表面處理鋼板、金屬容器及表面處理鋼板的製造方法與流程
2023-10-24 05:22:27 2

本發明涉及表面處理鋼板、金屬容器及表面處理鋼板的製造方法。
背景技術:
在金屬容器、家電製品、建材、車輛、飛機等領域所使用的基材中,已知有對表面實施鉻酸鹽處理的方法,但也開發有代替這種鉻酸鹽處理的無鉻系表面處理。例如,專利文獻1中公開有如下無鉻系表面處理技術:使用含有鋁離子的電解處理液通過陰極電解處理,在基材的表面上形成含有鋁的金屬氧化合物覆膜。
現有技術文獻
專利文獻
專利文獻1:日本特開2006-348360號公報
技術實現要素:
發明要解決的問題
然而,通過上述專利文獻1中記載的現有技術得到的表面處理鋼板與對表面實施鉻酸鹽處理的表面處理鋼板相比,用於飲料食品罐等時,有時耐腐蝕性差。
本發明的目的在於,提供耐腐蝕性優異的表面處理鋼板。
用於解決問題的方案
本發明人等發現:在鍍錫鋼板上形成含有磷酸錫的磷酸化合物層,在該磷酸化合物層上形成以鋁氧化合物為主要成分的鋁氧化合物層而成的表面處理鋼板中,通過調整鋁氧化合物層中含有的氧化錫和磷酸錫的含有比,能夠實現上述目的,至此完成了本發明。
即,根據本發明,提供一種表面處理鋼板,其具備:在鋼板上實施鍍錫而得到的鍍錫鋼板、形成於前述鍍錫鋼板上的含有磷酸錫的磷酸化合物層、和形成於前述磷酸化合物層上的以鋁氧化合物為主要成分的鋁氧化合物層,在前述鋁氧化合物層中,使用x射線光電子能譜裝置測定錫的3d5/2的光譜時,源自氧化錫的曲線的積分值相對於源自磷酸錫的曲線的積分值之比(氧化錫/磷酸錫)為6.9以上。
本發明的表面處理鋼板中,前述鋁氧化合物層優選含有磷酸鋁。
本發明的表面處理鋼板中,形成於前述鍍錫鋼板上的各層中所含的磷的總量優選為0.5~20mg/m2。
本發明的表面處理鋼板中,前述鋁氧化合物層中的鋁的含量優選為5~15mg/m2。
本發明的表面處理鋼板中,前述鋁氧化合物層優選實質上不含有氟。
本發明的表面處理鋼板中,優選的是,前述鍍錫鋼板由前述鋼板、和形成於前述錫合金層上的鍍錫層構成,且由前述錫合金層、和前述鍍錫層的總錫量為1.0g/m2以上的鍍錫層構成。
根據本發明,提供由前述表面處理鋼板構成的金屬容器。
另外,根據本發明,提供一種金屬容器,其具備:前述表面處理鋼板、和形成於前述表面處理鋼板的前述鋁氧化合物層上的以有機材料為主要成分的覆蓋層。
進而,根據本發明,提供一種表面處理鋼板的製造方法,其具備如下工序:磷酸化合物層形成工序,在鋼板上實施鍍錫而得到的鍍錫鋼板上通過進行陰極電解處理而形成磷酸化合物層;和,鋁氧化合物層形成工序,在前述磷酸化合物層上通過使用包含鋁的電解處理液的電解處理而形成鋁氧化合物層。
本發明的製造方法中,優選的是,在前述磷酸化合物層形成工序中,通過在前述鍍錫鋼板上進行陽極電解處理後,進行前述陰極電解處理而形成前述磷酸化合物層。
本發明的製造方法中,優選的是,在前述鋁氧化合物層形成工序中,使用磷酸的含量以磷量計為0.55g/l以下的處理液作為前述電解處理液。
發明的效果
根據本發明,通過在鍍錫鋼板上形成磷酸化合物層和鋁氧化合物層,使鋁氧化合物層中的上述氧化錫/磷酸錫之比為6.9以上,由此利用鋁氧化合物層中含有的氧化錫、磷酸錫等磷酸鹽的作用,可以提供耐腐蝕性優異的表面處理鋼板。
附圖說明
圖1為示出本發明的實施方式的表面處理鋼板的構成的截面圖。
圖2為示出在鍍錫鋼板上形成磷酸化合物層和鋁氧化合物層的情況的示意圖。
圖3為示出通過x射線光電子能譜裝置(xps)測定鋁氧化合物層的結果的一例的圖。
圖4為示出使用本發明的實施方式的表面處理鋼板而形成的金屬容器的一例的圖。
圖5為示出在本發明的實施例中,通過x射線光電子能譜裝置(xps)測定鋁氧化合物層的結果的圖。
圖6為示出在本發明的實施例中,在鍍錫鋼板上形成磷酸化合物層和鋁氧化合物層的情況的基於透射型電子顯微鏡(tem)的截面圖和各點的定量分析的結果。
具體實施方式
以下,基於附圖,針對本發明的實施方式進行說明。
圖1為示出本發明的實施方式的表面處理鋼板1的構成的截面圖。本實施方式的表面處理鋼板1是如下獲得的:首先,對於在鋼板11上形成鍍錫層12而得到的鍍錫鋼板10,通過在含有磷酸根離子的電解處理液中實施電解處理,在鍍錫鋼板10上一邊使鍍錫層12的一部分溶解一邊形成磷酸化合物層20,接著,通過在含有al離子的電解處理液中進一步進行電解處理,在磷酸化合物層20上一邊使磷酸化合物層20的一部分溶解一邊形成鋁氧化合物層30。
對於本實施方式的表面處理鋼板1沒有特別的限制,例如可以用作罐容器、罐蓋等構件。將表面處理鋼板1用作罐容器、罐蓋等構件的情況下,可以直接使用表面處理鋼板1(在表面未形成覆蓋層的無塗裝用途中使用),也可以以無塗裝的罐容器、罐蓋的形式成型,如圖1所示,可以在表面處理鋼板1的鋁氧化合物層30上形成由有機材料形成的覆蓋層後,成型為罐容器、罐蓋等。
成為本發明的表面處理鋼板1的基材的鍍錫鋼板10是通過對鋼板11實施鍍錫,在鋼板11上形成鍍錫層12而獲得的。
作為用於實施鍍錫的鋼板11,只要是拉深加工性、拉深減薄加工性、基於拉深加工和彎曲復原加工的加工(dtr)的加工性優異即可,沒有特別的限制,例如,可以使用:以鋁鎮靜鋼(aluminiumkilledsteel)連鑄材料等作為基體的熱軋鋼板、將這些熱軋鋼板進行了冷軋而得到的冷軋鋼板等。或者,作為用於實施鍍錫的鋼板11,也可以使用如下鍍鎳鋼板:在上述鋼板上形成鍍鎳層,對其進行加熱使其熱擴散,在鋼板與鍍鎳層之間形成鎳-鐵合金層,從而提高耐腐蝕性。另外,將鍍鎳層形成粒狀時,可以通過錨固效果提高覆蓋層的密合性。
