離子濺射儀濺射靶的製作方法

2023-05-15 23:33:01

專利名稱：離子濺射儀濺射靶的製作方法
技術領域：
本實用新型涉及一種離子濺射儀部件，尤其涉及一種離子濺射儀濺射靶。
背景技術：
離子濺射儀是在真空容器內，在高壓2000V的作用下，殘留的氣體分子被電離，形成等離子體，陽離子在電場加速下轟擊金屬鈀，使金屬原子濺射到樣品的表面，形成導電膜。離子濺射儀濺射靶是離子濺射儀的核心部件。現有國產離子濺射儀用的靶頭濺射材料一般都是貴金屬，如金、銀等，因此其用量的大小直接關係到用戶的使用成本；現有技術中靶頭濺射材料覆蓋到了靶頭的側面，這一部分在實際應用中是濺射不到的，所以，靶頭濺射材料敷設面積的大小不合理，不能充分利用，增加了部件的成本。另外，現有的離子濺射儀·的靶頭部件結構複雜，安裝不方便。由上可見，為了使離子濺射儀濺射靶安裝簡單，使用方便，充分利用敷設的濺射材料，降低後期使用成本，有必要對現有的離子濺射儀濺射靶結構上進行改進。

實用新型內容本實用新型所要解決的技術問題是提供一種離子濺射儀濺射靶，使其安裝簡單，使用方便，能充分利用敷設的濺射材料，降低後期使用成本。本實用新型為解決上述技術問題而採用的技術方案是提供一種離子濺射儀濺射靶，包括上蓋板，所述上蓋板上側設有接線柱，其中，所述上蓋板下側設置靶頭，所述靶頭為圓形，所述靶頭直徑為50mm 60mm，所述靶頭外表面設有濺射層，所述濺射層塗有濺射材料。上述的離子濺射儀濺射靶，其中，所述靶頭外側設有壓蓋。上述的離子濺射儀濺射靶，其中，所述上蓋板和靶頭通過螺栓固定連接。本實用新型對比現有技術有如下的有益效果本實用新型提供的離子濺射儀濺射革巴，安裝簡單，使用方便，減小了祀頭的直徑，其祀頭直徑設計為50mm 60mm,僅需祀頭外表面濺射層敷設濺射材料，從而充分利用敷設的濺射材料，降低後期使用成本。

圖I為本實用新型離子濺射儀濺射靶剖面結構圖。圖中I靶頭 2濺射層 3壓蓋4上蓋板5接線柱 6螺栓
具體實施方式
以下結合附圖和實施例對本實用新型作進一步的描述。圖I為本實用新型離子濺射儀濺射靶結構示意圖。[0015]請參見圖1，本實用新型提供的離子濺射儀濺射靶包括上蓋板4，所述上蓋板4上側設有接線柱5，所述上蓋板4下側設置靶頭I，所述靶頭I為圓形，所述靶頭I直徑為50mm 60mm，所述靶頭I外表面設有濺射層2，所述濺射層2塗有濺射材料。所述濺射材料多採用金、銀等貴金屬。現有的靶頭I直徑為65mm，濺射材料塗敷到了靶頭I的側面，即濺射材料也相應的覆蓋了靶頭I的側面，實際應用中覆蓋到靶頭I側面部分的濺射材料是濺射不到的，所以不能充分利用，增加了部件的成本。本實用新型針對現有技術這方面的缺點，僅需在靶頭I的正面敷設了濺射材料，從而充分利用敷設的濺射材料，降低後期使用成本。所述靶頭I外側設有壓蓋3 ;所述上蓋板4和靶頭I通過螺栓6固定連接，安裝簡單，使用方便。雖然本實用新型已以較佳實施例揭示如上，然其並非用以限定本實用新型，任何本領域技術人員，在不脫離本實用新型的精神和範圍內，當可作些許的修改和完善，因此本實用新型的保護範圍當以權利要求書所界定的為準。
權利要求1.一種離子濺射儀濺射靶，包括上蓋板(4)，所述上蓋板(4)上側設有接線柱(5)，其特徵在於所述上蓋板⑷下側設置靶頭(I)，所述靶頭⑴為圓形，所述靶頭⑴直徑為50mm 60mm，所述靶頭(I)外表面設有濺射層(2)，所述濺射層(2)塗有濺射材料。
2.根據權利要求I所述的離子濺射儀濺射靶，其特徵在於所述靶頭(I)外側設有壓蓋⑶。
3.根據權利要求I所述的離子濺射儀濺射靶，其特徵在於所述上蓋板(4)和靶頭(I)通過螺栓￠)固定連接。
專利摘要本實用新型公開的離子濺射儀濺射靶，包括上蓋板，所述上蓋板上側設有接線柱，其中，所述上蓋板下側設置靶頭，所述靶頭為圓形，所述靶頭直徑為50mm～60mm，所述靶頭外表面設有濺射層，所述濺射層塗有濺射材料；所述靶頭外側設有壓蓋；所述上蓋板和靶頭通過螺栓固定連接。本實用新型提供的離子濺射儀濺射靶，安裝簡單，使用方便，減少了靶頭的面積，僅需靶頭正面塗覆濺射材料，節約了材料，降低了後期使用成本。
文檔編號C23C14/34GK202499900SQ20122009348
公開日2012年10月24日 申請日期2012年3月14日 優先權日2012年3月14日
發明者袁玫, 黃耀生 申請人:南京南大儀器廠