Ncvm膜的鍍膜方法

2023-05-04 21:01:01 3

專利名稱：Ncvm膜的鍍膜方法
技術領域：
本發明涉及一種真空鍍膜技術領域，具體涉及一種NCVM膜的鍍膜方法。
背景技術：
電鍍技術作為一種功能精飾技術，其合金鍍層具有優異的耐磨性、耐蝕性、鍍層厚度均勻性、緻密度高等特點，已在電子產品中獲得大量應用。隨著電子工業的迅猛發展，對電鍍技術的要求越來越高，新技術、新產品、新工藝層出不窮。NCVM又稱不連續鍍膜技術或不導電電鍍技術，是一種起緣普通真空電鍍的高新技術。真空電鍍，簡稱VM，是vacuum metallization的縮寫。它是指金屬材料在真空條件下，運用化學、物理等特定手段進行有機轉換，使金屬轉換成粒子，沉積或吸附在塑膠材料的表面，形成膜，也就是我們所謂的鍍膜。真空不導電電鍍，又稱NCVM，是英文Non conductive vacuum metallization的縮寫。 它的加工工藝高於普通真空電鍍，其加工製程比普通製程要複雜得多。NCVM是採用鍍出金屬及絕緣化合物等薄膜，利用各相不連續之特性，得到最終外觀有金屬質感且不影響到無線通訊傳輸之效果。首先要實現不導電，滿足無線通訊產品的正常使用；其次要保證「金屬質感」這一重要的外觀要求；最後通過UV塗料與鍍膜層結合，最終保證產品的物性和耐候性，滿足客戶需求。NCVM可應用於各種塑料材料，如 PC、PC+ABS、ABS、PMMA, NYLON、工程塑料等，它更符合製作工藝的綠色環保要求，是無鉻 (Non-Chrome)電鍍製品的替代技術，適用於所有需要表面處理的塑料類產品，特別適用於有訊號收發的3C產品，尤其是在天線蓋附近區域，如Mobile Phone、PDA、Smart Phone,GPS 衛星導航、藍芽耳機等。NCVM技術以其特殊的不導電、金屬質感和優良的物性與耐候性，正在真空電鍍技術領域中脫穎而出，搶佔鰲頭，成為3C企業在電子通訊產品上重點技術，為塑膠材料表面鍍膜實現新價值，其產品價值高，市場潛力大，將逐步替代傳統電鍍工業而成為主流的塑料類產品表面處理技術，將為企業和社會帶來顯著的經濟效益和社會效益。目前的NCVM的鍍膜技術的整體工藝目前仍不成熟，所生產出來的NCVM膜，金屬在原子霧狀態下被吸附於塑料殼表面的，完全暴露於空氣中，由於此時的金屬膜層具有一定 「金屬活動性」，因此在使用的過程中，會留下指紋，尤其是遇到刮碰時，很容易損壞NCVM膜， 故直接影響了其產品的外觀與性能，然而為了解決上述之不足，對NCVM的鍍膜技術作了改進，增加了一道UV烘烤工序，儘管性能大大的提高了，但在最外層的不再是金屬膜，而是硬化的油漆。