作為對鋼板11實施鍍錫的方法,沒有特別的限制,可舉出:使用公知的鍍浴即電鍍錫鋼板浴、滷素浴、硫酸浴等的方法。對於實施鍍鎳的方法也沒有特別的限制,可以使用由硫酸鎳和氯化鎳構成的公知的瓦特浴,但是在使鍍鎳層形成粒狀的情況下,優選使用由硫酸鎳和硫酸銨構成的浴組成。進而,本實施方式中,針對通過如此實施鍍錫而得到的鍍錫鋼板10,通過加熱至錫的熔融溫度以上之後實施驟冷的處理(回流焊處理),可以在鋼板11與鍍錫層12之間形成錫-鐵合金層。本實施方式中,通過實施該回流焊處理,所得鍍錫鋼板10是在鋼板11上,依次形成錫-鐵合金層和鍍錫層12而成的,耐腐蝕性得到提高。需要說明的是,基底存在鍍鎳層時,通過該回流焊處理,也可以在鋼板11與鍍錫層12之間形成錫-鎳、錫-鎳-鐵的合金。
本實施方式中,對於如此得到的鍍錫鋼板10,通常表面因氧而被氧化,表面形成由snox(x=1~3)形成的氧化膜層。對於由該snox形成的氧化膜層,若膜量過多,則形成於鍍錫鋼板10上的磷酸化合物層20的密合性有降低的傾向,另一方面,若膜量過少,則鍍錫鋼板10有容易硫化黑變的傾向,因此期望調整至適當的膜量。因此,本實施方式中,對於鍍錫鋼板10,可以去除表面的氧化膜層的一部分或全部來進行調整氧化膜層的膜量的處理。例如,對於鍍錫鋼板10,也可以通過使用碳酸鈉、碳酸氫鈉等碳酸鹽鹼水溶液,在電流密度0.5~20a/dm2、通電時間0.1~1.0秒的條件下進行陰極電解處理和陽極電解處理中的至少一者,來進行去除鍍錫鋼板10的表面的氧化膜層的處理。另外,氧化膜層的去除可以使用鹽酸等酸性水溶液來進行。此時,將鍍錫鋼板10浸漬於酸性水溶液中的時間優選為2秒以下。通過將使鍍錫鋼板10浸漬於酸性水溶液中的時間設為上述範圍,可以抑制鍍錫層12的金屬錫部分的溶解,且有效地去除由snox形成的氧化膜層。
對於形成於鋼板11上的鍍錫層12的厚度,沒有特別的限制,只要根據製造的表面處理鋼板1的使用用途適宜選擇即可,以錫量計,優選為1.0g/m2以上,更優選為1.0~15g/m2。即使設置鍍鎳層的情況下,對於鍍鎳層的厚度,也沒有特別的限制,鍍鎳層的厚度以鎳量計,優選為0.01~15g/m2。將鍍鎳層製成粒狀的情況下,粒狀鎳的平均粒徑優選為0.01~0.7μm。
對於鍍錫鋼板10的總厚,沒有特別的限制,只要根據製造的表面處理鋼板1的使用用途適宜選擇即可,優選為0.07~0.4mm。
磷酸化合物層20為含有磷酸錫的層,可以通過如下操作形成:將上述鍍錫鋼板10浸漬於含有磷酸根離子的電解處理液中,實施將鍍錫鋼板10作為陰極的陰極電解處理。
本實施方式中,通過將浸漬於含有磷酸根離子的電解處理液的鍍錫鋼板10製成陰極側而流通電流,如圖2中的左圖所示,錫自鍍錫鋼板10溶解而產生2價錫離子(sn2+)。
需要說明的是,圖2為示出在鍍錫鋼板10上形成磷酸化合物層20和鋁氧化合物層30的情況的示意圖。圖2中的左圖中,表示相對於鍍錫鋼板10的鍍錫層12,實施使用含有磷酸根離子的電解處理液的陰極電解處理的情況。另外,圖2中的中央圖中,表示相對於作為磷酸化合物層20而形成的sn3(po4)2,實施用於形成鋁氧化合物層30的陰極電解處理的情況。圖2中的右圖為示出在鍍錫鋼板10上,形成作為磷酸化合物層20的sn3(po4)2及alpo4、以及作為鋁氧化合物層30的alpo4、al2o3·nh2o、及al(oh)3的情況的圖。需要說明的是,本實施方式中,alpo4也均含在磷酸化合物層20和鋁氧化合物層30中。
本實施方式中,如圖2所示,自鍍錫鋼板10產生的錫離子sn2+與電解處理液中的磷酸根離子po43-反應,以sn3(po4)2等磷酸錫的形式析出於鍍錫鋼板10上。另外,自鍍錫鋼板10產生的錫離子sn2+也以氧化錫(snox)的形式析出於鍍錫鋼板10上。
需要說明的是,已知:水溶液中的磷酸根據水溶液的ph,磷酸二氫根離子(h2po4-)、磷酸氫二根離子(hpo42-)及磷酸根離子(po43-)的電離平衡發生變化,水溶液的ph越低,電離平衡越傾向於磷酸二氫根離子h2po4-的存在率變多的一者,另一方面,水溶液的ph越高電離平衡越傾向於磷酸根離子po43-的存在率變多的一者。本實施方式中,認為:將鍍錫鋼板10以含有磷酸根離子的電解處理液進行陰極電解處理時,如圖2的左圖所示,形成於鍍錫層12的表面的氧化錫被還原,且生成氫氧化物離子(oh-),由此,ph被調整至電解處理液中的磷酸氫二根離子的存在率變多的範圍,該磷酸氫二根離子與錫離子反應,形成sn3(po4)2等磷酸錫。如此得到的磷酸錫如後述,在通過電解處理形成鋁氧化合物層30時,一部分溶解而形成磷酸鋁。
本實施方式中,形成磷酸化合物層20時,進行上述陰極電解處理之前,可以對鍍錫鋼板10進行使用含有磷酸根離子的電解處理液的陽極電解處理。由此,通過陰極電解處理適當去除形成於鍍錫鋼板10的表面的氧化膜層,然後,通過陽極電解處理,鍍錫鋼板10的鍍錫層12變得容易溶解,由此磷酸化合物層20的形成變得容易。需要說明的是,優選的是,進行該陽極電解處理時,將鍍錫鋼板10浸漬於電解處理液,進行陽極電解處理後,在將鍍錫鋼板10浸漬於電解處理液中的狀態下,將陽極、陰極的極性在通電控制電路中相反設定,進行上述陽極電解處理。由此,在進行陽極電解處理和陰極電解處理時,溶液的管理變得容易,且操作效率提高。
