SiO的製作方法
2023-10-17 02:19:49 1
專利名稱：SiO的製作方法
技術領域：
本發明涉及非晶多孔的開孔SiO2成型體、其製造方法及其用途。
背景技術：
非晶多孔的開孔SiO2成型體用於許多技術領域，例如過濾材料、絕熱材料或擋熱板。所有類型的石英製品均可利用燒結和/或熔融法由非晶多孔的開孔SiO2成型體製得。在此情況下，高純度的SiO2成型體例如可用作玻璃纖維或光導纖維的「預製件」。此外，也可以該方式製造用於拉制矽單晶的坩堝。
原則上，非晶多孔的開孔SiO2成型體可通過壓縮相應的SiO2粉末或由溼化學方法製造。在陶瓷領域中用於壓縮粉末的已知方法，如冷靜壓法或熱靜壓法中，通常必須加入有機粘結劑以獲得穩定的成型體。這些粘結劑必須在分離的步驟中被再次溶解或燒掉。這在技術上是複雜且成本高的，並導致非期望的汙染，這尤其在製造用於拉制矽單晶的坩堝時是必須要避免的。
因此，製造多孔SiO2成型體的優選的方式是溼化學法。在所謂的溶膠凝膠加工流程中非晶多孔的開孔SiO2成型體是通過有機矽化合物在溶劑中的水解和縮合作用製得的，在膠體溶膠凝膠加工流程中額外添加SiO2顆粒至該系統中，而在所謂的粉漿加工流程中使SiO2顆粒在溶劑中分散並隨後成型，在此情況下，將這些路線加以區分。溶膠凝膠加工流程的主要缺點是成型體中產生的固體含量低。在幾何尺寸更大的情況下，這直接導致非常嚴重的裂縫和斷裂的問題。在膠體溶膠凝膠加工流程中，通過添加SiO2顆粒而達到更高的分散體填充度，從而使成型體中產生的固體含量更高。第705 797及318 100號歐洲專利描述了該方法。這裡，產生的固體含量僅在40至60重量％之間，因而無法解決裂縫和斷裂的問題。
WO 01/17902描述了一種通過使用不同尺寸的顆粒可達到超過80重量％的固體含量的方法。這導致顯著更高強度的SiO2成型體，但該分散體的製造非常複雜。
第653 381號歐洲專利和DE-OS 22 18 766公開了一種粉漿澆注法，其中製造石英玻璃顆粒在水中的分散體，並通過在多孔模具中實施緩慢脫水而形成SiO2成型體。由此還達到超過80重量％的固體含量。但由於擴散作用取決於脫水的情況，該粉漿澆注法非常耗時，並且僅可用於薄壁的成型組件。該缺點可通過採用壓力澆注法而加以避免。
如第1 245 703號歐洲專利或EP 0 196 717 B1所述，將含有SiO2顆粒的分散體注入壓力澆注機的壓力澆注模具中，並經多孔塑料膜脫水而形成SiO2成型體。
所有已知的非晶多孔的開孔SiO2成型體具有以下嚴重的缺點，在潮溼或乾燥狀態，即未經熱處理加固的狀態下，非常易碎、易出現裂縫和斷裂。在陶瓷製造過程中，已知的形成微裂縫的問題，例如在SiO2成型體的脫模、乾燥或處理期間，經常額外導致成型體的斷裂或破碎。若為大的SiO2成型體，如管件、杆件或坩堝，特別是製造矽單晶的坩堝，則這是特別嚴重的問題。
因為在製造應用於光纖或半導體領域的高純度SiO2成型體時經常必須避免添加粘結劑，所以裂縫的問題更加嚴重。
發明內容
所以，本發明的目的是提供具有改進的裂縫形成特性的非晶多孔的開孔SiO2成型體。
本發明的另一個目的是提供製造根據本發明的非晶多孔的開孔SiO2成型體的方法。
所述第一個目的通過非晶多孔的開孔SiO2成型體實現，其特徵在於，該SiO2成型體由兩層組成，這些層具有相同的結構和組成。
該SiO2成型體是通過以下步驟製造的將含有SiO2顆粒的分散體泵入壓力澆注機的壓力澆注模具中，其中該分散體經內部多孔塑料膜和外部多孔塑料膜脫水，從而形成SiO2成型體。
在此情況下，該分散體中非晶SiO2顆粒的填充度優選為10至80重量％，更優選為50至80重量％，特別優選為65至75重量％。
