非水性油墨溼式釉下彩自銳拋光陶質釉面磚製造方法
2023-12-02 13:10:21 1
專利名稱：非水性油墨溼式釉下彩自銳拋光陶質釉面磚製造方法
技術領域：
本發明涉及一種建築陶瓷裝飾材料的製造工藝及製造方法，特別涉及一種非水性油墨溼式釉下彩拋光陶質釉面磚的製造方法。
背景技術：
陶瓷釉面磚以其強度高、光澤度好、色彩鮮明、易清潔等優點成為了很多客戶選擇的對象。特別是釉面拋光內牆磚因其亮麗的表面鏡面效果深受消費者喜愛。已知的陶瓷拋光釉面磚的現有製造方法有三種(1)印刷圖案紋理後再印刷廣3次透明印刷釉，經燒成後再進行拋光，這種工藝在瓷質仿古磚方面比較多採用，印刷的介質都為水性材料；存在的不足一是需要比較長的生產線(印花次數多)，二是拋光後釉面平整度不佳，存在比較多的過度拋光或漏拋及光澤度不均勻的情況，生產穩定性較差；( 施釉印刷圖案紋理燒成後堆微晶透明熔塊幹粒，經再次燒成後拋光，這種工藝多用來生產瓷質拋晶磚。存在的問題一是產能低，燒成周期在2. 5 3小時，造成能耗大；二是要堆積多達Wcg/m2的微晶透明熔塊幹粒，成本非常高，產品售價昂貴，普通消費者難以承受；三是拋光過程需要進行刮平、粗拋、 精拋工序，能源消耗大；四是合格率低，通常只在85%左右。(3)拋晶三度燒工藝，多用在陶質磚配套腰線或花片的生產方面，其工藝為在陶質磚成品上進行圖案紋理印刷後燒成，再在燒成的製品上堆積低溫透明幹粒，經再次燒成後進行拋光處理；這一工藝存在的不足一是生產工藝複雜，且多為手工操作，產能低；二是要堆積多達4 kg/Hf的透明熔塊幹粒，成本非常高，產品售價昂貴，普通消費者難以承受；三是拋光過程需要進行刮平、粗拋、精拋工序，能源消耗大。
發明內容
本發明所解決的技術問題即在克服現有的釉面拋光陶瓷磚生產存在的技術不足， 提供一種非水性油墨溼式釉中彩自銳拋光陶質釉面磚製品及製造方法。其優點為生產的製品既具有陶質磚的強度高，色彩鮮豔，圖案紋理豐富，又具有拋光產品表明平整度高、光澤度好的拋光陶質釉面磚製品；同時其生產工藝具有工藝簡單、生產成本低、燒成周期短、能耗低、拋光工藝簡單，適合於規模化生產和普通消費者需求。本發明採用非水性油墨的噴墨印表機進行圖案紋理的裝飾，為解決非水性油墨的溼式淋釉問題，對透明釉的釉漿性能進行改性；為解決拋光磨頭在光滑釉面上拋光時鈍化的問題對拋光體的材質和加入方式做了改進，形成自我銳化，保證了拋光作業的連續、穩定實施。本發明的技術方案為一種非水性油墨溼式釉下彩自銳拋光陶質釉面磚製造方法，其製造方法包含如下步驟原料配比一球磨一除鐵一噴霧制粉一壓製成型一素燒一溼式釉下彩裝飾一釉燒一自銳拋光一磨邊。其中，該自銳拋光為為防止樹脂拋光磨頭在平滑釉面上鈍化，在正常的拋光操作時，被拋光陶質釉面磚產品中加入粗糙面被拋光體，以該粗糙面被拋光體對拋光磨頭進行磨擦，使磨頭始終保持鋒利狀態。隔25 30件被拋光陶質釉面磚產品中加入兩件粗糙面被拋光體。該粗糙面被拋光體為一種表面具有網狀粗糙線條紋理的無釉陶瓷素燒磚坯。所述原料配比質量百分數為石英20%、瓷石36%、硬質粘土 5%、可塑性粘土 27%、 石灰石12%。所述壓製成型壓力為300士 lobar，所述釉燒最高燒成溫度為1125士5°C，所述釉燒燒成周期為陽 60min。所述溼式釉下彩裝飾工藝流程為素坯一淋底釉一淋乳濁面釉一非水性油墨噴墨印刷一透明面釉改性一淋透明釉。所述施釉工藝參數為底釉為0. 42、. 45kg/ Hl2 (幹基)，乳濁面釉為0. 38、. 42kg/ m2 (幹基)，透明釉為0. 45 0. 48kg/ m2 (幹基)。所述底釉化學組成質量百分數為:Si0263. 68%、Al2O3H. 58%、Fe2O3O. 06%、 Ti026. 19%、Ca02. 35%、MgO 1. 