一種夜光陶瓷及其生產工藝的製作方法

2023-05-01 15:03:06 2

專利名稱：一種夜光陶瓷及其生產工藝的製作方法
技術領域：
本發明涉及一種建築材料的技術領域，尤其涉及一種陶瓷及其生產工藝。
背景技術：
目前，夜光粉被廣泛應用於塑料、油漆街道各種材料上，但在陶瓷上並沒有 得到很好的應用。特別是大面積的燒制更是難以實現。夜光粉和釉料混合在高溫 燒制陶瓷中會產生大量氣體，在出爐後陶瓷表面易產生大量氣泡，產品不合格率
達50%,且夜光粉粗糙，攤鋪在磚面面積大，又很厚，因此，易出現釉裂，有的
剛出窯就出現斷裂的現象，有的由出窯後幾天後會出現破裂。

發明內容
本發明針對現有技術存在的技術問題，提供一種可將夜光粉用於陶瓷上的夜 光陶瓷及其生產工藝，它具有產品質量明顯優於普通陶瓷的特點。
本發明是通過如下技術方案實現的
一種夜光陶瓷，它是由夜光粉和釉料構成，它是按以下重量份數比配製而成: 夜光粉釉料二 1: 0.75-1.25。
所述的一種夜光陶瓷，它是按以下重量份數比配製而成 夜光粉釉料=1: 0.8。
所述的一種夜光陶瓷，它是按以下重量份數比配製而成 夜光粉釉料=1: 1。
所述的夜光陶瓷的厚度為0. 25cm-0. 3cm。 一種夜光陶瓷，是按以下重量份數比配製而成 夜光粉釉料=1: 0.75-1.25;
其生產工藝是
(1) 按上述重量份數比取夜光粉和釉料，並混合均勻，攤鋪在瓷磚面上；
(2) 進行燒制
第一次燒制混料採用980-106(TC進行燒制，燒制時間為70-80分鐘， 把夜光粉燒制在釉料面上；先進行預熱200-500 °C，準高溫500-90(TC;高溫 900-1060°C;急冷1060-650°C;緩冷650-420°C;快冷出窯420-60°C;
攤鋪釉料；
第二次燒制混料採用980-103(TC進行燒制，燒制時間為80-90分鐘， 把陶瓷釉面進行光滑度燒制；選進行預熱200-500 °C，準高溫500-90CTC;高溫 900-106CTC;急冷1060-650°C;緩冷650-420。C;快冷出窯420_60°C;
第三次燒制混料採用980-105(TC進行燒制，燒制時間為70-80分鐘；先 進行預熱200-500 。C，準高溫500-900°C;高溫900-1060°C;急冷1060-65(TC; 緩冷650-420°C;快冷出窯420-60°C 。
本發明與現有技術相比，由於生產工藝的特殊性，對工藝溫度和時間要求較
高，因此生產出的產品具有質地細，堅硬度高，無氣泡，完全克服了現有技術中
生產工藝所存在的不足之處。又由於採用夜光粉作為添加成份，使生產出的陶瓷
具有吸收自然光，包括燈光和日光等發光體所發出光的功能，十幾分鐘即可吸足
所需光，並在黑暗中持續能發光9-13.5小時，因其可以在自然界中不停的吸光、
發光，因此可以節約大量能源和原材料。本產品可廣泛地適用於交通要道及夜晚 廣告牆面等需要引起人們注意的地方使用，還可以起到提醒人們注意安全的功能
和達到美觀的效果，具有非常顯著的社會效益。
具體實施例方式
實施例1:
一種夜光陶瓷，它是由夜光粉和釉料構成，它是按以下重量份數比配製而成
夜光粉釉料=1: 0.75;
其生產工藝是-
(1) 按上述重量份數比取1份夜光粉和0. 75份釉料，並混合均勻，攤鋪在 瓷磚面上；可以採用絲網印刷技術，把配好的混料均勻，並均勻、平實地攤鋪在 磚面上。
(2) 進行燒制
第一次燒制混料採用98(TC進行燒制，燒制時間為70分鐘，把夜光粉 燒制在釉料面上；先進行預熱200 。C，準高溫50(TC;高溫90CTC;急冷1060
°C;緩冷65(TC;快冷出窯42(TC;
攤鋪釉料；
第二次燒制混料採用98(TC進行燒制，燒制時間為80分鐘，把陶瓷釉 面進行光滑度燒制；選進行預熱200 °C，準高溫50(TC;高溫90(TC;急冷1060 。C;緩冷650。C;快冷出窯42(TC;
第三次燒制混料採用98(TC進行燒制，燒制時間為70分鐘；先進行預 熱200 °C，準高溫50(TC;高溫900。C;急冷1060。C;緩冷650。C;快冷出窯420 。C。
經上述工藝燒制出的夜光陶瓷厚度可以在0. 25cm-0. 3cm之間均可。 本發明所需的夜光粉及釉料均選用市場所售產品即可。 實施例2:
一種夜光陶瓷，是按以下重量份數比配製而成夜光粉釉料=1: 0.8; 其生產工藝是
(1)按上述重量份數比取1份夜光粉和0.8份釉料，並混合均勻，攤鋪在
瓷磚面上；
(2)進行燒制
第一次燒制混料採用100(TC進行燒制，燒制時間為75分鐘，把夜光粉 燒制在釉料面上；先進行預熱300 。C，準高溫700。C;高溫100(TC;急冷1000
。C;緩冷50CTC;快冷出窯30(TC;
攤鋪釉料；
第二次燒制混料採用IOO(TC進行燒制，燒制時間為85分鐘，把陶瓷釉 面進行光滑度燒制；選進行預熱300 。C，準高溫700。C;高溫100(TC;急冷1000