極性或非極性的有機溶劑，如醇、醚、酯、有機酸、飽和或不飽和烴類、水或它們的混合物，可作為分散劑。
醇優選例如為甲醇、乙醇、丙醇，或丙酮、水或它們的混合物。更優選為丙酮和水或它們的混合物，特別優選為水。
特別優選使用高純度的上述分散劑，例如可由文獻中已知的方法獲得，或可購得。
當使用水時，優選使用電阻≥18MΩ·cm的特殊純化水。
優選將無機酸，如HCl、HF、H3PO4、H2SO4或矽酸，或產生離子的添加劑，如氟鹽，加入水中。在此情況下，特別優選添加HCl或HF，最優選添加HF。還可使用所述化合物的混合物。在此情況下，應將分散體中的pH值調節為2至7，更優選為3至6。
選擇性地，同樣優選可將無機鹼加入水中，如NH3、NaOH或KOH。特別優選為NH3和NaOH，最優選為NH3。還可使用所述化合物的混合物。在此情況下，應將pH值調節為7至11，更優選為9至10。
在形成坯料期間，pH值的降低或升高使粒料更結實，從而形成更穩定的SiO2成型體。
SiO2顆粒的比重應優選為1.0至2.2克/立方釐米，更優選為1.8至2.2克/立方釐米，特別優選為2.0至2.2克/立方釐米。
此外，SiO2顆粒在其外表面上優選具有≤3個OH基/平方納米，特別優選具有≤2個OH基/平方納米，最優選具有≤1個OH基/平方納米。
SiO2顆粒的粒徑分布應具有1至200微米之間，優選為1至100微米之間，更優選為10至50微米之間，特別優選為10至30微米之間的D50值。此外，儘可能窄的粒徑分布是有利的。
SiO2顆粒的BET比表面積優選為0.001至50平方米/克，更優選為0.001至5平方米/克，特別優選為0.01至0.5平方米/克。
SiO2顆粒的晶體含量優選應為最多1％。此外，其與分散劑的相互作用應儘可能小。
不同來源的非晶SiO2顆粒，如後燒結二氧化矽(熔凝矽石)及各種類型的非晶燒結或壓制的SiO2，均具有這些特性。因此，它們優選適合於製造根據本發明的分散體。
對應的材料可以已知的方式和方法在氫氧焰中製得。也可商購，例如商品名為Excelica，Tokuyama，日本。
若滿足上述標準，還可使用其他來源的顆粒，如天然石英、石英玻璃砂、玻璃態二氧化矽、粉碎的石英玻璃或經研磨的石英玻璃廢料，以及化學法製造的二氧化矽玻璃，如沉積二氧化矽、高度分散的二氧化矽(利用火焰熱解法製造的火成二氧化矽)、幹凝膠或氣凝膠。
非晶SiO2顆粒優選為沉積二氧化矽、高度分散的二氧化矽、熔凝矽石或壓制的SiO2顆粒，更優選為高度分散的二氧化矽或熔凝矽石，最優選為熔凝矽石。同樣可為所述不同SiO2顆粒的混合物，並且是優選的。
此外，優選使用具有不同粒徑分布的非晶SiO2顆粒。這些SiO2顆粒是通過將諸如熔凝矽石或火成矽石的SiO2顆粒混入所述非晶SiO2顆粒而製得的，這些熔凝矽石或火成矽石具有1至100納米，優選為10至50納米的粒徑以及0.1至50重量％，特別優選為1至30重量％，最優選為1至10重量％的含量。
在此情況下，納米級SiO2顆粒用作明顯更大的SiO2顆粒之間的一類無機粘結劑，但不用作填充材料以達到更高的填充度。因此，SiO2顆粒在一個優選的具體實施方案中，上述顆粒具有高純度，即雜質原子含量，尤其是金屬含量≤300重量ppm，優選為≤100重量ppm，特別優選為≤10重量ppm，最優選為≤1重量ppm。
在另一個特殊的具體實施方案中，分散體可額外含有金屬顆粒、金屬化合物或金屬鹽。在此情況下，優選為可溶於分散劑的化合物，更優選為水溶性金屬鹽。
添加劑，如金屬顆粒、金屬化合物或金屬鹽，可在製造分散體期間和/或之後添加。
在製造分散體時，預先裝入分散劑，並緩慢地，優選連續地加入SiO2顆粒緩。但SiO2顆粒也可在更多步驟中(分批式)加入。
