晶圓作業控制系統的製作方法
2023-09-17 02:39:10 2
晶圓作業控制系統的製作方法
【專利摘要】本發明公開了一種晶圓作業控制系統,所述系統包括存儲模塊和執行模塊;所述存儲模塊儲存有各批次晶圓進行生產工藝時需要經過的腔室順序;其中一批次晶圓在進入一反應腔室進行生產工藝時,所述執行模塊讀取存儲模塊中儲存該批次晶圓需要經過腔室的順序並執行該操作,使得該批次晶圓分別在不同的腔室內完成所有的生產工序。技術人員通過本發明根據電學性能檢測結果可很快判斷出問題腔室所在及相應的生產設備,極大提高了發現問題工序的效率,同時還可根據實際情況及時調整各腔室內的工藝順序,以適應各種生產情況。
【專利說明】晶圓作業控制系統
【技術領域】
[0001]本發明涉及半導體製備領域,確切的說,具體涉及一種晶圓作業控制系統。
【背景技術】
[0002]先進的集成電路製造工藝一般都包含幾百步的工序,任何環節的微小錯誤都將導致整個晶片的失效,特別是隨著電路關鍵尺寸的不斷縮小,其對工藝控制的要求就越嚴格,所以在生產過程中為能及時的發現和解決問題都配置有光學和電子的缺陷檢測設備和電學新能的檢測設備以確保產品的質量。
[0003]如圖1是一個完整製造工藝流程的一部分,分別包含有工藝、量測、缺陷檢測等,但是因為在線檢測都是抽樣進行,例如產品參數的測試是在一些特定測試結構上進行,缺陷的檢測也只是針對部分的產品的部分晶圓進行抽檢,所以往往會在產品進行最終的電學功能測試時才會發現有失效晶圓的現象。針對這類的問題如果需要找到生產線上有問題的工藝步驟和設備是相對比較困難的,因為在一條生產線上有幾百臺設備,而且這種具有4個腔室作業的設備也同樣有幾十臺以上,同時晶圓在腔室裡作業的順序都是一樣的,這樣就會給查找原因的工程師帶了非常大的工作量;同時在生產線上,如果沒有及時發現生產線上存在的問題而設備又繼續運作的話,會嚴重影響後續的生產,導致產品整體的良率下降,同時也不能很好的對存在問題的相關設備和步驟進行排查。
【權利要求】
1.一種晶圓作業控制系統,其特徵在於,所述系統包括存儲模塊和執行模塊; 所述存儲模塊儲存有各批次晶圓進行生產工藝時需要經過的腔室順序; 其中一批次晶圓在進入一反應腔室進行生產工藝時,所述執行模塊讀取存儲模塊中儲存該批次晶圓需要經過腔室的順序並執行該操作,使得該批次晶圓分別在不同的腔室內完成所有的生產工序。
2.如權利要求1所述的晶圓作業控制系統,其特徵在於,所述存儲模塊包括有一可編輯單元,所述可編輯單元用於對存儲模塊內儲存各批次晶圓進行生產工藝時經過的腔室順序根據工藝需要進行調整。
3.如權利要求1所述的晶圓作業控制系統,其特徵在於,每個所述反應腔室均包括若干臺生產設備; 其中,同一腔室內包括的各臺生產設備用於對晶圓進行不同的工序。
4.如權利要求3所述的晶圓作業控制系統,其特徵在於,各所述反應腔室內包括有部分或全部相同的生產設備。
5.如權利要求1所述的晶圓作業控制系統,其特徵在於,部分或全部批次晶圓經過的腔室順序不同。
6.如權利要求1所述的晶圓作業控制系統,其特徵在於,所述晶圓作業控制系統至少控制兩個批次晶圓所需要經過的反應腔室順序。
【文檔編號】G05B19/418GK103645692SQ201310613051
【公開日】2014年3月19日 申請日期:2013年11月26日 優先權日:2013年11月26日
【發明者】倪棋梁, 陳宏璘, 龍吟 申請人:上海華力微電子有限公司