用於鐳射壓印蒸鍍的雙向拉伸聚丙烯基膜的製作方法

2023-12-03 07:16:11 2

專利名稱：用於鐳射壓印蒸鍍的雙向拉伸聚丙烯基膜的製作方法
技術領域：
本實用新型涉及一種新型用途的聚丙烯基膜，特別是用於鐳射壓印蒸鍍的雙向拉伸聚丙烯基膜。利用此種基膜可以加工出具有鐳射效果的產品，從而達到對被包裝商品裝飾、裝璜或防偽效果。
上表層、下表層的厚度分別為基膜厚度的10％-12％。
本實用新型的優點是，由於它結構合理，設計新穎，可以直接進行鐳射壓印蒸鍍，其不但可以滿足用戶所要求的鐳射效果和蒸鍍效果，同時大大降低了產品的成本。
圖2，本實用新型的橫向結構剖示圖。
如


圖1、圖2所示，本實用新型由上表層1、芯層2、下表層3構成，上表層1、芯層2、下表層3通過設備熱熔、共擠形成一體，芯層2位於上表層1、下表層3之間，其中，上表層1為鐳射壓印蒸鍍層。上表層1、下表層3的厚度分別為基膜厚度的10％-12％。此種基膜所採用的材質主要為聚丙烯塑料。
基膜可以據用戶的不同的要求，分切成不同規格尺寸(長度和寬度)的成品。也可以利用不同雙向拉伸工藝生產出不同厚度的基膜。
權利要求1.用於鐳射壓印蒸鍍的雙向拉伸聚丙烯基膜，其特徵在於，基膜由上表層(1)、芯層(2)、下表層(3)構成，上表層(1)、芯層(2)、下表層(3)通過熱熔、共擠成為一體，芯層(2)位於上表層(1)、下表層(3)之間，上表層(1)為壓印蒸鍍層。
2.根據權利要求1所述的用於鐳射壓印蒸鍍的雙向拉伸聚丙烯基膜，其特徵在於，上表層(1)、下表層(3)的厚度分別為基膜厚度的10％-12％。
專利摘要用於鐳射壓印蒸鍍的雙向拉伸聚丙烯基膜。基膜由上表層、芯層、下表層構成，上表層、芯層、下表層通過熱熔共擠成為一體。上表層為壓印蒸鍍層。基膜的上表層、下表層的厚度分別為基膜厚度的10％－12％。可以直接進行鐳射壓印蒸鍍。
文檔編號B32B27/06GK2535228SQ02228078
公開日2003年2月12日 申請日期2002年1月11日 優先權日2002年1月11日
發明者欒德海, 江暢, 陳德超, 褚峰林 申請人:中包雲夢塑料薄膜廠