發明內容
為了克服上述之不足，本發明的目的在於提供一種提高NCVM膜在產品上的附著性能以使堅固耐用的NCVM膜的鍍膜方法。本發明所採用的技術方案如下
NCVM膜的鍍膜方法，其特徵在於包括以下步驟A、活化和清潔處理，在被鍍產品的表面進行活化和清潔處理，處理時間為60S，真空室內的真空度達到70Pa，鍍膜電櫃通過變壓
3輸出到真空室的電壓為3600V ；B、將被鍍產品放入真空室進行蒸鍍錫膜，鍍錫的厚度不大於30納米；其中，真空室內的真空度達到75Pa，鍍膜電櫃通過變壓輸出到真空室的電壓為 4000V,並且鍍錫的時間不大於80S。所述錫採用純度在99. 99%以上的錫。本發明的有益效果由於在鍍膜前，對產品的表面進行了活化和清潔處理，並且優化了蒸鍍NCVM膜的技術參數，從而大大提高了提高NCVM膜在產品上的附著性能，使該膜具有耐磨耗、耐醇、耐人工汗液、高溫高溼儲存等特點。
具體實施例方式NCVM膜的鍍膜方法，其特徵在於包括以下步驟A、活化和清潔處理，在被鍍產品的表面進行活化和清潔處理，處理時間為60S，真空室內的真空度達到70Pa，鍍膜電櫃通過變壓輸出到真空室的電壓為3600V ；B、將被鍍產品放入真空室進行蒸鍍錫膜，鍍錫的厚度不大於30納米；其中，真空室內的真空度達到75Pa，鍍膜電櫃通過變壓輸出到真空室的電壓為4000V，並且鍍錫的時間不大於80S。所述錫採用純度在99. 99%的錫。本發明所制出的NCVM膜具有以下特點由於採用上述的工藝，NCVM的主要特徵是結合了傳統真空鍍膜技術的特性，採用新的鍍膜技術、並改變了鍍膜材料，做出普通真空電鍍的不同顏色的金屬外觀效果，起到美化工件表面之功用。採用NCVM技術制出的成品可以通過高壓電錶幾萬伏特的高壓測試，不導通或不被擊穿。正是因為它的不導電性，當本發明用於手機或藍牙耳機收訊或是發射訊號時，產生的電磁場不被導電的鍍層所屯積，從而不影響手機的射頻性能以及靜電放電性能，也就是說使得無線產品達到更好的收訊效果，無雜音，更不會對人體產生任何影響。從電性能角度出發，它能夠通過導電測試和電子幹擾測試。從真空鍍膜本身，它能同時保證正常的物理和耐候測試，如附著力、耐磨耗、耐醇、耐人工汗液、高溫高溼儲存等。當通訊產品的機殼採用NCVM製程時，產品的天線模塊不需再設計迴路接地至機板上，由此可節省在天線模塊上的檢測，並節省成本；同時產品的外觀金屬質感較強烈，進而提高產品的科技含量，增加產品的附加價值。以上所述是本發明的優選實施方式而已，當然不能以此來限定本發明之權利範圍。應當指出，對於本技術領域的普通技術人員來說，對本發明的技術方案進行修改或者等同替換，都不脫離本發明的保護範圍。
權利要求
1.一種NCVM膜的鍍膜方法，其特徵在於包括以下步驟:A、活化和清潔處理，在被鍍產品的表面進行活化和清潔處理，處理時間為60S，真空室內的真空度達到70Pa，鍍膜電櫃通過變壓輸出到真空室的電壓為3600V ；B、將被鍍產品放入真空室進行蒸鍍錫膜，鍍錫的厚度不大於30納米；其中，真空室內的真空度達到75Pa，鍍膜電櫃通過變壓輸出到真空室的電壓為4000V，並且鍍錫的時間不大於80S。
2.根據權利要求1所述的NCVM膜的鍍膜方法，其特徵在於所述錫採用純度在99.99% 以上的錫。
全文摘要
本發明公開了一種NCVM膜的鍍膜方法，其特徵在於包括以下步驟A、活化和清潔處理，在被鍍產品的表面進行活化和清潔處理，處理時間為60S，真空室內的真空度達到70Pa，鍍膜電櫃通過變壓輸出到真空室的電壓為3600V；B、將被鍍產品放入真空室進行蒸鍍錫膜，鍍錫的厚度不大於30納米；其中，真空室內的真空度達到75Pa，鍍膜電櫃通過變壓輸出到真空室的電壓為4000V，並且鍍錫的時間不大於80S。由於在鍍膜前，對產品的表面進行了活化和清潔處理，並且優化了蒸鍍NCVM膜的技術參數，從而大大提高了提高NCVM膜在產品上的附著性能，使該膜具有耐磨耗、耐醇、耐人工汗液、高溫高溼儲存等特點。
文檔編號C23C14/14GK102534474SQ201210002400
公開日2012年7月4日 申請日期2012年1月6日 優先權日2012年1月6日
發明者潘振強 申請人:肇慶市振華真空機械有限公司