光學補償片、偏振片和液晶顯示裝置的製作方法

2023-10-17 20:11:14 1

專利名稱：：光學補償片、偏振片和液晶顯示裝置的製作方法
技術領域：
：本發明涉及光學補償片、偏振片和液晶顯示裝置。更具體地說，本發明涉及包含基於環狀烯烴的加成聚合物作為基膜的光學補償片。
背景技術：
：偏振片典型地通過在由取向並吸附到聚乙烯醇上的碘或二色性染料形成的偏振膜兩側上粘接作為保護膜的主要由三乙酸纖維素形成的膜來製備。三乙酸纖維素具有在剛性、阻燃性和光學各向同性(低延遲值)方面高的特徵，並且廣泛用於上述偏振片保護膜。液晶顯示裝置由偏振片和液晶元件形成。當今，作為液晶顯示裝置主流的TN-模式TFT液晶顯示裝置通過在偏振片和液晶元件之間插入光學補償片實現了高的顯示可見度，如JP-A-8-50206中所述。但是，乙酸纖維素因為具有高的吸水或滲水性並因此導致光學補償性質的變化或者起偏器的劣化而是不利的。此外，TN液晶顯示裝置因為它們在打開電源後隨著時間消逝在屏幕四邊上表現出漏光而是不利的。另外，VA-模式液晶顯示裝置因為它們在打開電源後隨著時間消逝在屏幕四邊上表現出漏光而是不利的。環狀聚烯烴膜已經以在三乙酸纖維素膜的吸溼性或透溼性方面的改善並且隨環境溫度和溼度的變化光學特性表現出很小變化而著稱，並且該環狀聚烯烴膜已經使用熱熔成膜方法或溶液成膜方法作為用於偏振片和液晶顯示裝置的膜而開發。專利文獻1公開了包含層合在由基於環狀烯烴的開環聚合產物而形成的基膜上的光學各向異性層的光學補償片。但是，該基於開環聚合物的聚烯烴膜趨向於在面內延遲和厚度方向的延遲方面都是低的，並因此在不拉伸時是光學各向同性的，但是在拉伸時面內延遲和厚度方向的延遲都是趨向於上升。因此，該基於開環聚合物的聚烯烴膜只允許簡單的光學補償。因此，甚至當該基於開環聚合物的聚烯烴膜結合光學各向異性層來製備光學補償片時，所得的光學補償片在光學特性如面內延遲和厚度方向延遲的設計方面具有有限的自由度。因此，該基於開環聚合物的聚烯烴膜不適合用於TN液晶顯示裝置或OCB液晶顯示裝置的視角改善。[專利文獻1]JP-A-2004-246338
發明內容本發明要解決的問題本發明的目的是提供一種光學補償片，其光學特性隨環境溫度和溼度的變化很小並且其具有面內延遲Re和厚度方向延遲Rth的高的設計自由度。本發明的另一個目的是提供一種具有這種優異的光學補償片的偏振片和液晶顯示裝置。解決問題的方法
技術領域：
：本發明人進行了廣泛的研究。結果發現當使用基於環狀烯烴的加成聚合物作為構成光學補償片的基膜的聚合物時，可以自由地控制面內延遲和厚度方向延遲，從而可以設計適於各種模式液晶顯示裝置的光學補償片。通過改變包含基於環狀烯烴的加成聚合物的基膜中的基於環狀烯烴的加成聚合物的結構或者拉伸該基膜，可以得到具有各種光學特性的基膜如光學各向同性的基膜和具有很大光學各向異性的基膜。特別是可以得到迄今難以製備的相對於面內延遲厚度方向延遲是很大的基膜。因此，成功地提高了結合了光學各向異性層的光學補償片的光學特性的設計自由度。本發明涉及下面的部分。(1)一種光學補償片，其包含層合在包含基於環狀烯烴的加成聚合物的基膜上的光學各向異性層。(2)如上面(l)中所述的光學補償片，其中所述基於環狀烯烴的加成聚合物是包含至少一個由下面通式(I)代表的重複單元和至少一個由下面通式(II)代表的環狀重複單元的共聚物通式(I)formulaseeoriginaldocumentpage8通式(n)其中m代表0-4的整數；Ri-R4每個代表氫原子或C「C1烴基；禾口^-乂2和V-YZ每個代表氫原子、C廣Cu)烴基、滷素原子、由卣素原子取代的C廣do烴基、-(CHACOOR11、-(CH2)nOOCR12、formulaseeoriginaldocumentpage8-(CH2)nNCO、-(CH2)nN02、-(CH2)nCN、-(CH2)nCONR13R14、-(CH2)nNR13R14、-(CH2)nOCOZ、-(CH2)nOZ、-(CH2)nW或者由X1和丫1或者乂2和Y2形成(-co)20或(-co)2NR15，其中r11、r12、r13、r14和R"每個代表cn:2烴基，z代表烴基或者由滷素取代的烴基，w代表SiR16pD3-p，其中R"代表C「Co烴基，D代表滷素原子、-OCOR16或-OR16並且p代表0-3的整數，並且n代表0-10的整數。(3)如上面(l)中所述的光學補償片，其中所述基於環狀烯烴的加成聚合物是包含一種由通式(ii)代表的重複單元的聚合物或者是包含至少兩種由通式(ii)代表的環狀重複單元的共聚物。(4)如上面(3)中所述的光學補償片，其中所述光學補償片的厚度方向延遲Rth滿足下面的表達式40nm《Rth(630)《300nm其中Rth(X)表示在波長人nm下測量的Rth。(5)如上政l)-(4)任何一項中所述的光學補償片，其中所述基膜包含以0.01-0.3質量％的比例結合在其中的初級顆粒粒徑為1nm-20的粒狀材料。(6)如上面(l)-(5)任何一項中所述的光學補償片，其中所述光學各向異性層包括盤狀液晶層。(7)如上面(l)-(5)任何一項中所述的光學補償片，其中所述光學各向異性層包括棒狀液晶層。(8)如上面(l)-(5)任何一項中所述的光學補償片，其中所述光學各向異性層包括聚合物膜。(9)如上面(8)中所述的光學補償片，其中構成所述光學各向異性層的聚合物膜包含選自聚醯胺、聚醯亞胺、聚酯、聚醚酮、聚醯胺醯亞胺、聚酯醯亞胺和聚芳醚酮中的至少一種聚合物材料。(10)如上面(l)-(9)任何一項中所述的光學補償片，其中包含所述基於環狀烯烴的加成聚合物的基膜通過以下的步驟來形成在環形的金屬載體上流鑄作為起始原材料的溶液的步驟，乾燥所述溶液直至殘留揮發度達到5-60質量％的步驟，在0.25N/cm或更小的剝離阻力下從金屬載體上剝離幹的溶液的步驟，和乾燥並且纏繞剝離的溶液，其中所述溶液包含10-35質量％的基於環狀烯烴的加成聚合物和作為主要溶劑的氟基有機溶劑。(11)如上面(10)中所述的光學補償片，其中所述氟基有機溶劑包含50質量％或更多的二氯甲垸，並且在20-100t:下溶解所述基於環狀烯烴的加成聚合物來製備所述溶液。(12)如上面(10)或(11)中所述的光學補償片，其中所述溶液包含相對於每100質量份的基於環狀烯烴的加成聚合物為3-100質量份的基於環狀烯烴的加成聚合物的不良溶劑。(13)如上面(12)中所述的光學補償片，其中所述不良溶劑包括沸點為12(TC或更低的醇。(14)如上面(l)-(9)任何一項中所述的光學補償片，其中所述包含基於環狀烯烴的加成聚合物的基膜包含0.05-3質量％的表面活性劑。(15)—種偏振片，其包含起偏器；和兩片布置在其各自側上的保護膜，其中所述兩片保護膜中至少一片是如上面(1)-(14)任何一項中所述的光學補償片。(16)—種液晶顯示裝置，其包含至少一片如上面(15)中所述的偏振片。該液晶顯示裝置優選是下面形式中的任一種。(17)—種如上面(16)中所述的TN-模式液晶顯示裝置，其中構成結合在所述液晶顯示裝置中的偏振片的兩片保護膜中至少一片表現出15nm或更小的面內延遲Re(630)和不小於40nm至不大於120nm的厚度方向延遲Rth(630)，並且在其上面層合盤狀液晶層。(18)—種如上面(16)中所述的VA模式的VA液晶顯示裝置，其中構成結合在所述液晶顯示裝置中的偏振片的兩片保護膜中至少一片表現出15nm或更小的面內延遲Re(630)和不小於120nm至不大於300nm的厚度方向延遲Rth(630)，並且在其上面層合棒狀液晶層。(19)一種如上面(16)中所述的OCB模式的OCB液晶顯示裝置，其中構成結合在所述液晶顯示裝置中的偏振片的兩片保護膜中至少一片表現出不小於30nm至不大於70nm的面內延遲Re(630)和不小於120nm至不大於300nm的厚度方向延遲Rth(630)，並且在其上面層合盤狀液晶層。Re(AO和Rth(X)分別是在波長bim下測量的Re和Rth。本發明的優點根據本發明，可以獲得光學特性的變化隨環境溫度和溼度變化很小並且具有面內延遲Re和厚度方向延遲Rth的高的設計自由度的光學補償片。還可以獲得具有這種優異的光學補償片的偏振片和液晶顯示裝置。根據本發明，通過調節包含基於環狀烯烴的加成聚合物的基膜的光學特性，可以製備出適於各種模式例如TN、VA、OCB和IPS模式的液晶顯示裝置的具有光學補償能力的光學補償片和偏振片。本發明的液晶顯示裝置隨著時間消逝表現出很小的漏光或者沒有漏光。具體實施例方式下文將進一步說明本發明。[由基於環狀烯烴的加成聚合物形成的基膜](基於環狀烯烴的加成聚合物)基於環狀烯烴的加成聚合物的實例包括(1)降冰片烯基聚合物、(2)單環狀烯烴聚合物、(3)環狀共軛聚合物、(4)乙烯基-脂環烴聚合物、和聚合物(l)-(4)的氫化物。從光學特性、耐熱性、機械強度等角度，這些聚合物中優選的是降冰片烯基聚合物、其氫化物、乙烯基-脂環烴聚合物、其氫化物等。優選用於本發明的聚合物是包含至少一個由下面通式(I)代表的重複單元和至少一個由下面通式(n)代表的環狀重複單元的降冰片烯基加成(共)聚合物。通式(I)1通式(n)formulaseeoriginaldocumentpage12其中m代表0-4的整數；R'-W每個代表氫原子或d-d。烴基；和X^XZ和YLyZ每個代表氫原子、d-Cu)烴基、滷素原子、由滷素原子取代的ch:,。烴基、-(ch^coor11、-(ch2)noocr12、-(CH2)nNCO、-(CH2)nN02、-(CH2)nCN、-(CH2)nCONR13R4、-(CH2)nNR13R14、-(CH2)nOCOZ、-(CH2)nOZ、-(CH2)nW或者由X1和y'或者X2和Y2形成(-co)20或(-co)2NR15，其中r11、r12、r13、r14和R"每個代表d-C2。烴基，Z代表烴基(優選具有l-10個碳原子)或者由滷素取代的烴基(優選具有1-10個碳原子)，W代表SiR"pD3一p(其中R"代表C廣do烴基，D代表滷素原子、-0(20尺16或-0尺16，和p代表0-3的整數)，和n代表0-10的整數。在JP-A-10-7732、JP-T-2002-504184、WO2004/070463Al等中公開了降冰片烯基加成(共)聚合物。這些降冰片烯基加成(共)聚合物通過降冰片烯基多環不飽和化合物的加成聚合或者通過降冰片烯基多環不飽和化合物與共軛二烯如乙烯、丙烯、丁烯、丁二烯和異戊二烯、非共軛二烯如亞乙基降冰片烯或者化合物如丙烯腈、丙烯酸、甲基丙烯酸、馬來酐、丙烯酸酯、甲基丙烯酸酯、馬來醯亞胺、乙酸乙烯酯和氯乙烯的加成聚合來製備。這種降冰片烯基加成(共)聚合物可以以商標"Apel"從MitsuiChemicals公司商購。Apel等級包括具有不同玻璃化轉變溫度(Tg)，例如APL8008T(Tg:70。C)、APL6013T(Tg:125。C)、APL6015T(Tg:145。C)的那些產品。此外，粒狀降冰片烯基加成(共)聚合物可以以商標TOPAS8007、TOPAS6013、TOPAS6015等從Polyplastics有限公司商購。在本發明的降冰片烯基加成(共)聚合物中，由通式(I)代表的重複單元與由通式(n)代表的環狀重複單元的摩爾比為0:100-90:10，優選0:100-70:30。更優選本發明的降冰片烯基加成(共)聚合物是包含至少一種由通式(II)代表的環狀重複單元的聚合物或者包含至少兩種由通式(II)代表的環狀重複單元的共聚物。在本發明的降冰片烯基加成(共)聚合物是包含至少兩種由通式(n)代表的環狀重複單元的共聚物的情況中，優選乂2和/或￥2取代基之一是親水基團或者具有高極性的基團，而另一個基團是疏水基團或者具有低極性的基團。這種布置發揮了控制膜的親水性或滲水性的作用。此外，通過修飾本發明的基於環狀烯烴的加成聚合物的結構或者拉伸基膜，可以得到具有各種光學特性的基膜如光學各向同性膜和具有很大光學各向異性的基膜。特別是可以得到迄今難以製備的相對於面內延遲厚度方向延遲很大的基膜。有些詳細地說，如果進行降冰片烯基加成(共)聚合物結構的修飾，優選通過降低通式(i)的重複單元的比例並且提高通式(n)的重複單元的比例來進行。如果進行基膜的拉伸，可以通過用於醯化纖維素膜的方法，例如拉幅機拉伸來進行。通過適當地改變拉伸比，可以得到所需的光學特性。(添加劑)可以根據在各種製備過程中的用途向本發明的基於環狀烯烴的加成聚合物溶液中添加各種添加劑(例如防止劣化劑、紫外線吸收劑、延遲(光學各向異性)控制劑、顆粒、剝離促進劑、紅外線吸收劑等)，並且其可以是固態或者油態。即，這些添加劑在熔點或沸點方面沒有特別限制。例如，所用的添加劑可以是在高於2(TC和低於2(TC下的紫外線吸收材料的混合物或者在相同溫度下的防止劣化劑的混合物。另夕卜，例如在日本專利申請公開第2001-194522號中公開了紅外線吸收染料。可以在濃液製造過程中間或者在濃液製造過程最後步驟中加入添加劑。只要添加劑作用良好，添加劑的添加量沒有特別限制。如果包含基於環狀烯烴的加成聚合物的基膜(下文也稱作基於環狀烯烴的加成聚合物，或者環狀聚烯烴的基膜)是多層的，每層中的添加劑種類和用量可以改變。(防止劣化劑)可以向本發明的基於環狀烯烴的加成聚合物的基膜中加入防止劣化(氧化)劑，例如基於酚或者基於對苯二酚的抗氧化劑，例如2,6-叔丁基-4-甲基酚、4,4'-硫代二(6-叔丁基-3-甲基酚)、1，1'-二(4-羥基苯基)環己烷、2，2'-亞甲基二(4-乙基-6-叔丁基酚)、2，5-二叔丁基對苯二酚、四[3-(3,5-二叔丁基-4-羥基苯基)丙酸]季戊四醇酯(pentaerytrityl)等。另外，優選添加磷基抗氧化劑例如三(4-甲氧基-3,5-二苯基)亞磷酸鹽、三(壬基苯基)亞磷酸鹽、三(2，4-二叔丁基苯基)亞磷酸鹽、二(2,6-二叔丁基-4-甲基苯基)季戊四醇亞磷酸酯、二(2,4-二叔丁基苯基)季戊四醇亞磷酸酯等。抗氧化劑的添加量相對100質量份基於環狀烯烴的加成聚合物優選為0.05-5.0質量份。(紫外線吸收劑)為了防止偏振片或液晶劣化，紫外線吸收劑優選用於基於環狀烯烴的加成聚合物的基膜。從液晶顯示裝置性能的角度，優選紫外線吸收劑具有高的吸收波長小於370nm的紫外線的能力和低的吸收波長大於400nm的可見光的能力。優選用於本發明的紫外線吸收劑的實例可以包括受阻酚基化合物、羥二苯甲酮基化合物、苯並三唑基化合物、水楊酸酯基化合物、二苯甲酮基化合物、氰基丙烯酸酯基化合物、鎳配合物基化合物等。受阻酚基化合物的實例可以包括2,6-二叔丁基-對crezole、四[3-(3,5-二叔丁基-4-羥基苯基)丙酸]季戊四醇酯、N,N'-六亞甲基二(3,5-二叔丁基-4-羥基氫化肉桂醯胺)、1，3,5-三甲基-2,4,6-三(3,5-二叔丁基-4-羥基苄基)苯、三(3，5-二叔丁基-4-羥基苄萄-異氰尿酸酯等。苯並三唑基化合物的實例可以包括2-(2'-羥基-5'-甲基苯基)苯並三唑、2,2-亞甲基二(4-(l,l，3,3-四甲基丁基)-6-(2H-苯並三唑-2-基)苯酚)、(2,4-二-(正oxtyl硫代)-6-(4-羥基-3，5-二叔丁基苯胺)-l,3，5-三嗪、二[3-(3-叔丁基-5-甲基-4-羥基苯基)丙銜三乙二醇酯、N，N'-六亞甲基二(3,5-二叔丁基-4-羥基氫化肉桂醯胺(hydroxyhydrocinamide))、1,3,5-三甲基-2,4,6-三(3，5-二叔丁基-4-羥基苄基)苯、2(2'-羥基-3',5'-二叔丁基苯基)-5-氯苯並三唑、(2(2'-羥基-3'，5'-二叔戊基苯基)-5-氯苯並三唑、(2(2'-羥基-3',5'-二叔戊基苯基)-5-氯苯並三唑、2,6-二叔丁基-對crezole、四[3-(3,5-二叔丁基-4-羥基苯基)丙酸]季戊四醇酯等。紫外線吸收劑的添加量相對於基於環狀烯烴的加成聚合物優選為1ppm-1.0%，更優選10-1000ppm質量比。(消光劑)在本發明中，為了在處理基於環狀烯烴的加成聚合物的製造的基膜時防止發生刮痕或者防止使可轉移性劣化，優選添加顆粒(消光劑)。消光劑的實例可以包括優選無機化合物如含矽化合物、二氧化矽、氧化鈦、氧化鋅、氧化鋁、氧化鋇、氧化鋯、氧化鍶、氧化銻、氧化錫、錫-銻氧化物、碳酸鈣、滑石、粘土、燒結的矽酸鈣、水合矽酸鈣、矽酸鋁、矽酸鎂、磷酸鈣等。其中，消光劑更優選是含矽的無機化合物或氧化鋯，特別優選二氧化矽，因為它能降低膜的霧度。二氧化矽顆粒的實例可以包括AerosilR972、R974、R812、200、300、R202、OX50、Tr600等(可從NIPPONAEROSIL有限公司獲得)。為了抑制霧度至低的水平，這種消光劑的初級平均粒徑優選為1nm-20pm，更優選1nm-10(im，再更優選2nm—1pm，並且特別優選5nm-0.5,。可以使用透射電子顯微鏡測量消光劑的初級平均粒徑。購買的顆粒經常聚集，並且優選在使用前通過已知的方法分散這種購買的顆粒。分散顆粒，使得次級平均粒徑優選為0.1-1.5pm，更優選0.2-1.0pm。