由分散體製造的SiO2成型體的孔徑和分布可通過選擇SiO2粒度和粒徑針對性地加以調節。
本領域技術人員已知的所有設備和裝置均可作為分散裝置使用。優選為可與分散體接觸且不含金屬組件的裝置，以避免由於刮傷而導致的金屬汙染。
應在0℃至50℃，優選為5℃至30℃的溫度下進行分散。
分散體中可能含有的氣體，如空氣，可利用本領域技術人員已知的方法，如真空法，在實施分散之前和/或期間和/或之後加以除去。優選在完成分散期間和/或之後進行。
在如此製造的均勻分散體中，至少5分鐘，優選為至少30分鐘未產生顆粒的沉降現象。
隨後將分散體轉移至壓力澆注機的壓力澆注模具中，其中分散體在壓力下經內部多孔膜和外部多孔膜脫水而形成SiO2成型體。
以本領域技術人員已知的方式和方法，如利用泵，以分散體填充壓力澆注模具。
在此情況下，可以任意的壓力進行填充，但優選為0.5至100巴，特別優選為5至30巴，最優選為5至10巴的壓力。
優選在0.5至100巴，特別優選為5至30巴，最優選為5至10巴的壓力下形成坯料。
取決於所期望的成型體，形成的坯料厚度為1至50毫米，優選為5至30毫米。
根據坯料厚度、多孔膜及施加的壓力，形成體狀穩定的坯料需要5至90分鐘。
可在從0℃至分散劑沸點的溫度下轉化分散體並形成坯料。優選為20℃至30℃的溫度。
壓力澆注模具由兩個多孔膜組件組成，它們形成了符合預期的成型體形狀的封閉中間空間。在膜中的一個或更多個位置上具有對應的入口，其可用於填充封閉的壓力澆注模具。
兩個壓力澆注模具組件以合適的合模壓力固定在一起，從而可在上述壓力下填充並形成坯料。作為多孔膜，優選使用開口孔隙率為5至60體積％，更優選為10至30體積％的膜。膜的孔徑可大於、小於或等於所用SiO2顆粒的尺寸。優選使用孔徑為10納米至100微米，特別優選為100納米至50微米，最優選為100納米至30微米的膜。
多孔膜優選可由分散體的溶劑，優選為水，完全加以潤溼，從而可形成均勻的坯料。
本領域技術人員已知的所有具有化學穩定性且不含游離的殘留物，特別是不含金屬殘留物的塑料，均適合作為薄膜的材料。優選為已用於商業壓力粉漿澆注的塑料。特別優選為聚甲基丙烯酸酯和聚甲基丙烯酸甲酯。
多孔膜的厚度取決於待製造的成型體的形狀。
使水從分散體向兩側進入壓力澆注膜組件中，從而實施脫水。在此情況下，從兩個側面由外向內形成坯料。兩層生接合在一起，直至結束形成坯料。如此形成的坯料總是由兩層組成。這些層具有相同的結構和組成。所謂層的邊界僅在坯料的斷裂邊緣上可用肉眼看到(圖1)。在高倍放大(如用掃描電子顯微鏡)的情況下，可以看到局部有限的最小密度變化(所謂的組織，圖2)。
在形成坯料之後，將兩個壓力澆注模具組件相互分離，同時將壓縮空氣和/或水供應至多孔膜，從而實施SiO2成型體的脫模。將已透入多孔膜中的水以相反方向壓至坯料，並在坯料和膜之間形成薄的水膜，由此壓縮空氣和/或水使坯料與多孔膜分離。
如此形成的坯料具有80至95重量％的固體含量。
利用本領域技術人員已知的方法，如真空烘乾、利用諸如氮或空氣的熱氣烘乾、接觸烘乾或微波烘乾，以烘乾已脫模的SiO2成型體。還可採用各種烘乾方法的組合。優選為利用微波實施烘乾。
在成型體中的溫度為25℃至成型體的孔中的分散劑沸點的情況下進行烘乾。
烘乾時間取決於待烘乾的成型體的體積、最大層厚度、分散劑和成型體的孔結構。
在烘乾成型體時發生小幅收縮。收縮率取決於溼成型體的填充度。在填充度為80重量％時，體收縮率≤2.5％，而線收縮率≤1.0％。在填充度更高時，收縮率相應地更少。
根據本發明的成型體的密度為1.4至1.8克/立方釐米。
