一種在金屬表面真空鍍膜形成圖紋的方法
2023-04-26 05:56:41 1
專利名稱：一種在金屬表面真空鍍膜形成圖紋的方法
技術領域：
本發明涉及一種真空鍍膜形成圖紋的方法，尤其是一種在金屬表面真空鍍膜形成圖紋的方法。
背景技術：
現有的鍍膜加工方法，其需提供一具有鏤空圖案的金屬遮罩；再將該金屬遮罩與金屬工件的表面貼合；然後再通過人工直接將屏蔽油墨塗布於金屬遮罩的鏤空圖案處；待屏蔽油墨烘乾後再去除金屬遮罩；然後再進行物理蒸鍍；完成鍍膜後，再以溶劑去除屏蔽油墨，即可在金屬工件表面形成所需圖案。但該方法存在如下缺陷1、工序複雜，且人工塗抹屏蔽油墨耗時，效率低。2、一般金屬遮罩只能製作粗短的直線與較大面積的幾何圖案，精細的線條與構圖則難以達成。3、需提供金屬遮罩，成本高昂。4、人工塗抹之屏蔽油墨厚度 較厚，烘乾時容易產生油墨內部未乾透，導致真空鍍膜時產生油墨揮發現象，致使油墨周圍區域鍍膜覆著不良，影響圖案質量。5、去除金屬遮罩時，有時會使乾燥之油墨的邊緣同時剝落，不易修補，會造成鋸齒狀的線條，影響圖案的美觀。6、同一金屬遮罩經人工塗抹屏蔽油墨後，最終形成於各金屬工件間的圖案存在明顯的差異。7、直接塗布屏蔽油墨法僅適用於平面型金屬工件，對於具有曲面的金屬工件，無法直接塗布。
發明內容
本發明的目的在於提供一種在金屬工件表面真空鍍膜形成圖紋的方法，其工序簡單、且效率高，可形成精美、複雜圖紋。一種在金屬工件表面真空鍍膜形成圖紋的方法，其特徵在於包括如下步驟在一膠膜表面形成圖案屏蔽層；清洗金屬工件並烘乾備用；將膠膜覆蓋於金屬工件表面，使圖案屏蔽層與金屬工件表面接觸；烘烤金屬工件使圖案屏蔽層與金屬工件表面附著良好；去除膠膜；再次清洗並烘乾金屬工件；對金屬工件的表面進行物理真空蒸鍍完成鍍膜；去除圖案屏蔽層，即在金屬工件表面形成圖紋；清洗並烘乾金屬工件。本發明之在金屬工件表面真空鍍膜形成圖紋的方法，具有如下有益效果I、與現有方法相比，無需提供金屬遮罩，無需人工塗抹屏蔽油墨，工序簡單、且效率高。2、與形成於現有金屬遮罩上的粗短直線或簡單幾何圖案相比，在本發明之膠膜表面上可形成精美、複雜的圖案屏蔽層，從而可在金屬工件表面形成精美、複雜圖紋。3、無需提供金屬遮罩，可大大節約成本。4、無人工塗抹屏蔽油墨及去除金屬遮罩之步驟,可完全避免出現現有方法中存在的影響圖紋質量的情況出現，進一步提高圖紋質量。5、本發明之膠膜，與金屬遮罩相比，可與不同結構的金屬工件表面相貼合，不但適用於平面型金屬工件，而且還適用於帶曲面結構的金屬工件，適用範圍廣。作為上述方案的一種改進，順序重複上述各步驟，在金屬工件表面形成由上述各鍍膜步驟完成的多層鍍膜組合構成的圖紋，所述各層鍍膜顏色相異。