結合在基於環狀烯烴的加成聚合物中的消光劑的量優選為0.01-0.3質量％，更優選0.05-0.15質量％，再更優選0.08—0.08質量0/0。添加了顆粒的環狀聚烯烴膜的霧度範圍優選為2.0%，更優選小於1.2%，再更優選小於0.5%。添加了顆粒的環狀聚烯烴膜的動摩擦係數優選小於0.8，特別優選小於0.5。動摩擦係數可以根據由JIS或ASTM指定的方法使用鋼球測量。可以使用1001DP型霧度計(可從NipponDenshokuIndustries有限公司獲得)測量霧度。(剝離劑)當從環形金屬載體上剝離基於環狀烯烴的加成聚合物時，如果需要為了降低剝離負載(剝離阻力)並且防止膜在成膜方向上不規則地被拉伸，可以在濃液中添加表面活性劑。優選用於降低基於環狀烯烴的加成聚合物的剝離阻力的表面活性劑可以包括例如磷酸酯基表面活性劑、羧酸或羧酸鹽基表面活性劑、磺酸或磺酸鹽基表面活性劑、硫酸酯基表面活性劑等。RZ-1C8H170-P(=0)-(OH)2RZ畫2C12H250-P(=0)-(OK)2RZ-3C12H25OCH2CH20-P(=0)-(OK)2RZ-4C15H31(OCH2CH2)50-P(=0)-(OK)2RZ-5{C12H250(CH2CH20)5}2-P(=0)-OHRZ-6{C18H35(OCH2CH2)80}2-P(=0)-ONH4RZ-7(t-C4H9)3-C6H2-OCH2CH20-P(=0)-(OK)2RZ-8(異-C9H,9-C6H4-0-(CH2CH20)5-P^O)-(OK)(OH)RZ-9C12H25S03NaRZ-10C12H25OS03NaRZ-11C17H33COOHRZ-12C17H33COOHN(CH2CH2OH)3RZ-13異—C8Hn17-C6H4-0-(CH2CH20)3-(CH2)2S03NaRZ-14(異-C9H,9)2畫t6H3-0-(ch2ch20)3-(ch2)4S03NaRZ-15三異丙基萘磺酸鈉RZ-16三叔丁基萘磺酸鈉RZ-17C17H33CON(CH3)CH2CH2S03NaRZ-18C12H25-C6H4S03-NH4表面活性劑的添加量相對於環狀聚烯烴優選為0.005-5質量％，更優選0.01-2質量％，最優選0.05-5質量％。具有氟原子的聚合物，例如具有全氟烷基的丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯的單體的聚合物可以優選用作優選用來降低基於環狀烯烴的加成聚合物膜的剝離阻力。下面將說明具有氟原子的聚合物作為剝離劑(也稱作本發明的含氟聚合物)。本發明的含氟聚合物的實例可以包括如在JP-A-2001-269564中公開的聚合物。通過聚合作為基本組分的包含含氟代垸基的烯鍵式不飽和單體(單體A)的單體獲得的聚合物優選用作所述具有氟原子的聚合物。該聚合物涉及的含氟代烷基的烯鍵式不飽和單體(單體A)沒有特別限制，只要所述單體是分子中包含烯鍵式不飽和基團和氟代烷基的化合物。單體A優選包含丙烯酸酯基團及其類似基團，具體地說由下面通式(III)表示的氟代(甲基(mat))丙烯酸酯類。此處，(甲基)丙烯酸酯類一般性指甲基丙烯酸酯、丙烯酸酯、氟代丙烯酸酯和氯代丙烯酸酯。通式(m)CH2-C(Ri)-COO-(X)n-Rf在通式(m)中，Rf代表具有1-20個碳原子的全氟垸基、或者部分氟代的垸基。Rf可以是直鏈或分支的，並且在其主鏈上可以具有包含氧原子和/或氮原子的官能團。rM戈表h、氟代垸基、C1或f，x代表二價連接基團，並且n代表大於0的整數。全氟烷基Rf中碳原子的數量優選為1-18，更優選4-18，再更優選6-14，最優選6-12個。部分氟代的垸基優選部分具有全氟烷基。全氟垸基中碳原子的數量優選與上面提到的範圍相同。另外，主鏈中包含氧原子的官能團的實例可以包括-S(V、-C(-O)-等，並且主鏈中包含氮原子的官能團的實例可以包括-NH-、-N(CH3)-、-N(C2H5)-、-N(C3H7)1。用於R1的氟代烷基可以是未取代的烷基、全氟烷基和部分氟代的烷基中的任一種。優選地，用於R1的氟代烷基是未取代的烷基或部分氟代的垸基。甲基作為未取代的垸基是優選的。二價連接基團X可以優選是-(CH2)m-、-CH2CH(OH)-(CH2)m-、-(CH2)mN(R2)-S02-、-(CH2)mN(R2)-CO-、-CH(CH3)-、-CH(CH2CH3)-、-C(CH3)2-、-CH(CF3)-、-C(CH3)(CF3)畫和-C(CF3)2-中任一種。此外，W是氫或具有1-6個碳原子的垸基。n是大於0，優選0-25，更優選1-15，再更優選1-10的整數。如果n大於2，由X表示的連接基團可以相同或不同。下文中，舉例說明包含氟代烷基的(甲基)丙烯酸酯類而沒有任何限制。A-1:CH2=CHCOOCH2CH2C8F17A-2:H3CH2=CCOOCH2CH2C8F17A-3:CH2=CHCOOCH2CH2C12F25A-4:H3A-5:CH2=CHCOOCH2CH2C10F21A-6:H3CH2=CCOOCH2CH2C,0F21A-7:CH2=CHCOOCH2CH2C6F13A-8:H3CH2=CCOOCH2CH2C6F13A-9:CH2=CHCOOCH2CH2C4F9A-10:fCH2=CCOOCH2CH2C6F13A-41:H3CH2=CCOOCH2CH2(CF2)7HA-42:CH3CHCH2=CCOOC(CF2)5HCH3A-43:CH2-CHCOO—CHC8F17CF3A-44:CH2=CHCOOCH2C2F5A-45:CH2=CHCOOCH2CHCH2C8F17OHA-46:(^H3CH2=CCOOCH2CH(CH2)4C18F37OHA-47:3H7CH3=CHCOOCH2CH2NS02C8F17A-48:H3CH3CH3=CCOOCH2CH2NS02C8F19A-49:l7CH2=CCOO(CH2)5NS02C12F25A-50:2H5CH2=CHCOOCH2CH2NCOC7F15含氟代垸基的烯鍵式不飽和單體(單體A)可以以一種或者兩種或多種的組合使用。含氟代烷基的烯鍵式不飽和單體(單體A)中的氟代垸基從脫模性質(剝離性質)的角度優選具有6-18，更優選6-14，特別優選6-12個碳原子。在本發明中，引入具有氟原子的聚合物中的含氟代烷基的烯鍵式不飽和單體(單體A)的用量沒有特別限制，但是為了聚合可以優選為大於IO質量"，更優選大於15質量％，再更優選大於20質量％。另外，在本發明中在具有氟原子的聚合物中可以包含含有聚氧化烯的不飽和單體(單體B)。含有聚氧化烯基的不飽和單體(單體B)沒有特別限制，只要它是在一個分子中包含聚氧化烯基團或者烯鍵式不飽和基團的化合物。聚氧化烯基團優選是環氧乙烷和/或環氧丙烷基團，並且具有1-100，優選5-50的聚合度。從原材料的可獲得性、混合物在各種塗敷組合物中的可溶性、這種可溶性的可控性、或者聚合反應性的角度，烯鍵式不飽和基團優選包括(甲基)丙烯酸酯基團及其類似基團。一個分子中不飽和鍵的數量可以是一個或者兩個或更多個。(有機溶劑)接下來，將說明溶解本發明的環狀聚烯烴的有機溶劑。在本發明中，有機溶劑沒有特別限制，只要它能溶解環狀聚烯烴使得可以流鑄環狀聚烯烴並且用於形成膜。用於本發明的有機溶劑可以包括例如氯基溶劑如二氯甲烷或氯仿、脂肪烴、環烴、芳香烴、酉旨、酮或醚，它們中的每種具有3-12個碳原子。酯、酮和醚每種可以是環狀結構。具有3-12個碳原子的脂肪烴的實例可以包括己垸、辛垸、異辛烷、癸烷等。具有3-12個碳原子的環烴的實例可以包括環戊垸、環己烷及其衍生物。具有3-12個碳原子的芳香烴的實例可以包括苯、甲苯、二甲苯等。具有3-12個碳原子的酯的實例可以包括甲酸乙酯、甲酸丙酯、甲酸戊酯、乙酸甲酯、乙酸乙酯和乙酸戊酯。具有3-12個碳原子的酮的實例可以包括丙酮、甲乙酮、二乙酮、二異丁基酮、環戊酮、環己酮和甲基環己酮。具有3-12個碳原子的醚的實例可以包括二異丙基醚、二甲氧基甲烷、二甲氧基乙烷、1，4-二P惡烷、1，3-二氧戊環(dioxorane)、四氫呋喃、苯甲醚和苯乙醚。具有兩種或更多種官能團的有機溶劑的實例可以包括乙酸2-乙氧基乙酯、2-甲氧基乙醇和2-丁氧基乙醇。有機溶劑的沸點優選大於35。C並且小於ll(TC。非氯基有機溶劑傳統上己經用於環狀聚烯烴的溶液形成，例如在JP-A畫8-43812、JP-A-2001陽272534和JP-A-2003-306557中所述。在幹法中，通過從通過輥(passroll)上剝離可以加入非氯基有機溶齊IJ，其可能通過排放弓I起突發火災。本發明人已經發現特別優選使用氯基有機溶劑作為製備環狀聚烯烴溶液的主要溶劑。氯基有機溶劑因為其高的溶解能力及不可燃或可燃性低而在工業使用中是非常有利的。另外，本發明人已經發現它容易改善膜的脫模能力，這將在後面說明。在本發明中，氯基有機溶劑的種類沒有特別限制，只要它能夠溶解環狀聚烯烴使得環狀聚烯烴可以流鑄並且用來形成膜。氯基有機溶劑優選是二氯甲垸或氯仿。特別地，二氯甲垸是更加優選的，因為其具有低的沸點，從而在幹法中提供了高的熱效率。也可以與氯基有機溶劑混合除了氯基有機溶劑外的有機溶劑，例如上述的有機溶劑而沒有任何問題。在此情況下，氯基有機溶劑優選為溶劑混合物總量的50-99.5質量％。二氯甲烷的量優選為溶劑混合物總量的至少50質量％。下文將說明在本發明中優選與氯基有機溶劑組合使用的非氯基有機溶劑。本發明中優選使用的有機溶劑可以包括例如酯、酮或醚、醇或烴，它們中的每種具有3-12個碳原子。酉旨、酮、醚和醇中的每種可以具有環狀結構。酯、酮和醚之一的具有兩個或更多個官能團(即-O-、-CO-和-COO-)的化合物可以用作溶劑。這種化合物可以進一步具有不同的官能團例如醇羥基。在具有兩種或更多種官能團的溶劑的情況中，碳原子的數量可以在具有一種官能團的化合物的碳原子數量的指定範圍內。具有3-12個碳原子的酯的實例可以包括甲酸乙酯、甲酸丙酯、甲酸戊酯、乙酸甲酯、乙酸乙酯和乙酸戊酯。具有3-12個碳原子的酮的實例可以包括丙酮、甲乙酮、二乙酮、二異丁基酮、環戊酮、環己酮和甲基環己酮。具有3-12個碳原子的醚的實例可以包括二異丙基醚、二甲氧基甲烷、二甲氧基乙烷、1，4-二碟垸、1，3-二氧戊環、四氫呋喃、苯甲醚和苯乙醚。具有兩種或更多種官能團的有機溶劑的實例可以包括乙酸2-乙氧基乙酯、2-甲氧基乙醇和2-丁氧基乙醇。本發明人已經發現通過在將少量對環狀聚烯烴具有很小溶解能力的不良溶劑與作為主要溶劑的氯基溶劑混合而獲得的混合物中溶解環狀聚烯烴可以極大地改善脫模能力(releaseability)。當將不良溶劑與氯基溶劑適當地混合時，從金屬載體上剝離膜時的剝離阻力與在不使用不良溶劑形成膜時相比，降低至原始剝離阻力值的1/5至1/20範圍，因而便於高速成膜。使用不良溶劑降低剝離阻力的作用對於加成(共)聚合物環狀聚烯烴是明顯的。優選地，需要根據所用聚合物的種類適當地選擇不良溶劑。優選不良溶劑具有比首先使用的主要溶劑(具有高溶解能力的溶劑)高10。C的沸點並且具有低於主要溶劑的揮發性。當不良溶劑具有高於主要溶劑的沸點時，相信當乾燥膜來從金屬載體上剝離時膜中殘留的溶劑量取決於不良溶劑的量。在環狀聚烯烴的不良溶劑中，單價醇因其表現出很大的降低剝離阻力的作用而是特別優選的。儘管特別優選的醇根據具有高溶解能力的溶劑的沸點而不同，但是考慮到幹負載，沸點小於120。C的醇是優選的，具有l-6個碳原子的單價醇是更優選的，並且具有1_4個碳原子的醇是再更加優選的。另外，與氯基有機溶劑組合使用的醇可以優選具有直鏈或支鏈、或者可以是環狀。優選地，這種醇是飽和脂環烴。醇的羥基可以是一級、二級或者三級。醇的實例可以包括甲醇、乙醇、l-丙醇、2-丙醇、l-丁醇、2-丁醇、叔丁醇、l-戊醇、2-甲基-2-丁醇和環己垸。此外，在本發明中醇可以包括氟基醇，例如、2-氟乙醇、2,2,2-三氟乙醇、2,2，3,3-四氟-1-丙醇等。特別優選用來製備環狀聚烯烴溶液的混合物溶劑是二氯甲垸作為主要溶劑與一種或多種選自甲醇、乙醇、丙醇和異丙醇中的醇作為不良溶劑的組合。醇不良溶劑的含量對於100質量份環狀聚烯烴優選為3-100質量份，更優選4-40質量份，再更優選6-35質量份。不良溶劑與主要溶劑的混合比優選為0.5-30質量份，更優選1-20質量份，再更優選4-15質量份。通過熱熔成膜方法或者溶液成膜方法從本發明的基於環狀烯烴的加成聚合物形成膜。首先，將說明溶液成膜方法。(濃液製備)接下來，通過室溫攪拌溶解方法、在室溫下攪拌並且溶脹聚合物、將其冷卻至-20。C至-10(TC，然後將其加熱至20-IO(TC來溶解的冷卻溶解方法、在高於主要溶劑沸點的溫度下在密封的容器中溶解聚合物的高溫溶解方法、或者在達到溶劑臨界點的高溫和高壓下溶解聚合物的方法來製備本發明的環狀聚烯烴溶液(濃液)。優選在室溫下溶解具有良好溶解性的聚合物，而在密封的容器中加熱並溶解溶解性不良的聚合物。當選擇二氯甲垸作為主要溶劑時，通過在20-IO(TC下加熱可以溶解大多數環狀聚烯烴。在儘可能低的溫度下溶解也具有不太差的溶解性的聚合物的方法是方便的。環狀聚烯烴的粘度在25。C優選為1-500Pa's，更優選5-200Pa-s。如下測量粘度。使用直徑4cm/2。的鋼錐及流變計(CLS500)(兩者均由TAXASInstruments公司生產)來測量1ml樣品溶液。在達到預定測量起始溫度後測量樣品溶液。可以使用環狀聚烯烴溶液來獲得高濃度的濃液，並且在不使用單獨的濃縮裝置下可以得到具有高度穩定的高濃度環狀聚烯烴溶液。可以在容易溶解的低溫下溶解環狀聚烯烴，然後使用濃縮裝置濃縮。濃縮方法沒有特別限制，但是例如可以包括下面的方法使低密度溶液置於圓柱體和該圓柱體內部沿著圓周方向運轉的旋轉葉片外圍的旋轉軌線之間並且在通過在低密度溶液和圓柱體之間給出溫度差蒸發溶劑下獲得高密度溶液的方法(例如參見JP-A-4-259511等)；從噴嘴向容器中噴霧熱的低密度溶液、蒸發溶劑直至來自噴嘴的溶液到達容器內壁上、使蒸發的溶劑引出容器，並且使高密度溶液引出容器底部的方法(例如參見美國專利第2，541，012、2，858，229、4,414,341、4,504,355號等)等。優選在流鑄(flowcasting)前使該済液通過適當的過濾材料例如鐵絲網或絨布過濾來除去不可溶的產物或外來物質如灰塵和雜質。使用絕對過濾器精度0.1-100pm，優選0.5-25pm的過濾器來過濾環狀聚烯烴溶液。過濾器的厚度優選是0.1-10mm，更優選0.2-2mm。在此情況下，過濾壓力小於1.6Mpa，優選小於1.3Mpa，更優選小於l.OMpa，再更優選小於0.6Mpa。優選地，過濾材料可以包括例如本領域中已知的玻璃纖維、纖維素纖維、濾紙、氟樹脂如四氟乙烯樹脂、陶瓷、金屬等。就在成膜前的環狀聚烯烴溶液的粘度在形成膜的可流鑄範圍內優選為5Pa.s-1000Pa.s，更優選15Pa's-500Pa's，再更優選30Pa's-200Pa.s。只要它是用於膜流鑄的溫度，此時的溫度沒有特別限制，但是可以優選為-5-7(TC，更優選-5-35t:。(成膜)下面將說明使用環狀聚烯烴溶液形成膜的方法。使用與相關領域中用於製造乙酸纖維素膜的那些相同的溶液流鑄成膜方法和溶液流鑄成膜設備來製造本發明的環狀聚烯烴膜。在貯存罐中貯存在爐中製備的濃液(環狀聚烯烴溶液)，然後從濃液中除去氣泡。通過根據轉數可以高精度地送出控制量的濃液的擠壓計量齒輪泵將濃液從濃液出口送給壓模。然後，從壓模的縫口在流鑄部分不停運轉的環形金屬載體上均勻地流鑄濃液，並且從金屬載體上剝離在金屬載體運行大約一圈的剝離點處半乾燥的濃液膜(也稱作基膜(web))。在夾住所得基膜的兩端下，將基膜輸送給乾燥基膜的拉幅機。接著，將乾燥的基膜輸送給一組乾燥器輥來再次乾燥基膜，然後通過纏繞機以預定的長度纏繞。拉幅機和具有輥組的乾燥器的組合根據使用目的而變化。對於用於形成電子顯示器用的功能保護膜的溶液流鑄成膜，在許多情況下除了溶液流鑄成膜設備外，還增加塗布裝置來處理膜表面例如底塗層、抗靜電層、防暈層、保護層等。下文將簡要說明各種製造方法而不局限於此。首先，當通過溶劑澆鑄方法製造環狀聚烯烴膜時，優選例如在金屬鼓或金屬載體(帶或條帶)上流鑄所製備的環狀聚烯烴溶液(濃液)並且蒸發溶劑形成膜。優選在流鑄前調節濃液的濃度，使得環狀聚烯烴的量為10-35質量％。優選使鼓或帶的表面精加工成鏡面狀態。優選在表面溫度低於3(TC的鼓或帶上，更優選在表面溫度為-10-2(TC的金屬載體上流鑄濃液。在JP-A-20OO-301555、JP-A-2000-301558、JP-A-7-032391、JP-A-3-193316、JP-A陽5-086212、JP-A函62-037113、JP-A-2-276607、JP-A-55-014201、JP-A-2-111511和JP-A-2-208650中公開的醯化纖維素成膜技術都可用於本發明。(多層的流鑄)可以在作為金屬載體的光滑的帶或鼓上將環狀聚烯烴溶液作為單層溶液或者多層溶液流鑄。