由具有雙峰粒度分布的分散體製造的根據本發明的成型體，比由具有單峰粒度分布的分散體製造的生坯的強度更高。
在一個優選的具體實施方案中，在所有步驟中均使用高純度材料，成型體的雜質原子含量，尤其是金屬含量≤300重量ppm，優選為≤100重量ppm，特別優選為≤10重量ppm，最優選為≤1重量ppm。
以此方式得到的成型體為任意尺寸和形狀的非晶開孔的SiO2成型體，其是由具有相同結構和組成的兩層組成的。
令人驚奇地發現，若例如在脫模、烘乾或處理時，在成型體的內側和/或外側產生微裂紋，則這些裂縫僅延伸至成型體兩層邊界相接觸的平面。因此成型體保持穩定並保持幾何形狀(圖3)。
由於其特殊的性質，根據本發明的成型體的用途廣泛，例如作為過濾材料、絕熱材料、擋熱板、催化劑載體材料以及作為玻璃纖維、光導纖維、光學玻璃或所有類型的石英製品的「預製件」。
在另一個特殊的具體實施方案中，將各種不同的分子、材料或物質完全或部份地摻入多孔成型體中。優選為具有催化活性的分子、材料及物質。在此情況下，可採用本領域技術人員所知的所有方法，如美國專利5,655,046所述。
在一個特殊的具體實施方案中，如此得到的成型體還可實施燒結。在此情況下，可採用本領域技術人員所知的所有方法，如真空燒結、局部燒結、電弧燒結、利用等離子或雷射燒結、感應燒結或在氣氛或氣流中的燒結。
在另一個特殊的具體實施方案中，如此得到的成型體還可利用CO2雷射玻璃化，如US-A-2003-0104920、DE-A-102 60 320和DE-A-103 24440所述。
非晶多孔的開孔成型體的層結構在燒結時消失。若進行完全燒結，則成型體中不再存在層結構。此外，在完全燒結的二氧化矽玻璃區域中不再能檢測出組織(圖4及圖5)。
以此方式可製造100％非晶(不含方英石)、透明、非透氣、經燒結的二氧化矽玻璃成型體，其密度為至少2.15克/平方釐米，優選為2.2克/平方釐米。在一個特殊的具體實施方案中，經燒結的二氧化矽玻璃成型體不含氣體雜質，且OH基濃度優選≤1ppm。在一個特殊的具體實施方案中，所有步驟中均使用高純度材料，經燒結的成型體的雜質原子含量，尤其是金屬含量≤300重量ppm，優選為≤100重量ppm，特別優選為≤10重量ppm，最優選為≤1重量ppm。如此製造的二氧化矽玻璃成型體原則上適合於所有使用二氧化矽玻璃的應用場合。優選的應用領域為所有類型的石英製品、玻璃纖維、光導纖維和光學玻璃。拉制矽單晶的高純度二氧化矽玻璃坩堝是特別優選的應用領域。
在另一個特殊的具體實施方案中，可將使各種成型體具有額外特性的分子、材料和物質摻入分散體和/或多孔成型體和/或經燒結的二氧化矽玻璃成型體。
在另一個特殊的具體實施方案中，將促進或導致方英石的形成的化合物完全或部份地摻入分散體和/或多孔成型體中。在此情況下，可使用本領域技術人員已知的所有促進和/或導致方英石的形成的化合物，如歐洲專利0 753 605、美國專利5,053,359或英國專利1428788所述。優選為BaOH和/或鋁化合物。
在燒結這些成型體之後，尤其是得到用於拉制Si單晶的坩堝，其在內部和/或外部具有方英石層，或完全由方英石組成。這些坩堝特別適合於拉晶，這是因為它們具有熱穩定性，並且對例如矽熔體造成較少的汙染。因此可在拉晶期間實現更高的產量。
圖1所示為根據本發明的SiO2成型體斷裂邊緣的層邊界。
圖2所示為根據本發明的SiO2成型體層邊界處的組織的掃描電子顯微圖像。
圖3所示為根據本發明的SiO2成型體中產生的裂縫，其結束於層邊界處。
圖4所示為部份燒結的坯料。仍可看到邊界層(組織)。
圖5所示為完全燒結的坯料的截面。不再能檢測到邊界層(組織)。
圖6所示為14″坩堝幾何形狀的成型體的製造(圖5)，如實施例3和4所述。
具體實施例方式
