一種降低光刻基片吸附翹曲度的輔助裝置製造方法
2024-03-31 19:24:05
一種降低光刻基片吸附翹曲度的輔助裝置製造方法
【專利摘要】本實用新型公開了一種降低光刻基片吸附翹曲度的輔助裝置,包括基體,所述基體的形狀與光刻基片的形狀一致,該基體為硬質片狀結構,在基體上開設有若干通孔;其中,所述通孔包括一位於基體中部的中心通孔和至少一圈呈環形分布於中心通孔周圍的外圍通孔;所述中心通孔和外圍通孔均與光刻基片上的鏤空結構錯位設置。本實用新型適用於多種光刻基片,並且能夠保證光刻基片在光刻過程中的平整度,從而提高光刻基片的光刻精度,同時降低生產成本。
【專利說明】一種降低光刻基片吸附翹曲度的輔助裝置
【技術領域】
[0001]本實用新型涉及微機械加工的光刻工藝【技術領域】,尤其涉及一種降低光刻基片吸附翹曲度的輔助裝置。
【背景技術】
[0002]在微機械工藝中,光刻基片經溼法腐蝕或幹法刻蝕後製作有鏤空結構,進一步進行圖形製作時,多採用噴塗膠和光刻的方式實現。現有光刻機的吸盤有邊緣吸附和整片吸附兩種,整片吸附適合於表面完整的光刻基片,邊緣吸附適合於製作有鏤空結構的光刻基片。而製作鏤空結構的光刻基片光刻時若只有邊緣吸附,易造成基片內部的翹曲,降低光刻的精度;若參照吸盤的吸附結構對光刻基片上的器件進行布局,將導致光刻基片面積利用率和布局靈活性下降;若參照光刻基片布局對吸盤吸附結構重新設計,成本高且操作麻煩;並且由於吸盤的精度要求較高,因此根據每一種基片分別製作一個吸盤,就會大大增加生產成本。
實用新型內容
[0003]針對現有技術存在的上述不足,本實用新型的目的就在於提供一種降低光刻基片吸附翹曲度的輔助裝置,適用於多種光刻基片,並且能夠保證光刻基片在光刻過程中的平整度,從而提高光刻基片的光刻精度,同時降低生產成本。
[0004]為了實現上述目的,本實用新型採用的技術方案是這樣的:一種降低光刻基片吸附翹曲度的輔助裝置,包括基體,所述基體的形狀與光刻基片的形狀一致,其特徵在於:該基體為硬質片狀結構,在基體上開設有若干通孔;其中,所述通孔包括一位於基體中部的中心通孔和至少一圈呈環形分布於中心通孔周圍的外圍通孔;所述中心通孔和外圍通孔均與光刻基片上的鏤空結構錯位設置。
[0005]進一步地,所述外圍通孔為兩圈:外環通孔和內環通孔,所述外環通孔靠近基體的邊緣,所述內環通孔位於中心通孔與外環通孔之間。採用外環通孔與內環通孔的結合,從而使光刻基片與基體的貼附效果更好,從而確保光刻基片的平整度,進而提高光刻精度。
[0006]進一步地,所述外環通孔與內環通孔分別均勻分布在所在圓周上。這樣能夠使光刻基片收到的吸附力更加均衡,從而進一步提聞光刻基片的平整度。
[0007]進一步地,所述通孔呈圓形、矩形或三角形。使結構簡單,加工方便。
[0008]進一步地,所述基體的材質為矽或者石英。加工方便,成本低廉,並使基體表面平整度更高,從而使光刻基片能更好地與基體貼附。
[0009]與現有技術相比,本實用新型具有如下優點:結構簡單,使用方便,只要基體上的通孔與光刻基片上的鏤空位置錯開,即可使用,從而使本裝置能夠適用於多種光刻基片,使用範圍更廣;並且能夠保證光刻基片在光刻過程中的平整度,從而提高光刻基片的光刻精度;同時,只需根據需要更換本輔助裝置,而無需更換吸盤,不僅使用方便,並且能有效降低生產成本。【專利附圖】
【附圖說明】
[0010]圖1為本實用新型實施例1的結構示意圖;
[0011]圖2為本實用新型實施例2的結構示意圖。
[0012]圖中:I一基體,21—中心通孔,22—外環通孔,23—內環通孔。
【具體實施方式】
[0013]下面將結合附圖及實施例對本實用新型作進一步說明。