61%、K2O 4. 23%、Na2O 0. 49%、ZrO2 5. 05%、燒失量 1. 76%。所述乳濁面釉化學組成質量百分數為:Si0256. 34%、Α12038· 58%、Fe2O3O. 06%、 TiO2O. 07%、Ca07. 31%、MgO 2. 51%、K2O 4. 53%、Na2O 0. 29%、BaO 0. 61%、B2O3 1. 34%、ZnO 11. 45%、ZrO2 6. 0%、燒失量 0. 91%。所述透明面釉化學組成質量百分數為:Si0259 . 53%、Α12037· 54%、Fe2O3O. 14%、 TiO2O. 07%、Ca013. 02%、MgO 0. 65%、K2O 4. 29%、Na2O 0. 32%、BaO 3. 20%、B2O3 1. 08%、ZnO 9. 02%、燒失量 1. 14%ο所述透明面釉改性為在透明釉中加入按透明釉乾料質量百分比計0. 3% 0. 35% 的羥乙基纖維素，使透明釉釉漿性能轉變為一種假塑性流體，塗施在油性墨水噴墨印刷形成的的圖案紋理上，保持良好的滲透和流平性能。本發明的有益效果如下。1、改造投入少對原有生產工藝及生產線設備無須大的改造，即可實現產品的效果提升。2、圖案清晰度高，色彩柔和採用釉下彩裝飾，紋理和色彩完全融入釉中，色彩更為柔和；同時經過對透明釉層的拋光，圖案清晰度高。3、釉面平整度好，實現鏡面效果通過對釉面拋光處理，釉層表面的小缺陷和波紋現象完全消除，平整度好，達到了鏡面效果。4、燒成周期縮短、減少釉料消耗，成本和能耗大幅降低採用溼式淋釉工藝代替了幹法堆熔塊幹粒工藝，生產工藝簡單，可實現大規模生產，燒成時間縮短2/3，大幅降低了能耗；同時施式工藝的施釉料只是幹法堆熔塊幹粒工藝的1/1(Γ /8，大大降低了生產成本。5、拋光工藝簡單，只需對釉層進行精拋，無須刮平、粗拋，大幅降低了電耗和磨頭損耗。採用自銳拋光工藝技術，達到對釉面的連續性打磨、拋光，避免了過拋及漏拋等不均勻性拋光缺陷，提高了合格率。
圖1為本發明工作示意圖。圖號說明1.拋光進磚平臺；2.陶質釉面磚；3.網狀粗糙線條紋理的無釉陶瓷素燒磚坯；4.拋光磨頭。
具體實施例方式下面結合具體實施實例對本發明作進一步詳細說明。將20%重量份的石英和36%重量份的瓷石、5%重量份的硬質粘土加入到27%重量份的可塑性粘土中，進行攪拌均勻，再添加1 重量份的石灰石混合均勻，然後球磨除鐵， 細度達到250目篩餘3. 2 3. 5%。然後經噴霧乾燥等工序形成含水率6 6. 5%的粉料， 經過壓力為300bar的壓機成型進素燒窯素燒，素燒完成後的素坯待用。實施例1
將以上所述素坯放在大生產輸送線上，先淋底釉，施釉量為0. 42kg/ rrf (幹基)；接著淋乳濁面釉，施釉量為0. 42kg/ m2 (幹基)；按所需圖案及顏色噴墨印刷，最後淋一層加入0. 3% 羧乙基纖維素的改性透明釉，施釉量為0. 45kg/ m2 (幹基)。釉層被吸乾後釉面平整，圖案被均勻覆蓋。送入釉燒窯進行燒成，釉燒最高溫度為1120°C，燒成時間為60min。釉燒後的陶質釉面磚輸送到附圖1拋光機進磚平臺1，每隔25件上述陶瓷釉面磚2加入兩件與上述釉面磚同等厚度規格為300mmX200mm、表面具有網狀粗糙線條紋理的無釉陶瓷素燒磚坯 3，經拋光磨頭4對表面透明釉層精拋光，拋光後磨邊、分級後包裝入倉。通過檢測拋後平整度為3(T35um(釉層表面的低點與高點的落差平均值，用光學顯微鏡測得)，釉面光澤度為 92°、5°，釉下圖案紋理清晰，整體效果柔和。實施例2
