本底矽的測量方法

2023-04-26 02:31:51 1

/>計算出所述待測無矽水中本底矽的濃度為X。2、如權利要求l所述的本底矽的測量方法，其特徵在於，所述顯色溶液是將待測的所述無矽水或所述標準溶液依次分時加入三種試劑得到，所述三種試劑為酸性鉬酸銨溶液、草酸、酸還原劑。3、如權利要求2所述的本底矽的測量方法，其特徵在於，釆用所述倒加藥的方式得到所述零點值的顯色溶液的顯色操作過程需要1至2分鐘的時間，所述倒加藥的步驟包括al、取待測無矽水；a2、加入所述酸還原劑，搖勻；a3、加入所述草酸，搖勻；a4、加入所述酸性鉬酸銨溶液，搖勻；a5、形成顯色溶液。4、如權利要求2所述的本底矽的測量方法，其特徵在於，所述標準溶液的顯色操作過程需要14至17分鐘的時間，所述標準溶液的顯色操作步驟包括cl、取待測標準溶液；c2、加入所述酸性鉬酸銨溶液，搖勻等候5至6分鐘；c3、加入所述草酸，搖勻等候1至2分鐘；c4、加入所述酸還原劑，搖勻等候8至9分鐘；c5、形成顯色溶液。5、如權利要求l所述的本底矽的測量方法，其特徵在於，所述步驟a之前還包括作空白標定的步驟，即對所述光度計的數據進行校正。6、如權利要求1所述的本底矽的測量方法，其特徵在於，用於測量所述顯色溶液的所述光度計包括光源、比色池及測量光電池；所述光源發出穩定的單色光，所述單色光部分經過所述比色池被顯色溶液吸收，所述單色光剩餘部分為比色池的透射光，所述透射光再經過所述測量光電池測得電壓值，所述顯色溶液中二氧化矽濃度越高，所述比色池的透射光越弱，所述電壓值越低。7、如權利要求1或6所述的本底矽的測量方法，其特徵在於，測得的所述電壓值均是經過對數轉換的電壓值。全文摘要本發明公開了一種本底矽的測量方法，其步驟包括進行零點值測量，用倒加藥得顯色溶液，零點值的顯色溶液的矽濃度為0，電壓值V0；配製兩種不同濃度的標準溶液，即標液1、標液2，溶液濃度分別為C1、C2；標液1、標液2分別作顯色操作，再根據光電比色原理進行測量，並分別測量電壓值V1、V2；經過計算，得出本底矽的濃度為X。用於測量的儀器為光度計，顯色溶液中二氧化矽濃度越高，所測得的電壓值越低。用此方法能夠較精準地測量出無矽水中本底矽的濃度，精確了已知濃度二氧化矽的標準溶液的實際濃度，在二氧化矽濃度分析中對二氧化矽含量測得的結果更為精確；且本方法操作簡單，精確度高。文檔編號G01N21/78GK101403700SQ200810115658公開日2009年4月8日申請日期2008年6月26日優先權日2008年6月26日發明者陳雲龍申請人:北京華科儀電力儀表研究所