Ctp版材性能評價用全固態紅外雷射掃描曝光系統的製作方法

2023-09-19 02:56:10 1

專利名稱：Ctp版材性能評價用全固態紅外雷射掃描曝光系統的製作方法
技術領域：
本實用新型為CTP版材性能評價用全固態紅外雷射掃描曝光系統，主要 用於CTP版材性能評價，包括版材的敏感度和解析度的評價。
技術背景CTP即數位化技術在印版、印刷、出版發行中的應用。也就是這三方面須 進行數位化改造，以求達到技術創新，是印刷行業的必然趨勢。CTP製版形式 優於其它的製版形式，隨著CTP技術的日益發展和應用，業內人士意識到CTP 版材是這種技術的核心部分。但相對來說，版材的成本過高，嚴重阻礙了這 項技術在國內印刷業的真正普及與發展。因此，CTP版材的研發己變得越來越 重要，這將加速促成版材的國產化，從而促進CTP技術在國內的普及和發展， 但是作為CTP版材性能評價用的掃描曝光系統，目前國內市場上還未出現。 實用新型內容本實用新型的目的是介紹一種CTP版材性能評價用鈦寶石全固態紅外激 光掃描曝光系統，本系統可實現對CTP版材的單脈衝曝光，也可以任意設定 曝光脈衝的個數。為了實現上述目的，本發明採取了如下技術方案。主要包括有光源 I 、控制系統II和光學變換部分m，其中，光源I為全固態鈦寶石830nm 雷射器l，控制系統II包括有電腦6、數控裝置5和三維移動平臺4，光 學變換部分III包括有830nm反射鏡2和第一聚焦透鏡3， CTP版材固定於 三維移動平臺4上，電腦6通過第一數控裝置5控制三維移動平臺4的 移動，電腦還通過第二數控裝置7控制全固態鈦寶石830nm雷射器的出 光和關光，全固態鈦寶石830nm雷射器l發出的光經過光學變換部分(IID 的反射鏡2和聚焦透鏡3後作用在CTP版材上。所述的全固態鈦寶石830nm雷射器1中的泵浦源為平凸腔LD泵浦倍頻Nd:YAG 532nm雷射器，工作物質為摻鈦藍寶石，鈦寶石諧振腔採用三鏡V 字腔型，腔內放置用於對腔內震蕩光實現色散的三稜鏡K，凸面反射鏡Ml 鍍膜對532nm、 1064nm高反；聲光調Q開關由控制系統II控制；倍頻晶體 採用KTP磷酸二氫鉀；532nm平面輸出鏡M2鍍膜對1064nm高反、對532nm 高透；第二聚焦透鏡L鍍有532nm高透膜；第一凹面反射鏡M3鍍膜對532nm 高透、對700 900nm高反；鈦寶石Ti :S對入射的532nm雷射以布儒斯特 角放置；第二凹面反射鏡M4鍍有700 900nm高反膜並對800nm雷射以 16. 06度放置進行像散補償；通過調節830皿輸出鏡M5的放置角度使三稜 鏡實現830nm雷射輸出。本實用新型通過控制系統II由電腦編程通過數控卡轉化為TTL電平信號， 該信號一方面控制三維移動平臺的定位移動，另一方面通過控制調Q的開關 來實現光源的開關，獲得的電光延時為百微秒量級且起伏不大，因此實現了 更精確控制曝光時間，本實用新型所研製的樣機，可以精確實現對CTP版材 的單脈衝曝光，亦可任意設定曝光脈衝個數。且本系統雷射功率高，操作方 便，性能穩定。