。C;緩冷500。C;快冷出窯30(TC;
第三次燒制混料採用10(XrC進行燒制，燒制時間為75分鐘；先進行預
熱300 。C，準高溫700。C;高溫1000。C;急冷IOO(TC;緩冷500。C;快冷出窯
3oo°c。其它同實施例i。
實施例3:
一種夜光陶瓷，是按以下重量份數比配製而成夜光粉釉料=1: 1; 其生產工藝是
(1) 按上述重量份數比取l份夜光粉和l份釉料，並混合均勻，攤鋪在瓷
磚面上；
(2) 進行燒制
第一次燒制混料採用103(TC進行燒制，燒制時間為78分鐘，把夜光粉 燒制在釉料面上；先進行預熱400 °C，準高溫80(TC;高溫103(TC;急冷900
。C ;緩冷400 。C ;快冷出窯150 。C ; 攤鋪釉料；
第二次燒制混料採用IOIO'C進行燒制，燒制時間為88分鐘，把陶瓷釉 面進行光滑度燒制；選進行預熱400 °C，準高溫80(TC;高溫1030。C;急冷900°C ;緩冷500°C ;快冷出窯150°C ;
第三次燒制混料採用102(TC進行燒制，燒制時間為88分鐘；先進行預 熱400 °C，準高溫80(TC;高溫1030。C;急冷55(TC;緩冷40(TC;快冷出窯150 °C。其它同實施例1。
實施例4:
一種夜光陶瓷，是按以下重量份數比配製而成夜光粉釉料=1: 1.25; 其生產工藝是.-
(1) 按上述重量份數比取1份夜光粉和1. 25份釉料，並混合均勻，攤鋪在 瓷磚面上；
(2) 進行燒制
第一次燒制混料採用106(TC進行燒制，燒制時間為80分鐘，把夜光粉 燒制在釉料面上；先進行預熱500 。C，準高溫900。C;高溫1060。C;急冷650
。C;緩冷420。C;快冷出窯60。C;
攤鋪釉料；
第二次燒制混料採用103(TC進行燒制，燒制時間為90分鐘，把陶瓷釉 面進行光滑度燒制；選進行預熱500 r，準高溫90(TC;高溫106(TC;急冷650
°C;緩冷42(TC;快冷出窯60。C;
第三次燒制混料採用105(TC進行燒制，燒制時間為80分鐘；先進行預
熱500 。C，準高溫900。C;高溫1060。C;急冷650。C;緩冷420。C;快冷出窯60 °C。其它同實施例1。
權利要求
1、一種夜光陶瓷，它是由夜光粉和釉料構成，其特徵在它是按以下重量份數比配製而成夜光粉∶釉料＝1∶0.75-1.25。
2、 根據權利要求1所述的一種夜光陶瓷，其特徵在它是按以下重量份數比 配製而成夜光粉釉料=1: 0.8。
3、 根據權利要求1所述的一種夜光陶瓷，其特徵在它是按以下重量份數比 配製而成夜光粉釉料二 1: 1。
4、 根據權利要求1所述的一種夜光陶瓷，其特徵是所述的夜光陶瓷的厚度為0. 25cm-0. 3cm。
5、 根據權利要求1所述的一種夜光陶瓷的生產工藝如下一種夜光陶瓷，是按以下重量份數比配製而成 夜光粉釉料=1: 0.75-1.25; 其生產工藝是(1) 按上述重量份數比取夜光粉和釉料，並混合均勻，攤鋪在瓷磚面上；(2) 進行燒制第一次燒制混料採用980-106(TC進行燒制，燒制時間為70-80分鐘， 把夜光粉燒制在釉料面上；先進行預熱200-500 。C，準高溫500-90(TC;高溫 900-106(TC;急冷1060-65CTC;緩冷650-42(TC;快冷出窯420-6(TC;攤鋪釉料；第二次燒制混料採用980-103(TC進行燒制，燒制時間為80-90分鐘， 把陶瓷釉面進行光滑度燒制；選進行預熱200-500 'C，準高溫500-90CTC;高溫 900-106(TC;急冷1060-650°C;緩冷650-420。C;快冷出窯420-60°C;第三次燒制混料採用980-105(TC進行燒制，燒制時間為70-80分鐘； 先進行預熱200-500 。C，準高溫500-90CTC;高溫900-106(TC;急冷1060-650 °C;緩冷650-420。C;快冷出窯420-60°C。
全文摘要
本發明涉及一種建築材料的技術領域，尤其涉及一種陶瓷及其生產工藝。本發明是由夜光粉和釉料構成，它是按以下重量份數比配製而成夜光粉∶釉料＝1∶0.75-1.25。本發明與現有技術相比，由於生產工藝的特殊性，對工藝溫度和時間要求較高，因此生產出的產品具有質地細，堅硬度高，無氣泡，完全克服了現有技術中生產工藝所存在的不足之處。又由於採用夜光粉作為添加成份，使生產出的陶瓷具有吸收自然光，包括燈光和日光等發光體所發出光的功能，十幾分鐘即可吸足所需光，並在黑暗中持續能發光9-13.5小時，因其可以在自然界中不停的吸光、發光，可以節約大量能源和原材料。本發明具有適用範圍廣等特點，具有非常顯著的社會效益。
文檔編號C04B41/86GK101182243SQ20071015860
公開日2008年5月21日 申請日期2007年11月29日 優先權日2007年11月29日
發明者襲洪武 申請人:襲洪武