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一種抗高壓組合泛塞密封圈的製作方法

2023-09-22 18:42:55 1


本實用新型涉及密封裝置領域,特別是涉及一種抗高壓組合泛塞密封圈。



背景技術:

近年來隨著石油、頁巖氣的快速發展,在超低溫行業如LNG、LPG、LEG等,一般要求設備的耐低溫性能在-196°C~120°C之間,壓力最高可達200Mpa。因此對超低溫設備如閘閥、止回閥、球閥等的可靠性、適應性、穩定性和密封性要求也越來越高。

密封圈做為超低溫設備一個不可或缺的主要部件,對超低溫設備可靠性、穩定性的保證起著重要作用。而目前國內外超低溫設備密封的設計主要依據API-6D-2008和英國BS6364標準來執行。市面上各類密封圈在超低溫設備下使用時容易導致氣體洩漏,密封效果不佳,雖然許多廠家對密封的結構和材料性能進行了優化、改進,取得了一些成效,但並未達到超低溫設備所需的條件,因此研究開發低溫閥門密封件,是大科學工程等科研裝備應用和發展的重要保證,具有非常重要的科學和實際意義。

現有的密封圈在超低溫設備中遭受壓力時,容易擠入設備空隙內造成密封圈損壞。



技術實現要素:

本實用新型的目的在於提供一種能更好的適應超低溫環境且不易損壞的抗高壓組合泛塞密封圈。

本實用新型所採取的技術方案是:

一種抗高壓組合泛塞密封圈,包括一內部設有彈簧圈的密封殼和至少一密封擋圈,密封擋圈位於密封殼的內周或者外周,密封擋圈的橫截面設有一相對徑向傾斜的密封圈斜面,密封殼包括位於外部且頂端開口的殼體和位於殼體的開口內的彈簧圈,密封擋圈上的密封圈斜面與密封殼的殼體表面或者另一密封擋圈上的密封圈斜面接觸。

進一步作為本實用新型技術方案的改進,彈簧圈包括內彈簧和包裹於內彈簧外的外彈簧。

進一步作為本實用新型技術方案的改進,殼體包括位於上部的U型開口和位於U型開口下方的殼底座。

進一步作為本實用新型技術方案的改進,殼體為PTFE材質。

進一步作為本實用新型技術方案的改進,殼底座的底部設有一與密封圈斜面傾斜角度相同的殼底斜面,密封圈斜面與殼底斜面相對設置。

進一步作為本實用新型技術方案的改進,殼底座的底部為水平設置,位於殼底座的底部設有相對設置的兩密封擋圈,兩密封擋圈的密封圈斜面相對設置。

本實用新型的有益效果:此抗高壓組合泛塞密封圈通過密封殼和至少一密封擋圈組合形成,並使得組合形成的密封圈中,各組合件中至少存在一沿徑向的斜面接觸,從而在組合密封圈遭受擠壓時,能通過密封擋圈間或者密封擋圈與密封殼之間的相對滑動來洩壓,並增加組合密封圈的相對寬度,防止各組合件被擠入設備空隙內,從而更適應超低溫工作環境,且達到更好的使用壽命。

附圖說明

下面結合附圖對本實用新型作進一步說明:

圖1是本實用新型第一實施例剖面結構示意圖;

圖2是本實用新型第二實施例剖面結構示意圖;

圖3是本實用新型各實施例中密封殼結構示意圖。

具體實施方式

參照圖1~圖3,本實用新型為一種抗高壓組合泛塞密封圈,包括一內部設有彈簧圈1的密封殼2和至少一密封擋圈3,密封擋圈3位於密封殼2的內周或者外周,密封擋圈3的橫截面設有一相對徑向傾斜的密封圈斜面31,密封殼2包括位於外部且頂端開口的殼體21和位於殼體21的開口內的彈簧圈1,密封擋圈3上的密封圈斜面31與密封殼2的殼體21表面或者另一密封擋圈3上的密封圈斜面31接觸。

此抗高壓組合泛塞密封圈通過密封殼2和至少一密封擋圈3組合形成,並使得組合形成的密封圈中,各組合件中至少存在一沿徑向的斜面接觸,從而在組合密封圈遭受擠壓時,能通過密封擋圈3間或者密封擋圈3與密封殼2之間的相對滑動來洩壓,並增加組合密封圈的相對寬度,防止各組合件被擠入設備空隙內,從而更適應超低溫工作環境,且達到更好的使用壽命。

作為本實用新型優選的實施方式,彈簧圈1包括內彈簧12和包裹於內彈簧12外的外彈簧11。

內彈簧12和外彈簧11複合製作的彈簧圈1為組合密封圈提供預緊力,通過密封擋圈3與殼體21設計為三角配合面或者雙密封擋圈3件的斜面配合達到閥門在-196℃低溫,壓力42Mpa狀態下防止密封件擠出現象,實現密封效果,填補了國內密封行業內泛塞高壓密封的空白。

彈簧圈1在密封狀態時壓縮變形,利用其回彈性提供密封應力,材料為耐低溫合金彈簧,O型螺旋狀。彈簧為雙層結構,經過液氮深冷處理,內外層採用特殊工藝焊接。

作為本實用新型優選的實施方式,殼體21包括位於上部的U型開口和位於U型開口下方的殼底座22。

作為本實用新型優選的實施方式,殼體21為PTFE材質。

作為本實用新型優選的實施方式,殼底座22的底部設有一與密封圈斜面31傾斜角度相同的殼底斜面,密封圈斜面31與殼底斜面相對設置。

作為本實用新型優選的實施方式,殼底座22的底部為水平設置,位於殼底座22的底部設有相對設置的兩密封擋圈3,兩密封擋圈3的密封圈斜面31相對設置。

組合密封圈內斜面接觸的設置可通過以上兩種形式實現,密封殼2上設置了殼底斜面的殼底座22與單個的密封擋圈3間的接觸形式,或者未設置殼底斜面的密封殼2與兩密封圈斜面31相對設置的密封擋圈3的設置形式,均在本專利的保護範圍內。

當然,本發明創造並不局限於上述實施方式,熟悉本領域的技術人員在不違背本實用新型精神的前提下還可作出等同變形或替換,這些等同的變型或替換均包含在本申請權利要求所限定的範圍內。

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