電鍍氧化鋁的新工藝的製作方法
2023-06-01 05:19:31 3
專利名稱：電鍍氧化鋁的新工藝的製作方法
技術領域：
本發明屬於鍍膜工藝，更具體的說本發明涉及電鍍氧化鋁的新工藝。
背景技術：
低紅外反射率材料在國防以及其他工業部門有著特殊的用途，現有的低紅外反射材料多為半導體材料，如三氧化銦、銻化銦等，它們是以重摻雜法製造而成，其中是以過剩載流子的濃度變化影響材料的反射率。這類材料一般在最小反射率波』長處的紅外反射率為3～45％，反射率仍然偏高，而且材料製造工藝複雜，生產成本高。
發明內容
本發明的目的是克服現有技術中的不足，提供一種新型氧化鋁鍍膜的方法。該發明製造工藝簡單，生產成本低。並且可根據需要使材料在整個紅外波段的某個局部波長範圍具有極低的紅外反射率。
為達到上述目的，本發明可通過下述技術方案加以實現所述的發明材料，它是以鋁板為基材，在其表面氧化鍍覆氧化鋁薄膜構成，包括廠列步驟(一)水清洗鋁板去汙；(二)酸鹼處理去油；(三)氧化鍍膜處理，電解液按重量百分比採用1～40％的磷酸水溶液然後加入0。2～10g/L的檸檬酸以及乙二胺添加劑；(四)在上述電解液中，室溫下25～35分鐘。
本發明的有益效果是具有明顯的工藝簡單，製造成本低的優點，按此方法製造的低紅外反射率，對波長為02～25皿m範圍的紅外光，平均反射率低於1.5％，與半導體低紅外反射率材料相比，不僅反射率大大降低，而且相應波長範圍也大大拓寬了。
具體實施例方式
本發明的實施過程包括兩方面，一方面是鋁板基材的處理，另一方面是電解液的配製.鋁板的處理首先是去汙去油，然後水洗，鹼處理，再水洗，酸處理，把按上述步驟處理完畢的鋁板置入電解液中，通過直流電或是交流電，電壓一般要恆壓控制在10～130V，溫度控制在20～40』C進行操作。電解液的配製是至關重要的，它是由無機酸水溶液與添加劑所組成。無機酸的種類及濃度的大小不僅決定著氧化處理所施加的電壓的高低和模式，而且直接影響形成氧化鋁膜層的組成及結構，從而決定了所製造材料的紅外反射率。一般而言，磷酸和鉻酸體系溶液中氧化處理的電壓較高，並且隨著施加電壓的升高，所製造的材料紅外反射率降低，材料的紅外反射率特性通常表現為在某個局部紅外波長範圍的反射率極低，而在其餘的紅外波長範圍仍保持相當高的紅外反射率。在硫酸體系溶液中氧化處理的電壓偏低，所製造材料的紅外反射率特性表現為在全部紅外波長範圍具有極低的紅外反射率。電解液的種類與施加電壓的高低，對氧化鋁膜多孔結構的孔徑大小也有著直接影響。在酸液中加入添加劑，有助於提高膜的均質性和改善膜層的組成和結構，更有利於進一步降低材料紅外反射率。
下面通過實施例對本發明作進一步說明例一純鋁板100×60×2mm；電解液組成hPo1～8wt％乙二胺05～5g/L操作條件純鋁板作陽極，Ti基鍍Pt網作陰極，電解電壓為直流60～110V，22～24度氧化處理28分鐘。
按上述工藝處理後可在鋁板表面生成厚約10皿m的氧化鋁膜，經測定在8～14Llm，波段的平均紅外反射率小於2％，而在其餘波段的紅外反射率平均大於90％。
例二純鋁板100×60×2mm；電解液組成hPo13～25wt％檸檬酸0 2～3g/L；操作條件陰，陽極均用鋁合金板，電解電壓為直流10～40V，20～23*C氧化處理35分鐘。
按上述工藝處理後可在鋁板表面生成厚約10皿m的氧化鋁膜，經測定在0.2～25Llm，波段的平均紅外反射率小於1.5％，而在其餘波段的紅外反射率平均大於90％。
權利要求
1電鍍氧化鋁的新工藝，包括下列步驟(一)水清洗鋁板去汙；(二)酸鹼處理去油；(三)氧化鍍膜處理，電解液按重量百分比採用1～40％的磷酸水溶液然後加入0.2～10g/L的檸檬酸以及乙二胺添加劑；(四)在上述電解液中，室溫下25～35分鐘。
全文摘要
本發明公開了電鍍氧化鋁的新工藝，包括下列步驟(一)水清洗鋁板去汙；(二)酸鹼處理去油(三)氧化鍍膜處理，電解液按重量百分比採用1～40％的磷酸水溶液然後加入0.2～10g幾的檸檬酸以及乙二胺添加劑；(四)在上述電解液中，室溫下25－35分針。本發明具有明顯的工藝簡單，製造成本低的優點，可在國防以及工業中廣泛應用。
文檔編號C25D11/04GK1635190SQ200310122019
公開日2005年7月6日 申請日期2003年12月31日 優先權日2003年12月31日
發明者劉再生 申請人:劉再生