Liti施體膜的製作方法
2023-06-04 18:58:16
Liti施體膜的製作方法
【專利摘要】本發明提供一種雷射熱轉寫（LITI）施體膜，包括：基膜、助粘劑層、光熱轉換層、中間層以及轉印層，其中，所述光熱轉換層包括樹脂組合物，這種樹脂組合物包括熱固性樹脂和光熱轉換材料，所述中間層包括紫外光固化樹脂並且表面能為35mN/m或35mN/m以下。
【專利說明】LITI施體膜
【技術領域】
[0001]本發明涉及一種雷射熱轉寫(LITI)施體膜，具體地說，本發明涉及一種具有雷射熱轉寫形成元件的LITI施體膜，這種雷射熱轉寫形成元件會用於LITI方法中，或者是類似於所述LITI方法的過程中。
【背景技術】
[0002]最近，在顯示器設備的【技術領域】內，有一種發展傾向，即通過少量的能量來提供優良的可見度。由於有機發光設備(OLED)消耗的能量比現有發光機制消耗的能量要少，因此，對於使用這種有機發光設備的顯示器設備而言，它的發展頗具競爭力。
[0003]為了建構這種採用OLED的顯示器設備的全色顯示器，用於將色彩圖案化到發光設備上的方法的選擇十分重要；結果，根據用於形成對發光設備的色彩有決定作用的OLED有機層的方法的不同，建構效果也有差別。用於形成OLED中的有機層的方法包括沉積法、噴墨方案、雷射熱轉寫(LITI)法，或類似方法。雷射熱轉寫法通常用於LITI法，用於將雷射器發射的光轉換為熱量，然後利用轉換得到的熱量，將轉印層轉印到OLED基片上，由此形成OLED中的有機層。在韓國專利N0.10-0700828中描述了所述轉印方法或類似方法。LITI法的優點例如，所形成的圖案解析度高，膜厚度均勻，能夠建構多層，並且具有向大尺寸的母體玻璃的可擴展性。
[0004]在LITI法中，LITI施體膜是決定性的媒介，用於將光轉換成熱量以在發光設備的基片上形成圖案，它包括具有紅色像素區域(R)、綠色像素區域(G)、藍色像素區域(B)的轉印層。在LITI施體膜的結構中，基膜、光熱轉換層以及轉印層依次層壓。LITI施體膜選擇性地包括介於光熱轉換層與轉印層之間的中間層，以防止光熱轉換層中所含的材料轉印到轉印層中。
[0005]在通過LITI過程將雷射輻照到LITI施體膜上的情況中，雷射的光能轉換成光熱轉換層中的熱能，因此光熱轉換層和中間層在熱量的作用下發生體積膨脹，導致轉印層在體積膨脹的作用下轉印到OLED基片上。
[0006][相關技術文獻]
[0007](專利文獻I)韓國專利N0.10-0700828 (2007年3月21號)。
【發明內容】
[0008][技術問題]
[0009]光熱轉換層的體積均勻膨脹可以導致從轉印層轉印得到平滑均勻的表面，從而優選地建構出轉印圖案，發明人據此完成了本發明。本發明的一個目標在於提供一種LITI施體膜，其能夠在通過LITI法對轉印層進行轉印時，讓轉印層所轉印的表面平滑而均勻。
[0010]此外，通過優化中間層的鉛筆硬度，即使是對於受體具有3D形狀情況中的彎折部分，也可以均勻地形成轉印層，發明人據此完成了本發明。也就是說，本發明的另一個目標在於提供一種LITI施體膜,其具有中間層,所述中間層具有優良的隨形(form following)能力。
[0011][技術方案]
