勻膠機加溼器的製作方法
2023-05-23 23:36:36
專利名稱:勻膠機加溼器的製作方法
技術領域:
勻膠機加溼器技術領域:
本實用新型涉及一種加溼器,尤其涉及半導體生產中使用的勻膠機加溼器。背景4支術在半導體的生產中,勻膠機是進行塗布光刻(感光)膠的專用設備。其工 作原理是利用高速旋轉時產生的離心力,將滴於基片上多餘的光刻(感光)膠 液甩去,在光刻(感光)膠表面張力和離心力的共同作用下,展成厚度均勻的 膠膜。勻膠工藝中對於環境溼度、溫度和風度都有嚴格的要求,因此在勻膠機中一般使用加溼器調節乾燥環境下的溼度, 一般設定相對溼度為45%。現有的加溼器腔體內部設有加熱棒,以加熱腔體中的水,加溼器殼體頂部 上設有一個大概2cm寬,12cm長的固定開口,水加熱後產生的水蒸氣由此冒出, 增加工作環境的相對溼度。當外界較為乾燥,需要較大溼度時,由於開口是固 定大小,為了達到溼度的要求,需要增加加熱棒的溫度以增加水蒸氣的供給, 溼度增加的同時溫度也增加。在外界環境非常乾燥的時候,為了達到溼度就無 法滿足溫度要求,因此勻膠機比較依賴於外界環境,工作範圍比較窄。
實用新型內容本實用新型的目的是針對現有技術的不足,提供一種對外界環境依賴小, 工作範圍較寬的勻膠機加溼器。 本實用新型採用以下技術方案一種勻膠機加溼器,包含殼體和設置於殼體底部的加熱棒,殼體上設有可 調節的蒸汽出口。其中可調節的蒸汽出口包含開設於殼體上的開口和可調節開口大小的推 拉擋板。其中殼體為方形,開口設於殼體頂面的中部,殼體上設有供推拉擋板滑 動的滑槽,殼體內設有一容推拉擋板滑入的容納槽。其中推拉擋板在遠離容納槽的一端設有供移動推拉擋板的拉手或凹槽。其中殼體為方形,開口設於殼體的頂面,頂面上在開口的附近設有滑軌, 推拉擋板上設有與滑軌配合的滑槽。其中殼體為方形,開口設於殼體的頂面,開口的一端延伸至頂面的稜, 殼體上設有供推拉擋板滑動的滑槽。其中推拉擋板上設有供移動推拉擋板的拉手或凹槽。由於水蒸氣出口的大小可調節,在較為乾燥的環境下,由於出口可以調大, 單位時間內水蒸氣的供應量增大,在相對較低的水溫下就可以滿足溼度的要求, 不僅比較容易兼顧溫度和溼度,同時還省電。
圖l 本實用新型實施例一的結構示意圖圖2 本實用新型實施例一中推拉擋板採用滑軌與滑槽配合的結構示意圖 圖3 本實用新型實施例二的結構示意圖I— 開口 2—惟拉擋板 4-加溼器頂端II- 立緣 21—拉手 41-容納槽 3-加熱棒 22-滑槽 42-滑軌
以下結合附圖對本實用新型進行進一步說明。
具體實施方式
本實用新型是在勻膠機加溼器上設置可調節的開口 ,根據環境溼度的變化 調節開口的大小,以達到省電和擴大勻膠機工作範圍的效果。實施例一如圖l所示,加溼器內部有一空腔,空腔底部放置加熱棒3,空間內部放置 液態水,開口 1設置在加溼器頂部4的中央,開口 1完全拉開的尺寸遠大於現有加溼器固定開口的尺寸。有一推拉擋板2可在開口 1中滑動,以調節開口 1 的大小。開口 1和推拉擋板2的配合就構成了可調節的蒸汽出口。為了配合推拉擋板2的滑動,開口 l的內壁上設有滑槽,最好是在推拉擋 板2的端部設置拉手21,方便拉動。同時在加溼器頂端4設有一容納槽41,當 開口 l需要調大的時候,推拉擋板2部分滑入容納槽41中。為了方便移動推拉 擋板2,可以在其遠離容納槽41的一端設置拉手21。當外界溼度接近工作要求的溼度時,可以通過移動推拉擋板2調小甚至關 閉開口 1,加熱棒3加熱後產生的水蒸氣只能通過較小的開口 l外逸,避免工作 環境的溼度過大。當外界溼度很乾燥,需要增大工作環境溼度時,可以通過移動推拉擋板2, 使其部分甚至全部滑入容納槽41中來調大開口 1的尺寸。在加熱棒3溫度相同 的情況下,越大的開口 1能夠逸出更多的水蒸氣。