當作為多層溶液流鑄環狀聚烯烴溶液時，可以在從金屬載體前進方向上以預定間隔提供的多個流鑄孔中排放的包含環狀聚烯烴的溶液流鑄來製造膜，或者可以使用例如在JP-A-61-158414、JP-A-1-122419、JP-A-11-198285等中公開的方法製造膜。另外，可以通過拉伸從兩個流鑄孔排放的環狀聚烯烴溶液來形成膜，或者使用例如在JP-A-60-27562、JP-A-61-94724、JP-A-61-947245、JP-A-61-104813、JP-A-61-158413、JP-A-6-134933等中公開的方法來形成膜。另外，如JP-A-56-162617中所公開，可以使用用低粘度環狀聚烯烴溶液圍繞著高粘度環狀聚烯烴溶液並且同時擠出高和低粘度環狀聚烯烴溶液的環狀聚烯烴膜流鑄方法來成膜。另外，如JP-A-61-94724和JP-A-61-94725中所公開，優選使用外層溶液比內層溶液包含更多醇組分作為不良溶劑的技術來形成膜。可選地，例如在JP-A-44-20235^f公開，利用使用第一流鑄孔剝離在金屬載體上形成的膜並且使用第二流鑄孔流鑄接觸金屬載體側處的膜的方法形成膜。要流鑄的環狀聚烯烴溶液可以是相同的或者不同的而無任何限制。為了提供多層具有各種功能的環狀聚烯烴層，可以從各個流鑄孔擠出滿足各種功能的環狀聚烯烴溶液。可以同時流鑄環狀聚烯烴溶液用於各種不同的功能層(例如粘合劑層、染料層、抗靜電層、防暈層、uv吸收層、偏振層等)。對於單層溶液，為了形成所需厚度的膜，需要擠出高濃度且高粘度的環狀聚烯烴溶液。在此情況下，環狀聚烯烴溶液的穩定性變壞，這可能導致產生固體、設計問題和壞的平面性。為了克服這個問題，通過從流鑄孔流鑄多種高粘度環狀聚烯烴溶液，可以同時在金屬載體上擠出各溶液，這就導致良好的平面性，從而可以製造出平坦的膜。除此之外，通過使用高濃度的環狀聚烯烴溶液，可以降低乾燥負載並且增加膜的生產率。在多次流鑄的情況中，內層和外層的厚度沒有特別限制，但是外層的厚度優選為總膜厚的1-50%，更優選2-30°/。。在多次流鑄超過3層的情況中，將接觸金屬載體的層的膜厚和接觸空氣的層的膜厚的和定義為外部厚度。在多次流鑄的情況中，可以通過多次流鑄濃度不同的包含添加劑，例如上述防止劣化劑、紫外線吸收劑、消光劑等的環狀聚烯烴溶液形成具有多層結構的環狀聚烯烴膜。例如，可以形成具有皮層/芯層/皮層結構的環狀聚烯烴膜。例如，可以在皮層中包含更多的消光劑或者僅在皮層中包含消光劑。另外，可以在芯層中比皮層中包含更多防止劣化劑和紫外線吸收劑或者僅在芯層中包含防止劣化劑和紫外線吸收劑。另外，芯層和皮層中的防止劣化劑和紫外線吸收劑的種類可以變化。例如，可以在皮層中包含低揮發性的防止劣化劑和/或低揮發性的紫外線吸收劑，並且可以在芯層中添加具有高塑性的增塑劑或者具有紫外線吸收能力的紫外線吸收劑。另外，為了使用冷卻鼓方法通過冷卻金屬載體來膠凝溶液，優選在芯層中比皮層中添加更多的醇作為不良溶劑。芯層的玻璃化轉變溫度(Tg)可以不同於皮層，優選低於皮層的玻璃化轉變溫度。另外，在流鑄中，皮層中包含環狀聚烯烴的溶液的粘度可以不同於芯層中的。皮層中的粘度優選低於芯層中的粘度，但是芯層中的粘度可以低於皮層中的粘度。(流鑄)溶液流鑄方法可以包括例如從壓模均勻地將所製備的濃液擠出到金屬載體上的方法，使用刮刀調節流鑄到金屬載體上的濃液膜厚的刮刀方法，使用逆轉輥式塗布機用逆轉輥調節濃液膜厚的方法等。在這些方法中，使用壓模的方法是最優選的。壓模可以包括例如衣架型、T模型等，兩者都優選用於本發明。除了上述方法外，可以使用本領域已知的其它方法來流鑄三乙酸纖維素溶液成膜。通過考慮溶液和溶劑間沸點差異等設置條件，可以獲得與那些在各自文獻中相同的作用。使用表面通過鍍鉻鏡面精加工的鼓或者表面通過表面拋光鏡面精加工的不鏽鋼條帶(也稱作帶)作為不停運轉的用來製備本發明的環狀聚烯烴膜的金屬載體。用來製備本發明的環狀聚烯烴膜並且安裝在金屬載體上的壓模數量是一個或者兩個或更多個，優選一個或兩個。在安裝兩個或更多個壓模的情況中，可以將要流鑄的濃液以不同的比例分給各個壓模，並且可以從多個精確計量齒輪泵將濃液以各自的比例送給各個壓模。用於流鑄的環狀聚烯烴溶液的溫度優選為-10-55°C，更優選25-5(TC。在此情況下，所有工藝可以是相同的，或者一些工藝可以不同於另一些工藝。在後者情況下，流鑄溫度可以是就在流鑄前的所需溫度。(乾燥)與環狀聚烯烴膜的製造相關的在金屬載體上乾燥濃液的方法例如可以包括從金屬載體(例如鼓或帶)的表面，即金屬載體上的基膜表面吹熱風的方法，從鼓或帶的後側吹熱風的方法，從帶或鼓的後側(濃液流鑄面的相對側)接觸溫度受控制的液體，並且通過傳熱加熱鼓或帶來控制帶或鼓的表面溫度的方法等。在這些方法中，後側液體傳熱方法是更優選的。只要流鑄前金屬載體的表面溫度低於用於濃液的溶劑的沸點，金屬載體可以具有任意表面溫度。但是，為了加速濃液的乾燥並且除去金屬載體上濃液的流動性，除了冷卻並且剝離流鑄濃液而不乾燥外，優選設置金屬載體的表面溫度低於溶劑沸點(所用溶劑的最低沸點)1-10'C。(剝離)當從金屬載體上剝離半乾燥的膜時，如果剝離阻力(剝離負載)是大的，膜可能在成膜方向上不規則地延伸，由此導致光學各向異性汙點。特別是當剝離負載是大的時，膜可能具有臺階形狀，其中延伸位置和非延伸位置交替，從而引起延遲分布。當將膜裝在液晶顯示裝置中時，可能顯露出線或帶形應變。為了防止這種問題，膜的剝離負載優選為每1咖膜剝離寬度小於0.25凡更優選小於0.2N，再更優選小於0.15N，特別優選小於0.10N。當剝離負載小於0.2N/cm時，因為甚至可能表現出汙點的液晶顯示裝置也不會由於剝離而表現出汙點而是特別有利的。使剝離負載變小的方法例如可以包括添加如上所述的剝離劑的方法和選擇所用溶劑組成的方法。如下測量剝離負載。在與成膜設備的金屬載體具有相同材料和表面粗糙度的金屬板上滴下濃液，然後使用刮刀在均勻的厚度下拉伸濃液並且乾燥成膜。使用切割刀具將所得膜等間隔地切成帶形。然後，用手剝開膜的前沿，並且在用與應變計連接的夾具固定膜下，在以45°傾角牽引應變計下測量膜的負載變化。還測量剝離膜中的揮發性組分的量。在改變當揮發性組分的量等於實際成膜過程中膜剝離中殘留的揮發性組分的量時的乾燥時間和剝離負載下重複幾次相同的測量。隨著剝離速度增加，剝離負載趨向於增加，因此優選在接近實際剝離速度的剝離速度下測量膜。膜的剝離中殘留揮發性組分的濃度優選為5-60質量％，更優選10-50質量％，再更優選20-40質量％。當在高的揮發度下剝離膜時，因為可以增加乾燥速度，從而提高生產率而是有利的。另一方面，當在高的揮發度下剝離膜時，膜具有強度或者膜的彈性變小，其剝離力變得不足，並且在膜中可能發生變形、皺痕和knick。(拉伸處理)優選使本發明的環狀聚烯烴膜就在膜的剝離後在膜中保留足夠的溶劑的狀態下接受處理。拉伸處理的目的是(l)獲得具有優異的平面性而沒有皺痕和變形的膜及(2)使膜的面內延遲變大。為了實現目的(l)，在相對高的溫度和1-10%,優選2-5%的低拉伸比下拉伸膜。為了同時實現目的(1)和(2)或者僅實現目的(2)，在相對低的溫度和5-150%的拉伸比下拉伸膜。接下來，將說明拉伸溫度的選擇。在密封的風扇中放置包含殘留溶劑的膜，並且測量膜的比熱。將溫度-熱曲線發生彎曲變化並且比熱開始降低的溫度假設為Tc。相對高的拉伸溫度指高於Tc大於10°C，優選大於15-30'C的溫度。甚至當在該相對高的拉伸溫度下拉伸環狀聚烯烴膜時，膜表現出很小的延遲。另一方面，相對低的拉伸溫度指落在Tc之前和之後l(TC範圍內的溫度。當在該溫度範圍中拉伸膜時，膜可能表現出面內延遲並且易於調節至所需的光學特性。當在膜中殘留溶劑下拉伸膜時，可以在比乾燥的膜更低的溫度下拉伸膜。儘管許多聚合物具有高的玻璃化轉變點(Tg)，但是可以在低於聚合物的高玻璃化轉變點(Tg)的溫度下拉伸環狀聚烯烴。膜的拉伸可以是在垂直和水平方向之一上的單向拉伸或者是在垂直和水平方向兩者上同時或者順序的雙軸向拉伸。對於VA液晶元件或OCB液晶元件用的相差膜的雙折射，優選寬度方向上的雙折射變得大於長度方向上的雙折射。因此，優選在寬度方向上比在長度方向上更多地拉伸膜。(後乾燥)進一步乾燥拉伸的環狀聚烯烴膜，使得殘留的揮發性組分小於2%，然後巻繞。優選在巻繞膜前給膜的兩端壓花。壓花寬度為3-50mm，優選5-30mm，並且壓花高度為1-50pm，優選2-20(im，更優選3-10pm。所述壓花可以是單面壓或雙面壓。本發明的完成的(乾燥的)環狀聚烯烴膜的厚度，取決於膜的使用目的，對於液晶顯示裝置典型地為5-500pm，優選30-150pm，特別優選40-110pm。可以通過控制濃液中包含的固體的濃度、壓模縫隙、來自壓模的擠出壓力、金屬載體的速度等來調節膜厚。如此獲得的環狀聚烯烴膜的寬度優選是0.5-3m，更優選0.6—2.5m，再更優選0.8—2.2m。每一個輥的巻繞長度優選為100-10000m，更優選500-7000m，再更優選1000-6000m。當巻繞膜時，優選壓花膜的至少一端。壓花寬度為3-50mm，優選5-30mm，並且壓花高度為0.5-500pm，優選1-200pm。所述壓花可以是單面壓或雙面壓。Re值的總寬度的偏差優選是土5nm，更優選土3nm。另外，Rth值的偏差優選是土10nm，更優選土5nm。另夕卜，優選長度方向Re和Rth值的偏差落在寬度方向上偏差的範圍內。為了維持透明度，霧度優選為0.01-2%。為了使霧度變小，通過充分地分散所添加的微粒消光劑使團聚的顆粒數量變小，或者僅對皮層使用消光劑從而少使用消光劑。下文將進一步說明熱熔成膜方法。熱熔成膜方法涉及通過擠出機的模口擠出熔融的基於環狀烯烴的加成聚合物來形成片，然後在冷卻輥上冷卻所述片來形成基於環狀烯烴的加成聚合物基膜的步驟。在這種製備方法中，在熔化基於環狀烯烴的加成聚合物的情況中，可以預熱粒狀的基於環狀烯烴的加成聚合物。預熱溫度從(Tg-90。C)到(Tg+15。C)，優選從(Tg-75。C)妾lj(Tg-5。C)，再更優選從(Tg-70。C)到(Tg-5。C)。當將基於環狀烯烴的加成聚合物預熱至(Tg-90。C)到(Tg+15。C)的範圍時，可以均勻地進行樹脂的隨後熔化捏合，從而可以獲得所需的H-V散射光強度和V-V散射光強度值。在上述製備方法中，然後使用擠出機將已經預熱的基於環狀烯烴的加成聚合物加熱至200。C-30(TC使其熔化。在該程序期間，擠出機出口側的溫度優選高於擠出機入口側5。C-100°C，更優選20。C-90°C，再更優選3(TC-80°C。通過預先確定擠出機出口側的溫度高於擠出機入口側的溫度，可以均勻地捏合熔融的樹脂，從而可以獲得所需的H-V散射光強度和V-V散射光強度值。.在上述製備方法中，使熔融的基於環狀烯烴的加成聚合物通過齒輪泵。在從擠出機中除去震動後，使熔融的基於環狀烯烴的加成聚合物通過金屬網過濾器過濾，然後通過連接到擠出機上的T-形模擠出到冷卻輥上形成片。然後將如此在冷卻輥上的形成的基於環狀烯烴的加成聚合物擠壓到從其邊緣到其寬度的1-50%，優選2-40%，更優選3-30%範圍的面積上。優選地，在其兩邊到寬度的1-50%開始均勻地擠壓膜。當像相關領域中一樣將如此擠出的膜擠壓到冷卻輥的整個表面上時，由於在冷卻輥上的擠出不勻或溫度不勻發生局部冷卻不勻。因為膜被整體擠壓，不能從膜中釋放不勻的收縮應力。當將如此擠出的膜整體壓向冷卻輥時，膜的溫度快速降低，可能引起發生Re不勻和Rth不勻，特別是Rth不勻。相反，當根據本發明按照上述方法擠壓如此擠出的膜時，可以避免基於環狀烯烴的加成聚合物的基膜中不勻的收縮應力，從而完全地抑制了Re不勻和Rth不勻的發生。本發明製備方法中的擠壓方法沒有具體限制。例如，可以使用使用空氣室、真空嘴、靜電銷、接觸輥等方法。進行擠壓的壓力沒有具體限制，但是優選為0.001-20kg/cm2(98Pa-1.96MPa)，更優選0.01-1kg/cm2(■Pa-98kPa)。在上述製備方法中，可以在冷卻輥上冷卻膜時進行擠壓。在此程序期間，優選儘可能慢地進行冷卻。在普通的成膜方法中，以50。C/sec或更大的速率進行冷卻。但是，在上述製備方法中，優選以0.2-20°C/sec，更優選0.5-15°C/sec，再更優選1-10°C/sec的速率進行冷去口。當在上面定義的速率下進行冷卻時，可以防止發生局部冷卻不勻，從而可以抑制由於快速收縮引起的收縮應力並因此抑制Re不勻和Rth不勻的形成。通過在外殼中保持冷卻輥的溫度恆定並且調節冷卻輥的溫度可以獲得上述的冷卻(緩慢冷卻)。前者可以發揮所需的效果。為了在外殼中保持冷卻輥的溫度恆定，可以在外殼中布置至少一個冷卻輥，控制其溫度至(Tg-100。C)-(Tg+30。C)，更優選(Tg-80。C)-(Tg+10。C)，再更優選(Tg-70。C)-Tg。因為如此形成的片受摩擦力的限制並因此不能在冷卻輥上自由收縮，所得收縮應力可以容易地引起發生Re不勻和Rth不勻。但是，使用上述方法允許沿著膜的寬度緩慢且均勻地冷卻，使之可以降低冷卻輥上的溫度不勻並因此降低Re不勻和Rth不勻。相反，在JP-A-2003-131006中公開的方法涉及控制T-形模和冷卻輥間間隙(空氣間隙)之間的溫度。但是在該方法中，不能充分地降低Re不勻和Rth不勻。這是因為空氣間隙無法限制膜並因此對於降低Re不勻和Rth不勻發揮很少的作用。為了進一步降低Re不勻和Rth不勻，還可以使用下面的方法。(1)然後在以恆定間隔布置的至少2-10，優選2-6，更優選3-4個冷卻輥(彼此接近地布置輥)上澆鑄通過連接到擠出機的模已擠出的基於環狀烯烴的加成聚合物片。通過如此使用多個冷卻輥控制冷卻溫度，可以容易地調節冷卻溫度。此外，通過以恆定的間隔布置冷卻輥，可以降低冷卻輥間的溫度變化。冷卻輥間的間隙(相鄰輥最近邊緣點間的間隙)優選為0.1-15cm，更優選0.3-10cm，再更優選0.5-5cm。(2)將2-10個冷卻輥中的至少第一個的溫度預先設定為(基於環狀烯烴的加成聚合物的Tg-40°C)，更優選(Tg-35°C)-(Tg-30°C)，再更優選(Tg-30。C)-Tg，最優選(Tg-30。C)-(Tg-5。C)。此外，優選將第二個冷卻輥的溫度預先設定為比第一個冷卻輥高1-30°C，更優選1-20°C，再更優選1-10°C。通過如此預定第二個冷卻輥的溫度高於第一個冷卻輥，可以進一步提高基於環狀烯烴的加成聚合物膜的粘度，從而可以提高膜與第二個冷卻輥的附著力。如此，可以防止膜在冷卻輥上滑動，從而可以抑制發生傳送張力不勻並且降低Re不勻和Rth不勻。(3)使第二個冷卻輥的輸送速度預先設定為比第一個冷卻輥高0.1-5%，優選0.2-4%，更優選0.3-3%。在這種安排下，可以防止膜在第二個冷卻輥和第二個冷卻輥間滑'動，從而可以抑制發生輸送張力不勻並且降低Re不勻和Rth不勻。(4)然後，在溫度低於第二個冷卻輥1-30°C，優選1.5-20°C，更優選2-10°C的第三個冷卻輥上通過已經通過第二個冷卻輥的膜。如此，可以降低在從冷卻輥上剝離基於環狀烯烴的加成聚合物膜的隨後步驟冷卻膜的速率，從而可以降低Re不勻和Rth不勻。此外，使第三個冷卻輥的輸送速度預先設定為比第二個冷卻輥低0.1-5%(優選0.2-4%，更優選0.3-3%)。如此，可以緩衝第二個冷卻輥和第三個冷卻輥間的輸送張力不勻，從而可以降低Re不勻和Rth不勻。上述製備方法可以進一步涉及在冷卻因此已經以0.2-20°C/sec的速率冷卻了的基於環狀烯烴的加成聚合物膜的上述步驟後從冷卻輥上剝離基於環狀烯烴的加成聚合物的步驟。可以在以0.2—10m，優選0.3-8m，更優選0.4-6m的間隔布置的多個輥上輸送如此剝離的基於環狀烯烴的加成聚合物膜。通過如此在冷卻下在這麼長跨度上輸送膜，可以抑制由於與輸送輥摩擦引起的輸送張力不勻。在冷卻期間，輸送張力由於從左到右失衡的收縮而失衡。為了緩和失衡的輸送張力，需要寬度足以允許膜自由移動和緩衝的輥間隙。當輸送輥間的間隙是0.2-10m時，基於環狀烯烴的加成聚合物膜經歷與輸送輥無摩擦並因此可以自由移動，從而可以降低由於張力不勻引起的光學軸的偏離。優選將已經從冷卻輥上剝下的基於環狀烯烴的加成聚合物膜以0.1-3°C/sec，更優選0.2-2.5°C/sec，再更優選0.3-2°C/sec的速率冷卻至50°C。當以0.1-3。C/sec的速率冷卻基於環狀烯烴的加成聚合物膜時，可以防止發生由於因快速收縮應力引起的從左到右張力失衡所造成的光學軸偏離。通過使基於環狀烯烴的加成聚合物膜通過向其中吹氣的外殼，從而下遊溫度低於上遊溫度可以獲得冷卻速率的控制。可選地，通過調節上遊和下遊輸送軸的溫度可以獲得冷卻速率的控制。在上述製備方法中，成膜速度優選為40-150m/min，更優選50-100m/min，再更優選60-80m/min。當以40-150m/min的速度形成膜時，空氣可以進入第一個冷卻輥和基於環狀烯烴的加成聚合物膜之間的間隙中，從而可以抑制其整個表面上的壓力並因此抑制Re不勻和Rth不勻。如此形成的膜的寬度為1.5-5m，優選1.6-4m，更優選1.7-3m。