作為上述方案的進一步改進，在進行上述各步驟前，所述金屬工件表面可預先通過物理真空蒸鍍形成底色層，該底色層與所述經物理真空蒸鍍完成的鍍膜層顏色相異。作為上述方案的再一步改進，所述物理真空蒸鍍包括真空電弧鍍、磁控濺射、空心陰極鍍、電子束鍍、熱蒸鍍之一或上述方法的任意複合。作為上述方案的再一步改進，所述金屬工件為鈦合金工件、不鏽鋼工件、鋁合金工件、或表面電鍍有鎳或鉻的工件。作為上述方案的再一步改進，所述鍍膜步驟中形成的鍍膜層，其材質為鈦、鉻、鋁、鋯、上述四種金屬的氧化物、氮化物或碳化物中的任一種，或者其材質為鈦合金、鉻合金、鋁合金、或錯合金中任一種。作為上述方案的再一步改進，所述形成的圖紋由任意線條或點陣構成，其最小線寬為O. 5cm,最小並行線距為O. 5cm,最小點直徑為O. 5cm,最小點距為O. 5cm。
圖I為本發明之膠膜的局部結構剖視圖。圖2為本發明之金屬工件的局部結構剖視圖。圖3為本發明之膠膜貼於金屬工件後的局部結構剖視圖。圖4為圖3的金屬工件在去除膠膜後的局部結構剖視圖。圖5為圖4的金屬工件在進行物理真空蒸鍍完成鍍膜步驟後的局部結構剖視圖。圖6為圖5的金屬工件在去除圖案屏蔽層後、形成圖紋的局部結構剖視圖。圖7為本發明另一實施例的金屬工件在去除圖案屏蔽層後、形成圖紋的局部結構首1J視圖。圖8為本發明又一實施例的金屬工件在去除圖案屏蔽層後、形成圖紋的局部結構首1J視圖。圖9為本發明再一實施例的金屬工件在去除圖案屏蔽層後、形成圖紋的局部結構剖視圖。
具體實施例方式實施例一，一種在金屬工件表面真空鍍膜形成圖紋的方法，包括如下步驟I、在一膠膜I表面形成圖案屏蔽層11，膠膜I為現有的普通柔軟薄膜層，其可與不同結構的金屬工件表面相貼合，如圖I所示。本實施例中，所述在膠膜表面形成圖案屏蔽層的方法為現有技術，此處不再贅述。2、清洗金屬工件2並烘乾備用，所述金屬工件2為鈦合金工件、不鏽鋼工件、鋁合金工件、或表面電鍍有鎳或鉻的工件，本實施例中，金屬工件2的表面為平面，如圖2所示。3、將膠膜I貼於金屬工件2表面，如圖3所示。4、烘烤金屬工件2使膠膜I上的圖案屏蔽層11良好附於金屬工件2表面。5、去除膠膜1，圖案屏蔽層11脫離膠膜I並完全附著於金屬工件2表面，如圖4所示。本實施例中，可將金屬工件浸泡於適當溶劑中，以去除膠膜。6、再次清洗並烘乾金屬工件2。7、對金屬工件2的表面進行物理真空蒸鍍完成鍍膜，形成鍍膜層21，如圖5所示。所述鍍膜步驟中形成的鍍膜層21，其材質為鈦、鉻、鋁、鋯、上述四種金屬的氧化物、氮化物或碳化物中的任一種，或者其材質為鈦合金、鉻合金、鋁合金或鋯合金中任一種。所述物理真空蒸鍍包括真空電弧鍍、磁控濺射、空心陰極鍍、電子束鍍、熱蒸鍍、或上述方法的任意復
口 ο8、去除圖案屏蔽層11，即在金屬工件2表面形成所述圖紋，如圖6所示。本實施例中，可選用現有技術中常用的有機溶劑，以去除圖案屏蔽層11。所述形成的圖紋由任意線條或點陣構成，其最小線寬為O. 5cm，最小並行線距為O. 5cm，最小點直徑為O. 5cm，最小點距為 O. 5cm。9、清洗並烘乾金屬工件2。實施例二，與實施例一不同之處在於，順序重複實施例一的上述各步驟，在金屬工件表面形成由上述各鍍膜步驟完成的多層鍍膜層21、22組合構成的圖紋，所述各層鍍膜21、22顏色相異,如圖7所示。 實施例三，與實施例二不同之處在於，在進行上述各步驟前，所述金屬工件2表面可預先通過物理真空蒸鍍形成底色層20，該底色層20與所述經物理真空蒸鍍完成的鍍膜層21、22顏色相異，如圖8所示。實施例四與實施例三不同之處在於，本實施例中的金屬工件2的表面為曲面,如圖9所示。以上所述僅為本發明的較佳實施例，並非用來限定本發明實施的範圍，凡依本發明專利範圍所做的同等變化與修飾，皆落入本發明專利涵蓋的範圍。
