓縮空氣。另外，也可以不設置計時器34而利用 控制用計算機或PLC(可編程邏輯控制器)的計時功能來對電磁閥33進行控制。利用圖4 圖6來說明對開放缺陷部進行修正的工序。在圖4中，塗布部20與基 板1通過定位裝置(未圖示)相對移動，當塗布部20的通孔27a被定位於在基板1上的漏 極線8中產生的開放缺陷部8b上方的狀態下，塗布部20底部的膜27與基板1的表面隔開 規定縫隙Wl相對。縫隙Wl被設定成可供膜27變形以與基板1和漏極線8接觸的範圍、例 如 IOym 200 μ 右。接著，將電磁閥33隻打開由計時器34設定的時間。藉此，如圖5所示，從氣體供 應孔^a的前端對包括墨水容器28的開口部在內的範圍噴射氣體，墨水容器28被氣體壓 力推壓而朝下方移動，膜27變形而使膜27的中央部朝下方突出，包括通孔27a在內的範圍 的膜27的下表面與基板1相接觸。此外，利用從氣體供應孔四噴射出的氣體，將被填充到 墨水容器觀內的修正墨水從通孔27中壓出。此時，修正墨水12經由通孔27a被塗布到開 放缺陷部^b。被噴射到圓筒構件沈內的氣體經由通氣孔29b排出到外部。—旦停止氣體噴射，如圖6所示，包括通孔27在內的範圍的膜27會因膜27的復原 力而離開基板1，在開放缺陷部8b上形成與通孔27a大致相同的形狀的修正圖案12a。另 外，氣體壓力和噴射時間基於預先所進行的實驗結果而被調整到最適值。氣體的噴射時間 例如為1秒以下。此外，氣體的壓力例如被設定成0. 1 0. 3MPa左右。這樣，由於對包括墨水容器28的開口部在內的範圍噴射氣體，因此，通孔27a內的修正墨水12被氣體壓出到通孔27a的下側(基板1側)。因此，能進一步增厚修正圖案12a 的膜厚。此後，根據需要採用燒成裝置23來對修正圖案1 進行燒成硬化，從而得到導電 性的修正圖案。作為燒成裝置23，採用YAG第二連續振蕩雷射器等。既可以一併照射修正 圖案1 來進行燒成，也可以縮小雷射一邊在修正圖案1 上掃描一邊進行燒成。在這種塗布形態下，由於噴射氣體以使膜27與基板1 (包括開放缺陷部8b在內的 基板1的表面)接觸，因此，能均勻地按壓膜27。此外，由於即使基板1的表面有凹凸也會 使膜27隨著該凹凸來進行接觸，因此，能在不受到凹凸影響的前提下將修正墨水12塗布到 開放缺陷部8b。此外，由於不會將載荷集中施加到突起部，因此，基板1也不會變形或損傷。 此外，由於與利用噴墨或分配來進行塗布的方法相比，能採用高粘度的修正墨水12，因此， 能增厚修正膜厚以進一步降低修正部的電阻值。能採用相同的塗布部20來反覆進行缺陷修正，從而能實現缺陷修正的間隔時間 的縮短。當塗布部20內的修正墨水12的液量變少時，既可以補充修正墨水12，也可以更 換塗布部20。另外，當長時間未實施利用塗布部20的修正而使待機時間變長時，可以想像 會發生待機之後的塗布時修正圖案1 被磨擦、或是過多地塗布修正墨水12的溶劑成分的 情形。在這種情形下，通常朝設於基板1外側的預噴區域(未圖示)移動來進行預噴，但隨 著基板1的大型化，會使移動時間增加而使修正間隔有延長的趨勢。因此，為了縮短間隔時 間，較為理想的是，在塗布部20附近設置預噴部21。若在塗布部20附近設置預噴部21，則 即使在待機時修正墨水12漏出而發生滴落的情況下，由於由預噴部21承接，因此也能防止 基板1被汙染。圖7至圖9是表示包括塗布部20和預噴部21在內的塗布單元19的結構的圖，特 別地，圖7是塗布單元19的主視圖，圖8是圖7的VIII-VIII線剖視圖，圖9是圖8的A向 視圖。圖7至圖9是表示預噴板36在塗布修正墨水12的塗布部20的正下方隔開縫隙相 對、可進行預噴動作的狀態。此外，圖10至圖12是表示預噴板36朝橫向退讓且塗布部20下降以使塗布部20 與基板1具有縫隙W2地相對的狀態。在此狀態下，可以對缺陷部8b塗布修正墨水12。圖 10是塗布單元19的主視圖，圖11是圖10的XI-XI線剖視圖，圖12是圖11的B向視圖。首先，利用圖7至圖9對塗布單元19的結構進行說明。對塗布單元19整體進行 支承的底板37被垂直設置，在底板37的表面固定有直線導引軸承38的滑動部38a，在底板 37的背面固定有直線導引軸承39的滑動部39a。直線導引軸承38的滑動部38a被垂直配 置，直線導引軸承39的滑動部39a被水平配置。在直線導引軸承38的導軌部38b上固定有截面呈L字形的Z工作檯40。因此，Z 工作檯40通過直線導引軸承38可朝上下方向進退地支承於底板37。