因此,在乾燥環境中,為了 達到同樣的溼度,本實用新型相對於現有的加溼器對加熱棒3的溫度要求較低, 可以在達到溼度要求的同時滿足溫度的要求,還節省加熱的電力成本。在現有 結構的加溼器因為無法同時滿足溼度和溫度要求的乾燥環境中,本實用新型通 過調節開口i的大小正常工作。也可以如圖2所示,將開口 l設置立緣ll,加溼器頂端4上在開口 l的兩 側設立滑軌42,滑軌42的高度與立緣11的高度相應。推拉擋板2上設置與滑 軌42配合的滑槽2,推拉擋板2在開口 1的上方滑動,來調節開口l的大小。由上可知,採用可調節的開口 1,加溼器能夠減少對外界溼度的依賴,在外 界溼度較大的變化範圍內可以正常工作。實施例二為了儘量使得開口 1可以儘量大的調節,在實施例一的基礎上可作如下改進如圖3所示,開口 1可以靠近加溼器頂端4的一側設置,開口 1的一側與 加熱器的頂端共側邊。有一推拉擋板2可在開口 1中滑動,以調節開口 1的大 小。為了配合推拉擋板2的滑動,開口 l的內壁上設有滑槽。另外最好是在推 拉擋板2的端部設置拉手21 ,方便拉動。同樣也可以將開口 l設置立緣ll,加溼器頂端4上在開口 l的兩側設立滑 軌42,滑軌42的高度與立緣11的高度相應。推拉擋板2上設置與滑軌42配合 的滑槽2,推拉擋板2在開口 l的上方滑動,來調節開口 l的大小。這種結構下,開口 1可以最大範圍地調節,全部打開的時候,開口 1基本 和加溼器頂端4的大小差不多。最小的開口 l可以是推拉擋板2閉合的時候。本實施例的工作過程於實施例 一類似。以上所述實施例僅表達了本實用新型的幾種實施方式,其描述較為具體和 詳細,但並不能因此而理解為對本實用新型專利範圍的限制。應當指出的是, 對於本領域的普通技術人員來說,在不脫離本實用新型構思的前提下,還可以 做出若干變形和改進,這些都屬於本實用新型的保護範圍。因此,本實用新型 專利的保護範圍應以所附權利要求為準。
權利要求1.勻膠機加溼器,包含殼體和設置於殼體底部的加熱棒,其特徵在於所述殼體上設有可調節的蒸汽出口。
2. 如權利要求1所述的勻膠機加溼器,其特徵在於所述可調節的蒸汽出 口包含開設於所述殼體上的開口和可調節所述開口大小的推拉擋板。
3. 如權利要求2所述的勻膠機加溼器,其特徵在於所述殼體為方形,所 述開口設於所述殼體頂面的中部,所述殼體上設有供所述推拉擋板滑動的滑槽, 所述殼體內設有一容所述推拉擋板滑入的容納槽。
4. 如權利要求3所述的勻膠機加溼器,其特徵在於所述推拉擋板在遠離 所述容納槽的一端設有供移動所述推拉擋板的4i手或凹槽。
5. 如權利要求2所述的勻膠機加溼器,其特徵在於所述殼體為方形,所 述開口設於所述殼體的頂面,所述頂面上在所述開口的附近設有滑軌,所述推 拉擋板上設有與所述滑軌配合的滑槽。
6. 如權利要求2所述的勻膠機加溼器,其特徵在於所述殼體為方形,所述 開口設於所述殼體的頂面,所述開口的一端延伸至所述頂面的稜,所述殼體上 設有供所述推拉擋板滑動的滑槽。
7. 如權利要求6所述的勻膠機加溼器,其特徵在於所述推拉擋板上設有 供移動所述推拉擋板的拉手或凹槽。
專利摘要本實用新型公開了勻膠機加溼器,包含殼體和設置於殼體底部的加熱棒,在殼體上設有可調節的蒸汽出口。由於蒸汽出口大小可調,在過於乾燥的環境下,可以將蒸汽出口調整到最大,在滿足溫度要求的條件下儘量多地提供蒸汽,提高工作環境溼度;在環境比較潮溼的情況下,可以關閉蒸汽出口。因此使用本結構的勻膠機,可以減少對外界環境溼度的依賴,在較大的外界環境溼度區間內可正常工作。
文檔編號F24F6/02GK201218900SQ20082009383
公開日2009年4月8日 申請日期2008年4月30日 優先權日2008年4月30日
發明者張落成, 陳家生 申請人:深圳深愛半導體有限公司