[0012]為了實現目標，本發明涉及一種雷射熱轉寫(LITI)施體膜，包括:基膜、助粘劑層、光熱轉換層、中間層以及轉印層，特徵在於所述光熱轉換層和所述中間層的組成和厚度。
[0013]具體來說，發明人致力解決以下問題:在光熱轉換層中使用的是紫外光固化樹脂的情況中，可能會由於固化過度造成沒有發泡，也可能會因為發泡而造成在轉印後，轉印得到的表面上產生了邊緣開口現象，邊緣開口現象是指，在如圖1所示對轉印層進行轉印的情況中，彎折部分或有角度的邊緣部分沒有完成轉印的現象；接著，發明人發現，用熱固性樹脂代替紫外光固化樹脂可以改善這種邊緣開口現象。圖1是截面圖，描述在轉印後，轉印得到的表面上產生的邊緣開口現象，該圖顯示了受體200、轉印層300以及邊緣開口 100。
[0014]但是，在使用熱固性樹脂來形成光熱轉換層時，如果光熱轉換材料沒有得到均勻地分散，而是有部分粘連，那麼在雷射輻照時，粘連部分可能會產生過量的熱而遭燒毀，也可能會產生電報現象(telegraphic phenomenon),即，在塗布了中間層後,轉換層的表面形態直接顯現在中間層上。
[0015]此外，在將形成像素的層塗布到光熱轉換層上然後轉印的情況中，轉印層的表面不平滑。因此，為了解決上述問題，光熱轉換層在乾燥後的塗布量控制在lg/m2到3.5g/m2，中間層的厚度控制在1.0 μ m到3.5 μ m，光熱轉換層使用的光熱轉換材料的含量則控制在20wt% 到 40wt%。
[0016]此外，為了防止光熱轉換材料因為粘連而導致局部產生過量的熱，執行第一捏合或混合過程、第二研磨過程以及第三過濾過程來解決粘連問題。此外，為了使研磨效果最佳，可以使用氧化的炭黑，也可以使用鋁基分散劑等添加劑。發明人發現，在解決了炭黑粘連問題後，轉印層的表面明顯變得平滑，邊緣開口現象也沒有發生，因此轉印成功地完成，本發明因此而實現。
[0017]轉印得到的轉印層的表面明顯變得平滑，邊緣開口現象也沒有發生，這對於形成高解析度的顯示器來說十分重要。如上所述，採用根據本發明的LITI施體膜，如果光熱轉換層在乾燥後的塗布量控制在lg/m2到3.5g/m2，中間層的厚度控制在1.0 μ m到3.5 μ m，光熱轉換層使用的光熱轉換材料的含量控制在20wt%到40wt%，那麼光熱轉換層的表面能是35mN/m或35mN/m以下,其表面粗糙度是20nm或20nm以下。如果光熱轉換層的表面粗糙度處於上述範圍內，那麼轉印層的表面便是平滑而均勻的。
[0018]為了實現目標，本發明涉及一種雷射熱轉寫(LITI)施體膜，包括:基膜、助粘劑層、光熱轉換層、中間層以及轉印層，特徵在於所述中間層的硬度。
[0019]具體地說，發明人發現，如果中間層的硬度過高，那麼隨形能力便會降低，導致發生邊緣開口現象，從而在具有彎折部分的受體部分沒能執行轉印；或者，即使發生了轉印，沿彎折部分轉印仍不能均勻地執行，這樣便降低了顯示器的解析度。
[0020]為解決這個問題而進行的研究證明，中間層的表面粗糙度是一個重要的影響因素。因此，如果中間層的鉛筆硬度超過H，那麼隨形能力便會降低，因此容易產生邊緣開口現象；即使沒有產生邊緣開口現象，彎折受體的彎折表面仍然不能得到均勻地填充，結果降低了顯示器的解析度。因此，為了解決這個問題，優選地，中間層的鉛筆硬度是H或更小。更優選地，鉛筆硬度是HB或更小。
