旋渦撞擊流脫硫除塵裝置的製作方法
2023-09-22 16:10:35
專利名稱：旋渦撞擊流脫硫除塵裝置的製作方法
技術領域：
本實用新型涉及一種廢氣處理裝置，尤其涉及一種溼法廢氣處理的旋渦撞 擊流脫硫除塵裝置。
背景技術：
燃煤鍋爐，燒結爐，窯爐，冶金，化工，建材等領域排放的粉塵和廢氣等 有害物對環境造成嚴重的汙染，環境保護在全世界都得到高度的重視。廢氣中含有多種汙染物，如二氧化疏，氮氧化物，微細粉塵PM10和PM2.5,汞、鉻、 銅等，目前，大量安裝的脫硫脫硝裝置對改善我國的大氣環境起到了重要作用， 而微細粉塵PM10和PM2.5。以及以汞為代表的重金屬汙染也日益得到我國的 重視，而現有的廢氣治理技術處理汙染物種類單一，只能處理其中一種汙染物， 特別是其中的重金屬，主要存在於微細粉塵中，現在的電除塵器，布袋除塵器 等做法對微細粉塵的去除率有限，小於20%，而常規的溼法，如噴淋塔，對微 細粉塵的去除率小於8%,因此，這些裝置對微細粉塵的去除率是很有限的，也 即意味著對廢氣中的重金屬去除率很有有限。此外，噴淋塔的液氣比很大，運 行費用很高，對於我國這樣一個發展中國家來說，難於承受，況且，到目前為 止，國內採用的噴淋塔等脫硫裝置基本上是引進國外技術，國內缺乏擁有自主 創新和自主智慧財產權的脫硫裝置，我國科研院所也投入了大量的人力物力，研 究新型的脫硫裝置。實用新型內容本實用新型的目的是提供一種旋渦撞擊流脫硫除塵裝置，以克服現有廢氣 治理技術處理汙染物種類單一、去除率低、運行費用高的不足。本實用新型的目的是通過以下技術方案來實現一種旋渦撞擊流脫硫除塵裝置，包括貯漿池、均壓室、廢氣處理段，均壓 室底部設有環形均氣環，均壓室中部設有一層預處理噴射層，該預處理噴射層由噴嘴、漿液管道組成，均壓室上方的廢氣處理段內設有託盤，託盤上布置有撞擊流元件，所述撞擊流元件由筒體和旋渦片組成,旋渦片與軸向的夾角為5 85 度；託盤上方設有一層漿液噴射層，該漿液噴射層由噴嘴、漿液管道組成，漿 液噴射層上方設有兩級除霧器。所述均氣環為水平或傾斜布置的鋸齒形、蜂房狀或二者混合型。所述預處理噴射層的噴嘴朝上或同時朝上朝下。所述撞擊流元件的筒體直 徑為25~2000毫米，旋渦片的片數為2-12片；所述漿液噴射層噴嘴朝下噴射。本實用新型具有的有益效果集脫疏除細微粉塵於一體，脫硫效率大於 95%,微細粉塵PM10和PM2.5去除率分別大於90%和80%,除汞效率大於80%; 採用高流速設計，提高了塔內氣流速度，從而使本實用新型的截面積較小，體 積小，成本降低；液氣比小，相比現有技術的液氣比L/G=12~26，本實用新型 的L/G僅為2-9，大大減少了動力消耗，節能效果明顯；利用撞擊元件產生的 旋渦，增加了摻混強度和漿液停留時間，提高了去除率；對噴嘴的粒徑分布要 求低，自由暢通孔徑大，減少了堵塞的可能性，延長了噴嘴的使用壽命；無運 動零部件，提高了運行可靠性。
圖1是本實用新型實施例所述旋渦撞擊流脫硫除塵裝置的結構示意圖； 圖2是撞擊流元件的結構示意圖； 圖3是預處理噴射層結構示意圖； 圖4為漿液噴射層結構示意圖。
具體實施方式