通過如此預先確定膜厚的寬度是如此大的，可以抑制從冷卻輥上剝離基於環狀烯烴的加成聚合物膜的步驟後的輸送步驟的橫向收縮應力。換句話說，如果如此形成的膜的寬度不是這麼大，難以緩衝橫向上所得的張力不勻。相反，如果如此形成的膜的寬度足夠大，可以在橫向上緩衝所得的張力不勻，從而可以降低光學軸上的不勻。(基膜的特性)基於環狀烯烴的加成聚合物的基膜因其與迄今在偏振片中使用的醯化纖維素膜相比具有小的透溼性和平衡水分而具有很大的優點。基膜的透溼性在6(TC和95%RH下老化24小時後優選為每平方米l，OOOg或更小。基膜的透溼性在6(TC和95。/。RH下老化24小時後更優選為每平方米400g或更小。基膜的平衡水分在25。C和80%膽下測量優選為2.0%或更小。基膜的平衡水分更優選為1.0%或更小。當添加劑例如紫外線吸收劑和延遲形成劑是揮發性的或者可分解引起膜的質量或尺寸變化時，基膜的光學特性經歷變化。因此，在80°C和90。/。RH下老化48小時後膜的質量變化優選為5%或更小。相似地，在6(TC和95%RH下老化24小時後膜的尺寸變化為5%或更小。甚至當膜經歷一些尺寸或質量變化時，如果其光彈性係數是小的則膜的光學特性變化很小。因此，膜的光彈性係數優選為30X10'13cmVdyne(3X10"3N/m2)或更小，更優選formulaseeoriginaldocumentpage38或更小。基於環狀烯烴的加成聚合物的基膜的優選光學特性隨其施用的液晶元件模式而有些不同。當將基膜用於TN模式液晶元件時，面內延遲Re(630)優選為15nm或更小，更優選llnm或更小。厚度方向延遲Rth(630)優選為40-120nm，更優選60-100nm。通過在基於環狀烯烴的加成聚合物的基膜上形成取向層和盤狀液晶層得到用於TN模式液晶元件的光學補償片。當將基膜用於VA模式模式液晶元件時，Re(630)優選為15mn或更小，更優選llnm或更小。Rth(630)優選不小於120到不大於300nm。通過在基於環狀烯烴的加成聚合物的基膜上形成取向層和棒狀液晶層得到用於VA模式液晶元件的光學補償片。當將基膜用於OCB模式模式液晶元件時，Re(630)優選為不小於30nm到不大於70nm，更優選不小於35nm到不大於55nm。Rth(630)優選不小於120到不大於300nm，更優選不小於150nm到不大於260nm。通過在基於環狀烯烴的加成聚合物的基膜上形成取向層和盤狀液晶層得到用於OCB模式液晶元件的光學補償片。一般，偏振片包括起偏器和兩片布置在起偏器兩側上的透明保護膜。本發明的光學補償片可以用作所述兩片保護膜中至少一片。對於另一片保護膜可以使用典型的乙酸纖維素膜。起偏器例如可以包括碘基起偏器、使用二色性染料的染料基起偏器和多烯基起偏器。一般使用聚乙烯醇基的膜製備碘基起偏器和染料基起偏器。當本發明的光學補償片用作偏振片保護膜時，使光學補償片接受將在後面描述的表面處理，然後將表面處理過的光學補償片通過粘合劑粘接到起偏器上。所用粘合劑例如可以包括含有聚乙烯醇、聚乙烯醇縮丁醛等的聚乙烯醇基粘合劑、含有丙烯酸丁酯等的乙烯基膠乳、明膠等。偏振片由起偏器和保護膜組成來保護起偏器的兩側。將保護膜粘接到偏振片的一側上，而在起偏器的另一側上粘接隔膜。當裝運或測試偏振片時保護膜和隔膜用來保護偏振片。在此情況下，將保護膜粘接到與將偏振片與液晶板粘接側相對側上來保護偏振片的表面。將隔膜粘接到與將偏振片與液晶板粘接側上來覆蓋與液晶板粘接的粘合劑層。本發明的光學補償片具有提供在基於環狀烯烴的加成聚合物的基膜上的光學各向異性層。光學各向異性層由液晶化合物、非液晶化合物、無機化合物、有機/無機配合物等組成。這些材料中優選的是液晶化合物。作為這種液晶化合物，可以使用通過取向具有可聚合的基團的低分子量化合物，然後通過光或熱聚合固定所述取向而獲得的化合物，或者通過加熱液晶聚合物使其取向，然後冷卻液晶聚合物使其以玻璃狀態固定取向而獲得的化合物。作為這種液晶化合物，可以使用具有盤狀結構的化合物、具有棒狀結構的化合物或者具有光學雙軸性的化合物。作為這種非液晶化合物，可以使用具有芳香環的聚合物如聚醯亞胺和聚酯。下文將說明從液晶化合物形成光學各向異性層的方法。(取向的膜)為了定義構成光學各向異性層的液晶化合物的取向方向，優選使用取向膜。通過摩擦有機化合物(優選聚合物)、傾斜真空沉積無機化合物、由Langmuir-Blodgett方法(LB膜)形成具有微溝槽或者有機化合物累積(例如"-二十三酸、二(十八烷基甲基)氯化銨、硬脂酸甲酯)的層可以提供取向膜。此外，當在給出電場或磁場或者用光照射時用來進行取向的取向膜是已知的。優選通過聚合物的摩擦形成取向膜。在預定的方向上使用紙或布摩擦幾次。優選使用通過均勻織造具有均勻長度和厚度的纖維獲得的布。一旦已經固定取向的光學各向異性層的液晶分子，即使移動取向膜時也可以保持取向。換句話說，取向膜在光學補償片的製備中對於取向液晶分子是必要的，但是在製備的光學補償片中不是必需的。在提供要插在基於環狀烯烴的加成聚合物的基膜和光學各向異性層之間的取向膜前，優選使基於環狀烯烴的加成聚合物的基膜接受表面處理。本文中要進行的表面處理的實例包括電暈放電處理、輝光放電處理和火焰處理。後面將進一步說明這種表面處理方法。表面處理後任選地在基於環狀烯烴的加成聚合物的基膜和取向膜之間插入底塗層(粘合劑層)。用於取向膜的有機化合物的實例包括聚合物如聚甲基丙烯酸甲酯、丙烯酸/甲基丙烯酸共聚物、苯乙烯/馬來醯亞胺共聚物、聚乙烯醇、聚(N-羥甲基丙烯醯胺)、苯乙烯/乙烯基甲苯共聚物、氯磺化聚乙烯、硝化纖維、聚氯乙烯、氯代聚烯烴、聚酯、聚醯亞胺、乙酸乙烯酯/氯乙烯共聚物、乙烯/乙酸乙烯酯共聚物、羧甲基纖維素、聚乙烯、聚丙烯和聚碳酸酯、以及化合物例如矽垸偶聯劑。聚合物的優選實例包括如下聚合物..例如聚醯亞胺、聚苯乙烯和苯乙烯衍生物、明膠、聚乙烯醇和具有垸基(優選具有6或更多個碳原子)的垸基修飾的聚乙烯醇。在這些聚合物中特別優選的是垸基修飾的聚乙烯醇，它們在均勻地取向的液晶化合物的能力方面是優異的。這可能是因為取向膜表面中的垸基鏈和液晶中烷基側鏈具有強的相互作用。垸基優選具有6-14個碳原子。更優選地，烷基藉助-s-、-((^3)(:0^)-或-((:2115)^[《8-8-與聚乙烯醇連接。上述烷基修飾的聚乙烯醇由烷基終端。烷基修飾的聚乙烯醇優選具有80%或更大的皂化度和200或更大的聚合度。作為側鏈中具有烷基的聚乙烯醇可以使用可從KURARAY有限公司商購的MP103、MP203和R1130。優選使用已經廣泛用作LCD用取向膜的聚醯亞胺膜(優選含氟原子的聚醯亞胺)作為有機取向膜。通過在基板表面上塗敷聚醯胺酸(例如由HitachiChemical有限公司生產的LQ/LX系列、由NISSANCHEMICALINDUSTRIES有限公司生產的SE系列)、在100°C-300'C的溫度下焙烘塗布的基板0.5-l小時，然後摩擦該塗布的基板來獲得這些聚醯亞胺膜。此外，要施用到本發明的基於環狀烯烴的加成聚合物的基膜上的取向膜優選是通過在異氰酸酯化合物和交聯劑如環氧化合物的存在下向上述聚合物中引入反應性基團或者固化上述聚合物獲得的固化膜。構成取向膜和光學各向異性層中的液晶化合物的聚合物優選在這些層的界面處彼此經歷化學鍵合。構成取向膜的聚合物優選由具有至少一個由具有乙烯基部分、對節基苯基甲醯胺基(oxylanyl)部分和吖丙啶基部分的基團取代的羥基的聚乙烯醇形成。所述具有乙烯基部分、對苄基苯基甲醯胺基部分或吖丙啶基部分的基團優選藉助醚鍵、尿烷鍵、乙縮醛鍵或酯鍵與聚乙烯醇衍生物中的聚合物鏈連接。具有乙烯基部分、對苄基苯基甲醯胺基部分或吖丙啶基部分的基團優選不含芳香環。上述聚乙烯醇優選是在JP-A-9-152509中公開的化合物(ka-22)。在連續長度的基於環狀烯烴的加成聚合物的基膜上層合光學各向異性層。在連續長度的膜上連續塗敷取向膜組合物溶液，同時在膜上輸送，從而形成取向膜然後其表面被連續摩擦。然後，連續地在取向膜上塗敷液晶化合物溶液來獲得連續長度的光學補償片。連續長度的光學補償片中光學各向異性層的慢軸方向基本上平行與膜的表面。在輸送下連續摩擦在連續膜上形成的取向膜來取向液晶分子的情況中，根據在與縱向平行或垂直方向上取向液晶分子可以適當地選擇取向膜材料。為了形成與摩擦方向平行(即與縱向平行)的光學各向異性層的慢軸，可以使用聚乙烯醇基取向膜。此外，為了形成與摩擦方向垂直(即與縱向垂直)的光學各向異性層的慢軸，可以使用在JP-A-2002-98836，第-段中公開的垂直取向層。另一方面，已經廣泛使用的含碘起偏器通過連續縱向單軸向拉伸方法製備並因此具有與輥的縱向平行的吸收軸。因此，為了以輥對輥的方式彼此層合普通的縱向單軸向拉伸的連續起偏器和連續的光學補償片，使得起偏器的吸收軸和光學各向異性層的慢軸彼此垂直，優選使用上述垂直取向層。(液晶化合物)用於光學各向異性層中的液晶優選由盤狀化合物或者棒狀化合物組成。對於盤狀化合物的細節，可以參考JP-A-7-267902、JP-A-7-281028和JP-A-7-306317。如在這些專利文獻中所公開，光學各向異性層是由具有盤狀結構單元的化合物組成並具有負雙折射的層。換句話說，光學各向異性層是低分子量液晶盤狀化合物例如單體的層或者通過可聚合的液晶盤狀化合物的聚合(固化)獲得的聚合物層。盤狀(盤形)液晶化合物的實例包括在C.Destrade等的研究報告，"Mol.Cryst."，第71巻，第111頁(1981)中公開的苯衍生物；在C.Destrade等的研究報告，"Mol.Cryst."，第122巻，第141頁(1985)和在"Physicslett，A"，第78巻，第82頁(1990)公開中的三苄基苯(truxene)衍生物；在B.Kohne等的研究報告，"Angew.Chem."，第96巻，第70頁(蘭)中公開的環己垸衍生物和在J.M.Lehn等的研究報告，"J.Chem.Comimm."，第1，794頁(1985)和J.Zhang等的研究報告，"J.Am.Chem.Soc."，第116巻，第2，655頁(1994)中公開的氮雜冠醚基或苯乙炔基大環化合物。上述盤狀(盤形)化合物通常作為核位於分子中心。作為直鏈在結構中徑向布置由苯甲醯氧基取代的直鏈垸基或垸氧基。這種結構表現出液晶性質並且一般稱作盤狀液晶。但是，如果分子自身具有負單軸性並因此可以給出預定取向，它不局限於上述說明。上述申請中使用的術語"由盤狀化合物形成的"意指最終產物不一定是上述化合物，但是上述低分子量盤狀化合物具有加熱或用光照射時反應並因此在加熱或用光照射時同時經歷聚合或交聯，從而增加其分分子量並且損失其液晶性質的基團。此外，優選使用至少包含能夠形成盤狀向列相或單軸柱相併具有光學各向異性的化合物。盤狀化合物優選是三亞苯衍生物。三亞苯衍生物優選是由在JP-A-7-306317中公開的通式(ka-2)表示的化合物。本文可使用的具有液晶性質的棒狀化合物(棒狀液晶化合物)的優選實例包括偶氮甲鹼類、氧化偶氮類、氰基聯苯類、氰基苯酯類、苯甲酸酯類、環己烷羧酸苯酯類、氰基苯基環己垸類、氰基取代的苯基嘧啶類、烷氧基取代的苯基嘧啶類、苯基二瞎垸類、二苯乙炔類和烯基環己基苯基腈類。除了上述低分子量液晶化合物外，可以使用液晶聚合物。優選固定取向棒狀液晶化合物。作為液晶分子優選使用具有當用活性射線或電子射線照射或當加熱時引起聚合或交聯反應的部分結構的分子。該部分結構的數量為1-6，優選l-3。作為可聚合的棒狀液晶化合物，可以使用"Makromol.Chem.，"第190巻，第2,255頁，1989年、"AdvancedMaterials,"第5巻，第107頁，1993年、美國專利4,683，327、5，622，648和5，770，107、國際專利公開W095/22586、95/24455、97/00600、98/23580、98/52905、JP-A畫1畫272551、JP-A畫6-16616、JP-A-7-110469、JP-A-11-80081和JP-A-2001-328973中公開的那些化合物的任一種。(液晶層的形成)可以通過在取向膜上塗敷含有液晶化合物和任選的聚合引發劑和任意組分的塗布溶液來形成光學各向異性層。作為用來製備塗布溶液的溶劑，優選使用有機溶劑。本文可使用的有機溶劑的實例包括醯胺類(例如N，N-二甲基甲醯胺)、亞碸類(例如二甲亞碸)、雜環化合物類(例如吡啶)、烴對例如苯和己烷)、垸基滷化物類(例如氯仿和二氯甲烷)、酯類(例如乙酸甲酯、乙酸丁酯)、酮類(例如丙酮、甲乙酮)、以及醚類(例如四氫呋喃和1，2-二甲氧基乙烷)。這些有機溶劑中優選的是烷基滷化物類和酮類。可以組合使用這些有機溶劑中的兩種或多種。通過任意已知方法(例如擠壓塗布方法、直接凹版塗布方法、反向凹版塗布方法、模壓塗布方法)完成塗布溶液的塗敷。光學各向異性層的厚度優選為0.5pm-100pm，更優選0.5pm-30pim。優選通過聚合反應完成液晶分子取向的固定。本文可使用的聚合反應的實例包括涉及使用熱聚合引發劑的熱聚合反應和涉及使用光聚合引發劑的光聚合反應。優選在本發明中進行光聚合反應。本文可使用的光聚合引發劑的實例包括a-羰基化合物(如在美國專利2，367，661和2,367,670中所公開)、偶姻醚類(如在美國專利2,448,828中所公開)、a-烴取代的芳香偶姻化合物(如在美國專利2，722，512中所公開)、多核醌化合物(如在美國專利3，046，127和2,951,758中所公幵)、三芳基咪唑二聚體和對氨基苯基酮的組合(如在美國專利3,549,367中所公開)、吖啶和吩嗪化合物(如在JP-A-60-105667和美國專利4,239,850中所公開)、以及瞎二唑化合物(如在美國專利4,212,970中所公開)。光聚合引發劑的用量基於塗布溶液中的固體含量優選為0.01-20質量％，更優選0.5-5質量％。優選使用紫外線作為照射液晶分子經歷聚合的光線。照射能量優選為20mJ/cm2-5,000mJ/cm2，更優選100mJ/cm、800mJ/cm2。為了加速光聚合反應，可以在加熱下進行光照射。可以在光學各向異性層上提供保護層。與上述液晶分子一起使用組合使用增塑劑、表面活性劑、可聚合的單體等可以提高塗層的均勻性、層強度、液晶分子的取向等。這些組合物優選與液晶分子具有一些相容性並且不會抑制液晶分子的取向。本文可使用的可聚合單體的實例包括可自由基聚合的或者可陽離子聚合的化合物。優選多官能團可自由基聚合單體。更優選地，這些多官能團可自由基聚合單體可以與上述包含可聚合基團的液晶化合物共聚合。這些多官能團單體的實例包括在JP-A-2002-296423，第-段中公開的那些單體。上述化合物的添加量基於盤狀液晶分子的質量通常為1-50質量％，優選5-30質量％。(光學各向異性層的形成)下文將說明光學各向異性層怎樣包含結合在其中的聚合物膜。作為要在聚合物膜中結合的非液晶聚合物，優選使用選自聚醯胺、聚醯亞胺、聚酯、聚醚酮、聚醯胺醯亞胺、聚酯醯亞胺和聚芳基醚酮中的至少一種聚合物。在基於環狀烯烴的加成聚合物的基膜上塗敷具有溶解在溶劑中的這種聚合物的溶液。如此，形成光學各向異性層。在此程序期間，優選拉伸聚合物膜和基膜來進一步形成出光學各向異性，從而形成光學各向異性層。可選地，可以在單獨基板上製備上述非液晶聚合物膜。從基板上剝離非液晶聚合物膜，然後層合在基於環狀烯烴的加成聚物的基膜上。非液晶聚合物膜的厚度優選為50fim或更小，更優選1-20jim。對於由非液晶聚合物製成的光學各向異性層的製備細節，可以使用"光學各向異性層(B)"的名稱參考JP-A-2003-315554。(光學各向異性層的特性)如此獲得的本發明光學補償片的厚度方向延遲Rth優選滿足下面的表達式formulaseeoriginaldocumentpage45更優選地，滿足表達式formulaseeoriginaldocumentpage45(630)落在上面定義的範圍內時，可以使用光學補償片來改善VA模式液晶顯示裝置的視角。(偏振片的製備)通過用粘合劑彼此層合起偏器和兩片保護層(保護膜)來製備本發明的偏振片。優選使用本發明的光學補償片作為至少一片保護膜。可以使用普通的三乙酸纖維素膜作為另一片保護膜。下文將順序說明本發明偏振片的製備方法。(構成偏振層的粘結劑)可以通過在一個方向上取向分散在PVA中的偏振染料來形成偏振層。通常通過皂化聚乙酸乙烯酯獲得PVA。PVA可以包含可與乙酸乙烯酯共聚合的組分，例如不飽和羧酸、不飽和磺酸、烯烴和乙烯醚。可選地，可以使用包含乙醯乙醯基、磺酸基、羧酸基和氧化烯的改性PVA。PVA的皂化度沒有具體限制，但是從溶解性等來看優選為80-100摩爾％，特別是90-100摩爾％。PVA的聚合度沒有具體限制，但是優選為l，OOO-10,000，特別是1,500-5,000。(偏振層的染色)通過將PVA膜浸在碘-碘化鉀水溶液中來進行偏振層的染色。碘的含量優選為0.1-20g/1，並且碘化鉀的含量優選為1-200g/1。碘與碘化鉀的質量比優選為1-200。