本實施方式中,通過上述陰極電解處理,形成含有磷酸錫的磷酸化合物層20,由此所得表面處理鋼板1在表面上形成由有機材料形成的覆蓋層40時,覆蓋層40的密合性變優異。即,表面處理鋼板1上直接形成鋁氧化合物層30的情況下,通過烘烤塗裝等形成覆蓋層40時,通過烘烤的熱使覆蓋表面處理鋼板1的鍍錫層12的氧化膜層生長,有時鋁氧化合物層30和覆蓋層40自該氧化膜層剝離。與此相對,通過形成上述磷酸化合物層20,在形成覆蓋層40時,可以抑制覆蓋鍍錫層12的氧化膜層的生長,其結果,可以提高形成於表面處理鋼板1的表面的覆蓋層40的密合性。
另外,本實施方式中,通過上述陰極電解處理形成含有磷酸錫的磷酸化合物層20,由此,所得表面處理鋼板1的耐腐蝕性提高。即,本發明人等發現:通過對鍍錫鋼板10實施陰極電解處理,如上所述,磷酸氫二根離子與錫離子反應而形成磷酸錫,由此,通過該磷酸氫二根離子所形成的磷酸錫的化學鍵合狀態、表面形態變得難以溶解於通過電解處理形成後述鋁氧化合物層30時使用的電解處理液的狀態,可以提高所得表面處理鋼板1的耐腐蝕性。由此,所得表面處理鋼板1在表面上未形成以有機材料為主要成分的覆蓋層40時,也具有充分的耐腐蝕性,也可以適用作未形成覆蓋層40的無塗裝用途的金屬容器。
需要說明的是,本實施方式的表面處理鋼板1中,如上所述,鍍錫鋼板10的鍍錫層12的一部分溶解而形成磷酸化合物層20,該磷酸化合物層20的一部分溶解而形成鋁氧化合物層30,因此,鍍錫層12、磷酸化合物層20、和鋁氧化合物層30在各自交界附近混合而構成。例如,本實施方式中,有磷酸化合物層20和鋁氧化合物層30中的任一者均含有磷酸錫和磷酸鋁的情況。
圖6為在本發明的實施例中得到的表面處理鋼板的磷酸化合物層20和鋁氧化合物層30的截面照片以及基於各點的eds的定量分析的結果。如上所述,確認到:磷酸化合物層20與鋁氧化合物層30的交界並不明確,且也有磷酸化合物層20和鋁氧化合物層30中的任一者均含有磷酸錫和磷酸鋁的情況。
在用於形成磷酸化合物層20的電解處理液中,作為在電解處理液中用於生成磷酸根離子的化合物,可以使用:磷酸(h3po4)、磷酸二氫鈉(nah2po4)、磷酸氫二鈉(na2hpo4)、亞磷酸(h3po3)等。這些磷酸和磷酸鹽類可以單獨使用或各自混合使用,其中,磷酸與磷酸二氫鈉的混合物可以良好地析出磷酸錫作為磷酸化合物層20,是適合的。
對於電解處理液中的磷酸根離子的濃度,沒有特別的限制,以磷量計,優選為5~200g/l。通過使電解處理液中的磷酸根離子的濃度為上述範圍,可以在鍍錫鋼板10上良好地析出磷酸錫。
對於電解處理液的ph,沒有特別的限制,優選為1~7。低於ph1時,有形成的磷酸錫會溶解的傾向。另一方面,超過ph7時,鍍錫鋼板10的表面的氧化膜層的溶解變得不充分,在較多殘留氧化膜層的部分難以形成磷酸化合物層20,因此,有在鍍錫鋼板10上無法形成均質的磷酸化合物層20的擔心。
對於進行上述陽極電解處理或陰極電解處理時的電流密度,沒有特別的限制,優選為1~30a/dm2。通過使電流密度為上述範圍,可以在鍍錫鋼板10上良好地形成磷酸化合物層20。
另外,在對鍍錫鋼板10實施陽極電解處理或陰極電解處理時,作為與鍍錫鋼板10相對設置的對電極板,只要是在實施電解處理期間不溶解於電解處理液即可為任意板,但從不易溶解於電解處理液的觀點出發,優選以氧化銥覆蓋的鈦板、或以鉑覆蓋的鈦板。
作為進行陽極電解處理或陰極電解處理時的通電時間,沒有特別的限制,優選為0.15~3.0秒,更優選為0.15~1.0秒。如上所述,在陰極電解處理後進行陽極電解處理時,優選使陰極電解處理的通電時間與陽極電解處理的通電時間為相同程度。在陽極電解處理或陰極電解處理後,進行陽極電解時的通電時間與通電停止的循環數優選為1~10次,與通電時間一同調整使磷酸化合物層20中的磷含量成為適當的含量即可。作為磷酸化合物層20中的磷的適當含量,優選為0.5~20mg/m2,進一步優選為0.5~5.0mg/m2,特別優選為0.7~4.0mg/m2。
本實施方式中,針對形成有磷酸化合物層20的鍍錫鋼板10,通過進行適宜水洗後,在含有al離子的電解處理液中進行電解處理,在磷酸化合物層20上使鋁氧化合物析出而形成鋁氧化合物層30。作為電解處理的方法,陽極電解處理和陰極電解處理均可,但從能夠良好地形成鋁氧化合物層30的觀點出發,優選陰極電解處理。
對於用於形成鋁氧化合物層30的電解處理液中的al離子的含量,可以根據要形成的鋁氧化合物層30的覆膜量而適宜選擇,以al原子的質量濃度計,優選為0.5~10g/l,更優選為1~5g/l。通過使電解處理液中的al離子的含量為上述範圍,可以提高電解處理液的穩定性,且提高鋁氧化合物的析出效率。
本實施方式中,可以在用於形成鋁氧化合物層30的電解處理液中添加硝酸根離子。在電解處理液中添加硝酸根離子時,電解處理液中的硝酸根離子的含量優選為11500~25000重量ppm。通過使硝酸根離子的含量為上述範圍,可以將電解處理液的導電率調整至適當的範圍。
另外,在用於形成鋁氧化合物層30的電解處理液中,優選不含f離子。針對用於形成鋁氧化合物層30的電解處理液,通過不含f離子,可以形成粒徑小且緻密的鋁氧化合物層30,可以提高所得表面處理鋼板1的耐腐蝕性。電解處理液中含有f離子時,形成snf2,其被鋁氧化合物層30包圍,使耐硫化黑變性和耐腐蝕性降低。