此外，在Z工作檯40 所突出的端部上固定有滾筒41，在Z工作檯40的一側面埋設有多個磁鐵42。在直線導引 軸承39的導軌部39b上固定有X工作檯43。因此，X工作檯43通過直線導引軸承39可朝 水平方向進退地支承於底板37。塗布部20被保持於固定臺44。在固定臺44的一端面埋設有多個磁鐵45。固定 臺44利用磁鐵42和磁鐵45的吸引力而被安裝於Z工作檯40。由於磁鐵42與磁鐵45是 錯開中心配置的，因此在將固定臺44安裝於Z工作檯40時，固定臺44被朝下方吸引，其端面4 被推壓到Z工作檯40的上表面40a後定位。在X工作檯43的下端固定有電動機46，電動機46的轉軸被固定在圓板狀的預噴 板36表面的中央。通過利用電動機46使預噴板36每次旋轉規定角度，從而能每次稍許改 變修正墨水12的預噴位置。預噴板36在塗布部20的正下方隔開規定縫隙Wl地相對，在 預噴時膜27的一部分與預噴板36接觸來進行預噴。在預噴前預先使預噴板36旋轉規定 角度，以防止以前預噴出的修正墨水12與膜27接觸而汙染膜27。固定於Z工作檯40的滾筒41與X工作檯43的上端部抵接。在X工作檯43的上 端部形成具有水平部43a和傾斜部43b的仿形面(凸輪面)。因此，塗布部20的垂直方向 的高度位置由滾筒41與X工作檯43的抵接位置確定。通過使X工作檯43朝水平方向移 動以改變滾筒41與X工作檯43的抵接位置，從而能同時進行預噴板36的退讓和塗布部20 的下降。使X工作檯43移動的驅動裝置47 (例如氣缸或直線螺線管致動器)被固定在底 板37上，其輸出軸與X工作檯43連結。驅動裝置47的輸出軸朝水平方向伸縮。若塗布部20以圖7的狀態進行修正墨水12的預噴，則修正墨水12附著在預噴板 36上。在預噴結束後，使電動機46的轉軸旋轉規定角度以使預噴板36旋轉規定角度，以準 備下次預噴。若不使預噴板36旋轉而始終在相同位置執行預噴，則要擔心預噴出的修正墨 水12的液滴會堆積而與塗布部20的下端面接觸，修正墨水12附著在膜27的通孔27a附 近從而在修正時汙染缺陷部8b周圍。然而，通過包括使預噴板36旋轉的功能，從而能消除 這種擔心。在預噴完成、預噴板36結束規定角度的旋轉時，通過驅動裝置47的操作來執行 預噴板36的退讓和塗布部20的下降。接著，對伴隨X工作檯43的移動而使Z工作檯40下降的工序進行說明。若通過 驅動裝置47的操作而使X工作檯43水平移動，則由於初期處於滾筒41與X工作檯43的 水平部43a相抵接的狀態，因此，Z工作檯40不會下降，而只有X工作檯43朝水平方向移 動。這種狀態持續到預噴板36離開塗布部20的正下方。此後，當滾筒41開始與X工作檯 43的傾斜部4 抵接時，Z工作檯40通過直線導引軸承38而利用其自重開始下降，當Z工 作臺40的突出部與底板37的上部接觸時停止下降。圖10至圖12表示Z工作檯40下降 後停止的狀態。通過如上所述構成，則即使用一個驅動裝置47也能進行水平方向和垂直方向的 兩軸驅動，能實現裝置的簡化。此外，藉此，能以較短的時間進行預噴板36的退讓和塗布部 20的下降。圖13是表示採用圖案修正裝置13來對缺陷部8b進行修正的工序的流程圖。在 步驟Sl中，從檢測裝置(未圖示)獲取缺陷位置信息，在步驟S2中，基於所獲取的缺陷位 置信息來控制XY調節架16，使觀察光學系統18朝缺陷位置坐標移動以進行缺陷部8b的觀 察、確認。在步驟S3中，基於缺陷部8b的觀察結果來確定缺陷部8b的修正形狀，在步驟S4 中，使XY調節架16移動以使塗布部20在缺陷部8b上方相對。另外，當裝設有多個塗布部 20的情況下，在步驟S3中，確定所使用的塗布部20。在步驟S5中，執行修正墨水12的預噴，在步驟S6中，使預噴板36旋轉微小角度， 使所塗布後的修正墨水12不在塗布部20的正下方，以此狀態準備下次預噴。在步驟S7中， 執行預噴板36的退讓和塗布部20的下降。在上述步驟S7中，預噴板36朝水平方向移動 退讓且塗布部20下降，使基板1與塗布部20的縫隙變窄成可進行塗布的縫隙。在這種狀態下便能進行修正，在步驟S8中，對缺陷部8b塗布修正墨水12。在步驟S9中，在完成對缺 陷部8b塗布修正墨水12時，使塗布部20上升而使預噴板36恢復到原來的狀態(待機狀 態)。在步驟S 10中，對XY調節架16進行控制以使缺陷部8b移動到觀察光學系統18 的正下方，觀察對缺陷部8b塗布修正墨水12後的狀態。