將以上所述素坯放在大生產輸送線上，先淋底釉，施釉量為0. 45kg/ rrf (幹基)；接著淋乳濁面釉，施釉量為0. 40kg/m2 (幹基);按所需圖案及顏色噴墨印刷，最後淋一層加入0. 35% 羧乙基纖維素的改性透明釉，施釉量為0. 48kg/ m2 (幹基)，釉層被吸乾後釉面平整，圖案被均勻覆蓋。送入釉燒窯進行燒成，釉燒最高溫度為1125°C，燒成時間為58min。釉燒後的陶質釉面磚輸送到附圖1拋光機進磚平臺1，每隔觀件上述陶瓷釉面磚2加入兩件與上述釉面磚同等厚度規格為300mmX200mm、表面具有網狀粗糙線條紋理的無釉陶瓷素燒磚坯 3，經拋光磨頭4對表面透明釉層精拋光，拋光後磨邊、分級後包裝入倉。通過檢測拋後平整度為35、5um(釉層表面的低點與高點的落差平均值，用光學顯微鏡測得)，釉面光澤度為 92°、5°，釉下圖案紋理清晰，整體效果柔和。實施例3
將以上所述素坯放在大生產輸送線上，先淋底釉，施釉量為0. 45kg/ rrf (幹基)；接著淋乳濁面釉，施釉量為0. 38kg/m2 (幹基);按所需圖案及顏色噴墨印刷，最後淋一層加入0. 35% 羧乙基纖維素的改性透明釉，施釉量為0. 48kg/ m2 (幹基)。釉層被吸乾後釉面平整，圖案被均勻覆蓋。送入釉燒窯進行燒成，釉燒最高溫度為1130°C，燒成時間為55min。釉燒後的陶質釉面磚輸送到附圖1拋光機進磚平臺1，每隔30件上述陶瓷釉面磚2加入兩件與上述釉面磚同等厚度規格為300mmX200mm、表面具有網狀粗糙線條紋理的無釉陶瓷素燒磚坯 3，經拋光磨頭4對表面透明釉層精拋光，拋光後磨邊、分級後包裝入倉。通過檢測拋後平整度為3(T35um(釉層表面的低點與高點的落差平均值，用光學顯微鏡測得)，釉面光澤度為 93°、5°，釉下圖案紋理清晰，整體效果柔和。實施例4
5將以上所述素坯放在大生產輸送線上，先淋底釉，施釉量為0. 42kg/ in2 (幹基);接著淋乳濁面釉，施釉量為0. 40kg/ m2 (幹基)；按所需圖案及顏色噴墨印刷，最後淋一層加入0. 3% 羧乙基纖維素的改性透明釉，施釉量為0. 48kg/ m2(幹基)。釉層被吸乾後釉面平整，圖案被均勻覆蓋。送入釉燒窯進行燒成，釉燒最高溫度為1130°C，燒成時間為60min。釉燒後的陶質釉面磚輸送到附圖1拋光機進磚平臺1，每隔30件上述陶瓷釉面磚2加入兩件與上述釉面磚同等厚度規格為300mmX200mm、表面具有網狀粗糙線條紋理的無釉陶瓷素燒磚坯 3，經拋光磨頭4對表面透明釉層精拋光，拋光後磨邊、分級後包裝入倉。通過檢測拋後平整度為3(T40um(釉層表面的低點與高點的落差平均值，用光學顯微鏡測得)，釉面光澤度為 93°、6°，釉下圖案紋理清晰，整體效果柔和。
實施例5:
將以上所述素坯放在大生產輸送線上，先淋底釉，施釉量為0. 45kg/ rrf (幹基)；接著淋乳濁面釉，施釉量為0. 42kg/ m2 (幹基)；按所需圖案及顏色噴墨印刷，最後淋一層加入0. 3% 羧乙基纖維素的改性透明釉，施釉量為0. 45kg/ m2 (幹基)。釉層被吸乾後釉面平整，圖案被均勻覆蓋。送入釉燒窯進行燒成，釉燒最高溫度為1125°C，燒成時間為58min。釉燒後的陶質釉面磚輸送到附圖1拋光機進磚平臺1，每隔25件上述陶瓷釉面磚2加入兩件與上述釉面磚同等厚度規格為300mmX200mm、表面具有網狀粗糙線條紋理的無釉陶瓷素燒磚坯 3，經拋光磨頭4對表面透明釉層精拋光，拋光後磨邊、分級後包裝入倉。通過檢測拋後平整度為35、0um(釉層表面的低點與高點的落差平均值，用光學顯微鏡測得)，釉面光澤度為 92°、5°，釉下圖案紋理清晰，整體效果柔和。
權利要求
1.一種非水性油墨溼式釉下彩自銳拋光陶質釉面磚製造方法，其特徵在於，其製造方法包含如下步驟原料配比一球磨一除鐵一噴霧制粉一壓製成型一素燒一溼式釉下彩裝飾 —釉燒一自銳拋光一磨邊；其中，該自銳拋光為為防止樹脂拋光磨頭在平滑釉面上鈍化，在正常的拋光操作時，被拋光陶質釉面磚產品中加入粗糙面被拋光體，以該粗糙面被拋光體對拋光磨頭進行磨擦，使磨頭始終保持鋒利狀態。