需要說明的是,上述電解處理液只要是實質上不含f離子的物質即可,如果為雜質量程度也可以包含f離子。即,f原子在工業用水中等也微量包含,因此,有時會在電解處理液中混入這樣的源自f原子的f離子。此時,作為電解處理液中的f離子,存在與金屬形成絡合離子的f離子、游離的f離子等,這些f離子的總量如果優選為50重量ppm以下,更優選為20ppm以下,進一步優選為5ppm以下,則電解處理液中所含的f離子的量為雜質量程度,可以判斷:電解處理液中實質上不含f離子。
需要說明的是,本發明中,作為測定電解處理液中的f離子和硝酸根離子的含量的方法,例如可舉出:通過離子色譜法進行定量分析而進行測定的方法。
另外,在用於形成鋁氧化合物層30的電解處理液中也可以添加有機酸(檸檬酸、乳酸、酒石酸、乙醇酸等)、聚丙烯酸、聚衣康酸、酚醛樹脂等中的至少1種以上添加物。本實施方式中,通過將這些添加物單獨或組合適宜添加到電解處理液中,可以使所形成的鋁氧化合物層30中含有有機材料,由此,可以提高形成在鋁氧化合物層30上的覆蓋層40的密合性。
另外,針對用於形成鋁氧化合物層30的電解處理液,理想的是調整磷酸根離子的含量,電解處理液中的磷酸根離子的含量以磷量計,優選為0.55g/l以下,更優選為0.33g/l以下,進一步優選為0.11g/l。
即,本實施方式中,通過電解處理形成鋁氧化合物層30時,在用於形成鋁氧化合物層30的電解處理液中,磷酸錫等自磷酸化合物層20溶解,產生磷酸根離子。而且,產生的磷酸根離子的量過多時,磷酸根離子與al離子鍵合而以磷酸鋁的形式沉澱於電解處理液中,由此,電解處理液中,用於形成鋁氧化合物層30的al離子的量減少,鋁氧化合物層30的形成效率降低。另外,由於磷酸鋁沉澱於電解處理液中,形成的鋁氧化合物層30會變得不均勻,產生斑紋,品質上雖然沒有問題,但有外觀品質降低的傾向。
與此相對,通過使用於形成鋁氧化合物層30的電解處理液中的磷酸根離子的含量為上述範圍,形成的鋁氧化合物層30變得均勻,所得表面處理鋼板1的外觀品質提高。
通過電解處理形成鋁氧化合物層30時,優選使用重複通電和通電停止的循環的間斷電解方式,此時,對於基材的總通電時間(重複多次通電和通電停止的循環時的總通電時間)優選為1.5秒以下,更優選為1秒以下。通電與通電停止的循環數優選為1~10次,與通電時間一同調整使鋁氧化合物層30中的鋁含量成為適當的含量即可。作為鋁氧化合物層30中的鋁的適當含量,優選為3~40mg/m2,更優選為5~15mg/m2,特別優選為5.1~10.6mg/m2。
另外,形成鋁氧化合物層30時,作為與基材相對設置的對電極板,只要是在實施電解處理期間不溶於電解處理液即可為任意板,從氧過電壓(oxygenovervoltage)小且不易溶解於電解處理液的方面出發,優選以氧化銥覆蓋的鈦板、或以鉑覆蓋的鈦板。
如上形成的鋁氧化合物層30主要由氧化鋁等構成,但也包含氫氧化鋁、磷酸鹽。需要說明的是,作為磷酸鹽,例如可舉出:磷酸鋁、包含磷酸的氧化合物(al(po4)yoz等),該磷酸鹽如下以鋁氧化合物層30的形式析出。即,本實施方式中,如上所述,對於形成有磷酸化合物層20的鍍錫鋼板10,通過含有al離子的電解處理液進行電解處理時,構成磷酸化合物層20的磷酸錫的一部分溶解,由此,通過產生的磷酸根離子析出磷酸鋁、包含磷酸的氧化合物等磷酸鹽。另外,鋁氧化合物層的形成中,通過磷酸化合物層20的溶解、或未被磷酸化合物覆蓋的鍍錫層露出的部分的溶解,電解處理液中產生錫離子sn2+,因此,除磷酸錫以外,一部分氧化錫(snox)包含於鋁氧化合物層30中。根據本實施方式,通過鋁氧化合物層30中含有磷酸鹽,在鋁氧化合物層30上通過烘烤塗裝形成覆蓋層40時,可以抑制由烘烤時的熱導致的鍍錫鋼板10的氧化膜層的生長,其結果,可以提高形成於表面處理鋼板1的表面的覆蓋層40的密合性。
作為通過使鋁氧化合物層30中含有磷酸鹽而可以獲得這樣的效果的理由雖然不明確,但認為如下述。首先,如上所述,通過陰極電解處理得到的磷酸化合物層20主要是磷酸氫二根離子與錫離子反應而形成磷酸錫的,由此,通過該磷酸氫二根離子形成的磷酸錫的化學鍵合狀態、表面形態成為難以溶解於通過電解處理形成鋁氧化合物層30時使用的電解處理液的情況。而且,可以抑制由烘烤時的熱導致的鍍錫鋼板10的氧化膜層的生長,其結果,提高形成於表面處理鋼板1的表面的覆蓋層40的密合性。另外,認為:在鍍錫鋼板10上僅形成磷酸錫時,磷酸錫覆膜因經時而變質,初始時,可以抑制塗裝/烘烤工序中的氧化膜的增加,但逐漸變弱,與覆蓋層40的密合性降低。認為:本發明中,通過設置鋁氧化合物層30,能夠抑制磷酸錫的變質,與覆蓋層40的密合性變得良好。
另外,鋁氧化合物層30在使用x射線光電子能譜裝置測定錫的3d5/2的光譜時,源自氧化錫的曲線(profile)的積分值相對於源自磷酸錫的曲線的積分值(將光譜強度用結合能積分而得到的值)之比(氧化錫/磷酸錫)為6.9以上。需要說明的是,如圖3所示,在489.0ev附近觀察到源自磷酸錫的曲線的峰,在487.5ev附近觀察到源自氧化錫的曲線的峰。需要說明的是,認為:在485.0ev附近的峰源自金屬錫。氧化錫包含sno、sno2,未使它們分離,作為1個峰進行處理。在此,圖3為示出針對後述實施例6的表面處理鋼板1,通過x射線光電子能譜裝置測定鋁氧化合物層30而得到的光譜的圖,縱軸表示光譜強度,橫軸表示結合能(ev)。本實施方式中,通過使上述氧化錫/磷酸錫之比設為上述範圍內,針對所得表面處理鋼板1,可以使耐腐蝕性優異且形成於表面的覆蓋層40的密合性優異。
