去除放射性滷素的去汙劑的製作方法
2023-04-26 13:03:06 2
去除放射性滷素的去汙劑的製作方法
【專利摘要】本發明公開了一種去除放射性滷素的去汙劑，按質量濃度由下述組份組成：碘化鈉0.5%-10%、碘伏0.005%-0.05%、十二烷基苯磺酸鈉0.01%-0.1%、甘油酸酯0.01%-0.1%、山梨醇0.01%-0.05%、無水乙醇5%-75%，餘量為蒸餾水。本發明的一種去除放射性滷素的去汙劑成本比較低，而且製作工藝簡單，產品明顯去除皮膚及物體表面的放射性滷素，具有較高的放射性滷素清除率，並且不會對環境造成二次汙染，適用範圍廣。不產生放射性廢水，不造成放射性汙染的轉移，不會造成二次汙染。尤其適用於從事放射性工作的人員。
【專利說明】去除放射性滷素的去汙劑
【技術領域】
[0001]本發明涉及一種能去除放射性滷素的去汙劑，屬於日用化工【技術領域】。
【背景技術】
[0002]伴隨著核能技術的發展和廣泛應用，核輻射放射性汙染問題也得到了廣泛的關注。日本福島核電站爆炸造成了大量放射性物質蔓延,造成大範圍汙染,並引發了民眾的核輻射恐慌，妄圖通過購買碘鹽來降低核輻射，這是很不科學的。由於輻射是原子結構變化的結果，因此輻射永遠不能被完全消除或「封殺」。儘管核電廠或企業，採取了一系列的措施來使員工受輻射劑量降到最低，但仍不可避免的造成相關人員體表、受到放射性汙染。
[0003]放射性輻射是非常危險的，因為隨著時間的推移，它可以破壞人體的活細胞，在一個很長的時期可能會導致癌症。核事件發生後，最有效的方法是從人體的皮膚表面，儘可能多地去除放射性物質，越早進行去汙，效果越好。
[0004]目前國內許多醫院都具有核醫學科室，都配備有影像與功能診斷，比如放射性碘雖然可以有效的治療甲狀腺疾病，但是醫生和患者都不可避免的會接觸到放射性物質，造成皮膚表面放射性沾汙等，因此迫切需要一種能有效去除皮膚及物體表面放射性物質的洗手液。
[0005]目前皮膚放射性去汙，一般先用普通肥皂進行清洗，清洗多次，然後分別用相應的去汙劑清洗，常用的有EDTA、高錳酸鉀、亞硫酸氫鈉、亞硫酸鈉、DTPA溶液、5%次氯酸鈉溶液。這種去汙方法的缺點在於容易產生放射性廢水，造成放射性汙染的轉移，可能會造成二次汙染。
【發明內容】
[0006]本發明的目的是克服現有技術的不足，提供一種去汙能力強、不產生放射性廢水的去除放射性滷素的去汙劑。
[0007]本發明的技術方案概述如下:
[0008]一種去除放射性滷素的去汙劑，是按質量濃度由下述組份組成:碘化鈉
0.5%-10%、碘伏0.005%-0.05%、十二烷基苯磺酸鈉0.01%-0.1%、甘油酸酯0.01%-0.1%、山梨醇0.01%-0.05%、無水乙醇5%-75%，餘量為蒸餾水。
[0009]優選的是碘化鈉為1%、碘伏為0.01%、十二烷基苯磺酸鈉為0.02%、甘油酸酯為
0.03%、山梨醇為0.02%、無水乙醇為10%。
[0010]本發明的有益效果在於:本發明成本比較低，而且製作工藝簡單，產品明顯去除皮膚及物體表面的放射性滷素，具有較高的放射性滷素清除率，並且不會對環境造成二次汙染，適用範圍廣。不產生放射性廢水，不造成放射性汙染的轉移，不會造成二次汙染。尤其適用於從事放射性工作的人員。
【具體實施方式】[0011]下面結合具體實施例對本發明作進一步的說明。
[0012]實施例1
[0013]一種去除放射性滷素的去汙劑，是按質量濃度由下述組份組成:碘化鈉1%、碘伏
0.01%、十二烷基苯磺酸鈉0.02%、甘油酸酯0.03%、山梨醇0.02%、無水乙醇10%，餘量為蒸餾水。
[0014]實施例2
[0015]一種去除放射性滷素的去汙劑，是按質量濃度由下述組份組成:碘化鈉0.5%、碘伏0.05%、十二烷基苯磺酸鈉0.01%、甘油酸酯0.1%、山梨醇0.01%、無水乙醇75%，餘量為蒸餾水。
[0016]實施例3
[0017]一種去除放射性滷素的去汙劑，是按質量濃度由下述組份組成:碘化鈉10%、碘伏
0.005%、十二烷基苯磺酸鈉0.1%、甘油酸酯0.01%、山梨醇0.05%、無水乙醇5%，餘量為蒸餾水。
[0018]本發明的去汙劑的使用方法:
[0019]先將本發明的一種去除放射性滷素的去汙劑噴於皮膚或物體表面，然後採用溼巾拭去，溼巾放入專門袋 子裡，杜絕了放射性的二次汙染。
[0020]一種去除放射性滷素的去汙劑的製備方法:
[0021]在容器中放入碘化鈉，碘伏、十二烷基苯磺酸鈉、甘油酸酯和山梨醇後，再加入無水乙醇，加蒸餾水定容，攪拌均勻。
[0022]實施例4
[0023]對瓷磚放射性的清除率
[0024]選用4塊相同瓷磚，先製造放射性(每個瓷磚滴I滴放射性碘廢液)，檢測清除前的放射性強度，然後分別用本發明的去汙劑和水分別噴於瓷磚汙染處，然後用溼巾拭去，最後用射線檢測儀檢測瓷磚上清除後的放射性活度。
[0025]表1水和去汙劑對瓷磚的去汙效果
[0026]
【權利要求】
1.一種去除放射性滷素的去汙劑，其特徵是按質量濃度由下述組份組成:碘化鈉0.5%-10%、碘伏0.005%-0.05%、十二烷基苯磺酸鈉0.01%-0.1%、甘油酸酯0.01%-0.1%、山梨醇0.01%-0.05%、無水乙醇5%-75%，餘量為蒸餾水。
2.根據權利要求1所述的一種去除放射性滷素的去汙劑，其特徵是所述碘化鈉為1%、碘伏為0.01%、十二烷基苯磺酸鈉為0.02%、甘油酸酯為0.03%、山梨醇為0.02%、無水乙醇為10%。
【文檔編號】C11D3/04GK103996421SQ201410157626
【公開日】2014年8月20日 申請日期:2014年4月18日 優先權日:2014年4月18日
【發明者】尹雙雙, 孟星, 白紅升, 張興福, 朱輝, 孫勇林 申請人:天津賽德醫藥研究院有限公司