在步驟S 11中，使塗布了修正墨水 12的缺陷部8b移動到燒成位置，對修正墨水12進行燒成以確保修正部的導通。另外，為了 進一步縮短從執行預噴到成為可進行塗布狀態的時間，也可以將步驟S6改變到步驟S8與 步驟S9之間。若殘留有需要進行缺陷修正的缺陷，則重複執行步驟S2 S12。以下，對該實施方式的各種變形例進行說明。在圖14的變形例中，在X工作檯43 的水平部43a結束的位置上設有突起部43c。因此，當滾筒41與突起部43c抵接時，Z工作 臺40比通常位置高，會使塗布部20與預噴板36的縫隙變寬。圖15是表示在使預噴板36退讓的動作中，預噴板36的移動距離與塗布部20的 高度的關係的圖。塗布部20的高度以基板1的表面為基準。在退讓動作結束時，塗布部20 與基板1的縫隙W2被設定成可進行修正墨水12的塗布的狀態。在圖15中，虛線的軌跡是 存在突起部43c的情況。塗布部20與預噴板36的縫隙Wl被設定得很窄，例如100 μ m。由於預噴板36和 塗布部20的移動是通過剛性高的直線導引軸承38、39進行的，因此設定仿形面43a、43b以 在移動時避免塗布部20與預噴板36的碰撞，但在移動時通過增大它們的縫隙W1，從而能進 一步提高安全性。為了防止修正墨水12流動而從預噴板36上落下，在預噴板36的外周上 設置簷部或臺階部，由於在這部分處預噴板36的簷部與塗布部20前端的縫隙進一步變窄， 因此設置突起部43c這樣的增加縫隙的機構能使安全性進一步提高。例如，縫隙Wl與縫隙 W2被設定成大致相同。固定塗布部20的固定臺44被安裝成容易進行與可朝上下方向進退的Z工作檯40 的裝拆，但在更換塗布部20時，進行單個固定臺44的更換。此時，若固定於固定臺44的塗 布部20的前端預先採用夾具將其長度預先調節為已確定的值，則不用進行安裝後的縫隙 WU W2的調整，能縮短更換時間。在圖16的變形例中，使用對塗布部20的前端位置進行調節的夾具48。夾具48與 Z工作檯40 —樣埋設有多個磁鐵49。若使固定臺44的端面4 與夾具48的端面48a抵 接，則固定臺44的端面44a因磁鐵45、49的吸引力而按壓在夾具48的端面48a上，固定臺 44被定位在夾具48的規定位置。在將臨時固定了塗布部20的固定臺44安裝在夾具48之後，一邊看著對塗布部20 的前端部進行放大觀察的照相機50的圖像一邊調整塗布部20的突出量，以使從固定臺44 的端面4 到塗布部20的前端的長度Ll與夾具48的長度L2 —致。也可以一邊採用設置 在圖案修正裝置13上的觀察光學系統18代替照相機50進行觀察，一邊利用XY調節架16 的絕對位置來調整長度Li。在結束採用夾具48來對齊塗布部20的前端部的位置之後，將修正墨水12填充到 塗布部20，塗布部20的更換準備完成。在進行更換作業時，要注意塗布部20的前端不能 與作業者的手或周圍的裝置接觸，以將塗布部20固定於固定臺44。藉此，能防止塗布部20 前端的損傷以確保塗布穩定性。
在圖17(a) 圖17(c)的變形例中，在固定臺44上設有對塗布部20的前端進行 保護的保護套51。在圖17(a) 圖17(c)中，為了簡化附圖，省略了固定臺44的磁鐵45的 圖示。圖17(a)是表示用保護套51來保護塗布部20的前端，限制保護套51的上下移動的 狀態，在此狀態下進行對Z工作檯40的裝拆。圖17(b)表示解除了保護套51的上下移動 限制的狀態。圖17(c)表示使保護套51上升以露出塗布部20的前端，而成為能塗布修正 墨水12的狀態。保護套51形成為筒狀，在保護套51內配置有塗布部20。保護套51被內插到設於 固定臺44下部的口 44b中。在保護套51的側面形成有長孔51a，插入到形成於固定臺44 的孔Mc中的銷52被配置成其前端部勾住長孔51a，保護套51在口 44b的範圍內被可朝上 下方向進退地支承於固定臺44。此外，在保護套51上形成有凸緣51b，在其側面固接有磁性材料形成的銷53，在凸 緣51b的外周面上固接有用於用手抓住的銷54。在與銷53相對的固定臺44的一端面埋入 有磁鐵55。圖17(a)表示用保護套51對塗布部20的前端進行保護的狀態，保護套51下降到 最下端，其下端位於比塗布部20的下端充分靠下的位置。在固定臺44與保護套51的凸緣 51b之間安裝有U字形狀的限位件56，限位件56將保護套51限制成無法上下移動。在此 狀態下將固定臺44安裝於Z工作檯40。