低副面接觸式超越離合器的製作方法

2023-05-19 22:49:06 2

專利名稱：低副面接觸式超越離合器的製作方法
技術領域：
本實用新型涉及一種超越離合器，尤其是用於摩託車的低副面接觸式超越離合器。
二背景技術：
目前，市面上常見的超越離合器大致有兩類滾柱式和楔塊式。滾柱式超越離合器藉助星輪和環構築一楔形空間，滾柱在其間依靠摩擦作用實現其單向傳動。楔塊式超越離合器則是以楔塊替代滾柱作為結合元件，依靠楔塊自身形成楔角，再利用摩擦作用來實現單向傳動。滾柱式和楔塊式同屬摩擦式超越離合器，結合元件均屬高副線接觸，其接觸應力較大，對材質、熱處理、加工、安裝精度等要求較高，使用中摩擦因數的變化對可靠性的影響比較敏感，且從動件的附加慣性矩較大(對摩託車即意味著發動機的功率損失加大)。中國專利ZL00223233.2公開了一種「低副慣性式超越離合器」，它雖然較好的解決了上述問題，但結構設計上存在受力易變形的不足，不能確保工作的可靠性，且結構也比較複雜。
三
發明內容
本實用新型的目的是提供一種低副面接觸式超越離合器，通過改高副結構為低副結構，變線接觸為面接觸，增強受力部位結構的合理設計，使結構進一步簡化，從而解決使用中的工作可靠性問題、製造要求較高的問題和從動件附加慣性矩較大的問題。
本實用新型的具體方案是包括薄壁盆形環、前隨動盤、後隨動盤、齒輪、楔塊、滑柱、回位簧、銷，其特徵在於A.在齒輪的一側鑄有限位用的凸臺，其上有數個沿圓周方向均勻分布的凹槽，凹槽內放置有滑柱；B.後隨動盤空套在齒輪的限位凸臺上，前隨動盤空套在齒輪的軸臺上，並用擋圈限位，楔塊利用其自身的前後軸臺夾在前、後隨時動盤之間；C.楔塊懸臂的平面與滑柱的外平面接觸，楔塊經回位簧與固定在後隨動盤上的銷連接。
採用上述方案，結合元件的受力部位呈面接觸狀態，接觸應力較小，使用中摩擦因數的改變對可靠性的影響不敏感，而鑄造在齒輪上的滑柱轉動用凹槽極大地改善了受力變形問題，進一步提高了可靠性；結合元件受力狀態的改善使材質及熱處理要求得以降低，加工更加容易，結構設計的簡化更進一步減少了成本；又由於固定在以動件上的薄壁盆形環質量很輕，因而附加慣性矩很小(對摩託車而言即發動機的功率損失減少)；而非接觸式超越這種方式又可將意外故障帶來的損失降至更低。
四

圖1是本實用新型的主視圖，也是圖2的A-A剖視圖；圖2是圖1的P-P剖視圖。
五具體實施方式
請看圖1、圖2，本實用新型由薄壁盆形環1、前隨動盤2、後隨動盤3、齒輪4(內含軸承)、楔塊5、滑柱6、回位簧7、銷9、螺釘10、擋圈11組成。本實用新型的結構特徵是A.在齒輪4的一側鑄有限位用的凸臺，其上有數個沿圓周方向均勻分布的凹槽，凹槽內放置有滑柱6；B.後隨動盤3空套在齒輪4的限位凸臺上，前隨動盤2空套在齒輪的軸臺上，並用擋圈11限位，楔塊5利用其自身的前後軸臺夾在前、後隨時動盤2、3之間；C.楔塊5懸臂的平面與滑柱6的外平面接觸，楔塊5經回位簧7與固定在後隨動盤3上的銷9連接。
如圖2所示楔塊5的驅動弧面在工作時與薄壁盆形環1的內壁弧面貼接，兩者的半徑相等。齒輪4的一側鑄有三個限位凸臺，每個凸臺上開有一個凹槽，在凹槽中放有一個實心滑柱6，滑柱6露出凹槽外的部分為平面。滑柱6可繞齒輪4上均勻分布的凹槽中心轉動，其平面與楔塊5懸臂的平面緊貼。
本實用新型是這樣進行工作的在工作前，先將薄壁盆形環1用螺釘10固定在從動件上，通過齒輪傳遞機構與起動電機相聯的齒輪4(內含軸承)則空套在從動軸上，然後進入工作狀態。當齒輪4如圖所示作逆時針方向旋轉時，由於慣性矩的存在，空套在齒輪4上的前、後隨動盤2、3並不立即隨之旋轉，其上的楔塊5受隨同齒輪4同步旋轉的滑柱6的擠壓便只能繞其自身前後軸臺中心轉動，將驅動弧面壓向薄壁盆形環1。當摩擦力矩超過從動件阻力矩時，楔塊5、前隨動盤2、後隨動盤3以及固定在從動件上的薄壁盆形環1一起隨齒輪4(以及滑柱6)同步旋轉，從而實現單向傳動。當從動件轉速高於主動件時，薄壁盆形環1施加給楔塊5的摩擦力使其離開滑柱6，與此同時，回位簧7在固定於後隨動盤3上的銷9作用下使楔塊5反向旋轉脫離薄壁盆形環1，從而實現非接觸式超越。其中，非接觸的間隙及摩擦副的允許磨損量均由齒輪4的限位凸臺來控制。
權利要求1.一種低副面接觸式超越離合器，包括薄壁盆形環(1)、前隨動盤(2)、後隨動盤(3)、齒輪(4)、楔塊(5)、滑柱(6)、回位簧(7)、銷(9)，其特徵在於A.在齒輪(4)的一側鑄有限位用的凸臺，其上有數個沿圓周方向均勻分布的凹槽，凹槽內放置有滑柱(6)；B.後隨動盤(3)空套在齒輪(4)的限位凸臺上，前隨動盤(2)空套在齒輪的軸臺上，並用擋圈(11)限位，楔塊(5)利用其自身的前後軸臺夾在前、後隨時動盤(2、3)之間；C.楔塊(5)懸臂的平面與滑柱(6)的外平面接觸，楔塊(5)經回位簧(7)與固定在後隨動盤(3)上的銷(9)連接。
2.根據權利要求1所述的低副面接觸式超越離合器，其特徵在於齒輪(4)的一側鑄有三個限位凸臺，每個凸臺上開有一個凹槽，在凹槽中放有一個實心滑柱(6)，滑柱(6)露出凹槽外的部分為平面。
專利摘要一種低副面接觸式超越離合器，其特徵是A.在齒輪4的一側鑄有限位用的凸臺，其上有數個沿圓周方向均勻分布的凹槽，凹槽內放置有滑柱6；B.後隨動盤3空套在齒輪的限位凸臺上，前隨動盤2空套在齒輪的軸臺上，並用擋圈11限位，楔塊5利用其自身的前後軸臺夾在前、後隨時動盤之間；C.楔塊懸臂的平面與滑柱6的外平面接觸，楔塊5經回位簧7與固定在後隨動盤上的銷9連接。該實用新型接觸應力小，受力均勻，不易變形，可靠性高，製造簡單，附加慣性力矩小。
文檔編號F16D41/00GK2622475SQ0323480
公開日2004年6月30日 申請日期2003年6月7日 優先權日2003年6月7日
發明者劉國勝, 張知時, 任君元 申請人:劉國勝