鋁氧化合物層30中的鋁的含量優選為5~15mg/m2,更優選為5.1~10.6mg/m2。鋁氧化合物層30中的鋁的含量過少時,通過烘烤塗裝形成由有機材料形成的覆蓋層40時,因烘烤時的熱導致鍍錫鋼板10的表面的氧化膜層增加,由此,有鋁氧化合物層30和覆蓋層40自氧化膜層變得容易剝離的傾向。另一方面,鋁氧化合物層30中的鋁的含量過多時,有鋁氧化合物層30變脆且聚集破壞的擔心。
另外,如上所述,鋁氧化合物層30中含有磷酸鹽,但鋁氧化合物層30中的磷量(mol/m2)相對於鋁量(mol/m2)的含有比(p/al)優選為0.06~0.35,更優選為0.07~0.27。上述含有比(p/al)低於0.06時,通過烘烤塗裝形成由有機材料形成的覆蓋層40時,通過烘烤時的熱使鍍錫鋼板10的表面的氧化膜層生長,由此,有鋁氧化合物層30和覆蓋層40自氧化膜層變得容易剝離的傾向。另一方面,上述含有比(p/al)超過0.35時,形成的鋁氧化合物層30變得不均勻,產生斑紋,品質上雖然沒有問題,但有外觀品質降低的傾向。
如上所述,能夠獲得本實施方式的表面處理鋼板1。
本實施方式的表面處理鋼板1中,形成於鋼板11上的各層(鍍錫層12、磷酸化合物層20和鋁氧化合物層30)中所含的磷的總量優選為0.5~10mg/m2、進一步優選為0.7~2.5mg/m2。各層中所含的磷的總量過少時,通過烘烤塗裝形成由有機材料形成的覆蓋層40時,通過烘烤時的熱使鍍錫鋼板10的氧化膜層生長,由此,有鋁氧化合物層30和覆蓋層40自氧化膜層變得容易剝離的傾向。另一方面,各層中所含的磷的總量過多時,磷酸化合物層20中,磷酸錫的含有比例增大,該磷酸錫作為絕緣體發揮作用,因此,在形成鋁氧化合物層30的電解處理中,鋁氧化合物不均勻地析出,形成的鋁氧化合物層30上產生斑紋,品質上雖然沒有問題,但有外觀品質降低的傾向。
需要說明的是,本實施方式中,作為測定形成於鋼板11上的各層中所含的磷的總量的方法,例如,可舉出:針對所得表面處理鋼板1,利用螢光x射線分析裝置進行定量分析的方法。
對於本實施方式的表面處理鋼板1,沒有特別的限制,可以用作罐容器、罐蓋等構件。將表面處理鋼板1用作罐容器、罐蓋等構件的情況下,可以直接使用表面處理鋼板1(在表面未形成覆蓋層40的無塗裝用途中使用),也可以以無塗裝的罐容器、罐蓋的形式成型,也可以在表面處理鋼板1的鋁氧化合物層30上形成由有機材料形成的覆蓋層後,成型為罐容器、罐蓋等。作為構成覆蓋層40的有機材料,沒有特別的限制,可以根據表面處理鋼板1的用途(例如,填充特定的內裝物的罐容器等用途)而適宜選擇,可舉出:熱塑性樹脂、熱固性樹脂等。
作為熱塑性樹脂,可以使用聚乙烯、聚丙烯、乙烯-丙烯共聚物、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物、乙烯-丙烯酸酯共聚物、離聚物等烯烴系樹脂薄膜、聚對苯二甲酸乙二醇酯、聚對苯二甲酸丁二醇酯等聚酯薄膜、聚氯乙烯薄膜、聚偏二氯乙烯薄膜等未拉伸薄膜或雙軸拉伸而成的薄膜、或尼龍6、尼龍6,6、尼龍11、尼龍12等聚醯胺薄膜等。其中,特別優選將間苯二甲酸共聚而成的無取向的聚對苯二甲酸乙二醇酯。另外,用於構成這樣的覆蓋層40的有機材料可以單獨使用,也可以共混不同的有機材料來使用。
作為熱固性樹脂,可以使用環氧-酚醛樹脂、聚酯樹脂等。
在覆蓋熱塑性樹脂作為覆蓋層40的情況下,可以為單層的樹脂層,而且也可以為利用同時擠出等的多層樹脂層。使用多層聚酯樹脂層的情況下,可以在基底層、即表面處理鋼板1側選擇粘接性優異的組成的聚酯樹脂,在表層選擇耐內裝物性、即耐提取性、風味成分的非吸附性優異的組成的聚酯樹脂,因此是有利的。
示出多層聚酯樹脂層的例子時,以表層/下層的形式表示,為聚對苯二甲酸乙二醇酯/聚對苯二甲酸乙二醇酯·間苯二甲酸乙二醇酯、聚對苯二甲酸乙二醇酯/聚亞乙基·亞環己基二亞甲基對苯二甲酸酯、間苯二甲酸酯含量少的聚對苯二甲酸乙二醇酯·間苯二甲酸乙二醇酯/間苯二甲酸酯含量多的聚對苯二甲酸乙二醇酯·間苯二甲酸乙二醇酯、聚對苯二甲酸乙二醇酯·間苯二甲酸乙二醇酯/[聚對苯二甲酸乙二醇酯·間苯二甲酸乙二醇酯與聚對苯二甲酸丁二醇酯·已二酸酯的混合物]等,當然不限定於上述例子。表層:下層的厚度比優選處於5:95~95:5的範圍。
上述覆蓋層40中,可以根據公知的配方配混其自身公知的樹脂用配混劑,例如非晶質二氧化矽等防粘連劑、無機填料、各種抗靜電劑、潤滑劑、抗氧化劑(例如生育酚等)、紫外線吸收劑等。
作為形成於通過本發明得到的表面處理鋼板1的覆蓋層40的厚度,為熱塑性樹脂覆蓋時,期望通常處於3~50μm、特別處於5~40μm的範圍,塗膜的情況下,烘烤後的厚度優選處於1~50μm、特別優選處於3~30μm的範圍。厚度低於上述範圍時,耐腐蝕性變得不充分,厚度高於上述範圍時,在加工性方面容易產生問題。
聚酯樹脂對於表面處理鋼板1的熱粘接可以通過熔融樹脂層所具有的熱量和表面處理鋼板1所具有的熱量來進行。表面處理鋼板1的加熱溫度通常為90℃~290℃、特別是100℃~230℃的溫度是適當的,一個層壓輥的溫度為10℃~150℃的範圍是適當的。
另外,在表面處理鋼板1上形成的覆蓋層40也可以通過使利用t-模法、吹脹制膜法進行預先制膜的聚酯樹脂薄膜與表面處理鋼板1熱粘接而形成。作為薄膜,也可以使用將擠出的薄膜驟冷的、利用澆鑄成型法而得到的未拉伸薄膜,另外,也可以使用將該薄膜在拉伸溫度下依次或同時雙軸拉伸並將拉伸後的薄膜進行熱固定而製造的雙軸拉伸薄膜。
