晶圓注入系統監測裝置的製作方法
2023-05-06 14:02:06 1
專利名稱:晶圓注入系統監測裝置的製作方法
技術領域:
本實用新型涉及一種監測裝置,特指一種晶圓注入系統監測裝置。
背景技術:
隨著科技日新月異的發展,電子半導體行業也變得越來越重要,而晶圓卻是電子科技中最基礎最重要的一部分。公知的晶圓加工過程中會裝設有一個注入系統,用來控制特殊液體或氣體注入反應室的汽化量或壓力。在公知的注入系統中,液體流量計對導入閥的供給特殊液體或氣體的量由控制模組根據操作者的設定作自動控制。但在實際操作時,會受各種因素影響,導致液體流量計對導入閥的特殊液體或氣體的通入量與所需不符,通入量過低或過低皆會影響晶圓的製造品質,且縮短注入系統的使用壽命。
發明內容為了克服現有技術中的缺陷,本實用新型提供了一種晶圓注入系統監測裝置,具體的說是有一個監測裝置,用來監測晶圓加工過程中注入特殊液體或氣體後導入閥的電壓及液體流量計的表面溫度。
本實用新型解決其技術問題所採用的技術方案是:本實用新型提供的一種晶圓注入系統監測裝置,在晶圓加工過程中裝設有一個注入系統,由一個液體流量計、一個導入閥及一個控制模組所組成,其中,液體流量計以一管線與導入閥連接,液體流量計與控制模組作控制上的連接,來接受該控制模組的控制信號,用來控制液體流量計對導入閥特殊液體或氣體的供給量,該導入閥則可控制特殊或氣體的汽化量。注入系統更裝設有一個監測裝置,由一個接收器及一個監視幕所組成,該接收器可經由監測而接收導入閥的電壓信號,以及經由監測而接收液體流量計的表面溫度信號,並經運算後在監視幕上將導入閥的電壓大小及液體流量計的表面溫度高低即時顯示出,到時操作者可經由控制模組調整該液體流量計對導入閥特殊液體或氣體的通入量及導入閥的汽化能力。控制模組還可以連接至一個客戶監控端,以利客戶可以同步了解晶圓加工的情形。本實用新型的有益效果是:提高晶圓的製造品質,延長注入系統的使用壽命。
以下結合附圖和實施例對本實用新型進一步說明。
圖1是本實用新型的構成立體圖。圖2是本實用新型的作用方塊圖。圖中1.注入系統,2.液體流量計,3.導入閥,4.監測裝置,5.控制模組,
6.客戶監控端,7.管線,8.接收器,9.監視幕。
具體實施方式
[0011]如圖1和圖2所示,本實用新型的實施例在晶圓加工過程中會裝設有一個注入系統1,由一個液體流量計2、一個導入閥3、一個監測裝置4、一個控制模組5及一個客戶監控端6所連接組成。其中,液體流量計2 —管線7與導入閥3連接,液體流量計2與控制模組5作控制上的連接,來接受該控制模組5的控制信號,用來控制液體流量計2對導入閥3特殊液體或氣體的供給量,控制模組5還可以連接至一個客戶監控端6,以利客戶可以同步了解晶圓加工的情形。該導入閥3可控制特殊或氣體的汽化量,導入閥3內部以高壓噴入一個載流氣體通過,來幫助將特殊液體或氣體汽化並輸送至晶圓製造的反應室,導入閥3內部並設有加熱器,來幫助特殊液體或氣體的汽化速度。注入系統I更裝設有一個監測裝置4,由一個接收器8及一個監視幕9所組成,該接收器8可經由監測而接收導入閥3的電壓信號,以及經由監測而接收液體流量計2的表面溫度信號,並在接收器8內部經由配置有軟體的運算系統進行資料比對運算後,在監視幕9上將導入閥3的電壓大小及液體流量計2的表面溫度高低即時顯示出,到時操作者可經由控制模組5調整該液體流量計2對導入閥3特殊液體或氣體的通入量及 導入閥3的汽化能力。
權利要求1.一種晶圓注入系統監測裝置,包括一個注入系統及一個監測裝置,其特徵是:所述注入系統,由一個液體流量計、一個導入閥及一個控制模組所組成;所述監測裝置,由一個接收器及一個監視幕所組成。
2.根據權利要求1所述的裝置,其特徵是:所述液體流量計以一管線與導入閥連接,液體流量計與控制模組連接。
3.根據權利要求1所述的裝置,其特徵是:所述控制模組還可以連接至一個客戶監控端。
專利摘要本實用新型提供的一種晶圓注入系統監測裝置,在晶圓加工過程中裝設有一個注入系統,由一個液體流量計、一個導入閥及一個控制模組所組成,液體流量計控制對導入閥特殊液體或氣體的供給量,該導入閥則可控制特殊或氣體的汽化量。注入系統更裝設有一個監測裝置,由一個接收器及一個監視幕所組成,該接收器可經由監測而接收導入閥的電壓信號,以及經由監測而接收液體流量計的表面溫度信號,並經運算後在監視幕上將導入閥的電壓大小及液體流量計的表面溫度高低即時顯示出,到時操作者可經由控制模組調整該液體流量計對導入閥特殊液體或氣體的通入量及導入閥的汽化能力。如此可提高晶圓的製造品質,延長注入系統的使用壽命。
文檔編號H01L21/67GK203118920SQ201320158760
公開日2013年8月7日 申請日期2013年4月2日 優先權日2013年4月2日
發明者金傑 申請人:金傑