以使預噴板36退讓的圖10的狀態進行安裝，以使 安裝作業容易進行。此時，通過使Z軸調節架17或Z軸調節架25上升從而預先將塗布單 元19整體上升，以充分確保與基板1的縫隙。在將固定臺44安裝於Z工作檯40之後，將限位件56用手拔出，成為圖17 (b)的 狀態。此後，用手上提銷M以使保護套51朝上方移動，通過使銷53與磁鐵55接觸吸引， 從而將保護套51固定支承在固定臺44側，從而如圖17(c)所示使塗布部20的前端露出。 在此狀態下完成塗布部20的安裝。當從Z工作檯40拆下固定臺44時，以相反的順序實施 作業。如上所述，由於通過使保護套51相對於塗布部20朝上下進退從而能保護塗布部 20的前端，因此能避免在裝拆時對塗布部20的損傷。此外，當從塗布部20的下側覆蓋獨立 的蓋罩的方式的情形時，可以想像會發生蓋罩與塗布部20的前端碰撞的情形，但若是圖16 所示結構這樣的使保護套51上下移動的方式，則不會發生塗布部20與保護套51的碰撞， 操作性良好。另外，當安裝圖4中所說明的塗布部20作為塗布部20的情況下，由於無法改變塗 布形狀，因此，也可以通過在塗布部20上包括旋轉機構(未圖示)來改變塗布角度。此外， 也可以使設於塗布部20的通孔27a的形狀各異，將多個塗布單元19裝設在圖案修正裝置 13上，選擇與缺陷部8b的形狀相符而使用的塗布單元19。在圖18的變形例中，改變塗布單元19的固定部位。將塗布單元19固定在XYZ調 節架57的X軸上，該XYZ調節架57則固定支承在Z軸調節架17的工作檯上。此時，也能 在用觀察光學系統18對缺陷部8b進行了觀察的狀態下，操作XYZ調節架57，以將塗布部 20插入物鏡M與基板1之間，對缺陷部8b塗布修正墨水12，省略了 XY調節架16的相對 移動。在圖19的變形例中，將塗布單元19固定在進行物鏡M的倍率切換的物鏡切換器(XY調節架)58上。物鏡切換器58包括可沿水平方向(XY方向)移動的可動板58a。在可 動板58a上開有多個孔。在可動板58a的下表面上裝設有倍率彼此不同的多個物鏡M。在 可動板58a上與各物鏡M對應開有通孔。各物鏡M的光軸垂直穿過孔的中心。通過對物 鏡切換器58進行控制以使所希望的倍率的物鏡M的光軸與觀察光學系統18的光軸一致， 從而能以所希望的倍率對缺陷部8b進行觀察。塗布單元19與多個物鏡M —起裝設在可動板58a的下表面上。因此，通過對物 鏡切換器58進行控制，從而能使塗布單元19朝缺陷部8b的上方移動。在本變形例中，由 於省略了圖18的變形例中所具有的XH調節架57，因此能使裝置結構簡化。此外，由於能 將塗布單元19配置在距用物鏡M對缺陷部8b進行觀察的位置很近的位置，因此能縮短移 動時間，縮短修正間隔。在圖20的變形例中，在物鏡切換器58上裝設有對物鏡切換器58與基板1的距離 進行測定的距離傳感器59。圖20是與圖19的C向視圖相對應的圖。通常，用物鏡M進行 觀察的圖像以位於焦點(focus)位置的Z軸調節架17的位置為基準，在此狀態下(聚焦狀 態下)進行預噴板36退讓和塗布部20下降時，固定塗布單元19的位置以使塗布部20與 基板1的縫隙成為W2。然而，由於隨著基板1的大型化，基板1的表面的平坦度也變差，因此，當塗布部20 伴隨著預噴板36的移動而自動下降時(步驟S7)，可以想像會發生塗布部20的前端與基板 1接觸的情況。或是，在散焦狀態下人為進行預噴板36的移動和塗布部20的下降時(步驟 S7)，也同樣可能發生塗布部20與基板1的接觸，因而不甚理想。因此，為了避免基板1與塗布部20的接觸或是碰撞，在物鏡切換器58上設有以非 接觸方式來測定到基板1的距離的距離傳感器59。在進行步驟S7之前，基於由距離傳感器 59測定得到的距離來判斷是否可以實施步驟S7,當距離不足或距離偏離太大的情況下，控 制Z軸調節架17以對物鏡切換器58的上下方向的位置進行微調。在圖21的變形例中，使預噴板36旋轉的電動機46被預噴控制部60控制。預噴 控制部60包括可判斷預噴板36是否旋轉了一圈的轉角計數器，在旋轉了一圈的階段對作 業者發出警告。即、預噴控制部60在步驟S21中執行預噴，在步驟S22中使預噴板36旋轉 規定角度。在步驟S23中，將轉角計數器累計(+1)，在步驟SM中基於轉角計數器的計數值 來判別預噴板36是否旋轉了一圈。當判斷為預噴板36還未旋轉一圈時返回步驟S21，當判斷為預噴板36已旋轉了一 圈時在步驟S25中向作業者告知預噴板36已旋轉了一圈。