權利要求
1.一種在金屬工件表面真空鍍膜形成圖紋的方法，其特徵在於包括如下步驟 在一膠膜表面形成圖案屏蔽層； 清洗金屬工件並烘乾備用； 將膠膜覆蓋於金屬工件表面，使圖案屏蔽層與金屬工件表面接觸； 烘烤金屬工件使圖案屏蔽層與金屬工件表面附著良好； 去除膠膜； 再次清洗並烘乾金屬工件； 對金屬工件的表面進行物理真空蒸鍍完成鍍膜； 去除圖案屏蔽層，即在金屬工件表面形成圖紋； 清洗並烘乾金屬工件。
2.根據權利要求I所述的一種在金屬表面真空鍍膜形成圖紋的方法，其特徵在於順序重複上述各步驟，在金屬工件表面形成由上述各鍍膜步驟完成的多層鍍膜組合構成的圖紋，所述各層鍍膜顏色相異。
3.根據權利要求I或2所述的一種在金屬表面真空鍍膜形成圖紋的方法，其特徵在於在進行上述各步驟前，所述金屬工件表面可預先通過物理真空蒸鍍形成底色層，該底色層與所述經物理真空蒸鍍完成的鍍膜層顏色相異。
4.根據權利要求I或2所述的一種在金屬表面真空鍍膜形成圖紋的方法，其特徵在於所述物理真空蒸鍍包括真空電弧鍍、磁控濺射、空心陰極鍍、電子束鍍、熱蒸鍍之一或上述方法的任意複合。
5.根據權利要求I或2所述的一種在金屬表面真空鍍膜形成圖紋的方法，其特徵在於所述金屬工件為鈦合金工件、不鏽鋼工件、鋁合金工件、或表面電鍍有鎳或鉻的工件。
6.根據權利要求I或2所述的一種在金屬表面真空鍍膜形成圖紋的方法，其特徵在於所述鍍膜步驟中形成的鍍膜層，其材質為鈦、鉻、鋁、鋯四種金屬的氧化物、氮化物或碳化物中的任一種，或者其材質為鈦合金、鉻合金、鋁合金、或鋯合金中任一種。
7.根據權利要求I或2所述的一種在金屬表面真空鍍膜形成圖紋的方法，其特徵在於所述形成的圖紋由任意線條或點陣構成，其最小線寬為O. 5cm，最小並行線距為O. 5cm，最小點直徑為O. 5cm，最小點距為O. 5cm。
全文摘要
一種在金屬工件表面真空鍍膜形成圖紋的方法，其特徵在於包括如下步驟在一膠膜表面形成圖案屏蔽層；清洗金屬工件並烘乾備用；將膠膜覆蓋於金屬工件表面，使圖案屏蔽層與金屬工件表面接觸；烘烤金屬工件使圖案屏蔽層與金屬工件表面附著良好；去除膠膜；再次清洗並烘乾金屬工件；對金屬工件的表面進行物理真空蒸鍍完成鍍膜；去除圖案屏蔽層，即在金屬工件表面形成圖紋；清洗並烘乾金屬工件。本發明之一種在金屬工件表面真空鍍膜形成圖紋的方法，其工序簡單、且效率高，可形成精美、複雜圖紋。
文檔編號C23C14/04GK102912291SQ20121042444
公開日2013年2月6日 申請日期2012年10月30日 優先權日2012年10月30日
發明者劉伍健, 林銘祥, 高啟斌 申請人:啟翔科技有限公司