染色時間優選為10-5,000秒。染色溶液的溫度優選為5"C-60°C。不僅通過浸泡，而且通過任意方法例如塗敷和碘-染料溶液的噴霧來進行偏振層的染色。可以在拉伸步驟前或後迸行染色步驟。但是，因為膜可以適當地溶脹並因此容易拉伸，所以特別優選在拉伸步驟前在液相中進行偏振層的染色。本發明的偏振片可以包含除結合在其中的碘以外的染料。除碘以外的染料的優選實例包括染料基化合物如偶氮基染料、1,2-二苯乙烯基染料、吡唑啉酮基染料、三苯甲垸基染料、喹啉基染料、噁嗪基染料、噻嗪基染料和蒽醌基染料。(偏振層的固化)為了固定拉伸後PVA的取向結構，優選交聯PVA。可以使用在美國重新公告的專利232,897號中公開的交聯劑作為交聯劑。但是實際上優選使用硼酸和硼砂。還可以使用金屬例如鋅、鈷、鋯、鐵、鎳和錳的鹽。通過在硼砂或硼酸水溶液中浸泡浸漬了染料的PVA進行偏振層的固化。硼砂或硼酸的含量優選為0.1-10mo1/1，更優選0.2-5mo1/1，再更優選0.2-2mo1/1。固化溶液的溫度為10°C-40。C，更優選15"C-35°C。浸泡時間為10秒-IO分鐘，更優選20秒-5分鐘。該固化溶液優選包含結合在其中的碘化物例如碘化鈉和碘化鉀。碘化物濃度為0.1■10mo1/1，更優選0.2-5mo1/1,再更優選0.2—2mo1/1。可以在拉伸之前、期間和之後的任一個步驟進行固化。(偏振層的拉伸)在拉伸前使PVA膜溶脹。PVA膜的溶脹為1.2-2.0(溶脹前與後的質量比)。然後，在導輥等上連續輸送下，在介質水浴或者具有溶解在其中的二色性材料的染料浴中在15°C-50°C，優選17。C-40'C的浴溫下拉伸PVA膜。在PVA膜由兩對夾輥夾住下，通過保持後段夾輥的輸送速度高於前段夾輥的速度進行PVA膜的拉伸。下文中拉伸比基於拉伸的膜與初始膜的長度比。從上述優點來看，拉伸比為1.2-3.5，優選1.5-3.0。然後，在50。C-90°C的溫度下乾燥PVA膜來獲得起偏器。(基於環狀烯烴的加成聚合物的基膜的表面處理)在本發明中，在塗布粘合劑來提高起偏器與基於環狀烯烴的加成聚合物基膜的附著力前，使基於環狀烯烴的加成聚合物的基膜的表面(與光學各向異性層塗布側的相對側)接受表面處理。要在本文中進行的表面處理的實例包括輝光放電處理、紫外線照射處理、電暈放電處理和火焰處理而不局限於此。此處，輝光放電處理指在低壓氣體下引起的所謂低溫等離子體。在本發明中，在大氣壓下的等離子體處理也是優選的。除此之外，在美國專利3,462,335、3,761,299和4,072769及英國專利891,469中公開了輝光放電處理的細節。另外，可以使用在JP-T-59-556430中公開的方法，其中通過在放電開始後使聚酯載體自身接受放電處理而在容器中產生的氣體種類包含放電氣氛氣體組成。另外，對於真空輝光放電處理，可以應用在JP-T-60-16614中公開的方法，其中在膜的表面溫度高於8(TC且低於18(TC的條件下使膜接受放電處理。輝光放電處理中的真空度優選為0.5-3000Pa，更優選2-300Pa。施加電壓優選為500-5000V，更優選500-3000V。所用的放電頻率優選為0至幾千MHz，更優選20MHz-50Hz，再更優選1KHz-1MHz。放電處理強度優選為0.01KVA分鐘/m2-5KVA分鐘/m2，更優選0.15KVA'分鐘/m2-1KV，A'分鐘/m2。在本發明中，例如根據在JP-T-43-2603、JP-T-43-2604和JP-T-45-3828中公開的處理方法，優選進行紫外線照射作為表面處理。所用的泵燈是由石英管形成的高壓泵燈，並且紫外線波長優選是180-380nm。對於紫外線照射，如果升高膜的表面溫度至大約15(TC對載體的性能沒有影響，可以使用主要波長為365nm的高壓泵燈作為光源。主要波長為254nm的低壓泵燈對於低溫處理是優選的。另外，可以使用無臭氧的高壓泵燈和低壓泵燈。隨著光強度增加，基於環狀烯烴的加成聚合物的基膜和起偏器間的附著力變高。但是，隨著光強度增加，可能引起膜著色或減弱的問題。因此，對於主要波長為365nm的高壓泵燈，照射光強優選為20-10000(mJ/cm2)，更優選50-2000(mJ/cm2)。對於主要波長為254nm的低壓泵燈，照射光強優選為100-10000(mJ/cm2)，更優選300-1500(mJ/cm2)。另外，在本發明中，例如根據在JP-T-39-12838、JP-A-47-19824、JP-A-48-28067和JP-A-52-42114中公開的處理方法，還優選使用電暈放電處理作為表面處理。作為電暈放電處理，可以使用固態電暈處理設備、LEPEL型表面處理設備、VETAPHON型處理設備等，它們都可以從Pillar有限公司商購。可以在空氣正常壓力下進行表面處理。表面處理的放電頻率優選為5-40KV，更優選10-30KV，並且波形優選是交替的正弦波形。電極和絕緣輥的間隙透明長度優選為0.1-10mm，更優選1.0-2.0mm。在提供在放電區中的絕緣載體上進行放電處理，並且放電處理的強度優選為0.3-0.4KVvV分鐘/m2，更優選0.34-0.38KV'A'分鐘/m2。在本發明中，還優選使用火焰處理作為表面處理。儘管所用的氣體可以是天然氣、液化丙垸氣和城市煤氣中的任一種，但是氣體與空氣的混合比例是重要的。這是因為相信火焰處理對表面處理的作用是由包含活性氧的等離子體引起的。火焰表面處理作用的重要一點是等離子體活性(溫度)，這是火焰的一個重要因素，以及等離子體中的含氧量。這一點的主要因素是氣體/氧氣比。當氣體與精確量的氧氣反應時，能量密度變得最大並因此等離子體活性提高。具體地說，優選的天然氣/空氣混合比是1/6-1/10，優選1/7-1/9的體積比。另外，液化丙垸氣/空氣混合比是1/14-1/22，優選1/16-1/19，並且城市煤氣/空氣混合比是1/2-1/8，優選1/3-1/7。燃燒器處理量優選為1-50Kcal/m2，更優選3-20Kcal/m2。燃燒器內焰前沿和膜間的距離優選為3-7cm，更優選4-6cm。火焰的噴嘴形狀優選是Flinbumer有限公司(美國)的帶型、Wise有限公司(美國)的多孔型、Aerogen有限公司(英國)的帶型、KoikeSansoKogyo有限公司(日本)的之字形多孔型等。在火焰處理中支持膜的支撐輥是中空的輥。支撐輥由冷卻劑冷卻，並且優選在20-50'C的恆溫下進行火焰處理。儘管表面處理的程度根據表面處理的種類和基於環狀烯烴的加成聚合物的種類變化，但是處理過的膜表面與純水的接觸角優選小於50°，更優選大於25。且小於40°。如果膜表面與純水的接觸角落在上面的範圍內，基於環狀烯烴的加成聚合物的基膜與起偏器的附著強度增加。(粘合劑)在本發明中，當將基於環狀烯烴的加成聚合物的表面處理過的基膜粘接由聚乙烯醇製成的起偏器時，使用含有水溶性聚合物的粘合劑。優選用於粘合劑的水溶性聚合物的實例可以包括具有烯鍵式不飽和單體例如N-乙烯基吡咯烷酮、丙烯酸、甲基丙烯酸、馬來酸、p-羥乙基丙烯酸、P-羥乙基甲基丙烯酸、乙烯醇、甲基乙烯醚、乙酸乙烯酯、丙烯醯胺、甲基丙烯醯胺、二丙酮丙烯醯胺、乙烯基咪唑等、聚氧化乙烯、聚氧化丙烯、聚-2-甲基瞎唑啉、甲基纖維素、羥乙基纖維素、羥丙基纖維素、明膠等作為構成單元的均聚物或共聚物。在本發明中，在這些聚合物中優選使用PVA和明膠。用於粘合劑的PVA的優選特性與用於上述起偏器的PVA相同。在本發明中，還優選使用交聯劑。當PVA用於粘合劑時優選使用的交聯劑的實例可以包括硼酸、多羥醛、多官能團的異氰酸酯化合物、多官能團的環氧化合物等。在本發明中，在這些化合物中，特別優選使用硼酸。用於粘合劑的明膠的實例可以包括石灰處理的明膠、酸處理的明膠、酶處理的明膠、明膠衍生物、改性明膠等。在這些明膠中，優選使用石灰處理的明膠和鹼處理的明膠。當將明膠用於粘合劑時，還優選使用的交聯劑的實例可以包括活化的滷素化合物(2,4-二氯-6-羥基-1，3，5-三嗪，其鈉鹽等)、活化的乙烯基化合物(在聚合物側鏈中具有有1,3-二乙烯基磺醯基-2-丙醇、1，2-二(乙烯基磺醯乙醯胺)乙烷、二(乙烯基磺醯甲基)醚或者乙烯基磺醯基的乙烯基聚合物，等)、N-氨基甲醯基吡啶鎗鹽((l-嗎啉羰基-3-吡啶鑰(pyridinio))-甲烷磺酸鹽等)、齒素醯銨鹽(l-(l-氯-l-吡啶亞甲基)-吡咯鐵-2-萘磺酸鹽等)等。在本發明中，特別優選使用活化的滷素化合物和活化的乙烯基化合物。還使用的交聯劑的加入量相對於粘合劑中的水溶性聚合物優選為大於0.1質量％且小於40質量％，更優選大於0.5質量°/。且小於30質量％。優選在保護膜或起偏器的至少一個表面上塗布粘合劑，從而在其上面形成粘合劑層，以及在保護膜的處理過的表面上塗布粘合劑，從而在其上面形成粘合劑。在乾燥粘合劑層後，粘合劑層的厚度優選為0.01-5pm，更優選0.05-3pm。(防反射層)優選在偏振片的保護膜中提供功能膜如防反^f層，其位於液晶元件的相對側。特別是在本發明中，優選使用至少包含依次層合在保護膜上的光散射層和低折射率層的防反射層，或者包含依次層合在保護膜上的中折射率層、高折射率層和低折射率層的防反射層。下面將說明它們的優選實例。首先，將說明在保護膜上提供了光散射層和低折射率層的防反射層。在光散射層中分散了消光顆粒。光散射層中消光顆粒以外的材料的折射率優選在1.50-2.00的範圍內，並且低折射率層的折射率優選在1.35-1.49的範圍內。在本發明中，光散射層具有防眩性質和硬塗層性質，並且可以是單層或者多層，例如2-4層。當防反射層設計用於其表面不勻，使得中心線平均粗糙度Ra為0.08-0.40pun，10點平均粗糙度Rz小於Ra的10倍，平均峰到峰距離Sm是1-100|im，凸起部分高度距不勻處最深點的標準偏差小於0.5pm，平均峰到峰距離Sm的標準偏差相對中心線小於20pm，並且傾角為0-5度的平面百分數大於10%,在裸眼下可以獲得充分地防眩和均勻的消光感覺。另外，當在a"直-22，13*值-3~3且380nm-780nm的範圍內反射率的最小值與最大值的比例是0.5-0.99時，在C光源下反射光的色調優選變得中性。另外，當在C光源下透射光的bM直為0-3時，顯示器中白色顯示的黃色調優選降低。另夕卜，當在表面光源和防反射層間插入120pmX40,的網格下測量膜上的亮度分布時，如果亮度分布的標準偏差小於20，優選降低了本發明的光學補償片用於高精確面板時的閃爍。當將鏡面反射率設置成小於2.5%時，透射率設置成大於90%並且60°光澤度設置為小於70%作為光學特性時，優選使用本發明的防反射層，因為它能抑制外來光的反射並且改善可視性。特別是鏡面反射率優選小於1%，更優選小於0.5%。當霧度是20%-50°/。時，內部霧度/總霧度是0.3-1時，在形成低折射率層後從霧度值直至光散射層的霧度值降低率小於15%,在0.5mm梳齒寬度下透射像清晰度為20%-50%，並且垂直透過光與相對垂直方向傾斜2。方向上的透過光的比例是1.5-5.0,可以抑制精度LCD面板上的閃爍，並且可以降低字符的模糊等。(低折射率層)本發明的防反射層中低折射率層的折射率在1.20-1.49，優選1.30-1.44的範圍內。當其滿足下面的等式(IX)時低折射率層優選低反射率。等式(IX)=(mX/4)xX0.7<nldl中折射率層的折射率>透明載體的折射率>低折射率層的折射率另外，可以在透明載體和中折射率層間提供硬塗層。此外，可以在透明載體和中折射率層間提供中等折射率硬塗層、高折射率層和低折射率層(例如參見JP-A-8-122504、JP-A-8-110401、JP-A-10-300902、JP-A-2002國243906、JP-A-2000-l11706等)。另外，可以給各層提供不同的功能。例如，可以給低折射率層賦予防汙性質，並且給高折射率層賦予抗靜電性質(例如參見JP-A-10-206603、JP-A-2002-243906等)。防反射層的霧度優選小於5%，更優選小於3%。在根據JISK5400的鉛筆硬度試驗中膜強度優選大於H，更優選大於2H，最優選大於3H。(高折射率層和中折射率層)在防反射層中，通過至少包含具有高折射率和小於100nm的平均直徑的無機化合物超細顆粒和基體粘結劑的可固化膜構成具有高折射率的層。作為高折射率的無機化合物超細顆粒，可以使用折射率大於1.65，優選大於1.9的無機化合物。例如，高折射率的無機化合物超細顆粒可以包括Ti、Zn、Sb、Sn、Zr、Ce、Ta、La、In等的氧化物、包含這些金屬原子的複合氧化物等。這種高折射率的無機化合物超細顆粒可以通過用表面處理劑(例如矽垸偶聯劑等(參見JP-A-ll-295503、JP-A-11-153703和JP-A-2000-9908)、陰離子化合物或者有機金屬偶聯劑(參見JP-A-2001-310432)處理顆粒表面的方法；使用具有高折射率顆粒作為核的核殼結構的方法(參見JP-A-2001-166104和JP-AJ001-310432);使用特殊分散劑的方法(參見JP-A-11-153703、美國專利6,210,858和JP-A-2002-2776069)來製備。可以使用本領域中已知的熱塑性樹脂、可固化樹脂等作為基體材料。基體可以包括具有至少兩種自由基和/或可陽離子聚合基團的含有多官能團化合物的組合物和包含具有水解基團的有機金屬化合物及其部分縮合物的組合物中的至少一種。例如，可以使用在JP-A-2000-47004、JP-A-2001-315242、JP-A-2001-31871、JP-A-2001-296401等中公開的組合物作為基體。另外，可以使用可從膠體金屬氧化物獲得的可固化膜和可從金屬醇鹽的水解縮合物獲得的組合物作為基體，如例如在JP-A-2001-293818等中公開。高折射率層的折射率一般為1.70-2.20。高折射率層的厚度優選為5nm-10pm，更優選10nm—lnm。調整中折射率層的折射率至落在低折射率層的折射率和高折射率層的折射率之間。中折射率層的折射率優選為1.50-1.70。中折射率層的厚度優選為5nm-10nm，更優選10nm-1pm。(低折射率層)在高折射率層上層合低折射率層。低折射率層的折射率是1.20-1.55，優選1.30-1.50。低折射率層優選構成具有抗劃性和防汙性的最外層。作為大大增加抗劃性的方法，可以使用能給層的表面賦予可滑動性並且由本領域中已知的矽或氟組成的薄膜層。含氟化合物的折射率優選為1.35-1.50，更優選1.36-1.47。含氟化合物優選是包含交聯或可聚合的官能團的化合物，所述官能團包含在35-80質量％範圍內的氟原子。例如，含氟化合物可以是在JP-A-9-222503，第-段、JP國A-11-38202，第-段、JP-A-2001-40284，第-段、JP-A-2000-284102等中公開的化合物。矽化合物優選是具有聚矽氧烷結構並且在聚合物鏈中包含可固化官能團或者可聚合官能團從而在膜中具有交聯結構的化合物。例如，矽化合物可以是反應性矽(例如silaplane(由CHISSO公司生產)、在兩端包含甲矽垸醇的聚矽氧烷(JP-A-ll-258403)等)。優選通過在塗布塗層組合物時或者之後光照射或者加熱塗布組合物從而形成包含光聚合引發劑或感光劑的最外層來進行具有交聯或可聚合基團的含氟和/或矽氧垸聚合物的交聯或聚合反應。另外，可以優選使用通過有機金屬化合物例如矽垸偶聯劑和包含含氟烴基的矽烷偶聯劑在催化劑的共存下縮合反應固化的溶膠-凝膠可固化的膜。例如，所述溶膠-凝膠可固化的膜可以是含有聚氟代烷基的矽烷化合物或其部分水解縮合產物(在JP-A-58-142958、JP-A-58-147483、JP畫A-58-147484、JP-A-9-157582、JP-A-11-106704中公開的化合物)、包含聚全氟垸基醚基團作為含氟長鏈基團的甲矽烷化合物(在JP-A-2000-117902、JP-A-2001-48590、JP-A-2002-53804等中公開的化合物)等。除此之外，低折射率層可以包含填料(例如初級平均直徑1-150nm的低折射率無機化合物，例如二氧化矽(矽石)或者含氟顆粒(氟化鎂、氟化鈣或氟化鋇)、在JP-A-11-3820中第-段公開的有機微粒、矽垸偶聯劑、潤滑劑、表面活性劑等作為添加劑。如果低折射率層位於最外層下方，低折射率層可以通過蒸氣方法(真空沉積方法、濺射方法、離子鍍方法、等離子體CVD方法等)形成。在製備成本方面優選使用塗布方法。低折射率層的膜厚優選是30-200nm，更優選50-150nm，最優選60-120nm。(防反射層中的其它層)防反射層還可以包含硬塗層、前向散射層、底漆層、抗靜電層、底塗層、保護層等。(硬塗層)在防反射層中提供的保護膜的表面上提供硬塗層來給保護膜賦予機械強度。特別優選在保護膜和高折射率層之間提供硬塗層。優選通過光和/或熱可固化的化合物的交聯反應或者聚合反應形成所述硬塗層。可固化的官能團優選是光可聚合的官能團，並且含有水解官能團的有機金屬化合物優選是有機垸氧基甲矽烷化合物。這種化合物的實例可以包括與高折射率層中所含的那些化合物相同的化合物。