粗磨料漿設備的製作方法
2023-09-20 09:20:25 2
專利名稱：粗磨料漿設備的製作方法
技術領域：
本實用新型屬於生產線設備領域，特別涉及一種在顯像管玻殼製造過程中對玻屏表面粗磨加工時所提供的研磨介質料漿及時排汙裝置。
背景技術：
在彩色顯像管玻殼製造過程中，對於所壓制的玻屏進行表面粗磨，是屏成型後對屏面研磨的第一道工序，它必須把屏半成品所產生的剪刀、凹陷等缺陷消除掉。該工序以粗磨料漿為研磨介質對玻屏表面進行粗磨加工，在研磨過程中磨料被擠壓、研碎成為微粉，同時玻屏表面被加工磨削下的玻璃也呈細粉狀，這些微粉混在磨料中將造成料漿質量下降，研磨能力降低，而生產要求加工能力要不斷提升，這將導致微粉量在單位時間內產生的更多。傳統的料漿設備一般採用兩個料漿池，由一個主池和一個副池組成，兩個料漿池之間通過「T」形管相連通，磨料微粉和玻璃微粉通過「T」形管流到副池之後排出料漿系統，副池中含有細料的料漿經過旋流器的濃縮流回主池中，可提高料漿的利用率，但這種料漿設備對微粉的排除不徹底，有用料漿也只經過了一次回收利用，故不完善。為更好地排除這些微粉，並且為使研磨材料得到充分利用，就需要一個完善粗磨的及時排除微粉的料漿，即成為本實用新型的開發宗旨。它能夠將料漿中的磨料微粉、玻璃粉及時排除，提高料漿質量使研磨材料得到充分利用的一套設備。
發明內容
本實用新型需要解決的技術問題是，為了解決粗磨料漿中微粉、玻璃粉的產生量大，針對在玻屏粗磨過程中，已有傳統的料漿裝置對微粉的排除不徹底，研磨材料還沒有充分利用就被排出，為了克服這些不足之處，而重新設計一種能及時排汙的裝置。同時還可使沒有用完的研磨材料得到充分的回收利用，本實用新型的目的在於提供一種研磨料漿及時排汙裝置。該目的是按照下述技術方案來實現的，一種粗磨料漿設備，包括料漿主副池、研磨機、「T」形連接管，其特徵在於，副池分為I、II號兩個池，主、副3個料漿池之間均由「T」形管連通，主副料漿池分別連有各自的料漿泵，旋流器以及過濾網，主料漿池旋流器的溢出口處沿管道連接到研磨機，該研磨機經管道通回主料漿池。所述旋流器，它含有上溢口a及下溢口b。料漿中的微粉、細料可以通過「T」形管依次由主池到副池I和副池II中去，微粉、玻璃粉由副池II的「T」形管排除，可利用的細料由副池濃縮收集流至主池再利用。
本實用新型的有益效果是，大幅提高了微粉排除能力，使料漿利用率高，達到最佳的研磨效率和研磨效果，滿足粗磨加工對研磨的要求。
圖1為粗磨料漿設備連接關係示意圖。
具體實施方式
參照圖1，表示粗磨料漿設備中各部件位置關係，圖中表示粗磨料漿主池為1，料漿泵8置於池1的上方，料漿經過旋流器5和管道6及夾緊閥3，I號副池2和II號副池2′的料漿靠置於池上方的料漿泵8作用以一定的壓力在管道中流動至旋流器5。主池料漿經過旋流器後料漿中的大顆粒雜質經過濾網7分離排除，旋流器的上溢口a處料漿沿管道6流向研磨機10，在設備中經過研磨後的料漿經管道9流回主池，旋流器的上溢口a處部分料漿直接回主池的「T」形管4，其中微粉、細料由「T」形管進入副池I。副池I中的料漿經過旋流器後，下溢口b處料漿流回主池，對可利用的料漿進行再利用，旋流器的上溢口a處料漿返回副池I中重複篩選。副池II中的料漿經過旋流器後，下溢口b處料漿流至副池I的「T」形管，其中微粉、細料由「T」形管進入副池II，旋流器的上溢口a處料漿返回副池II的「T」形管，微粉由「T」形管排出料漿之外。這樣便充分達到了既及時排除料漿中的磨料微粉、玻璃粉，又使研磨材料得到了充分的利用，達到最佳的研磨效率和研磨效果，滿足粗磨加工對研磨的要求。
權利要求1.一種粗磨料漿設備，包括料漿主副池、研磨機、「T」形連接管，其特徵在於，副池分為I、II號兩個池，主、副3個料漿池之間均由「T」形管連通，主副料漿池分別連有各自的料漿泵，旋流器以及過濾網，主料漿池旋流器的溢出口處沿管道連接到研磨機，該研磨機經管道通回主料漿池。
2.根據權利要求1所述粗磨料漿設備，其特徵在於，所述旋流器，它含有上溢口a及下溢口b。
專利摘要粗磨料漿設備，屬於生產線設備領域，包括料漿主副池、研磨機、「T」形連接管，其特徵在於，副池分為I、II號兩個池，主、副3個料漿池之間均由「T」形管連通，主副料漿池分別連有各自的料漿泵，旋流器以及過濾網，主料漿池旋流器的溢出口處沿管道連接到研磨機，該研磨機經管道通回主料漿池。該設備可以大幅提高微粉排除能力，使料漿利用率高，達到最佳的研磨效率和研磨效果，滿足粗磨加工對研磨的要求。
文檔編號B24B57/00GK2759686SQ20042012192
公開日2006年2月22日 申請日期2004年12月30日 優先權日2004年12月30日
發明者李鵬, 張廣法, 張培軍, 張勝林, 張愛林 申請人:河南安彩高科股份有限公司