2.如權利要求1所述的方法，其特徵在於，每隔25 30件被拋光陶質釉面磚產品中加入兩件粗糙面被拋光體。
3.如權利要求2所述的方法，其特徵在於，該粗糙面被拋光體為一種表面具有網狀粗糙線條紋理的無釉陶瓷素燒磚坯。
4.如權利要求1-3任一所述的方法，其特徵在於，所述原料配比質量百分數為石英 20%、瓷石36%、硬質粘土 5%、可塑性粘土 27%、石灰石12%。
5.如權利要求1-3任一所述的方法，其特徵在於，所述壓製成型壓力為300士lObar，所述釉燒最高燒成溫度為1125士5°C，所述釉燒燒成周期為55 60min。
6.如權利要求1-3任一所述的方法，其特徵在於，所述溼式釉下彩裝飾工藝流程為素坯一淋底釉一淋乳濁面釉一非水性油墨噴墨印刷一透明面釉改性一淋透明釉。
7.如權利要求6所述的方法，其特徵在於，所述施釉工藝參數為底釉為0.42、.^kg/ m2 (幹基)，乳濁面釉為0. 38 0. 42kg/ m2 (幹基)，透明釉為0. 45 0. 48kg/ m2 (幹基)。
8.如權利要求6所述的方法，其特徵在於，所述底釉化學組成質量百分數為 Si0263 . 68%、Α120314· 58%、Fe2O3O. 06%、Ti026. 19%、Ca02. 35%、MgO 1. 61%、K2O 4. 23%、Na2O 0. 49%、ZrO2 5. 05%、燒失量 1. 76%。
9.根據權利要求6所述的釉下彩裝飾工藝流程，其特徵在於所述乳濁面釉化學組成質量百分數為Si&56. 34%, Al2038. 58%、Fe2O3O. 06%、TiO2O. 07%、Ca07. 31%、MgO 2. 51%、K2O 4. 53%、Na2O 0. 29%、BaO 0. 61%、B2O3 1. 34%、ZnO :11. 45%、ZrO2 6. 0%、燒失量 0. 91%。
10.根據權利要求6所述的釉下彩裝飾工藝流程，其特徵在於所述透明面釉化學組成質量百分數為:Si0259 . 53%、Α12037· 54%, Fe2O3O. 14%、TiO2O. 07%、Ca013. 02%、MgO 0. 65%、K2O 4. 29%、Na2O 0. 32%、BaO 3. 20%、B2O3 1. 08%、ZnO :9. 02%、燒失量 1· 14%。
11.根據權利要求書6所述的釉下彩裝飾工藝流程，其特徵在於所述透明面釉改性為在透明釉中加入按透明釉乾料質量百分比計0. 3% 0. 35%的羥乙基纖維素，使透明釉釉漿性能轉變為一種假塑性流體，塗施在油性墨水噴墨印刷形成的的圖案紋理上，保持良好的滲透和流平性能。
全文摘要
本發明一種非水性油墨溼式釉下彩自銳拋光陶質釉面磚製造方法，其特徵在於，其製造方法包含如下步驟原料配比→球磨→除鐵→噴霧制粉→壓製成型→素燒→溼式釉下彩裝飾→釉燒→自銳拋光→磨邊；其中，該自銳拋光為為防止樹脂拋光磨頭在平滑釉面上鈍化，在正常的拋光操作時，被拋光陶質釉面磚產品中加入粗糙面被拋光體，以該粗糙面被拋光體對拋光磨頭進行磨擦，使磨頭始終保持鋒利狀態。其優點為生產的製品既具有陶質磚的強度高，色彩鮮豔，圖案紋理豐富，又具有拋光產品表明平整度高、光澤度好的拋光陶質釉面磚製品；同時其生產工藝具有工藝簡單、生產成本低、燒成周期短、能耗低、拋光工藝簡單，適合於規模化生產和普通消費者需求。
文檔編號C04B41/86GK102417373SQ20111026193
公開日2012年4月18日 申請日期2011年9月6日 優先權日2011年9月6日
發明者葉德林, 李輝, 洪衛, 黃詩成 申請人:佛山市三水新明珠建陶工業有限公司, 廣東新明珠陶瓷集團有限公司