鈦合金基水分離的方法及裝置的製作方法
2023-05-08 00:33:46 2
專利名稱：鈦合金基水分離的方法及裝置的製作方法
技術領域：
本發明涉及將水和水中的汙染物進行分離的技術，特別是一種利用鈦合金基水分離體進行水分離的方法及裝置。本發明可用於高濃度汙水分離淨化，自來水分離淨化，海水淡化前期處理等等。
背景技術：
眾所周知，工業生產所產生的廢水對環境的汙染和損害是非常嚴重的。由於工業廢水的排放是連續的，並且對於規模企業來說通常都有較大的流量，而且廢水中的汙染物構成也相當複雜，這無疑給廢水先治理後排放帶來了技術上的難度。隨著工業發展的不斷加速，淡水資源也變得日益緊缺，有些地區已經造成了生活用水和農業用水的困難，有些城市地下水的過度開採已經導致城市地表的整體下沉。從哪裡尋找更多的淡水，科技界將目光投向了海洋，社會各界也對海水淡化的研發給予了日益增多的關注，但是實用化進展並不大。不可否認，水和空氣、陽光一樣，是人類賴以生存和發展的物質基礎，是社會經濟能穩定持續發展的基石。顯然，廢水處理也好，海水淡化也好，本質上都是一種水分離技術，而水分離技術一直是本公司選定的重點研發方向，並進行了堅持不懈的努力。本發明人在對現有的化學和物理的水分離技術進行比較中，認為利用鈦合金基水分離體的過濾功能來進行水分離是一種較為簡便有效的方式，考慮到能耗成本就更是如此，例如有些採用蒸發濃縮法的企業已經感到不堪重負。但是採用鈦合金基水分離體往往存在不能連續運行或者說隨著運行時間的延長而使得水分離效率不斷降低的問題，其原因是鈦合金基水分離體的表面會粘附游離狀顆粒和懸浮固體，在進水面發生堵塞現象。
發明內容
本創新發明針對現有技術中存在的缺陷或不足，提供一種鈦合金基水分離的方法，採用該方法能夠有效消除鈦合金基水分離體進水面的堵塞現象。
本發明還提供一種鈦合金基水分離裝置，採用該裝置能夠防止堵塞現象，提高水分離效率和水處理設備的連續運行時間。
本發明總的技術構思為，通過利用超聲震蕩作用於鈦合金基水分離體進水面，使得粘附於進水面的游離狀顆粒和懸浮固體等脫離，並在水體錯流的作用下排出或進入附設於水流處理通道的集汙鬥內。
本發明的技術方案如下鈦合金基水分離的方法，包括帶有進水口和出水口的水流處理通道，以及將該水流處理通道間隔開的鈦合金基水分離體，其特徵在於利用超聲震蕩作用於鈦合金基水分離體進水面，使得粘附於進水面的游離狀顆粒和懸浮固體脫離，並在水體錯流的作用下排出或進入附設於水流處理通道的集汙鬥內。
所述超聲由置於水流處理通道並與鈦合金基水分離體進水面相向設置的超聲震蕩器發出，所述集汙鬥位於超聲震蕩器與鈦合金基水分離體進水面之間。
所述鈦合金基水分離體，由鈦合金粉通過壓模燒結成型，成型後經過酸化和電解處理，將二氧化鈦塗覆於進水面，形成孔徑20微米至0.005微米的不對稱多通道介孔。
鈦合金基水分離裝置，包括帶有進水口和出水口的水流處理通道，以及將該水流處理通道間隔開的鈦合金基水分離體，其特徵在於在所述鈦合金基水分離體進水面與進水口之間的水流處理通道內設置有超聲震蕩器。
所述鈦合金基水分離體通過減振連接件固定於水流處理通道的道壁上，所述超聲震蕩器通過可調節的震蕩器支架固定於水流處理通道的道壁上。
所述超聲震蕩器與鈦合金基水分離體進水面之間的水流處理通道的道壁上附設有集汙鬥。
所述鈦合金基水分離體具有鈦合金粉燒結基體與二氧化鈦塗覆層的複合結構。
所述複合結構分布著孔徑20微米至0.005微米的不對稱多通道介孔。
本發明的技術效果如下由於本發明鈦合金基水分離的方法，採用了超聲震蕩作用於鈦合金基水分離體進水面的表面清理方式，能夠使得粘附於進水面的游離狀顆粒和懸浮固體脫離，並在水體錯流的作用下排出或進入附設於水流處理通道的集汙鬥內，從而有效消除鈦合金基水分離體進水面的堵塞現象，提高水分離效率和水處理設備的連續運行時間。
由於給出了鈦合金基水分離體的製備方法，還給出了其不對稱多通道介孔的孔徑參數，這就為水分離質量提供了保證。
由於本發明鈦合金基水分離裝置與鈦合金基水分離的方法為同樣的技術構思，因而具有等同的有益效果。
圖1為本發明鈦合金基水分離裝置的結構原理示意圖。
附圖標記列示如下1-進水口，2-殼體，3-減振連接件，4-出水口，5-減振連接件，6-集汙鬥，7-超聲震蕩器，8-震蕩器電源線，9-震蕩器支架，10-鈦合金基水分離體。