[0014]實施例:一種降低光刻基片吸附翹曲度的輔助裝置,包括基體,所述基體的形狀與光刻基片的形狀一致,即:基體整體呈圓盤結構,在基體的邊緣具有一切邊(其一側形成一直邊)。該基體為硬質片狀結構,製作時,所述基體的材質為矽或者石英;成本低廉,且加工方便,並使基體表面平整度更高,從而使光刻基片能更好地與基體貼附。在基體上開設有若干通孔,其中,所述通孔包括一位於基體中部的中心通孔和至少一圈呈環形分布於中心通孔周圍的外圍通孔;具體實施時,所述外圍通孔可以為一圈,也可以為多圈,根據實際的光刻基片的結構進行加工;且位於最外側的一圈外圍通孔靠近基體的邊緣。所述中心通孔和外圍通孔均與光刻基片上的鏤空結構錯位設置。所述外圍通孔均勻分布在所在圓周上;這樣能夠使光刻基片收到的吸附力更加均衡,從而進一步提聞光刻基片的平整度。
[0015]具體加工時,所述通孔呈圓形、矩形或三角形;使結構簡單,加工方便。所述通孔的加工可採用微機械工藝加工、雷射加工、超聲加工、傳統機械加工;從而使加工更方便、快捷,且減少基體本身所受到的損傷。
[0016]在光刻工藝環節,將本輔助裝置安放到光刻機吸盤上,而後將待光刻且製作有鏤空結構的光刻基片與該輔助裝置對齊並放置到該輔助裝置上;然後從內到外依次開啟中心通孔和外圍通孔所連接的真空吸附通道,完成基片吸附;從而有效地將光刻基片進行吸附,且能夠有效降低光刻基片吸附時的翹曲度。
[0017]由此可見,通過在光刻機吸盤和待光刻的基片之間安放過本輔助裝置,縮短了基片上各個吸附點之間的間距,可有效降低光刻基片的翹曲度,提高光刻精度。此外,本輔助裝置基於矽或者石英材料製作,加工方法包括微機械工藝加工、雷射加工、超聲加工、傳統機械加工等多種方法,加工方便且成本低;只需將其安放到光刻機吸盤上即可進行光刻操作,使用簡單方便。
[0018]實施例1,參見圖1,所述外圍通孔為一圈,且靠近基體I的邊緣,即外環通孔22 ;在光刻的基片尺寸較小時,只設置中心通孔21和一圈外圍通孔即可滿足光刻時的翹曲度要求,且有利於提高光刻基片的面積利用率。
[0019]實施例2,參見圖2 ;所述外圍通孔為兩圈:外環通孔22和內環通孔23,所述外環通孔22靠近基體I的邊緣,所述內環通孔23位於中心通孔與外環通孔22之間。採用外環通孔22與內環通孔23的結合,從而使光刻基片與基體I的貼附效果更好,從而確保光刻基片的平整度,進而提高光刻精度。所述外環通孔22、內環通孔23分別均勻分布在所在圓周上;這樣能夠使光刻基片收到的吸附力更加均衡。
[0020]最後需要說明的是,以上實施例僅用以說明本實用新型的技術方案而非限制技術方案,本領域的普通技術人員應當理解,那些對本實用新型的技術方案進行修改或者等同替換,而不脫離本技術方案的宗旨和範圍,均應涵蓋在本實用新型的權利要求範圍當中。
【權利要求】
1.一種降低光刻基片吸附翹曲度的輔助裝置,包括基體,所述基體的形狀與光刻基片的形狀一致,其特徵在於:該基體為硬質片狀結構,在基體上開設有若干通孔;其中,所述通孔包括一位於基體中部的中心通孔和至少一圈呈環形分布於中心通孔周圍的外圍通孔;所述中心通孔和外圍通孔均與光刻基片上的鏤空結構錯位設置。
2.根據權利要求1所述的一種降低光刻基片吸附翹曲度的輔助裝置,其特徵在於:所述外圍通孔為兩圈:外環通孔和內環通孔,所述外環通孔靠近基體的邊緣,所述內環通孔位於中心通孔與外環通孔之間。
3.根據權利要求2所述的一種降低光刻基片吸附翹曲度的輔助裝置,其特徵在於:所述外環通孔與內環通孔分別均勻分布在所在圓周上。
4.根據權利要求1所述的一種降低光刻基片吸附翹曲度的輔助裝置,其特徵在於:所述通孔呈圓形、矩形或三角形。
5.根據權利要求1所述的一種降低光刻基片吸附翹曲度的輔助裝置,其特徵在於:所述基體的材質為矽或者石英。
【文檔編號】C23F1/08GK203668516SQ201420026636
【公開日】2014年6月25日 申請日期:2014年1月16日 優先權日:2014年1月16日
【發明者】林丙濤, 趙建華 申請人:中國電子科技集團公司第二十六研究所