作為告知方法，有在顯示器畫面 上顯示的方法、點起警告燈的方法以及鳴響蜂鳴的方法等。發出警告後，進行對塗布在預噴 板36上的修正墨水12的清掃除去。圖22表示將塗布在預噴板36上的修正墨水12的清掃除去的方法。在圖22中， 在Z工作檯40上安裝擦拭單元61以代替對塗布部20進行固定的固定臺44。在擦拭單元 61的下端設有滲入有修正墨水12的溶劑的片材62。片材62與預噴板36的表面接觸。在 使片材62與預噴板36的表面接觸的狀態下，使預噴板36旋轉，從而能用片材62擦拭預噴 到預噴板36上的修正墨水12。作為片材62，採用無紡布或海綿等可吸收溶劑的構件。在圖23的變形例中，在和預噴板36與塗布部20相對的位置不同的位置上，使滲 入有溶劑的片材62始終與預噴板36的表面接觸。片材62被固定在支柱63的下端，支柱63被固定在對電動機46予以支承的X工作檯43上。也可以將多個片材62配置在預噴板 36的平面上以始終進行擦拭。此時，可以省略用於圖22中所說明的對塗布到預噴板36上 的修正墨水12進行清掃的維護作業。作為溶劑，可以使用例如萜品醇、癸醇、環十二烯等高 沸點溶劑，抑制片材62早期乾燥。此外，在本實施方式中，使圓板狀的預噴板36每次旋轉規定角度進行使用，但不 限定於此，也可以如圖M (a)、圖24(b)所示，將四邊形的預噴板65每次直線移動規定距離 進行使用。預噴板65以水平配置，將短邊朝向X方向配置，將長邊朝向Y方向配置。預噴 板65通過X工作檯43而朝X方向移動，進行預噴動作時，如圖M (a)、圖M (b)所示被插入 塗布部20之下，在進行塗布時，如圖M(C)所示，被配置在從上方觀察遠離預噴板65的位 置。此外，在預噴板65開始使用時，如圖M (a)、圖24(b)所示，塗布部20被配置在預 噴板65的表面的一方端的開始使用位置。預噴板65每次進行修正墨水12的預噴時，都會 被驅動裝置66朝Y方向(圖中的左側方向)移動規定距離。預噴控制部67在執行了預噴 之後，使預噴板65移動規定距離，並對所移動的次數進行計數。當所計數的次數到達規定 數量時，如圖M(d)所示，塗布部20配置在預噴板65的表面的另一方端的使用結束位置 上，結束了對使用結束位置的預噴。因此，預噴控制部67在移動預噴板65的次數到達規定 數量時，對圖案修正裝置的使用者告知情況(換言之，即需要清掃預噴板65的表面或需要 更換預噴板65這樣的情況)。此外，當對預噴板65的表面進行清掃時，如圖所示，設置擦拭單元68以代 替塗布部20。在擦拭單元68的下端設有滲入有修正墨水12的溶劑的片材69。片材69與 預噴板65的表面接觸。在使片材69與預噴板65的表面接觸的狀態下，利用驅動裝66使 預噴板65朝Y方向移動，從而能用片材69擦拭預噴到預噴板65上的修正墨水12。作為片 材69，採用無紡布或海綿等可吸收溶劑的構件。此外，在圖24(f)所示，在比預噴板65與塗布部20相對的位置更靠一方端側，使 滲入有溶劑的片材69始終與預噴板65的表面接觸。片材69被固定在支柱70的下端。此 時，也可以省略圖中所說明的維護作業。作為溶劑，可以使用例如萜品醇、癸醇、環 十二烯等高沸點溶劑，抑制片材69早期乾燥。此外，圖25(a)、圖25(b)是表示實施方式的又一變形例的剖視圖，其是與圖 17(a) 圖17(c)加以對比的圖。圖25(a)、圖25(b)的變形例與圖17(a) 圖17(c)的變 形例的主要不同點在於在塗布單元19的固定臺44上固定有多個(圖中為兩個)塗布部20， 並用保護套71替換保護套51。圖25(a)表示使保護套71下降以保護多個塗布部20的前 端的狀態。此外，圖25(b)表示使保護套71上升以使多個塗布部20的前端露出的狀態，其 表示可用塗布部20塗布修正墨水12的狀態。保護套71形成為筒狀，在保護套71內插入有多個塗布部20。利用圖16所示的夾 具48使多個塗布部20的前端位置為相同高度。保護套71被內插到設於固定臺44下部的 口 44b中。各塗布部20的上端部被嵌入到固定臺44的口 44b底部的孔中。在固定臺44 上與圖11 一樣固接有磁鐵(未圖示)，且因該磁鐵的磁吸引力而可自由裝拆，例如被安裝到 可沿與基板1垂直的方向進退的Z工作檯(未圖示)(參照圖8)。在保護套71的側面固定有杆72。上述杆72被插入到形成於固定臺44的口 44b的側壁上的長孔44d中。杆72在長孔44d內被可朝上下方向移動地設置。