硬塗層組合物的實例可以包括在JP-A-2002-144913、JP-A-2000-9908、WO00/46617等中公開的那些組合物。還可以使用高折射率層作為硬塗層。在此情況下，優選使用用於高折射率層的方法精細地分散微粒並且在硬塗層中包含分散的微粒。還可以通過包含平均直徑為0.2-10pm的顆粒使用硬塗層作為防眩層來提供防眩性質。可以根據其用途設計硬塗層的膜厚。硬塗層的膜厚優選為0.2-10jim，更優選0.5-7jim。根據JISK5400在鉛筆硬度試驗中硬塗層的強度優選大於H，更優選大於2H，最優選大於3H。在根據JISK5400的膠帶試驗中，在試驗前和後試驗片不太磨損。(抗靜電層)當提供抗靜電層時，優選給抗靜電層賦予小於It)—8(Qcm-3)的體積電阻率。儘管可以通過使用吸收材料、含水無機鹽、表面活性劑、陽離子聚合物、陰離子聚合物、膠體二氧化矽等給抗靜電層賦予l(T8(Qcm力的體積電阻率，但是存在大的溫度/溼度相關性和低溼度下電導率不足的問題。由於這個原因，優選使用金屬氧化物作為導電層的材料。但是，如果使用有色金屬氧化物作為導電層的材料，因為有色的金屬氧化物使整個膜有顏色而是不優選的。無色金屬氧化物的金屬的實例可以包括Zn、Ti、Al、In、Si、Mg、Ba、Mo、W、V等，並且優選使用具有這些金屬作為主要組分的金屬氧化物。例如，金屬氧化物優選包括ZnO、Ti02、Sn02、A1203、ln203、Si02、MgO、BaO、Mo03、￥205等，或者它們的複合氧化物，更優選ZnO、Ti02和Sn02。例如在包含不同原子的情況中，在ZnO中包含Al、In等，在Sn02中包含Sb、Nb、卣素原子等，以及在Ti02中包含Nb、Ta等是有效的。另外，如JP-A-59-6235中所公開，可以使用上述金屬氧化物與不同晶體的金屬顆粒或纖維狀材料(例如二氧化鈦)粘接的材料。儘管體積電阻不能簡單地與表面電阻比較，因為它們的物理性質彼此不同，但是為了獲得10's(Qcm,的電導率作為電阻率，導電層可以具有小於io-1Q(Q/口)，優選小於io-8(Q/口)的表面電阻。當抗靜電層是最外層時需要測量導電層的表面電阻，或者可以在如上所述層合膜的形成期間測量。使用本發明的光學補償片的偏振片可以用於具有不同顯示模式的液晶元件和液晶顯示裝置。己經建議了各種顯示模式，包括TN(扭曲向列)、IPS(面內轉換)、FLC(鐵電液晶)、AFLC(反鐵電液晶)、OCB(光學補償彎曲)、STN(超扭曲向列)、VA(垂直取向)和HAN(混合取向向列)。在這些模式中，本發明的偏振片優選可以用於TN、OCB和VA模式。(OCB模式液晶顯示裝置)OCB模式液晶元件是使用彎曲取向模式的液晶元件的液晶裝置，其中棒狀液晶分子在液晶元件的上部和下部中以基本上相反的方向(對稱地)取向。例如在美國專利4，583，825和美國專利5,410,422中公開了OCB模式液晶元件。因為棒狀液晶分子在液晶元件的上部和下部對稱地取向，彎曲取向模式液晶元件具有自光學補償功能。由於這個原因，該液晶模式也被稱作OCB(光學補償彎曲)。彎曲取向模式的液晶顯示裝置具有高速響應的優點。(VA-模式液晶顯示裝置)在VA-模式液晶顯示裝置中，棒狀液晶分子在不加電壓下基本上是垂直取向的。VA-模式液晶元件包含(l)窄敏感的VA-模式液晶元件，其中棒狀液晶分子在不加電壓下基本上垂直取向並且在外加任意電壓下基本上水平取向(如JP-A-2-176625中所公開)，(2)具有多疇VA模式來擴大視角的(MAV模式的)液晶元件(在SID97,技術報告文摘(預覽)2891997)中公開)，(3)(n-SAM模式)的液晶元件，其中棒狀液晶分子在不加電壓下基本上垂直取向並且在外加任意電壓下以扭曲多疇取向(如在日本液晶會議預覽58-59(1998)中所公開)，及(4)SURVAIVAL-模式液晶元件(由LCD國際卯出版)。VA-模式液晶顯示裝置包括液晶元件和位於該液晶分子兩側處的兩片偏振片。液晶元件在兩個電極基板間具有液晶。根據本發明的液晶顯示裝置的一個方面，在液晶元件和一片偏振片之間插入一片本發明的光學補償片，或者分別在液晶元件和兩片偏振片之間插入兩片本發明的光學補償片。根據本發明的液晶顯示裝置的另一個方面，使用本發明的光學補償片作為插在液晶元件和起偏器間的偏振片的透明保護膜。該光學補償片可以僅用於一個偏振片的透明保護層(在液晶元件和起偏器之間)，或者可以用於兩個偏振片的兩個保護層(在液晶元件和起偏器之間)。當光學補償片僅用於一個偏振片時，特別優選使用光學補償片作為液晶元件背光側的偏振片的液晶元件側處的保護層。對於光學補償片與液晶元件的結合，本發明的基於環狀烯烴的加成聚合物的基膜優選在VA元件側。保護膜可以是典型的醯化纖維素膜。例如，保護膜的厚度是40-80pm，並且可以使用KC4UX2M(40pm,可從KonicaMinoltaOpt有限公司商購)、KC5UX(60可從KonicaMinoltaOpt有限公司商購)、TD80(80pm，可從FUJIFILM公司商購)等作為保護膜而不局限於此。(TN-模式液晶顯示裝置)本發明的光學補償片可以用作具有TN-模式液晶元件的TN-模式液晶顯示裝置的光學補償片用的載體。TN-模式液晶元件和TN-模式液晶顯示裝置巳經早為人們所熟知。細節可以參考JP-A-3-9325、JP-A-6-148429、JP隱A畫8-50206和JP-A-9-26572。另夕卜，還可以參考Mori等的文章(Jpn.J.Appl.Phys.，第36巻，(1997年)，第143頁；Jpn.J.Appl.Phys.，第36巻，(1997年)，第1068頁)。『實施例l在下面的實施例中將進一步說明本發明，但是本發明不局限於此。下文使用的術語"份"意指"質量份"。通過下面的方法測量膜的性質。(延遲)在本說明書中，Re(t)和Rth(X)分別表示在波長i下的面內延遲和厚度方向延遲。使用KOBRA21ADH或WR(由OujiScientificInstruments有限公司製造)，通過在膜法線方向上入射具有Xnm波長的光測量Re(X)。使用K0BRA21ADH或WR，然後基於在六個方向中測量的六個延遲值計算Rth，S口，在膜法線方向上測量的Re、在面內慢軸(由KOBRA21ADH判斷)作為傾斜軸(旋轉軸)下在與膜法線方向成+50°的方向上測量的Re、在面內慢軸(由KOBRA21ADH判斷)作為傾斜軸(旋轉軸)下在與膜法線方向成-50。的方向上測量的Re。基於用慢軸作為傾斜軸(在無慢軸的情況下膜的任意方向作為旋轉軸)下在兩個方向上測量的延遲值、平均折射率的假設值和膜厚，可以從下面的等式(1)和(2)計算Rth。對於平均折射率的假設值，可以參考"PolymerHandbook",JOHNWILEY&SONS公司和光學膜的目錄。對於具有未知平均折射率值的那些光學膜，可以使用阿貝折射計。下面列舉了主要光學膜的平均折射率醯化纖維素(1.48)、環狀烯烴聚合物(1.52)、聚碳酸酯(1.59)、聚甲基丙烯酸甲酯(1.49)、聚苯乙烯(1.59)。通過輸入平均折射率假設值和膜厚，KOBRA21ADH或WR計算nx、ny和nz。基於計算的nx、ny和nz進一步計算Nz=((nx-nz)/(nx-ny)).等式lformulaseeoriginaldocumentpage66注在上述等式中，Re(e)表示從法線方向傾斜e的方向上的延遲。'等式2Rth=((nx+nz)/2-nz)Xd(含水量)使用CA-03型含水量測量儀器和VA-05型樣品乾燥器(兩者均由MitsubishiChemical公司製造)，通過KarlFischer滴定測量尺寸為7mmX35mm的樣品。通過含水量(g)除以樣品的質量(g)來計算含水(動摩擦係數)可以根據由JIS或ASTM規定的方法使用鋼球測量動摩擦係數。(霧度)可以使用1001DP型霧度計(可從MpponDenshokuIndustries有限公司獲得)測量霧度。(剝離阻力)如下測量剝離負載。在具有與成膜設備的金屬載體相同材料和表面粗糙度的金屬板上滴下濃液，然後使用刮刀以均勻的厚度拉伸濃液並且乾燥成膜。使用切割刀具將所得膜等間隔地切成帶形。然後，用手剝開膜的前沿，並且在用與應變計連接的夾具固定膜下，在於45°傾角牽引應變計下測量膜的負載變化。還測量剝離膜中的揮發性組分的量。在改變當揮發性組分的量等於實際成膜過程中膜剝離中殘留的揮發性組分的量時的乾燥時間和剝離負載下重複幾次相同的測量。使用在下面實施例中製備的用於成膜的濃液測量剝離負載，並且計算每1cm膜寬的剝離阻力並列在表1中。(實施例1)[基膜的形成](基於環狀烯烴的加成聚合物的基膜F-ll的形成)在預熱至9(TC下，在50mm內徑和L/D為28的單軸擠出機中熔化APL5014(Tg:135°C)(由MitsuiChemicals公司製造)。擠出機在其入口側處的溫度是200。C並且在其出口側處是140°C。然後，藉助燒結過濾器經T-模將熔融膜材料擠出到擠出機出口處的齒輪泵。在冷卻步驟使用三個冷卻輥。這些冷卻輥以3cm的間隔布置。最接近模的第一個冷卻輥的溫度是130°C。通過從第二個冷卻輥的溫度減去第一個冷卻輥的溫度得到的值是3°C。通過從第二個冷卻輥的溫度減去第三個冷卻輥的溫度得到的值是13°C。第二個冷卻輥的輸送速度(Sr2)和第一個冷卻輥的輸送速度(Srl)間的差異與這些輥的輸送速度(第一個冷卻輥的輸送速度(Srl=50m/min))的比值(ASr2！(。/。)=100X(Sr2-Sn)/Sr,)是1%。第三個冷卻輥的輸送速度(Sr3)和第二個冷卻輥的輸送速度(Sr2)間的差異與第二個冷卻輥的輸送速度(Sr2)的比值(ASr23(。/。)二100X(Sr2—Sr3)/Sr2)是1%。這些冷卻輥全部位於12(TC的外殼中。使用靜電施用方法，使片在片寬為1.7m的0.17m寬的部分上壓向第一個冷卻輥。彼此接近布置的這些冷卻輥間的冷卻速率是2。C/sec。由通過位於第一個冷卻輥上的膜的溫度與從最後冷卻輥上剝離下來的膜的溫度間的差異除以膜通過該區域所需的時間計算的值代表冷卻速率。然後，以2。C/sec的冷卻速率在以0.5m的間隔布置的輥上輸送已經從最後冷卻輥上剝離下來的膜。如此獲得的膜具有79,的厚度。然後，使該膜與另一片膜層合、在其兩邊修剪10%(縱切)，然後纏繞3,000m。如通過KOBRA21ADH(由OujiScientificInstruments有限公司製造)所測量的一樣，膜(F-11)表現出lnm的面內延遲Re和4nm的厚度方向延遲Rth。(基於環狀烯烴的加成聚合物的基膜F-21的形成)在反應容器中加入100質量份純甲苯和100質量份降冰片烯羧酸甲酯。接著，在反應容器中加入溶在甲苯中的乙基己酸鎳、溶在甲苯中的三(五氟苯基)硼和三乙基鋁，用量分別為25mmol。/。(基於單體的質量)、0.225mol%(基於單體的質量)和0.25mol%(基於單體的質量)。然後，使這些組分在攪拌下於室溫反應18小時。在反應完成後，然後使反應混合物放入過量乙醇中從而產生共聚物沉澱。純化沉澱物。然後，在真空中於65t:下乾燥所得共聚物(P-l)24小時。共聚物(P-1)formulaseeoriginaldocumentpage69將下面的組合物加入混合罐中，然後在那裡攪拌來溶解。然後，使溶液過濾通過平均孔徑為34pm的濾紙和平均孔徑為10pm的燒結金屬過濾器。表1tableseeoriginaldocumentpage70隨後，將通過上述方法製備的包含下面組成的環狀聚烯烴溶液加入分散機中來製備消光劑分散液。_^_消光劑分散液平均粒徑為16nm的粒狀二氧化2.0質量份矽(AerosilR972,由NIPPONAEROSIL有限公司生產)二氯甲垸72.4質量份甲醇10.8質量份基於環狀烯烴的加成聚合物溶液10.3質量份然後，將100質量份上述基於環狀烯烴的加成聚合物溶液和1.35質量份上述消光劑分散液混合來製備成膜濃液。使用帶式澆鑄機澆鑄濃液。使用拉幅機在2%的拉伸比下在寬度方向上拉伸在殘留溶劑量為15%-25質量％時從帶上剝離的膜並且在固定下用12(TC的熱空氣乾燥，使得膜不會起皺。在由拉幅機輸送後，由輥進一步輸送膜，並且在120。C-14(TC下進一步乾燥並巻繞。表1中顯示了所製備的膜(F-21)的特性。(基於環狀烯烴的加成聚合物的基膜F-31和F-41的形成)使用下面的組成，按照與膜F-21相同的方法形成濃液。表3tableseeoriginaldocumentpage71基於環狀烯烴的加成聚合物溶液10.3質量份按照與膜F_21相同的方法形成膜F-31和F-41。(基於環狀烯烴的加成聚合物的基膜F-5的形成)使用下面的組成，按照與膜F-21相同的方法形成濃液。表5tableseeoriginaldocumentpage71表6消光劑分散液平均粒徑為16mn的粒狀二氧化矽(AerosilR972,由NIPPONAEROSIL有限公司生產)二氯甲垸甲醇基於環狀烯烴的加成聚合物溶液2.0質量份78.0質量份5.0質量份IO.O質量份按照與膜F-21相同的方法形成膜F-51。(基於環狀烯烴的加成聚合物的基膜F-6的形成)使用下面的組成，按照與膜F-21相同的方法形成濃液。formulaseeoriginaldocumentpage72基於環狀烯烴的加成聚合物溶液Appear3000150質量份~二氯甲烷450質量份_表8消光劑分散液平均粒徑為16nm的粒狀二氧化矽(AerosilR972，由NIPPONAEROSIL有限公司生產)二氯甲烷基於環狀烯烴的加成聚合物溶液按照與膜F-21相同的方法形成膜F-61。在下面的表9中顯示了實施例F-ll至F-51及比較例F-61的基於環狀烯烴的加成聚合物的基膜的特性。表9實施例號聚合物剝離劑剝離阻力N/cm拉伸比％膜厚(im動摩擦係數霧度%Renm她■F-llAPL5014---790,40.4214F-21P誦L甲醇0.012610.40.4011216F-31Appear30000.2010550.50.3042215F-410.212400.50.286150F-51RZ-I30.022500.40.258185F-61-0,852400.50.1681502.0質量份83.0質量份IO.O質量份(實施例2)(基於環狀烯烴的加成聚合物的基膜的表面處理)使基於環狀烯烴的加成聚合物的基膜F-ll、F-21、F-31、F-41、F-51和F-61每種在上和下黃銅電極間(在氬氣氣氛中)接受輝光放電處理(施加頻率為3,000Hz的4，200V的高頻電壓通過上和下電極20秒)來製備膜F-12、F-22、F-32、F-42、F-52和F-62。如此已經接受了輝光放電處理的保護膜的表面相對於純水錶現出從36。到41°的接觸角。對於接觸角的測量，使用CA-X型接觸角計(由KyowaInterfaceScience有限公司製造)。(實施例3-1)(取向膜的形成)使用#16號線棒塗布機以24ml/m2的速率在基於環狀烯烴的加成聚合物基膜F-31上塗敷具有下面配方的塗布溶液。用60。C的熱空氣乾燥塗布的材料60秒，然後用9(TC的熱空氣乾燥150秒。隨後，使如此形成的膜在從基於環狀烯烴的加成聚合物的基膜的縱向(輸送方向)作為0。順時針偏離135。的方向上接受摩擦。(取向膜塗布溶液的配方)具有下面通式的改性聚乙烯醇40質量份水728質量份甲醇228質量份戊二醛(交聯劑)2質量份檸檬酸酯(AS3,由Sankyo0.69質量ChemicalIndustries有限公司制份備)改性的聚乙烯醇OH0-CO~CH3IO-CO"f>~0~(CH2VO—CO—CH=CH2(光學各向異性層的形成)在與膜的輸送方向相同的方向上，在使用在391rpm下旋轉的#2.7號線棒在以20m/min的速率輸送的膜F-32上連續塗敷通過在102kg甲乙酮中溶解下面的組分41.01kg下面的盤狀液晶化合物、4.06kg環氧乙垸改性的三羥甲基丙垸三丙烯酸酯V弁360(由OsakaOrganicChemistry有限公司製造)、0.29kg乙酸丁酸纖維素"CAB531-1"(由EastmanKodak公司製造)、1.35kg光聚合引發劑"Irgacure-907"(由CibaSpecialtyChemicals有限公司製造)、0.45kg感光劑"KayacureDETX"(由NipponKayaku公司製造)和0.45kg檸檬酸酯AS3(由SankyoChemicalIndustries有限公司製備)，然後加入0.1kg含氟代脂肪族基團的共聚物"MegafacF780"(由DAINIPPONINKANDCHEMICALS公司製備)獲得的塗布溶液。然後，在從室溫到10(TC的溫度連續加熱膜的步驟下乾燥膜從而除去溶劑。然後，按照打到盤狀液晶化合物層的表面上的風速為平行於膜輸送方向為1.5m/sec的方式，在135。C乾燥區中乾燥膜大約卯秒，從而取向盤狀液晶化合物。