以下實施例用於進一步闡述本發明。
實施例1SiO2分散體的製造將3800克再蒸餾H2O預裝入10升的塑料燒杯中。首先在30分鐘內用包覆塑料的螺旋槳式攪拌器攪入712克火成矽石(高度分散的二氧化矽，BET比表面積為200平方米/克，商品名為Wacker HDKN20，Wacker化學有限公司，慕尼黑)。然後在30分鐘內分批加入8188克熔凝矽石(平均粒度為30微米的二氧化矽，商品名為ExcelicaSE-30，Tokuyama公司)並加以分散。
完全分散之後，對分散體施加略低的壓力(0.8巴)10分鐘，以除去可能包含的氣泡。
如此製造的分散體含有8900克固體，對應於70重量％的固體含量(其中92％的熔凝矽石及8％的火成矽石)。
實施例2SiO2分散體的製造將2190克再蒸餾H2O預裝入10升的塑料燒杯中。首先在30分鐘內用包覆塑料的螺旋槳式攪拌器攪入187.8克火成矽石(高度分散的二氧化矽，BET比表面積為200平方米/克，商品名為Wacker HDKN20，Wacker化學有限公司，慕尼黑)。然後在30分鐘內分批加入4931.2克SiO2粉末(三菱公司的MKC 100粉末，研磨至D50值為12微米)並加以分散。
完全分散之後，對分散體施加略低的壓力(0.8巴)10分鐘，以除去可能包含的氣泡。
如此製造的分散體含有5119克固體，對應於70重量％的固體含量(基於固體含量，火成矽石的含量為3.5％)。
實施例314″坩堝幾何形狀的成型體的製造(圖6)將來自實施例1(1)的部分SiO2分散體從具有10巴壓力的容器(2)經兩個由甲基丙烯酸甲酯(4+5)製成的開孔塑料膜之間的管線系統(3)壓出。這些膜的孔隙率為30體積％，平均孔半徑為20微米。兩膜之間的距離允許形成8毫米厚的坯料。對兩膜施加200巴的合模壓力。
通過對分散體施加壓力而將分散體的絕大部分水壓入膜中。形成SiO2坯料。坯料從這些膜的兩個側面向中間生長，直至兩部分坯料在中間接合。
在形成坯料持續45分鐘之後，使容器中的壓力下降至0巴的過壓。特別置於膜中的空氣和水的管線(6)可將空氣或水經過多孔膜供應至形成的成型體(7)，從而進行脫模。在此情況下，成型體與膜分離。
成型體首先與外部膜(5)分離。在此情況下，內部膜(4)向上移動。現在成型體掛在內部膜(4)上。將與形狀相符的支撐體(8)定位在成型體下方。然後將成型體下降至支撐體上，並與內部膜(4)分離。在此情況下，使內部膜(4)向上移動。
製造的非晶多孔的開孔成型體具有89重量％的固體含量及11重量％的殘留水含量。在90℃下烘乾3小時之後，成型體被完全烘乾。
實施例414″坩堝幾何形狀的成型體的製造(圖6)將來自實施例2(1)的部分SiO2分散體從具有5巴壓力的容器(2)經兩個由甲基丙烯酸甲酯(4+5)製成的開孔塑料膜之間的管線系統(3)壓出。這些膜的孔隙率為30體積％，平均孔半徑為20微米。兩膜之間的距離允許形成8毫米厚的坯料。
對兩膜施加60巴的合模壓力。
通過對分散體施加壓力而將分散體的絕大部分水壓入膜中。形成SiO2坯料。坯料從這些膜的兩個側面向中間生長，直至兩部分坯料在中間接合。
在形成坯料持續30分鐘之後，使容器中的壓力下降至0巴的過壓。特別置於膜中的空氣和水的管線(6)可將空氣或水經過多孔膜供應至形成的成型體(7)，從而進行脫模。在此情況下，成型體與膜分離。
成型體首先與外部膜(5)分離。在此情況下，內部膜(4)向上移動。現在成型體掛在內部膜(4)上。將與形狀相符的支撐體(8)定位在成型體下方。然後將成型體下降至支撐體上，並與內部膜(4)分離。在此情況下，使內部膜(4)向上移動。
製造的非晶多孔的開孔成型體具有78重量％的固體含量及22重量％的殘留水含量。在90℃下烘乾3小時之後，成型體被完全烘乾。