對於本發明的表面處理鋼板1,例如在表面上形成覆蓋層40得到有機材料覆蓋鋼板,然後對其進行加工,從而可以以罐容器的形式成型。作為罐容器,沒有特別的限制,例如可舉出:圖4(a)中示出的無縫罐5(兩片罐(two-piececan))、圖4(b)中示出的三片罐(three-piececan)5a(焊接罐)。需要說明的是,對於構成無縫罐5的主體51和上蓋52、以及構成三片罐5a的主體51a、上蓋52a和下蓋53,均使用在本實施方式的表面處理鋼板1形成覆蓋層40而成的有機材料覆蓋鋼板而形成。圖4(a)、4(b)中,無縫罐5和三片罐5a的截面圖是將上述圖1使覆蓋層40成為罐內面側的方式旋轉90°的圖。圖4(a)、4(b)中示出的罐5、5a通過使覆蓋層40成為罐內面側的方式,賦予拉深加工、拉深/再拉深加工、利用拉深/再拉深的彎曲拉伸加工(伸縮加工)、利用拉深/再拉深的彎曲拉伸/減薄加工或拉深/減薄加工等以往公知的方法來製造。
另外,實施了利用拉深/再拉深的彎曲拉伸加工(伸縮加工)、利用拉深/再拉深的彎曲拉伸/減薄加工等高度加工的無縫罐5中,特別優選覆蓋層40由利用擠出塗布法的熱塑性樹脂覆蓋形成。
即,上述有機材料覆蓋鋼板由於加工密合性優異,因此即使在實施了嚴苛加工的情況下,也能夠提供覆蓋的密合性優異、具有優異的耐腐蝕性的無縫罐。
對於本發明的表面處理鋼板1,例如,如上所述,可以通過在表面上形成覆蓋層40得到有機材料覆蓋鋼板後,對其進行加工而製造罐蓋。作為罐蓋,沒有特別的限制,可舉出:平蓋、留置式拉環型易拉罐蓋、全開型易拉罐蓋等。
實施例
以下,列舉實施例,對本發明更具體地進行說明,但本發明不限定於這些實施例。
需要說明的是,各特性的評價方法如下所述。
對於電解處理液,使用icp發射光譜裝置(株式會社島津製作所制,icpe-9000),測定磷酸根離子濃度或al離子濃度,使用離子色譜儀(dionexk.k.制,dx-500),測定f離子濃度和硝酸根離子濃度。另外,對於上述電解處理液,使用ph計(horiba,ltd.制)測定ph。
對於表面處理鋼板1,使用螢光x射線分析裝置(rigakucorporation制,zsx100e)以mg/m2的單位測定形成於鋼板11上的各層中所含的磷量和鋁量。另外,將所得測定值換算成mol/m2的單位,算出磷量(mol/m2)相對於鋁量(mol/m2)的含有比(p/al)。需要說明的是,磷量和鋁量的測定以及p/al的算出是對後述的所有實施例和比較例進行的。
對於表面處理鋼板1,在下述條件下使用x射線光電子能譜裝置測定錫的3d5/2的光譜,由此,求出鋁氧化合物層30中的、源自氧化錫的曲線的積分值相對於源自磷酸錫的曲線的積分值之比(氧化錫/磷酸錫)。需要說明的是,鋁氧化合物層30中的錫化合物的測定以及上述比(氧化錫/磷酸錫)的算出是僅對後述的實施例6進行的。將所得錫的3d5/2的光譜用軟體進行波形分離來解析。
測定裝置:jeolltd.制jps-9200
激發x射線源:mgkα電壓12kv,電流25ma
測定直徑:直徑3mm
光電子出射角:90°(相對於試樣的法線為0°)
解析軟體:jeolltd.制specsurf(ver.1.7.3.9)
波形分離條件:以氧化錫的結合能487.5ev、磷酸錫的結合能489.1ev、金屬錫的結合能485.4ev的形式進行波形分離
對於表面處理鋼板1,實施碳蒸鍍後,進一步在fib裝置內沉積約1μm的碳,通過微量取樣法切取樣品,固定於銅製的支撐臺上。然後,通過fib加工製作截面tem試樣,進行tem觀察和各點的eds分析,進行定量分析。
hitachi,ltd.制fb-2000c型聚焦離子束裝置加速電壓40kv
jeolltd.制jem-2010f型場致發射型透射電子顯微鏡加速電壓200kv
nolancompany制utw型si(li)半導體檢測器分析區域1nm
需要說明的是,表面處理鋼板的截面觀察和定量分析是僅針對後述的實施例6進行的。
針對在表面處理鋼板1上形成覆蓋層40而得到的有機材料覆蓋鋼板,在溫度125℃下進行30分鐘的蒸煮處理,然後放入5mm間隔且深度到達鋼板11的棋盤格,用膠帶剝離,以目視觀察剝離的程度,以如下基準進行評價。需要說明的是,塗料密合性評價是針對後述的所有實施例和比較例進行的。
3分:以目視進行判定,結果未確認到塗料的剝離。
2分:以目視進行判定,結果以1/5以下的面積率確認到塗料的剝離。
1分:以目視進行判定,結果以超過1/5的面積率確認到塗料的剝離。
需要說明的是,塗料密合性評價中,上述基準中評價為2分以上的情況下,判斷為將表面處理鋼板1用作飲料食品罐用途時具有充分的塗料密合性。
針對表面處理鋼板1,在溫度205℃下進行30分鐘的熱處理,分別測定熱處理前後的、形成於鍍錫鋼板10的表面的錫的氧化膜層的量。需要說明的是,氧化膜層的量是以電化學還原去除氧化膜層所需要的電量來評價。電解液使用1/1000n的溴化氫溶液,在電流密度25μa/cm2的條件下進行電解。氧化膜層的生長的評價是通過算出熱處理後的氧化膜層的量除以熱處理前的氧化膜層的量而得到的值(熱處理後的氧化膜層/熱處理前的氧化膜層)來進行的,值越大評價為通過熱處理,氧化膜層越容易生長。需要說明的是,氧化膜層的生長的評價是針對後述的所有實施例和比較例進行的。
○:熱處理後的氧化膜層/熱處理前的氧化膜層為1.2以下。
△:熱處理後的氧化膜層/熱處理前的氧化膜層超過1.2且為1.4以下。
×:熱處理後的氧化膜層/熱處理前的氧化膜層超過1.4。