當用手使杆72 在上下方向上移動時，保護套71在長孔44d的範圍內相對於固定臺44朝上下方向移動。在保護套71的上端部的外周形成有環狀的槽71a，在保護套71的下端部的外周 形成有環狀的槽71b。在固定臺44的口 44b的下端部的側壁設有柱塞73。柱塞73的球 73a(或圓筒)被彈簧7 朝與保護套71的外周面垂直的方向施力。通過使球73a進入槽 71a或槽71b，保護套71被固定在上側位置或下側位置。若球73a進入槽71a，則如圖25(a)所示，保護套71被固定在下側位置，各塗布部 20的前端被保護套71覆蓋而加以保護。若球73a進入槽71b，則如圖25(b)所示，保護套 71被固定在上側位置，各塗布部20的前端露出而可進行各塗布部20的塗布。此時，若在各 塗布部20中注入與其它塗布部20不同顏色的修正墨水12，則通過選擇多個塗布部20中的 某一個塗布部20來進行塗布，從而能塗布多種顏色的修正墨水12中所希望顏色的修正墨 水12。此外，若將固定了多個塗布部20的固定臺44安裝在圖7所示的塗布單元19上， 則由於對於多個塗布部20隻要一個以預噴板36為主的預噴機構就可以，因此能簡化機構。此外，由於通過使保護套71相對於塗布部20朝上下進退從而能保護塗布部20的 前端，因此能避免在裝拆固定臺44時對塗布部20前端的損傷。圖沈是將固定了多個塗布部20的固定臺44安裝在圖7所示的塗布單元19上的 狀態的圖。在圖26中，保護套71被固定在上側位置，使各塗布部20的前端露出。來自圖 案修正裝置13的控制部(未圖示)的塗布指令被輸入到切換裝置74。切換裝置74根據塗 布指令選擇多個塗布部20中的某一個塗布部20，採用所選擇的塗布部20來塗布修正墨水 12。切換裝置74包括對塗布量等進行控制的塗布控制部75 ；以及將塗布控制部75 的信號送到所選擇的塗布部20的選擇部76。以圖4所示的塗布部20為例，氣體噴射裝置 31相當於塗布控制部75，使用將氣體噴射裝置31與所選擇的塗布部20相連接的多聯閥作 為選擇部76。另外，若預先把握各塗布部20的塗布位置，則能將缺陷部8b定位在所選擇的 塗布部20的正下方。在圖沈的狀態下，對所選擇的塗布部20進行控制來進行預噴。此後，若進行預噴 板36的退讓和Z調節架40的下降，則如圖27所示，塗布部20的前端與基板1的缺陷部8b 相對。在此狀態下，操作所選擇的塗布部20以對缺陷部8d塗布修正墨水12。圖28 (a) 圖觀(c)表示採用圖沈所示的塗布單元19對具有圖1 (a)、圖1 (b)所 示的保護膜11的基板1的缺陷部8b進行修正的工序。在圖^(a) 圖^(c)中，在配線 (漏極線)8的一部分存在有斷線缺陷部8b，位於其上方的保護膜11的一部分也有缺損而 使缺陷部8b處於露出的狀態。此外，對固定於固定臺44的兩個塗布部20中的一方側(圖 中左側)的塗布部20注入導電性修正墨水12，對另一方側(圖中右側)的塗布部20注入 液狀絕緣材料(例如樹脂墨水)77。在第一次塗布工序中，如圖28(b)所示，採用兩個塗布部20中的一方側(圖中左 側)的塗布部20對缺陷部8b塗布導電性修正墨水12，並通過此後的局部燒成來得到修正 圖案12a以確保導通。在第二次塗布工序中，如圖28(c)所示，採用另一方側(圖中右側) 的塗布部20塗布液狀絕緣材料77以封住修正圖案12a，此後使其硬化來形成保護膜11。
另外，在上述變形例中，採用兩個塗布部20來塗布修正墨水12和液狀絕緣材料 77，但不限定於此，也可以採用多個塗布部20來塗布彼此不同的多個種類(例如多種顏色) 的修正墨水12。此外，還可以將具有彼此不同的塗布形狀的多個塗布部20固定在固定臺 44，並選擇具有與缺陷部8b的形狀相對應的塗布形狀的塗布部20。到目前為止，對採用圖4所示的塗布部20的實施例進行了說明，但本發明不限定 於此，例如還可以使用分配方式、噴墨方式的塗布部。此外，作為噴墨方式，提出了利用壓力 或熱的噴出方式、利用靜電吸引的靜電方式等各種方式，但可以使用任意一種方式。當使用噴墨方式或分配方式的塗布部時，在對缺陷部8b進行修正時，一邊使塗布 部與基板1沿水平方向相對移動一邊通過噴出修正墨水12來進行塗布，通過重複噴出修正 墨水12而能使修正墨水12堆積。此外，當使用玻璃制的毛細管(噴嘴)作為塗布部20時， 由於在將塗布部20固定在固定臺44之後，與Z工作檯40裝拆時噴嘴前端很纖細，因此，需 要對其進行保護，而通過設置上述保護套51、71，能避免噴嘴前端的損傷。應當理解，上面公開的實施方式在所有方面均只是例示，不構成限制。本發明的範 圍是由權利要求的範圍來表示的，而不是由上述說明來表示的，旨在包括與權利要求的範 圍相同的意思及範圍內的所有變更。