符號說明1 SiO2分散體2容器3管線系統4內部膜5外部膜6管線7成型體8支撐體
權利要求
1.非晶多孔的開孔SiO2成型體，其特徵在於，該SiO2成型體由兩層組成，這些層具有相同結構和組成。
2.根據權利要求1所述的SiO2成型體，其特徵在於，該SiO2成型體的固體含量為80至95重量％。
3.根據權利要求1或2所述的SiO2成型體，其特徵在於，該SiO2成型體的密度為1.4至1.8克/立方釐米。
4.根據權利要求1、2或3所述的SiO2成型體，其特徵在於，該SiO2成型體的坯料厚度為1至50毫米。
5.根據權利要求1至4之一所述的SiO2成型體，其特徵在於，該SiO2成型體的雜質原子含量，尤其是金屬含量≤300重量ppm，優選為≤100重量ppm，特別優選為≤10重量ppm，最優選為≤1重量ppm。
6.製造根據權利要求1至5之一所述的SiO2成型體的方法，其特徵在於，將含有SiO2顆粒的分散體泵入壓力澆注機的壓力澆注模具中，其中所述分散體經內部多孔塑料膜和外部多孔塑料膜脫水，從而形成所述SiO2成型體。
7.根據權利要求6所述的方法，其特徵在於，利用泵以所述分散體填充所述壓力澆注模具。
8.根據權利要求6或7所述的方法，其特徵在於，以0.5至100巴的壓力進行填充。
9.根據權利要求6至8之一所述的方法，其特徵在於，在0.5至100巴的壓力下形成坯料。
10.根據權利要求6至9之一所述的方法，其特徵在於，該方法實施5至90分鐘。
11.根據權利要求6至10之一所述的方法，其特徵在於，在20℃至30℃的溫度下轉化分散體並形成坯料。
12.根據權利要求6至11之一所述的方法，其特徵在於，所述壓力澆注模具由兩個多孔膜組件組成，這些多孔膜組件形成了符合所述成型體預期形狀的封閉的中間空間。
13.根據權利要求6至12之一所述的方法，其特徵在於，作為多孔膜使用開口孔隙率為5至60體積％，優選為10至30體積％的膜。
14.根據權利要求13所述的方法，其特徵在於，使用孔徑為10納米至100微米的膜。
15.根據權利要求6至14之一所述的方法，其特徵在於，所述分散體中非晶SiO2顆粒的填充度為65至75重量％。
16.根據權利要求6至15之一所述的方法，其特徵在於，作為分散劑使用醇，如甲醇、乙醇、丙醇，或丙酮、水或它們的混合物。
17.根據權利要求16所述的方法，其特徵在於，作為分散劑使用電阻≥18MΩ·cm的水。
18.根據權利要求6至17之一所述的方法，其特徵在於，所述SiO2顆粒的粒徑分布具有10至50微米之間的D50值。
19.根據權利要求6至18之一所述的方法，其特徵在於，所述SiO2顆粒的晶體含量最多為1％。
20.根據權利要求6至19之一所述的方法，其特徵在於，所述分散體中的SiO2顆粒具有雙峰粒度分布。
21.根據權利要求6至20之一所述的方法，其特徵在於，將所述的兩個壓力澆注模具組件相互分離，同時將壓縮空氣和/或水供應至所述多孔膜，從而實施所述SiO2成型體的脫模。
22.根據權利要求21所述的方法，其特徵在於，利用真空烘乾、利用諸如氮或空氣的熱氣烘乾、接觸烘乾或微波烘乾，以烘乾已脫模的SiO2成型體。
23.根據權利要求1至6之一所述的成型體的用途，其是作為過濾材料、絕熱材料、擋熱板、催化劑載體材料以及作為玻璃纖維、光導纖維、光學玻璃或石英製品的「預製件」。
全文摘要
本發明涉及非晶多孔的開孔SiO
文檔編號C03B19/06GK1835894SQ200480023525
公開日2006年9月20日 申請日期2004年8月19日 優先權日2003年8月28日
發明者弗裡茨·施韋特費格 申請人:瓦克化學股份公司