隨後，在輸送通過8(TC乾燥區時，在膜的表面溫度保持在大約10(TC下，用來自紫外線發射器(紫外燈輸出160W/cm;波長1.6m)的600mW劑量的紫外線照射膜4秒，從而使交聯反應進行來固定如此取向的盤狀液晶化合物。然後，使膜冷卻至室溫，然後以圓柱形纏繞形成巻。因此，製備出巻狀光學各向異性光學補償片L-32。如此形成的光學各向異性層具有1.6)im的厚度。光學各向異性層表現出27nm的Re，Re由KOBRA21ADH型自動雙折射測量儀器(由OujiScientificInstruments有限公司製造)測量。然後從如此製備的光學補償片中僅剝離光學各向異性層。然後使用KOBRA21ADH型自動雙折射測量儀器(由OujiScientificInstruments有限公司製造)測量光學各向異性層的卩值和分子不對軸的平均方向。結果，卩值是33°。分子不對軸的平均方向相對於基於環狀烯烴的加成聚合物基膜的縱向為45.5。。為計算(3值，輸入1.6作為平均折射率。(實施例3-2)按照與實施例3-1相同的方法在已經接受了輝光放電處理的膜F-12和F-42上形成取向膜。隨後，使如此形成的取向膜在從膜的縱向(輸送方向)作為0。順時針偏離180°的方向上接受摩擦。在與膜的輸送方向相同的方向上，在使用在391rpm下旋轉的#3.2號線棒在以20m/min的速率輸送的取向膜上連續塗敷通過在207kg甲乙酮中溶解下面的組分91.0kg上述盤狀液晶化合物、9.0kg環氧乙垸改性的三羥甲基丙烷三丙烯酸酯V弁360(由OsakaOrganicChemistry有限公司製造)、2.0kg乙酸丁酸纖維素"CAB551-0,2"(由Eas加anKodak公司製造)、0.5kg乙酸丁酸纖維素"CAB531-1"(由EastmanKodak公司製造)、3.0kg光聚合引發劑"lrgacure-卯7"(由CibaSpecialtyChemicals有限公司製造)和1.0kg感光劑"KayacureDETX"(由NipponKayaku公司製造)，然後加入0.4kg含氟代脂肪族基團的共聚物"MegafacF780"(由DAINIPPONINKANDCHEMICALS公司製備)獲得的塗布溶液。然後，在從室溫到IO(TC的溫度連續加熱膜的步驟乾燥膜從而除去溶劑。然後，按照打到盤狀液晶化合物層的表面上的風速為平行膜輸送方向為5.0m/sec的方式，在135。C乾燥區中乾燥膜大約卯秒，從而取向盤狀液晶化合物。隨後，在輸送通過8(TC乾燥區時，在膜的表面溫度保持在大約100°C，用來自紫外線發射器(紫外燈輸出160W/cm;波長1.6m)的600mW劑量的紫外線照射膜4秒，從而使交聯反應進行來固定如此取向的盤狀液晶化合物。然後，使膜冷卻至室溫，然後以圓柱形纏繞形成巻。因此，製備出巻狀光學各向異性光學補償片L12(基膜F-12)和L42(基膜F-42)。如此形成的光學各向異性層具有1.9pm的厚度。光學各向異性層表現出46nm的Re，Re由KOBRA21ADH型自動雙折射測量儀器(由OujiScientificInstruments有限公司製造)測量。然後從如此製備的光學補償片中僅剝離光學各向異性層。然後使用KOBRA21ADH型自動雙折射測量儀器(由OujiScientificInstruments有限公司製造)測量光學各向異性層的(3值和分子不對軸的平均方向。結果，P值是38。。分子不對軸的平均方向相對於基於環狀烯烴的加成聚合物的基膜的縱向為-0.3°。為計算卩值，輸入1.6作為平均折射率。(實施例3-3)(光學補償片L13、L23和L53)在甲醇和水的30/70(質量)混合物中溶解下面的丙烯酸共聚物和三乙胺(中和劑)來製備4質量％的溶液。使用棒式塗布機，然後在正輸送的輝光放電的基於環狀烯烴的加成聚合物的基膜F-12、F-22和F-52上連續塗敷所述溶液。然後，加熱並且千燥塗層至120°C5分鐘，從而形成1pm厚的層。隨後，使塗層表面在縱向(輸送方向)上連續接受摩擦從而形成取向膜。丙烯酸共聚物COOH^人使用棒式塗布機在上述取向膜上連續塗敷具有下面配方的塗布溶液。將塗層加熱至IO(TC1分鐘來取向棒狀液晶分子，然後用紫外線照射引起棒狀液晶分子聚合，從而固定取向的液晶分子來製備光學補償片L13、L23和L53(基膜分別是F-12、F-22和F-52)。如此形成的光學各向異性層具有1.7的厚度。表10complextableseeoriginaldocumentpage77棒關液晶化合物formulaseeoriginaldocumentpage77感光劑formulaseeoriginaldocumentpage78從使用KOBRA21ADH自動雙折射測量儀器(由OujiScientificInstruments有限公司製造)測量的光學補償片U3和L23對入射光的角度的依賴性中減去前面己經測量的基於環狀烯烴的加成聚合物的基膜的貢獻來計算光學各向異性層自身的光學特性。結果，Re是47nm，Rth是23nm，並且棒狀液晶分子的長軸相對層表面的平均傾角為0°。觀察到棒狀液晶分子與膜的表面平行取向排列。取向排列棒狀液晶分子使其主軸與巻曲的基於環狀烯烴的加成聚合物基膜的縱向正交(即光學各向異性層慢軸的方向與巻曲的基於環狀烯烴的加成聚合物的基膜的縱向正交)。如此獲得光學補償片(L13)具有48nm的Re和27nm的Rth(在590nm波長下測量)。另一方面，光學補償片(L23)具有58nm的Re和239nm的Rth(在590nm波長下測量)。(實施例3-4)在環己酮中溶解從2，2'-二(3，4-二羧基二苯基)六氟丙烷和二(三氟甲基)-4，4'-二氮基聯苯合成的聚醯亞胺(質均分子量59，000)來製備15質量％聚醯亞胺溶液。將如此製備的聚醯亞胺溶液塗敷在經過輝光放電的環狀聚烯烴的膜F-22上，然後在18(TC的溫度下乾燥。光學補償片L24具有59pm的總厚度、45nm的Re和390nm的Rth。(實施例4-1)[偏振片A的形成](光散射層塗布溶液的製備)用38.5g甲苯稀釋50g三丙烯酸季戊四醇酯和四丙烯酸季戊四醇酯(PETA，由NipponKayaku公司生產)。然後，向該溶液中加入2g聚合引發劑(Irgacure184,由CibaSpecialtyChemicals有限公司生產)。然後，攪拌混合物。通過塗敷該溶液和紫外線固化塗層得到的塗層具有1.51的折射率。然後，向該溶液中加入1.7g平均粒徑為3.5,的粒狀交聯聚苯乙烯(折射率1.60;SX-350,由SokenChemical&Engineering有限公司生產)的30%甲苯分散液(已經使用polytron分散機在10,000rpm下分散20分鐘)和13.3g平均粒徑為3.5,的粒狀交聯丙烯酸酯-苯乙烯(折射率1.55;由SokenChemical&Engineering有限公司生產)的30°/。甲苯分散液。最後，向混合物中再加入0.75g氟基表面改性劑(FP-1)和10g矽烷偶聯齊U(KBM-5103由Shin-EtsuChemical公司生產)來獲得最後的溶液。然後，使上述混合物過濾通過孔徑為30的聚丙烯過濾器來製備光散射層塗布溶液。氟基表面改性劑(FP-l)formulaseeoriginaldocumentpage80其中m代表大約36的數；並且n代表的數為6。(低折射率層塗布溶液的製備)首先按照下面的方式製備溶膠。有些詳細地說，在配備了攪拌器和回流冷凝器的反應容器中加入120份甲乙酮、100份丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽垸(KBM5103，由Shin-EtsuChemical有限公司生產)和3份二異丙氧基鋁乙醯乙酸乙酯來製備混合物。然後，向混合物中加入30份去離子水。使混合物在6(TC下反應4小時，然後使其冷卻至室溫來得到溶膠。溶膠的質均分子量為1,600。在低聚物組分中分子量為l，OOO-20,000的組分的比例為100%。溶膠的氣相色譜表現出沒有剩下原材料丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷。在攪拌下混合13g折射率為1.42的可熱交聯的含氟聚合物(JN-7228;固體物濃度6%;由JSR有限公司生產)、1.3g二氧化矽溶膠(粒徑不同於MEK-ST的二氧化矽；平均粒徑45nm;固體物濃度30%;由NISSANCHEMICALINDUSTRIES有限公司生產)、0.6g如此製備的溶膠、5g甲乙酮和0.6g環己酮。然後，使溶液過濾通過孔徑為1pm的聚丙烯過濾器來製備低折射率層塗布溶液。(具有光散射層的保護層TACOl的製備)在使用直徑50mm、180線/英寸且40pm深的微凹版輥和刮刀，以30rpm的凹版旋轉速度和30m/min的輸送速度從輥上解開的80pm厚的三乙醯纖維素膜(FujitacTD80U，由FujiPhotoFilm有限公司生產)上塗敷上述用於功能層(光散射層)的塗布溶液。使塗布的膜在6(TC下乾燥150秒、在已經用氮氣衝洗了空氣的氣氛中，用發自輸出為160W/cm的空氣冷卻的金屬滷化物燈(由EYEGRAPHICS有限公司製造)的紫外線在400mW/cm2的照度和250mJ/cm2的劑量下輻照，從而固化塗層形成6pm厚的功能層。然後巻繞膜。在使用直徑50mm、180線/英寸且40pm深的微凹版輥和刮刀，以30rpm的凹版旋轉速度和40m/min的輸送速度從輥上解開的在上面提供了功能層(光散射層)的三乙醯纖維素膜上塗敷如此製備的用於低折射率層的塗布溶液。使塗布的膜在12(TC下乾燥150秒，然後在14(TC乾燥8分鐘。在已經用氮氣衝洗了空氣的氣氛中，用發自輸出為240W/cm的空氣冷卻的金屬滷化物燈(由EYEGRAPHICS有限公司製造)的紫外線在400mW/ci^的照度和900mJ/cm2的劑量下輻照所述膜，從而形成100pm厚的低折射率層。然後巻繞膜。使用分光光度計(由JASCO有限公司製造)，在5°入射角和380-780nm波長下測量偏振片在其功能層側上的光譜反射率來確定450-650nm積分球平均反射率。結果，偏振片表現出2.3%的積分球平均反射率。(偏振片A的製備)使碘吸附到由此拉伸的聚乙烯醇膜上以製備起偏器然後，使如此製備的具有光散射層的透明保護層(TAC-01)表面接受鹼性皂化。用聚乙烯醇基粘合劑將如此皂化的透明保護層粘貼到其與功能層相對側的起偏器的一側上。使在實施例3-1至3-4中製備的光學補償片(L12、L13、L23、L24、L32、L42和L53)每種接受輝光放電處理(施加頻率為3,000Hz的4，200V高頻電壓通過上和下電極20秒)、用聚乙烯醇粘合劑將其粘貼到其基膜側上的偏振片的相對側上，並且在70。C下乾燥10分鐘或更長時間。進行布置使得起偏器的透射軸和在實施例3-1至3-4中製備的光學補償片的慢軸布置成彼此平行並且將起偏器的透射軸和具有光散射層的透明保護層TAC01的慢軸布置成彼此垂直。因此，製備出偏振片(A-12、A-13、A-23、A畫24、A-31、A-42和A-53)。(實施例4-2)(硬塗層塗布溶液的製備)向750.0質量份三羥甲基丙烷三丙烯酸酯(TMPTA,由NIPPONKAYAKU生產)中加入270.0質量份質均分子量為3，000的聚(甲基丙烯酸縮水甘油醚酯)、730.0g甲乙酮、500.0g環己酮和50.0g光聚合引發劑(Irgacure184,由CibaGeigyJapan公司生產)。然後攪拌混合物。然後使混合物過濾通過孔徑為0.4pm的聚丙烯過濾器來製備硬塗層塗布溶液。(二氧化鈦微粒細分散液的製備)使用含鈷的用氫氧化鋁和氫氧化鋯表面處理過的二氧化鈦微粒(MPT-129,由ISHIHARASANGYOKAISHA有限公司生產)作為二氧化鈦微粒。然後，向257.1g二氧化鈦微粒中加入38.6g下面的分散劑和704.3g環己酮。然後，使用dinomill分散混合物來製備質均粒徑為70nm的二氧化鈦顆粒的分散液。(中折射率層塗布溶液的製備)向88.9g上述二氧化鈦顆粒分散液中加入58.4g五丙烯酸二季戊四醇酯和六丙烯酸二季戊四醇酯(DPHA)的混合物、3.1g光聚合引發劑(Irgacure907)、1.1g光敏劑(KayacureDETX,由NIPPONKAYAKU有限公司生產)、482.4g甲乙酮和1,869.8g環己酮。然後，攪拌混合物。徹底攪拌混合物，然後過濾通過孔徑為0.4pm的聚丙烯過濾器來製備中折射率層塗布溶液。(高折射率層塗布溶液的製備)向586.8g上述二氧化鈦顆粒分散液中加入47.9g五丙烯酸二季戊四醇酯和六丙烯酸二季戊四醇酯(DPHA，由NipponKayaku公司生產)的混合物、4.0g光聚合引發齊U(Irgacure907，由CibaSpecialty分散劑0CH9CH=CHMw=40000Chemicals有限公司生產)、1.3g光敏齊U(KayacureDETX,由NIPPONKAYAKU有限公司生產)、455.8g甲乙酮和1,427.8g環己酮。然後，攪拌混合物。徹底攪拌混合物，然後過濾通過孔徑為0.4pm的聚丙烯過濾器來製備高折射率層塗布溶液。(低折射率層塗布溶液的製備)以濃度達到7質量％的用量在甲乙酮中溶解由下面通式代表的共聚物。然後向該溶液中加入用量分別為3質量％和5質量％的甲基丙烯酸酯基團終端的矽酮樹脂X-22-164C(由Shin-EtsuChemical有限公司生產)和光自由基產生劑Irgacure907(商標名)來製備低折射率層塗布溶液。共聚物formulaseeoriginaldocumentpage84(50:50表示摩爾比)(具有防反射層的透明保護層TAC02的製備)使用凹版塗布器，在80iim厚的三乙醯纖維素膜(FujitacTD80U，由FujiPhotoFilm有限公司生產)上塗敷硬塗層塗布溶液。在IO(TC下乾燥塗膜，然後在已經用氮氣衝洗空氣達到1.0體積％氧氣濃度的氣氛中，用發自輸出為160W/cm的空氣冷卻的金屬滷化物燈(由EYEGRAPHICS有限公司製造)的紫外線在400mW/cm2的照度和300mJ/cm2的劑量下輻照，從而固化塗層形成8,厚的硬塗層。使用具有三個塗布臺的凹版塗布器在所述硬塗層上連續塗敷中折射率層塗布溶液、高折射率層塗布溶液和低折射率層塗布溶液。中折射率層的乾燥條件是IO(TC和2分鐘。至於紫外線固化條件，formulaseeoriginaldocumentpage84用氮氣衝洗氣氛中的空氣使得氧氣濃度達到1.0體積％。在該氣氛中，由輸出為180W/cm的空氣冷卻的金屬滷化物燈(由EYEGRAPHICS有限公司製造)在400mW/cn^的照度和400mJ/cm2的劑量下發射紫外線。如此固化的中折射率層具有1.630的折射率和67nm的厚度。高折射率層和低折射率層的乾燥條件是90。C和1分鐘，接著是IO(TC和I分鐘。至於紫外線固化條件，用氮氣衝洗氣氛中的空氣使得氧氣濃度達到1.0體積％。在該氣氛中，由輸出為240W/cm的空氣冷卻的金屬滷化物燈(由EYEGRAPHICS有限公司製造)在600mW/cm2的照度和600mJ/cm2的劑量下發射紫外線。如此固化的高折射率層具有1.905的折射率和107nm的厚度，並且如此固化的低折射率層具有1.440的折射率和85nm的厚度。因此，製備出具有防反射層的透明保護層TAC02。(偏振片B的製備)使如此拉伸的聚乙烯醇膜吸附碘來製備起偏器。然後，使如此製備的具有光散射層的透明保護層TAC02的表面接受鹼性皂化。用聚乙烯醇基粘合劑將如此皂化的透明保護層粘貼到其與功能層相對側的起偏器的一側上。使在實施例3-1至3-4中製備的光學補償片(L12、L13、L23、L24、L32、L42和L53)中每種接受輝光放電處理(施加頻率為3，000Hz的4，200V高頻電壓通過上和下電極20秒)、用聚乙烯醇粘合劑將其粘貼到其基膜側上的偏振片的相對側上，並且在7(TC下乾燥10分鐘或更長時間。進行布置使得起偏器的透射軸和在實施例3-1至3-4中製備的光學補償片的慢軸布置成彼此平行，並且將起偏器的透射軸和具有光散射層的透明保護層TAC02的慢軸布置成彼此垂直。因此，製備出偏振片(B-12、B-13、B-23、B-24、B畫31、B-42和B-53)。(實施例4-3)(偏振片c的製備)使如此拉伸的聚乙烯醇膜吸附碘來製備起偏器。然後，使80pm厚的三乙醯纖維素膜(FujitacTD80U,由FujiPhotoFilm有限公司生產)的表面接受鹼性皂化。用聚乙烯醇基粘合劑將如此皂化的保護層粘貼到其與功能層相對側的起偏器的一側上。使在實施例3-1至3-4中製備的光學補償片(L12、L13、L23、L24、L31、L42和L52)每種接受輝光放電處理(施加頻率為3,000Hz的4,200V高頻電壓通過上和下電極20秒)、用聚乙烯醇粘合劑將其粘貼到其基膜側上的偏振片的相對側上，並且在7(TC下乾燥10分鐘或更長時間。進行布置使得起偏器的透射軸和在實施例3-1至3-4中製備的光學補償片的慢軸布置成彼此平行並且將起偏器的透射軸和FujitacTD80UF的透明保護層的慢軸布置成彼此垂直。