對於在表面處理鋼板1上形成覆蓋層40而得到的有機材料覆蓋鋼板,切成40mm見方,然後將切斷面用3mm寬的膠帶保護而製作試驗片。接著,對於製作的試驗片,使用刀具施予深度到達鋼板的劃格劃痕,以劃格的交點部分成為杯突加工部的頂點的方式,通過埃裡克森試驗機(coatingtestercorporation制),進行3mm的杯突加工。然後,將進行了杯突加工的試驗片放入密封容器中,填充下述模擬液,然後在90℃的環境下保存24小時。
模擬液:分別以1.5重量%使nacl和檸檬酸溶解而成的水溶液
然後,開罐,用目視觀察試驗片的腐蝕程度,以如下基準進行評價。需要說明的是,耐腐蝕性評價(模擬液)是針對後述的所有實施例和比較例進行的。
3分:以目視進行判定,結果與比較例2相比腐蝕的程度明顯小。
2分:以目視進行判定,結果與比較例2相比腐蝕的程度相同。
1分:以目視進行判定,結果與比較例2相比腐蝕的程度明顯大。
需要說明的是,耐腐蝕性評價(模擬液)中,上述基準中評價為2分以上的情況下,判斷為將表面處理鋼板1用作飲料食品罐用途時具有充分的耐腐蝕性。
將表面處理鋼板1切成直徑49mm的圓盤,然後將切斷面用3mm寬的膠帶保護而製作試驗片,用螢光x射線測定製作的試驗片的sn量。接著,將試驗片放入密封容器中,填充下述模擬液,然後在37℃環境下保存10天。
模擬液:使乙酸1重量%和蔗糖(sucrose)10重量%溶解而成的水溶液
然後,開罐,在37℃環境下,用螢光x射線測定經時10天後的試驗片的sn量,使用以下的式子,算出殘留sn量%。
殘留sn量(%)=(經時前sn量-經時後sn量)/經時前sn量×100
需要說明的是,殘留sn量%與參考例1等同或為其以上的情況下,用作飲料食品罐用途時,判斷出:具有充分的脫錫性。需要說明的是,脫錫性評價(模擬液)是針對後述的實施例14、比較例8和參考例1進行的。
《實施例1》
首先,作為鋼板11,準備低碳冷軋鋼板(板厚0.225mm)。
接著,對於準備好的鋼板,使用鹼脫脂劑(nipponquakerchemical,ltd制,formula618-tk2)的水溶液,在60℃、10秒的條件下進行陰極電解處理從而進行脫脂。接著,將經過脫脂的鋼板用自來水進行水洗,然後在常溫下使其浸漬於酸洗處理劑(硫酸的5體積%水溶液)5秒從而進行酸洗。然後,用自來水進行水洗,使用公知的電鍍錫鋼板浴,在下述條件下對鋼板實施鍍錫,在鋼板的表面形成錫量為2.8g/m2的鍍錫層12。然後,將形成有鍍錫層12的鋼板進行水洗,通過直流電流從而使其放熱,加熱至錫的熔點以上,然後實施用自來水使其驟冷的回流焊處理,製作鍍錫鋼板10。
浴溫:40℃
電流密度:10a/dm2
陽極材料:市售的99.999%金屬錫
總通電時間:5秒(以通電時間1秒、停止時間0.5秒作為1個循環時的、循環數5次)
然後,對所得鍍錫鋼板10在下述條件下使其浸漬於電解處理液,邊攪拌電解處理液邊將位於極間距離17mm的位置的氧化銥覆蓋鈦板作為陰極,實施陽極電解處理,在鍍錫鋼板10上形成磷酸化合物層20。
電解處理液:以濃度10g/l使亞磷酸溶解而成的ph1.3的水溶液(表1的處理液a)
電解處理液的溫度:40℃
電流密度:3a/dm2
總通電時間:0.5秒(通電時間0.5秒,循環數1次)
需要說明的是,針對用於形成磷酸化合物層20的電解處理液,依據上述方法,進行電解處理液的分析。將結果示於表1。表1中,將根據溶解的磷酸化合物的濃度而算出的磷原子的濃度(g/l)一併示出。針對實施例1,對於磷酸化合物層20的形成,使用表1的處理液a中示出的電解處理液。同樣地,分別針對後述的實施例2、3,使用處理液b,針對後述的實施例4~6和比較例2,使用處理液c。另外,將在鍍錫鋼板10上形成磷酸化合物層20時的電解處理的條件示於表2。
[表1]
[表2]
接著,將形成有磷酸化合物層20的鍍錫鋼板10進行水洗,然後在下述條件下使其浸漬於電解處理液,邊攪拌電解處理液邊將位於極間距離17mm的位置的氧化銥覆蓋鈦板作為陽極,實施陰極電解處理,由此形成鋁氧化合物層30。然後,立即進行利用流水的水洗和乾燥,從而得到在鍍錫鋼板10上依次形成有磷酸化合物層20和鋁氧化合物層30的表面處理鋼板1。需要說明的是,針對用於形成鋁氧化合物層30的電解處理液,依據上述方法,進行電解處理液的分析。將結果示於表1。針對除後述的比較例6以外的所有實施例和比較例,對於鋁氧化合物層30的形成,使用表1的處理液e中示出的電解處理液。另外,將形成鋁氧化合物層30時的電解處理的條件示於表2。
電解處理液:使作為al化合物的硝酸鋁溶解,形成al離子濃度1500重量ppm、硝酸根離子濃度15000重量ppm,f離子濃度為0重量ppm的ph3.0的水溶液(表1的處理液e)
電解處理液的溫度:40℃
電流密度:4a/dm2
總通電時間:0.3秒(通電時間0.3秒,循環數1次)
然後,針對所得表面處理鋼板1,依據上述方法,進行磷量和鋁量的測定。將結果示於表3。
接著,針對表面處理鋼板1,在溫度190℃下進行10分鐘的熱處理,然後以烘烤乾燥後的塗膜厚成為70mg/dm2的方式塗裝環氧酚醛樹脂系塗料,然後在溫度200℃下進行10分鐘的烘烤,由此得到在表面處理鋼板1上形成覆蓋層40而成的有機材料覆蓋鋼板。接著,針對所得有機材料覆蓋鋼板,依據上述方法,進行塗料密合性評價、耐腐蝕性評價(模擬液)和氧化膜層的生長的評價。將結果示於表3。
《實施例2》
