一種帶有拋光功能的研磨盤的製作方法
2023-05-20 22:06:21 1
一種帶有拋光功能的研磨盤的製作方法
【專利摘要】本發明涉及一種帶有拋光功能的研磨盤，適用於光學元件、非晶薄膜襯底等工件表面的研磨與拋光加工。它包括包括底座砂輪和螺旋形擋板，所述螺旋形擋板固定安裝在底座砂輪上，所述底座砂輪的表面粒度隨著螺旋形擋板梯度式變化，越靠近螺旋形中心，底座砂輪的表面粒度越高；所述底座砂輪上沿著螺旋形擋板的內外側均設有廢液流道。本發明結構簡單緊湊，成本較低，自動化程度高，通過螺旋形研磨盤的磨料粒度梯度化設計，可以對工件分別進行從粗磨到精拋的不同程度的加工。
【專利說明】一種帶有拋光功能的研磨盤
【技術領域】
[0001]本發明涉及一種帶有拋光功能的研磨盤，適用於光學元件、非晶薄膜襯底等工件表面的研磨與拋光加工。
【背景技術】
[0002]研磨是利用塗敷或壓嵌在研具上的磨料顆粒，通過研具與工件在一定壓力下的相對運動對加工表面進行的精整加工(如切削加工)。研磨可用於加工各種金屬和非金屬材料，加工的表面形狀有平面，內、外圓柱面和圓錐面，凸、凹球面，螺紋，齒面及其他型面。加工精度可達IT5?01，表面粗糙度可達Ra0.63?0.01微米。
[0003]拋光是指利用機械、化學或電化學的作用，使工件表面粗糙度降低，以獲得光亮、平整表面的加工方法。利用柔性拋光工具和磨料顆粒或其他拋光介質對工件表面進行的修飾加工。拋光不能提高工件的尺寸精度或幾何形狀精度，而是以得到光滑表面或鏡面光澤為目的，有時也用以消除光澤(消光)。
[0004]當我們需要對代加工工件進行光整加工，用以改善工件表面粗糙度或強化其表面的加工過程，通常同時採用研磨和拋光。傳統的利用研磨盤或者拋光碟的光整系統將研磨與拋光工序分開，使得由研磨過度到拋光時系統需要將研磨盤更換為拋光碟，很難提升加工效率。即使是單一的研磨加工，單一磨粒粒度的研磨盤也並不能使工件完全達到所需的表面粗糙度或者需要很長的加工時間。且傳統的研磨和拋光系統，加工時需要人為添加砝碼或由工件和承託工件的器件本身的重力來決定施加於工件表面與研磨盤(或拋光碟)表面的壓力，這使得所是施加的壓力不能根據加工需求得到動態調節而且無法得到低於工件和承託工件的器件本身的重力的壓力，在更換研磨盤或拋光碟後需添加或者更換砝碼，由於砝碼的質量固定，很難實現施加壓力的連續變化，從而影響了加工質量，並且受人為因素影響大，很難實現自動化。
【發明內容】
[0005]為了克服現有技術加工中存在的加工效率低、自動化程度不高、拋光和研磨加工需要分開等缺點，本發明提供一種可以集粗磨、精磨、粗拋、精拋為一體的一種帶有拋光功能的研磨盤。
[0006]為達到上述目的，本發明所採用的技術方案是:一種帶有拋光功能的研磨盤，包括底座砂輪和螺旋形擋板，所述螺旋形擋板固定安裝在底座砂輪上，所述底座砂輪的表面粒度隨著螺旋形擋板梯度式變化，越靠近螺旋形中心，底座砂輪的表面粒度越高；所述底座砂輪上沿著螺旋形擋板的內外側均設有廢液流道。
[0007]進一步的，所述底座砂輪底部設有中心軸安裝孔，所述安裝孔內設有平鍵槽。
[0008]進一步的，所述廢液流道直接連通砂輪底部的廢水槽。，
[0009]本發明的技術構思為:利用螺旋形研磨盤對工件進行連續加工，將研磨盤的粒度從外圈從內圈依次增加，可以對工件進行由粗磨、到精拋不同程度的加工；研磨盤上設有螺旋形擋板，可以防止加工的時候磨屑濺落到相鄰的區域；研磨盤在底部電機的帶動下可以旋轉的角速度不變，但是線速度由內至外逐漸降低，研磨加工時加工精度越低需要的轉動線速度越低，需要的盤面磨料粒度越高，通過磨料粒度的漸變和加工線速度的漸變實現無級加工的目的。
[0010]與現有技術相比，本發明具有以下優點:本發明結構簡單緊湊，成本較低，自動化程度高，通過螺旋形研磨盤的磨料粒度梯度化設計，可以對工件分別進行從粗磨到精拋的不同程度的加工。
【專利附圖】
【附圖說明】
[0011]圖1是本發明一種帶有拋光功能的研磨盤的結構示意圖。
[0012]圖2是本發明一種帶有拋光功能的研磨盤的結構示意圖俯視圖。
[0013]圖3是本發明一種帶有拋光功能的研磨盤的結構示意圖立體圖。
【具體實施方式】
[0014]為使本發明的目的、技術方案和優點更加清楚明了，下面結合【具體實施方式】並參照附圖，對本發明進一步詳細說明。應該理解，這些描述只是示例性的，而並非要限制本發明的範圍。此外，在以下說明中，省略了對公知結構和技術的描述，以避免不必要地混淆本發明的概念。
[0015]結合圖1至圖3，一種帶有拋光功能的研磨盤，包括底座砂輪和螺旋形擋板，所述螺旋形擋板固定安裝在底座砂輪上，所述底座砂輪的表面粒度隨著螺旋形擋板梯度式變化，越靠近螺旋形中心，底座砂輪的表面粒度越高；所述底座砂輪上沿著螺旋形擋板的內外側均設有廢液流道。
[0016]應當理解的是，本發明的上述【具體實施方式】僅僅用於示例性說明或解釋本發明的原理，而不構成對本發明的限制。因此，在不偏離本發明的精神和範圍的情況下所做的任何修改、等同替換、改進等，均應包含在本發明的保護範圍之內。此外，本發明所附權利要求旨在涵蓋落入所附權利要求範圍和邊界、或者這種範圍和邊界的等同形式內的全部變化和修改例。
【權利要求】
1.一種帶有拋光功能的研磨盤，其特徵在於:包括底座砂輪和螺旋形擋板，所述螺旋形擋板固定安裝在底座砂輪上，所述底座砂輪的表面粒度隨著螺旋形擋板梯度式變化，越靠近螺旋形中心，底座砂輪的表面粒度越高；所述底座砂輪上沿著螺旋形擋板的內外側均設有廢液流道。
2.根據權利要求1所述的一種帶有拋光功能的研磨盤，其特徵在於:所述底座砂輪底部設有中心軸安裝孔，所述安裝孔內設有平鍵槽。
3.根據權利要求1所述的一種帶有拋光功能的研磨盤，其特徵在於:所述廢液流道直接連通砂輪底部的廢水槽。
【文檔編號】B24B37/16GK103878684SQ201410079959
【公開日】2014年6月25日 申請日期:2014年3月6日 優先權日:2014年3月6日
【發明者】金明生, 計時鳴, 張利, 潘燁 申請人:浙江工業大學