具體實施例方式
下面結合附圖對本發明作進一步的詳細說明。
如圖1所示，本發明的鈦合金基水分離裝置，由進水口1，殼體2，減振連接件3，出水口4，減振連接件5，集汙鬥6，超聲震蕩器7，震蕩器電源線8，震蕩器支架9，以及鈦合金基水分離體10組合而成。殼體2形成水流處理通道，鈦合金基水分離體10將水流處理通道間隔成兩部分，在鈦合金基水分離體10進水面與進水口1之間的水流處理通道內設置有超聲震蕩器7。鈦合金基水分離體10通過減振連接件3和5固定於水流處理通道的道壁即殼體2上，超聲震蕩器7通過可調節的震蕩器支架9固定於水流處理通道的道壁上。超聲震蕩器7與鈦合金基水分離體10進水面之間的水流處理通道的道壁上附設有集汙鬥6。鈦合金基水分離體10具有鈦合金粉燒結基體與二氧化鈦塗覆層的複合結構。所述複合結構分布著孔徑20微米至0.005微米的不對稱多通道介孔。超聲震蕩器7以電為動力源，通過震蕩器電源線8連接電源。
殼體2可以為圓管型或方管型等，鈦合金基水分離體10也可以為各種型材，例如圓型片或方型片，還可以是筒型等。
鈦合金基水分離體10的製備工藝為，鈦合金粉-壓模-燒結-成型-酸化-電解-二氧化鈦塗覆，將二氧化鈦塗覆於進水面，形成孔徑20微米至0.005微米的不對稱多通道介孔。本發明可用於高濃度汙水分離淨化，自來水分離淨化，海水淡化前期處理等等。
應當指出，以上所述具體實施方式
可以使本領域的技術人員更全面地理解本發明，但不以任何方式限制本發明。因此，儘管本說明書參照附圖和實施例對本發明已進行了詳細的說明，但是，本領域技術人員應當理解，仍然可以對本發明進行修改或者等同替換；而一切不脫離本發明的精神和範圍的技術方案及其改進，其均應涵蓋在本發明專利的保護範圍當中。
權利要求
1.鈦合金基水分離的方法，包括帶有進水口和出水口的水流處理通道，以及將該水流處理通道間隔開的鈦合金基水分離體，其特徵在於利用超聲震蕩作用於鈦合金基水分離體進水面，使得粘附於進水面的游離狀顆粒和懸浮固體脫離，並在水體錯流的作用下排出或進入附設於水流處理通道的集汙鬥內。
2.根據權利要求1所述的鈦合金基水分離的方法，其特徵在於所述超聲由置於水流處理通道並與鈦合金基水分離體進水面相向設置的超聲震蕩器發出，所述集汙鬥位於超聲震蕩器與鈦合金基水分離體進水面之間。
3.根據權利要求1所述的鈦合金基水分離的方法，其特徵在於所述鈦合金基水分離體，由鈦合金粉通過壓模燒結成型，成型後經過酸化和電解處理，將二氧化鈦塗覆於進水面，形成孔徑20微米至0.005微米的不對稱多通道介孔。
4.鈦合金基水分離裝置，包括帶有進水口和出水口的水流處理通道，以及將該水流處理通道間隔開的鈦合金基水分離體，其特徵在於在所述鈦合金基水分離體進水面與進水口之間的水流處理通道內設置有超聲震蕩器。
5.根據權利要求4所述的鈦合金基水分離裝置，其特徵在於所述鈦合金基水分離體通過減振連接件固定於水流處理通道的道壁上，所述超聲震蕩器通過可調節的震蕩器支架固定於水流處理通道的道壁上。
6.根據權利要求5所述的鈦合金基水分離裝置，其特徵在於所述超聲震蕩器與鈦合金基水分離體進水面之間的水流處理通道的道壁上附設有集汙鬥。
7.根據權利要求6所述的鈦合金基水分離裝置，其特徵在於所述鈦合金基水分離體具有鈦合金粉燒結基體與二氧化鈦塗覆層的複合結構。
8.根據權利要求7所述的鈦合金基水分離裝置，其特徵在於所述複合結構分布著孔徑20微米至0.005微米的不對稱多通道介孔。
全文摘要
本創新發明提供一種鈦合金基水分離的方法，包括帶有進水口和出水口的水流處理通道，以及將該水流處理通道間隔開的鈦合金基水分離體，其特徵在於利用超聲震蕩作用於鈦合金基水分離體進水面，使得粘附於進水面的游離狀顆粒和懸浮固體脫離，並在水體錯流的作用下排出或進入附設於水流處理通道的集汙鬥內。採用該方法能夠有效消除鈦合金基水分離體進水面的堵塞現象。本發明還提供一種鈦合金基水分離裝置，採用該裝置能夠防止堵塞現象，提高水分離效率和水處理設備的連續運行時間。
文檔編號C02F1/34GK1872717SQ200610089319
公開日2006年12月6日 申請日期2006年6月19日 優先權日2006年6月19日
發明者史啟媛, 李振宏, 王世榮 申請人:北京藍景創新科技有限公司