權利要求
1.一種塗布單元，包括塗布元件，該塗布元件對基板上的微小區域塗布液狀材料； 預噴構件，該預噴構件承接所述塗布元件預噴的液狀材料；驅動元件，在進行所述液狀材料的預噴的預噴動作時該驅動元件將所述預噴構件插入 所述塗布元件與所述基板之間，在所述預噴動作結束之後該驅動元件使所述預噴構件從所 述塗布元件與所述基板之間退讓；以及仿形機構，該仿形機構設置在所述塗布元件與所述預噴構件之間，其隨著所述預噴構 件插入到所述塗布元件與所述基板之間而使所述塗布元件上升，並隨著所述預噴構件從所 述塗布元件與所述基板之間退讓而使所述塗布元件下降。
2.如權利要求1所述的塗布單元，其特徵在於，所述仿形機構包括Z工作檯，該Z工作檯被設置成可朝上下方向移動，並裝設所述塗布元件； 滾筒，該滾筒固定於所述Z工作檯；以及X工作檯，該X工作檯被設置成可朝水平方向移動，並裝設所述預噴構件， 在所述X工作檯的上端部形成有仿形面，所述滾筒與所述X工作檯的仿形面抵接，當所 述X工作檯移動時所述滾筒沿所述仿形面移動。
3.如權利要求2所述的塗布單元，其特徵在於，所述仿形機構在所述預噴構件從所述塗布元件與所述基板之間退讓時，在所述預噴構 件離開所述塗布元件下方時使所述塗布元件下降。
4.如權利要求3所述的塗布單元，其特徵在於， 所述仿形面包括水平部和傾斜部，在所述預噴構件從所述塗布元件與所述基板之間退讓的情況下，當所述滾筒與所述水 平部抵接時只進行所述預噴構件的退讓動作，當所述滾筒與所述傾斜部抵接時同時進行所 述預噴構件的退讓動作和所述塗布元件的下降動作。
5.如權利要求4所述的塗布單元，其特徵在於，在所述仿形面的水平部設有突起部或 向上傾斜部，以使所述塗布元件在所述預噴構件離開所述塗布元件下方的規定期間內上 升。
6.如權利要求2所述的塗布單元，其特徵在於，還包括固定構件，該固定構件將所述塗布元件固定在所述Z工作檯上， 在所述塗布元件的下端與所述固定構件的基準面之間的距離被設定成預先確定的基 準長度的狀態下，所述固定構件被安裝到所述Z工作檯上。
7.如權利要求6所述的塗布單元，其特徵在於，還包括保護套，該保護套設於所述固定 構件且對所述塗布元件進行保護。
8.如權利要求7所述的塗布單元，其特徵在於，所述保護套可朝上下方向移動地設於 固定構件。
9.如權利要求8所述的塗布單元，其特徵在於， 所述保護套被形成為筒狀，所述塗布元件被插入到所述保護套內，當所述塗布元件通過所述固定構件安裝到所述Z工作檯上時，使所述保護套的下端位 於比所述塗布元件的下端更靠下方的位置以保護所述塗布元件，在安裝結束時，使所述保護套朝上方移動以使所述塗布部的下端部露出。
10.如權利要求9所述的塗布單元，其特徵在於，還包括保持元件，該保持元件將所述 保護套保持在上方以使所述塗布元件的下端部露出。
11.如權利要求1所述的塗布單元，其特徵在於， 所述驅動元件使所述預噴構件朝第一方向移動，所述塗布單元還包括副驅動元件，每次進行所述液狀材料的預噴時該副驅動元件使所 述預噴構件朝與所述第一方向不同的第二方向移動，將所述預噴構件表面上的沒有被預噴 所述液狀材料的部分配置在所述塗布元件的下方。
12.如權利要求11所述的塗布單元，其特徵在於，還包括檢測元件，該檢測元件檢測出所述預噴構件朝所述第二方向移動的次數；以及 告知元件，該告知元件在由所述檢測元件檢測出的次數到達預先確定好的次數時將這 一情況告知所述圖案修正裝置的使用者。
13.如權利要求11所述的塗布單元，其特徵在於，當要除去被預噴到所述預噴構件的 表面的所述液狀材料時，設置滲入有所述液狀材料的溶劑的片材來代替所述塗布元件，使 所述片材與所述預噴構件的表面接觸，並利用所述副驅動元件使所述預噴構件移動。
14.如權利要求11所述的塗布單元，其特徵在於，所述塗布單元還包括擦拭元件，該擦 拭元件被設置在所述預噴構件的表面上的同與所述塗布元件相對的位置不同的位置上，使 滲入有所述液狀材料的溶劑的片材與所述預噴構件的表面接觸，並對被所述副驅動元件移 動的所述預噴構件的表面的所述液狀材料進行擦拭。