以下結合附圖和具體實施例對本實用新型進一步說明，但不作為對本實用 新型保護範圍的限定。如圖1-4所示，本實用新型實施例所述的旋渦撞擊流脫硫除塵裝置，包括 貯漿池l、均壓室3、廢氣處理段6，均壓室3底部設有環形均氣環2，均壓室 3中部設有一層預處理噴射層，該預處理噴射層由噴嘴10、漿液管道11組成， 均壓室3上方的廢氣處理段6內設有託盤4，託盤4上布置有撞擊流元件5，託 盤4上方設有一層漿液噴射層14,該漿液噴射層由噴嘴13、漿液管道12組成， 漿液噴射層上方設有兩級除霧器7。所述均氣環2水平或傾斜布置的鋸齒形、 蜂房狀或二者混合型。所述預處理噴射層的噴嘴IO可朝上或同時朝上朝下。所 述撞擊流元件5由筒體8和旋渦片9組成，筒體直徑為25-2000毫米，旋渦片 與軸向夾角為5 85度，旋渦片9的片數為2-12片；所述漿液噴射層14經噴嘴 13朝下噴射。本實用新型處理廢氣的過程如下廢氣由入口進入均壓室，均氣環對氣體 進行均布處理，由預處理噴射層噴出的漿液對廢氣進行處理，廢氣得到冷卻， 粉塵初步凝聚，二氧化硫得到部分淨化，單質汞得到氧化，然後廢氣進入旋渦 撞擊流元件，進一步強化物化過程，在此元件內，二氧化硫，粉塵，單質汞， 等重金屬得到充分的淨化，經過淨化後的廢氣在經除霧器7除去霧滴，由出口 排出。
權利要求1、一種旋渦撞擊流脫硫除塵裝置，包括貯漿池、均壓室、廢氣處理段，其特徵在於所述均壓室底部設有環形均氣環，所述均壓室中部設有一層預處理噴射層，該預處理噴射層由噴嘴、漿液管道組成；所述均壓室上方的廢氣處理段內設有託盤，託盤上布置有撞擊流元件，所述撞擊流元件由筒體和旋渦片組成，旋渦片與軸向的夾角為5～85度；所述託盤上方設有一層漿液噴射層，該漿液噴射層由噴嘴、漿液管道組成；所述漿液噴射層上方設有兩級除霧器。
2、 根據權利要求1所述的旋渦撞擊流脫硫除塵裝置，其特徵在於所述均 氣環為水平或傾斜布置的鋸齒形、蜂房狀或二者混合型。
3、 根據權利要求1或2所述的旋渦撞擊流脫硫除塵裝置，其特徵在於所 述撞擊流元件的筒體直徑為25-2000毫米，旋渦片的片數為2-12片。
4、 根據權利要求1或2所述的旋渦撞擊流脫^f克除塵裝置，其特徵在於所 述預處理噴射層的噴嘴朝上或同時朝上朝下。
5、 根據權利要求1或2所述的旋渦撞擊流脫硫除塵裝置，其特徵在於所 述漿液噴射層噴嘴朝下噴射。
專利摘要本實用新型涉及一種旋渦撞擊流脫硫除塵裝置，包括貯漿池、均壓室、廢氣處理段，均壓室底部設有環形均氣環，均壓室中部設有一層預處理噴射層，該預處理噴射層由噴嘴、漿液管道組成，均壓室上方的廢氣處理段內設有託盤，託盤上布置有撞擊流元件，所述撞擊流元件由筒體和旋渦片組成，旋渦片與軸向的夾角為5～85度；託盤上方設有一層漿液噴射層，該漿液噴射層由噴嘴、漿液管道組成，漿液噴射層上方設有兩級除霧器。本實用新型具有的有益效果集脫硫除細微粉塵於一體，脫硫效率大於95％，微細粉塵PM10和PM2.5去除率分別大於90％和80％，除汞效率大於80％；成本降低；減少了堵塞的可能性，延長了噴嘴的使用壽命；無運動零部件，提高了運行可靠性。
文檔編號B01D47/06GK201120251SQ20072019555
公開日2008年9月24日 申請日期2007年11月2日 優先權日2007年11月2日
發明者斌 劉, 劉顯榮, 劉燕玲, 陳海中 申請人:北京中航泰達科技有限公司