因此，製備出偏振片(C-12、C-13、C畫23、C-24、C-31、C-42和C國53)。比較例1(乙酸纖維素濃液的製備)在攪拌下混合乙醯取代度為2.79的乙酸纖維素、增塑劑(磷酸三苯酯和磷酸聯苯基二苯酯的2:1混合物)和溶劑(二氯甲烷和甲醇的87/13(質量比)的混合物)來製備溶液，將該溶液在密封壓力容器中加熱至7(TC-卯X:的溫度，然後過濾來製備濃液。在分散機中加入包含根據上述方法製備的乙酸纖維素溶液的下面組合物來製備各種消光劑分散液。formulaseeoriginaldocumentpage87消光劑分散液—平均粒徑為16nm的粒狀二氧化2.0質量份矽(AerosilR972，由NIPPONAEROSIL有限公司生產)二氯甲垸72.4質量份甲醇10.8質量份乙酸纖維素溶液10.3質量份隨後，在混合罐中放入包含上面製備的乙酸纖維素溶液的下面組合物來製備延遲形成劑溶液。_^12延遲形成劑溶液—下面所示的延遲形成劑二氯甲垸甲醇乙酸纖維素溶液20.0質量份58.3質量份8.7質量份12.8質量份隨後，在混合罐中放入包含上面製備的乙酸纖維素溶液的下面組成來製備紫外線吸收劑溶液。_^_紫外線吸收劑溶液紫外線吸收劑(Sumisorb165F)乙酸甲酯乙酸纖維素溶液20.0質量份67.0質量份12.8質量份延遲形成劑formulaseeoriginaldocumentpage88(乙酸纖維素膜的形成)通過齒輪泵供應如此製備的乙酸纖維素溶液。在泵抽過程中，以規定的量注入消光劑分散液、延遲形成劑溶液和紫外線吸收劑溶液。在靜態混合器中均勻地混合這些組分，然後使用帶式流鑄機澆鑄。在表14中給出了澆鑄濃液的配方。隨後，在溶劑殘留量保持在25-35質量％下乾燥已經從帶上剝離的膜並且在由拉幅機固定並且熱空氣吹風下橫向拉伸，然後從拉幅機移到輥上，在其上面輸送、乾燥、壓花，然後以1，440mm的寬度巻繞。隨後，製備1.5mo1/1氫氧化鈉水溶液。然後將該水溶液保持在55°C。單獨製備0.005mol/1稀的硫酸水溶液。然後將該水溶液保持在35°C。將如此製備的乙酸纖維素膜浸在上述氫氧化鈉水溶液中2分鐘，然後浸在水從而徹底洗去氫氧化鈉水溶液。隨後，將該乙酸纖維素膜浸在上述稀的硫酸水溶液中1分鐘，然後浸在水從而徹底洗去硫酸水溶液。最後，將每個樣品在12(TC下徹底乾燥來製備乙酸纖維素膜Cl和C2。所有乙酸纖維素膜都表現出殘留溶劑含量為0.2質量%或更低。在表4中給出了如此獲得的膜的特性和拉伸率。表14tableseeoriginaldocumentpage89(開環聚合的環狀聚烯烴濃液的製備)在混合罐中加入下面的組合物，然後在混合罐中攪拌它們來製備溶液，然後將溶液過濾通過平均孔徑為34pm的濾紙和平均孔徑為10pm的燒結金屬過濾器。__環狀聚烯烴溶液D-3—ArtonG(由JSR有限公司生產)150質量份二氯甲烷550質量份乙醇50質量份隨後，在分散機中加入包含通過上述方法製備的開環聚合的聚烯烴溶液的下面組成來製備消光劑分散液。_表16tableseeoriginaldocumentpage89然後，混合IOO質量份上述環狀聚烯烴溶液和1.1質量份上述消光劑分散液來製備用於成膜的濃液。使用帶式流鑄機澆鑄濃液。使用拉幅機在50%的拉伸率下在寬度方向上拉伸當殘留溶劑量為大約22%時從帶上剝離下的膜。在由拉幅機輸送後，進一步由輥輸送膜，並且在12(TC-140。C下進一步乾燥並且巻繞。所得環狀聚烯烴膜具有60pm的厚度和63nm的面內延遲Re及80nm的厚度方向延遲Rth。使該膜在上和下黃銅電極間(在氬氣氣氛中)接受輝光放電處理(施加頻率為3,000Hz的4，200V的高頻電壓通過上和下電極20秒)來製備開環聚合的膜C3。膜的表面相對於純水錶現出從36。到41°的接觸角。比較例3(光學補償片CL-1)按照與實施例3-1相同的方法使乙酸纖維素膜Cl塗敷取向膜、接受摩擦，然後塗敷盤狀液晶(光學各向異性層)來製備光學補償片CL-1。光學各向異性層表現出27nm的Re，Re由K0BRA21ADH型自動雙折射測量儀器(由OujiScientificInstruments有限公司製造)測量。然後從如此製備的光學補償片中僅剝離光學各向異性層。然後使用KOBRA21ADH型自動雙折射測量儀器(由OujiScientificInstruments有限公司製造)測量光學各向異性層的j3值和分子不對軸的平均方向。結果，卩值是33°。分子不對軸的平均方向相對基於環狀烯烴的加成聚合物基膜的縱向為45.5°。為計算(3值，輸入1.6作為平均折射率。比較例4(光學補償片CL-2和CL-3)按照與實施例3-2相同的方法使在比較例1中製備的膜C2和在比較例2中製備的膜C3每種塗敷取向膜、並接受摩擦，然後塗敷盤狀液晶(光學各向異性層)來製備光學補償片CL-2和CL-3。光學各向異性層表現出46nm的Re，Re由KOBRA21ADH型自動雙折射測量儀器(由OujiScientificInstruments有限公司製造)測量。然後從如此製備的光學補償片中僅剝離光學各向異性層。然後使用KOBRA21ADH型自動雙折射測量儀器(由OujiScientificInstruments有限公司製造)測量光學各向異性層的卩值和分子不對軸的平均方向。結果，(3值是38°。分子不對軸的平均方向相對於基於環狀烯烴的加成聚合物的基膜的縱向為-0.3°。為計算卩值，輸入1.6作為平均折射率。比較例5分別按照與實施例4-1中相同的方法處理光學補償片CL-l、CL-2和CL-3來製備偏振片CA-1、CA-2和CA-3。比較例6分別按照與實施例4-2中相同的方法處理光學補償片CL-l、CL-2和CL-3來製備偏振片CB-1、CB-2禾卩CB-3。比較例7分別按照與實施例4-3中相同的方法處理光學補償片CL-l、CL-2和CL-3來製備偏振片CC-1、CC-2和CC-3。實施例5-1(安裝在OCB面板上)在具有ITO電極的玻璃基板上提供聚醯亞胺層作為取向膜。使取向膜接受摩擦。使如此獲得的兩片玻璃基板彼此層合，使得兩片的摩擦方向彼此平行。預先確定元件間隙為5.7pm。然後，向元件間隙中注入△n為0.1396的液晶化合物"ZLI1132"(由Merck有限公司生產)來製備元件。分別結合在實施例4-1和4-2中製備的偏振片A-31和B-31以及在比較例5和6中製備的偏振片CA-1和CB-1中的任一種、以及在實施例4-3和比較例7中製備的偏振片C-31和CC-1中任一種分別組合作為觀察側偏振片和背光側的偏振片。用大約8^m厚的粘合劑層(DiabondDA753，由NOGAWACHEMICAL有限公司生產)將這些偏振片粘貼到OCB元件上，使得OCB元件插在其間。布置成偏振片的光學各向異性層與元件基板相對，並且液晶元件的摩擦方向和與液晶元件相對的光學各向異性層的摩擦方向彼此不平行，從而製備出液晶顯示裝置OCB-l(本發明)和OCB-Cl(比較例)。此外，衝壓疊層，形成23"寬的矩形，從而將吸收軸布置成與偏振片的長邊呈45。角。在5(TC和5kg/cn^下保持已經粘貼了偏振片的OCB元件20分鐘來粘結。液晶顯示裝置中偏振片的組合如下。OCB-l(偏振片A-31)-(OCB元件)-(偏振片C-31)(偏振片B-31)-(OCB元件)-(偏振片C-31)OCB-C1(偏振片CA-1)-(OCB元件)-(偏振片CC-1)(偏振片CB-1)-(OCB元件)-(偏振片CC-1)將如此製備的液晶顯示裝置放在背光上方。然後，向液晶元件施加2V的白色顯示電壓和4.5V的黑色顯示電壓。然後使用EZ-Constrast160D型測量儀器(由ELDIM公司製造)，測量所述液晶顯示裝置在黑色顯示和白色顯示中的亮度。然後，從測量結果計算視角(在10或更大的對比率的範圍內)。所有偏振片提供了良好的視角性質，其在所有方向上具有80°或更大的極限角。打開如此得到的本發明和比較例的OCB模式的液晶顯示裝置中的每種。在12小時老化後，比較這種OCB模式液晶顯示裝置在屏幕四個角處的漏光。結果，觀察到比較例的OCB模式液晶顯示裝置表現出漏光而觀察到本發明的OCB模式液晶顯示裝置表現出很小或者沒有漏光。實施例5-2(安裝在TN面板上)結合在實施例4-1中製備的偏振片A-12和實施例4-3中製備的偏振片C-42作為背光側偏振片。將這些偏振片一起衝壓成17"寬的矩形，從而將吸收軸布置成與如此衝壓的偏振片的長邊呈45°角。從SynchMaster172XTN模式液晶監視器(由Samsung公司生產)上剝下正面和後面偏振片及延遲膜片。然後，用大約8pm厚的粘合劑層(DiabondDA753，由NOGAWACHEMICAL有限公司生產)將上述偏振片每個粘貼到液晶的正面和背面來製備本發明的液晶顯示裝置TN-1。在粘貼了偏振片後，使液晶顯示裝置在5(TC和5kg/cn^下保持20分鐘來完成粘附。在此過程期間，布置成偏振片的光學各向異性層與元件基板相對，並且液晶元件的摩擦方向和與液晶元件相對的光學各向異性層的摩擦方向彼此不平行。此外，組合分別在比較例5和6中製備的偏振片CA-2和CB-2中任一種、與在比較例7中製備的偏振片CC-2作為觀察側偏振片和背光側偏振片。使用這些偏振片，可以按照與上述相同的方法製備比較TN模式的液晶顯示裝置TN-C2。另外，結合分別在比較例5和6中製備的偏振片CA-3和CB-3中任一種、與在比較例7中製備的偏振片CC-3作為觀察側偏振片和背光側偏振片。使用這些偏振片，可以按照與上述相同的方法製備比較TN模式的液晶顯示裝置TN-C3。液晶顯示裝置中偏振片的組合如下。TN-1(偏振片A-31)-(OCB元件)-(偏振片C-31)(偏振片B-31)-(OCB元件)-(偏振片C-31)TN匿C2(偏振片CA-2)-(OCB元件)-(偏振片CC-2)(偏振片CB-2)—(OCB元件)-(偏振片CC-2)TN-C3(偏振片CA-3)—(OCB元件)-(偏振片CC-3)(偏振片CB-3)—(OCB元件)-(偏振片CC-3)然後使用EZ-Constrast160D型測量儀器(由ELDIM公司製造)，測量所述液晶顯示裝置在黑色顯示和白色顯示中的亮度。然後，從測量結果計算視角(在10或更大的對比率的範圍內)。所有液晶顯示裝置TN-1和TN-C2都提供了良好的視角性質，其在所有方向上具有60°或更大的極限角。但是，比較的液晶顯示裝置TN-C3提供了低達40°或更小的視角性質。打開如此得到的本發明的和比較例的TN模式的液晶顯示裝置TN-1和TN-C2中的每種。在12小時老化後，比較這些TN模式液晶顯示裝置在屏幕四個角處的漏光。結果，觀察到比較例的TN模式液晶顯示裝置表現出漏光而觀察到本發明的OCB模式液晶顯示裝置表現出很小或者沒有漏光。(安裝在VA面板上)通過向基板間的3.6nm間隙中逐滴注入具有負介電各向異性的液晶材料("MLC6608"，由Merck有限公司生產)，然後密封間隙以形成液晶層來製備液晶元件。預先確定液晶層的延遲(即上述液晶層的膜厚dOim)和折射率各向異性An的乘積An，d)為300nm。垂直取向排列所述液晶材料。除了使用通過使起偏器FujitacTD80UF在其正面和背面上接受鹼性皂化而獲得的透明保護膜外，按照與實施例4-3相同的方法製備的偏振片C-0。使用在實施例4-1中製備的A-23作為用於包含上述垂直取向的液晶元件的液晶顯示裝置的視角側偏振片。使用偏振片C-0作為背光側偏振片。然後，用大約8|im厚的粘合劑層(DiabondDA753，由NOGAWACHEMICAL有限公司生產)將在本發明實施例中製備的偏振片粘貼到元件上，使得A-23的光學各向異性層布置在其液晶元件側上。以正交尼科爾稜鏡方式布置液晶元件，使得視角偏振片的透射軸垂直並且背光側偏振片的透射軸水平。因此，製備出VA模式液晶顯示裝置VA-1。此外，除了在其觀察側上布置在實施例4-2中製備的B-53外，按照與上述相同的方法製備VA模式液晶顯示裝置VA-2。然後使用EZ-Constrast160D型測量儀器(由ELDIM公司製造)，測量本發明的VA模式液晶顯示裝置VA-1和VA-2在黑色顯示和白色顯示中的亮度。然後，從測量結果計算視角(在10或更大的對比率的範圍內)。兩個液晶顯示裝置VA-1和VA-2都提供了良好的視角性質，其在所有方向上具有60°或更大的極限角。打開這些液晶顯示裝置中的每個。在12小時老化後，觀察此模式液晶顯示裝置中的每個在屏幕四個角處的漏光。結果，觀察到這些液晶顯示裝置表現出沒有漏光。權利要求1.一種光學補償片，其包括層合在包含基於環狀烯烴的加成聚合物的基膜上的光學各向異性層。2.根據權利要求l的光學補償片，其中所述基於環狀烯烴的加成聚合物是包含至少一個由下面通式(I)代表的重複單元和至少一個由下面通式(II)代表的環狀重複單元的共聚物通式(I)formulaseeoriginaldocumentpage2通式(II)formulaseeoriginaldocumentpage2其中m代表0-4的整數；RL^每個代表氫原子或d-Cn)烴基；禾口xLx^卩y-yz每個代表氫原子、c廠do烴基、齒素原子、由齒素原子取代的C廣do烴基、-(CHJnCOOR11、-(CH2)nOOCR12、-(CH2)nNCO、-(CH2)nN02、-(CH2)nCN、-(CH2)nCONR13R14、-(CH2)nNR13R14、-(CH2)nOCOZ、-(CH2)nOZ、-(CH2)nW或者由X1和y'或者X2和Y2形成(-co)20或(-co)2NR15，其中r11、r12、r13、r14和R"每個代表C,-C2o烴基，Z代表烴基或者由滷素取代的烴基，W代表SiR16pD3.p，其中R"代表C廣do烴基，D代表卣素原子、-OCOR16或-OR"和p代表0-3的整數，和n代表0-10的整數。3.根據權利要求1的光學補償片，其中所述基於環狀烯烴的加成聚合物是包含一種由通式(II)代表的環狀重複單元的聚合物或者是包含至少兩種由通式(n)代表的環狀重複單元的共聚物。4.根據權利要求3的光學補償片，其中所述光學補償片的厚度方向延遲Rth滿足下面的表達式40nm《Rth(630)《300nm其中Rth(入)表示在波長人nm下測量的Rth。5.根據權利要求l-4中任何一項的光學補償片，其中所述基膜包含以0.01-0.3質量％的比例結合在其中的初級顆粒粒徑為1nm-20pm的粒狀材料。6.根據權利要求l-5中任何一項的光學補償片，其中所述光學各向異性層包括盤狀液晶層。7.根據權利要求l-5中任何一項的光學補償片，其中所述光學各向異性層包括棒狀液晶層。8.根據權利要求1-5中任何一項的光學補償片，其中所述光學各向異性層包括聚合物膜。9.根據權利要求8的光學補償片，其中構成所述光學各向異性層的所述聚合物膜包含選自聚醯胺、聚醯亞胺、聚酯、聚醚酮、聚醯胺醯亞胺、聚酯醯亞胺和聚芳醚酮中的至少一種聚合物材料。10.根據權利要求l-9中任何一項的光學補償片，其中包含所述基於環狀烯烴的加成聚合物的基膜通過以下步驟形成在環形的金屬載體上流鑄作為起始原材料的溶液的步驟，乾燥所述溶液直至殘留揮發度達到5-60質量％的步驟，在0.25N/cm或更小的剝離阻力下從所述金屬載體上剝離幹的溶液的步驟，和乾燥並且纏繞剝離過的溶液的步驟，其中所述溶液包含10-35質量％的所述基於環狀烯烴的加成聚合物和作為主要溶劑的氟基有機溶劑。11.根據權利要求10的光學補償片，其中所述氟基有機溶劑包含50質量％或更多的二氯甲烷，和在20-100。C下溶解所述基於環狀烯烴的加成聚合物來製備所述溶液。12.根據權利要求10或11的光學補償片，其中所述溶液包含相對於每100質量份的所述基於環狀烯烴的加成聚合物為3-100質量份的所述基於環狀烯烴的加成聚合物的不良溶劑。13.根據權利要求12的光學補償片，其中所述不良溶劑包括沸點為12(TC或更低的醇。14.根據權利要求l-9中任何一項的光學補償片，其中包含所述基於環狀烯烴的加成聚合物的所述基膜包含0.05-3質量％的表面活性劑。15.—種偏振片，其包含起偏器；和兩片布置在其各自側上的保護膜，其中所述兩片保護膜中至少一片是根據權利要求1-14中任何一項的光學補償片。16.—種液晶顯示裝置，其包括至少一片根據權利要求15的偏振片。全文摘要本發明的目的是提供一種光學補償片，其具有光學特性的變化隨環境溫度/溼度的變化很小，並且具有面內延遲Re和厚度方向延遲Rth的高的設計自由度，並且本發明提供一種具有這種優異的光學補償片的偏振片和液晶顯示裝置。光學補償片的特徵在於通過在包含環狀烯烴的加成聚合物的基底膜上層合光學各向異性層。本發明還提供包含起偏器和兩片布置在其相對側的保護膜的偏振片，其特徵在於所述保護膜中至少一片是所述光學補償片。本發明還提供特徵在於使用至少一片所述偏振片的液晶顯示裝置。文檔編號G02B5/30GK101171535SQ20068001587公開日2008年4月30日申請日期2006年3月10日優先權日2005年3月11日發明者大谷純生,大輕鬱子申請人:富士膠片株式會社