在鍍錫鋼板10上形成磷酸化合物層20時,作為電解處理液,使用分別以濃度10g/l使磷酸溶解、以濃度30g/l使磷酸氫二鈉溶解而成的ph1.8的水溶液(表1的處理液b),除此以外,與實施例1進行相同的操作,製作表面處理鋼板1和有機材料覆蓋鋼板,同樣地進行評價。將結果示於表3。
《實施例3》
將形成磷酸化合物層20時的電解處理的通電時間設為0.3秒,將形成鋁氧化合物層30時的電解處理的通電時間設為0.15秒,除此以外,與實施例2進行相同操作,製作表面處理鋼板1和有機材料覆蓋鋼板,同樣進行評價。
《實施例4》
在鍍錫鋼板10上形成磷酸化合物層20時,作為電解處理液,使用分別以濃度10g/l使磷酸溶解、以濃度30g/l使磷酸二氫鈉溶解的ph2.4的水溶液(表1的處理液c),另外,將形成鋁氧化合物層30時的電解處理的通電時間變更為0.15秒,除此以外,與實施例1進行相同的操作,製作表面處理鋼板1和有機材料覆蓋鋼板,同樣進行評價。將結果示於表3。
《實施例5》
在鍍錫鋼板10上形成磷酸化合物層20時,使用表1的處理液c作為電解處理液,除此以外,與實施例4進行相同的操作,製作表面處理鋼板1和有機材料覆蓋鋼板,同樣進行評價。將結果示於表3。需要說明的是,針對實施例5,進行鋁氧化合物層30中的錫化合物的測定,將使用x射線光電子能譜裝置進行鋁氧化合物層30中的錫化合物的測定時得到的光譜示於圖5(a)。
《實施例6》
在鍍錫鋼板10上形成磷酸化合物層20時,在進行上述陰極電解處理之前,進行僅極性轉換的處理(陽極電解處理),除此以外,在相同的條件下進行陽極電解處理。除此以外,與實施例5進行相同操作,製作表面處理鋼板1和有機材料覆蓋鋼板,同樣進行評價。將結果示於表3。需要說明的是,針對實施例6,進行鋁氧化合物層30中的錫化合物的測定,分別將使用x射線光電子能譜裝置進行鋁氧化合物層30中的錫化合物的測定時得到的光譜示於圖5(b)、將通過表面處理鋼板的截面觀察得到的tem圖像和定量分析結果示於圖8。
《實施例7》
將在鍍錫鋼板10上形成磷酸化合物層20時的電解處理的電流密度、形成鋁氧化合物層30時的電解處理的電流密度、通電時間和循環數變更為如表2所示那樣,除此以外,與實施例6進行相同操作,製作表面處理鋼板1和有機材料覆蓋鋼板,同樣進行評價。需要說明的是,在形成磷酸化合物層20之前,作為前處理,通過浸漬於鹽酸水溶液中,進行去除形成於鍍錫表面的錫氧化膜。將結果示於表3。
《比較例1》
針對實施例1中製作的鍍錫鋼板10,形成磷酸化合物層20後,未形成鋁氧化合物層30,而進行塗料密合性評價、氧化膜層的生長的評價和耐腐蝕性評價(模擬液)。將結果示於表3。
《比較例2》
針對實施例1中製作的鍍錫鋼板10,未形成磷酸化合物層20,而直接在鍍錫鋼板10上直接以與實施例1相同的方法形成鋁氧化合物層30而得到表面處理鋼板。然後,針對所得表面處理鋼板,進行塗料密合性評價、氧化膜層的生長的評價和耐腐蝕性評價(模擬液)。將結果示於表3。
[表3]
《考察》
如表3所示,對於通過對鍍錫鋼板10實施陰極電解處理形成磷酸化合物層20,在該磷酸化合物層20上形成鋁氧化合物層30的實施例1~7,塗料密合性評價、氧化膜層的生長的評價和耐腐蝕性評價(模擬液)的結果均良好,確認到:耐腐蝕性和覆蓋層40的密合性優異、且適於長期使用的金屬容器等用途。
另一方面,如表3所示,對於未形成鋁氧化合物層30的比較例1,氧化膜層的生長的評價結果較差,由此,認為有由氧化膜層的生長導致覆蓋層40的密合性降低的擔心。另外,對於未形成磷酸化合物層20而直接在鍍錫鋼板10形成鋁氧化合物層30的比較例2,確認到:塗料密合性評價和氧化膜層的生長的評價的結果與實施例相比,均較差,覆蓋層40的密合性差。
《實施例8》
形成鍍錫層12時,將總通電時間設為7.5秒,將鍍錫層12的錫量設為11.2g/m2,將磷酸化合物層形成的電解處理、鋁氧化合物層形成的電解處理設為表2中示出的條件,除此以外,與實施例1進行相同的操作,製作表面處理鋼板1。針對所得表面處理鋼板1,依據上述方法,進行脫錫性評價(模擬液)。將結果示於表4。
《比較例3》
形成鍍錫層12時,將總通電時間設為7.5秒,將鍍錫層12的錫量設為11.2g/m2,未形成磷酸化合物層20,而將鋁氧化合物層形成的電解處理設為表2中示出的條件,除此以外,與實施例1進行相同的操作,製作表面處理鋼板。針對所得表面處理鋼板,與實施例14同樣地進行脫錫性評價(模擬液)。將結果示於表4。
《參考例1》
形成鍍錫層12時,將總通電時間設為7.5秒,將鍍錫層12的錫量設為11.2g/m2,製作鍍錫鋼板10。然後,在鍍錫鋼板10的表面上通過電解處理形成鉻氫氧化物,製作表面處理鋼板。針對所得表面處理鋼板,與實施例14同樣地進行脫錫性評價(模擬液)。將結果示於表4。需要說明的是,參考例1相當於現行市售的表面處理鋼板的產品。
[表4]
《考察》
如表4所示,通過對鍍錫鋼板10實施陰極電解處理而形成磷酸化合物層20,在該磷酸化合物層20上形成鋁氧化合物層30的實施例8的殘留sn量為與現行的產品即參考例1等同以上的殘留sn量,此外,與未形成磷酸化合物層20,而在鍍錫鋼板10上直接形成鋁氧化合物層30的比較例3相比較多。由此確認到:在鍍錫鋼板10上僅形成磷酸化合物層20和鋁氧化合物層30而得到的實施例8的表面處理鋼板1即使在不具有覆蓋層40的無塗裝的狀態下,殘留sn量也較多,因此,也適用於耐腐蝕性和耐硫化黑變性優異且無塗裝中使用的金屬容器等用途。
附圖標記說明
1…表面處理鋼板
10…鍍錫鋼板
11…鋼板
12…鍍錫層
20…磷酸化合物層
30…鋁氧化合物層
40…覆蓋層