圖1本實用新型的系統結構示意圖 圖2 830nm雷射器結構示意圖圖中I 、光源，II、控制系統，III、光學變換部分，1、全固態鈦寶石830nm 雷射器，2、 830nm反射鏡，3、第一聚焦透鏡，4、三維移動平臺，5、第一數 控裝置，6、電腦，7、第二數控裝置。
具體實施方式
下面結合圖1、圖2詳細說明本實施例。本實施例總體結構見圖1。本系統包括三部分光源I 、控制系統II和光學變換部分III。其中I 、 m兩部分固定不動，雷射器輸出的830nm雷射通過 反射、聚集後照射到三維移動平臺，CTP版材固定於三維移動平臺，控制系統控制固定有CTP版材的三維移動平臺來實現定位移動，版材移動到位後控制 系統開始控制光源的開關來實現定時或定脈衝個數曝光。光源I為鈦寶石全固態830nm紅外雷射器，結構如圖2所示。雷射器泵 浦源為平凸腔LD泵浦倍頻Nd:YAG 532nm雷射器，工作物質為摻鈦藍寶石， 鈦寶石諧振腔採用三鏡V字腔型，腔內放置三稜鏡分光，獲得830nm雷射輸 出，所獲得830nm雷射光束質量好，光斑為準基模近高斯圓光斑。其中Ml為 凸面反射鏡，鍍膜對532nm、 1064nm高反；聲光調Q的開關有控制系統實現； 倍頻晶體採用KTP。 M2為532nm平面輸出鏡，鍍膜對1064nm高反，對532歷 高透；L為聚焦透鏡，鍍有532rnn高透膜；M3為凹面反射鏡，鍍膜對532nm 高透，對700 900nm高反；鈦寶石Ti:S對入射的532nm雷射以布儒斯特角 放置；M4為凹面反射鏡，鍍有700 900nm高反膜，並對800nm雷射以16. 06 度放置進行像散補償；K為三稜鏡，對腔內震蕩光實現色散；M5為830nm輸 出鏡，通過調節合適角度配合三稜鏡實現830nm雷射輸出。830nm雷射器輸出雷射經過III中830nm45度全反鏡反射後，進一步經過鍍 有830高透膜的聚集透鏡，以獲得細光束。
權利要求1、CTP版材性能評價用全固態紅外雷射掃描曝光系統，其特徵在於主要包括有光源(I)、控制系統(II)和光學變換部分(III)，其中，光源(I)為全固態鈦寶石830nm雷射器(1)，控制系統(II)包括有電腦(6)、數控裝置(5)和三維移動平臺(4)，光學變換部分(III)包括有830nm反射鏡(2)和第一聚焦透鏡(3)，CTP版材固定於三維移動平臺(4)上，電腦(6)通過第一數控裝置(5)控制三維移動平臺(4)的移動，電腦還通過第二數控裝置(7)控制全固態鈦寶石830nm雷射器的出光和關光，全固態鈦寶石830nm雷射器(1)發出的光經過光學變換部分(III)的反射鏡(2)和聚焦透鏡(3)後作用在CTP版材上。
2、 根據權利要求1所述的CTP版材性能評價用全固態紅外雷射掃描曝光系 統，其特徵在於所述的全固態鈦寶石830nm雷射器(1)中的泵浦源為平 凸腔LD泵浦倍頻Nd:YAG 532皿雷射器，工作物質為摻鈦藍寶石，鈦寶石 諧振腔採用三鏡V字腔型，腔內放置用於對腔內震蕩光實現色散的三稜鏡(K)，凸面反射鏡(Ml)鍍膜對532咖、1064nm高反；聲光調Q開關由控 制系統(II)控制；倍頻晶體採用KTP磷酸二氫鉀；532nm平面輸出鏡(M2) 鍍膜對1064nm高反、對532歷高透；第二聚焦透鏡(L)鍍有532nm高透 膜；第一凹面反射鏡(M3)鍍膜對532nra高透、對700 900nm高反；鈦寶 石Ti:S對入射的532nm雷射以布儒斯特角放置；第二凹面反射鏡(M4)鍍 有700 900nm高反膜並對800nm雷射以16. 06度放置進行像散補償；通 過調節830nm輸出鏡(M5)的放置角度使三稜鏡實現830nm雷射輸出。
專利摘要本實用新型為CTP版材性能評價用全固態紅外雷射掃描曝光系統，主要用於CTP版材性能評價，包括版材的敏感度和解析度的評價。本裝置主要包括有830nm雷射器、光學變換部分和控制系統三部分。雷射器為830nm鈦寶石全固態雷射器；導光聚焦裝置包括反射鏡和聚焦透鏡；控制系統由電腦、數控裝置及三維移動平臺組成。該系統光源為830nm雷射器，輸出830納米近基模圓光斑高斯光束，控制系統由電腦編程通過控制三維移動平臺的運動實現CTP版材定位曝光，以及由電腦編程精確控制曝光時間或者曝光所用雷射脈衝個數，可以精確到利用一個雷射脈衝來實現曝光。且本系統雷射功率高，操作方便，性能穩定。
文檔編號G03F7/00GK201083957SQ20072017312
公開日2008年7月9日 申請日期2007年9月14日 優先權日2007年9月14日
發明者張大鵬, 港 李, 李平雪, 檬 陳, 黃道波 申請人:北京工業大學