[0021]在一個總體方面中，一種雷射熱轉寫(LITI)施體膜包括:基膜、助粘劑層、光熱轉換層、中間層以及轉印層，其中所述光熱轉換層包括樹脂組合物，這種樹脂組合物包括熱固性樹脂和光熱轉換材料，所述中間層包括紫外光固化樹脂、矽基樹脂或氟基樹脂，並且表面能為35mN/m或35mN/m以下。
[0022]所述中間層的表面能可以是18mN/m到35mN/m。
[0023]所述中間層的表面能可以是18mN/m到25mN/m。
[0024]所述光熱轉換層的表面粗糙度(Ra)可以是20nm或20nm以下。
[0025]在所述光熱轉換層中，所述熱固性樹脂可以是聚氨酯類樹脂，並且所述光熱轉換材料是炭黑。
[0026]所述聚氨酯類樹脂可以從聚酯型聚氨酯和聚碳酸酯型聚氨酯中選擇。
[0027]所述光熱轉換材料的含量可以是20wt%到40wt%。
[0028]所述光熱轉換材料可以分散在溶劑以及從以下物質中選出的任何一種或兩種或兩種以上的樹脂中:聚氯乙烯、聚氯乙烯-聚乙烯乙酸酯共聚物以及熱固性聚氨酯。
[0029]所述光熱轉換層可以進一步包括熱塑性樹脂，其含量不超過樹脂全部組成的50wt%o
[0030]所述光熱轉換層在乾燥後的塗布量可以是lg/m2到3.5g/m2。
[0031]所述中間層的厚度可以是1.0 μ m到3.5 μ m。
[0032]在另一個總體方面中，一種雷射熱轉寫(LITI)施體膜包括:基膜、助粘劑層、光熱轉換層、中間層以及轉印層，其中所述中間層的鉛筆硬度是H或更小。
[0033]所述中間層可以通過塗布和固化紫外光固化樹脂組合物來獲得。
[0034]所述紫外光固化樹脂組合物可以包括從由以下物質組成的群組中選出的至少一種紫外光固化樹脂:氨酯丙烯酸酯、環氧丙烯酸酯、聚酯丙烯酸脂、矽丙烯酸酯以及引發劑。
[0035]所述紫外光固化樹脂組合物可以進一步包括從由以下物質組成的群組中選出的至少一種熱塑性樹脂:聚氨酯樹脂、丙烯酸酯類樹脂、聚酯類樹脂以及氨酯丙烯酸酯共聚物。
[0036]所述紫外光固化樹脂組合物可以進一步包括氟基添加劑或矽基添加劑。
[0037][有益效果]
[0038]採用根據本發明的LITI施體膜，根據光熱轉換層的表面粗糙度選擇中間層的最佳厚度，以此可以確保中間層具有均勻的表面。因此，在最終的轉印層執行了轉印後，可得到均勻的轉印表面，這樣便優化了顯示器的解析度。
[0039]此外，本發明可以提供具有優良的隨形能力的LITI施體膜。因此，在最終的轉印層執行了轉印後，可得到具有優良的隨形能力的均勻的轉印表面，這樣便優化了顯示器的
解析度。
【專利附圖】
【附圖說明】
[0040]以下結合【專利附圖】
【附圖說明】優選實施例，本發明的上述以及其他目標、特徵和優點可以通過這些內容得到更清楚地了解，附圖中:
[0041]圖1是描述在現有技術的轉印表面上產生的邊緣開口現象的截面圖；以及[0042]圖2是圖示了根據本發明的雷射熱轉寫(LITI)施體膜的層壓結構的實施例的截面圖。
[0043][主要元件符號說明]
[0044]
【權利要求】
1.一種雷射熱轉寫(LITI)施體膜，包括:基膜、助粘劑層、光熱轉換層、中間層以及轉印層， 其中所述光熱轉換層包括樹脂組合物，這種樹脂組合物包括熱固性樹脂和光熱轉換材料，所述中間層包括紫外光固化樹脂並且表面能為35mN/m或35mN/m以下。