15.如權利要求1所述的塗布單元，其特徵在於，所述塗布元件包括第一容器，該第一容器的底部的至少一部分由膜形成，並在所述膜上開有形狀與所述 缺陷部的形狀相對應的通孔；第二容器，該第二容器包括筒部，該筒部以其下端的開口部的邊緣圍住所述通孔的形 態配置在所述膜上，並對其內部注入所述液狀材料；導引部，該導引部將所述第二容器支承成可朝上下方向移動；以及 噴嘴，該噴嘴的前端的噴射口與所述第二容器的上端部隔開縫隙相對，並且該噴嘴設 置成與所述膜的上表面大致垂直，以所述缺陷部和所述通孔位置對齊的狀態，使所述膜與所述基板隔開縫隙地相對， 所述塗布單元還包括氣體噴射元件，該氣體噴射元件通過所述噴嘴噴射氣體以將所述 第二容器朝下方按壓，使所述膜中的包括所述通孔在內的範圍朝下方突出而使所述通孔的 下側的開口部與所述基板接觸，並通過所述通孔對所述缺陷部塗布所述液狀材料。
16.如權利要求1所述的塗布單元，其特徵在於，所述塗布元件包括噴墨方式的噴嘴。
17.如權利要求1所述的塗布單元，其特徵在於，所述塗布元件包括分配方式的噴嘴。
18.如權利要求1所述的塗布單元，其特徵在於， 所述塗布元件包括多個副塗布元件，所述塗布單元還包括選擇元件，該選擇元件選擇所述多個副塗布元件中的某一個副塗 布元件，所述多個副塗布元件中的被所述選擇元件選擇出的副塗布元件對所述基板上的所述 微小區域塗布所述液狀材料。
19.一種圖案修正裝置，其對形成於基板上的微小圖案的缺陷部進行修正，其特徵在 於，包括塗布元件，該塗布元件對所述微小圖案的缺陷部塗布修正液；預噴構件，該預噴構件承接所述塗布元件預噴的修正液；驅動元件，在進行所述修正液的預噴的預噴動作時該驅動構件將所述預噴構件插入所 述塗布元件與所述基板之間，在所述預噴動作結束之後該驅動構件使所述預噴構件從所述 塗布元件與所述基板之間退讓；以及仿形機構，該仿形機構設置在所述塗布元件與所述預噴構件之間，其隨著所述預噴構 件插入到所述塗布元件與所述基板之間而使所述塗布元件上升，並隨著所述預噴構件從所 述塗布元件與所述基板之間退讓而使所述塗布元件下降。
20.如權利要求19所述的圖案修正裝置，其特徵在於，所述圖案修正裝置還包括用於對所述基板的表面進行觀察的觀察光學系統，所述觀察光學系統包括倍率彼此不同的多個物鏡；以及XY工作檯，該XY工作檯具有在下表面固定有所述多個物鏡的可動板，使所述可動板沿 水平方向移動以使所述多個物鏡中被選擇出的物鏡的光軸與所述觀察光學系統的光軸一 致，所述塗布元件、所述預噴構件、所述驅動元件以及所述仿形機構被設置在所述可動板 的下表面。
21.如權利要求20所述的圖案修正裝置，其特徵在於，所述圖案修正裝置還包括距離 傳感器，該距離傳感器被設置在所述可動板的下表面，用於對距所述基板的距離進行測定 來防止所述塗布元件的下端與所述基板接觸。
22.如權利要求21所述的圖案修正裝置，其特徵在於，所述圖案修正裝置還包括位置 調整元件，該位置調整元件基於所述距離傳感器的測定結果來調整所述XY工作檯的上下 方向的位置，防止所述塗布元件的下端與所述基板接觸。
23.如權利要求19所述的圖案修正裝置，其特徵在於，所述塗布元件包括多個副塗布元件，所述圖案修正裝置還包括選擇元件，該選擇元件選擇所述多個副塗布元件中的某一個 副塗布元件，所述多個副塗布元件中的被所述選擇元件選擇出的副塗布元件對所述缺陷部塗布所 述修正液。
24.如權利要求23所述的圖案修正裝置，其特徵在於，各副塗布元件塗布與其它副塗 布元件不同種類的修正液。
25.如權利要求23所述的圖案修正裝置，其特徵在於，各副塗布元件將所述修正液塗 布成與其它副塗布元件不同的形狀。
全文摘要
一種塗布單元以及圖案修正裝置，其能以簡單的結構迅速地進行預噴構件的退讓和塗布元件的下降。所述塗布單元(19)包括驅動裝置(47)，該驅動裝置(47)在進行預噴動作時將預噴板(36)插入塗布部(20)與基板(1)之間，在預噴動作結束後，使預噴板(36)從塗布部(20)與基板(1)之間退讓；以及X工作檯(43)(仿形機構)，該X工作檯(43)隨著插入預噴板(36)而使塗布部(20)上升，並隨著預噴板(36)退讓而使塗布部(20)下降。因此，能以簡單的結構迅速地執行預噴板(36)的退讓和塗布部(20)的下降。
文檔編號H01L21/00GK102049366SQ20101054437
公開日2011年5月11日 申請日期2010年11月3日 優先權日2009年11月6日
發明者小池孝志 申請人:Ntn株式會社