2.根據權利要求1所述的LITI施體膜，其中所述中間層的表面能為18mN/m到35mN/m0
3.根據權利要求2所述的LITI施體膜，其中所述中間層的表面能為18mN/m到25mN/ m0
4.根據權利要求1所述的LITI施體膜，其中所述光熱轉換層的表面粗糙度(Ra)為20nm或20nm以下。
5.根據權利要求1所述的LITI施體膜，其中在所述光熱轉換層中，所述熱固性樹脂是聚氨酯類樹脂，並且所述光熱轉換材料是炭黑。
6.根據權利要求5所述的LITI施體膜，其中所述聚氨酯類樹脂從聚酯型聚氨酯和聚碳酸酯聚氨酯中選擇。
7.根據權利要求1所述的LITI施體膜，其中所述光熱轉換材料的含量是20wt%到40wt%o
8.根據權利要求1所述的LITI施體膜，其中所述光熱轉換材料分散在一種溶劑與任何一種、或兩種或兩種以上的從以下物質中選出的樹脂中:聚氯乙烯、聚氯乙烯-聚醋酸乙烯酯共聚物以及熱固性聚氨酯。
9.根據權利要求1所述的LITI施體膜，其中所述光熱轉換層進一步包括熱塑性材料，其含量不超過總樹脂組合物的50wt%。
10.根據權利要求1所述的LITI施體膜，其中所述光熱轉換層在乾燥後的塗布量是lg/ m2到 3.5g/ m2。
11.根據權利要求1所述的LITI施體膜，其中所述中間層的厚度是1.0 μ m到3.5 μ m。
12.根據權利要求1所述的LITI施體膜，其中所述中間層的紫外光固化樹脂是氟取代的紫外光固化樹脂。
13.根據權利要求1所述的LITI施體膜，其中所述中間層進一步包括矽基樹脂或氟基樹脂。
14.根據權利要求1所述的LITI施體膜，其中所述中間層的鉛筆硬度是H或更小，該硬度採用JIS K5400測得。
15.一種雷射熱轉寫施體膜，包括:基膜、助粘劑層、光熱轉換層、中間層以及轉印層， 其中採用JIS K5400測得的所述中間層的鉛筆硬度是H或更小。
16.根據權利要求15所述的LITI施體膜，其中所述中間層是通過對紫外光固化樹脂組合物進行塗布和固化來獲得。
17.根據權利要求15所述的LITI施體膜，其中所述中間層的表面能為35mN/m。
18.根據權利要求15所述的LITI施體膜，其中所述紫外光固化樹脂組合物包括引發劑以及從由以下物質組成的群組中選出的至少一種紫外光固化樹脂:聚氨酯丙烯酸酯、環氧丙烯酸酯、聚酯丙烯酸脂以及矽丙烯酸酯。
19.根據權利要求18所述的LITI施體膜，其中所述紫外光固化樹脂組合物進一步包括從由以下物質組成的群組中選出的至少一種熱塑性樹脂:聚氨酯樹脂、丙烯酸酯類樹脂、聚酯類樹脂以及氨酯丙烯酸酯共聚物。
20.根據權利要求18所述的LITI施體膜，其中所述紫外光固化樹脂組合物進一步包括氟基添加劑或矽基添加劑。
21.一種雷射熱轉寫施體膜，包括:基膜、助粘劑層、光熱轉換層、中間層以及轉印層， 其中所述光熱轉 換層包括樹脂組合物，這種樹脂組合物包括熱固性樹脂和光熱轉換材料，所述中間層包括紫外光固化樹脂並且表面能為35mN/m或35mN/m以下，並且採用JISK5400測得的鉛筆硬度為H或更小。
【文檔編號】H01L51/52GK103620810SQ201280029624
【公開日】2014年3月5日 申請日期:2012年6月14日 優先權日:2011年6月15日
【發明者】金鐘沅, 白尚鉉, 金時敏 申請人:可隆工業株式會社