一種用於真空熔煉傳動機構的磁性流體密封裝置製造方法

2023-05-29 02:01:01 1

一種用於真空熔煉傳動機構的磁性流體密封裝置製造方法
【專利摘要】一種用於真空熔煉傳動機構的磁性流體密封裝置，包括同軸殼體、磁鐵、位於磁鐵兩側的環形磁極、傳動軸以及用於固定傳動軸與同軸殼體的軸承，所述磁鐵設在傳動軸的兩側，所述軸承設在環形磁極的兩端，所述環形磁極與傳動軸之間低真空側的密封間隙呈階梯式變動，所述高真空側的密封間隙是低真空密封間隙的1.2倍，還包括散熱環，所述環形磁極的側壁外表面設有2～4個散熱環；本實用新型的有益效果為：真空密封穩定性高，磁性流體密封裝置使用壽命長，經濟效益顯著。
【專利說明】一種用於真空熔煉傳動機構的磁性流體密封裝置

【技術領域】
[0001] 本實用新型涉及一種工程元件或部件的密封裝置，具體來說是涉及一種用於真空 熔煉傳動機構的磁性流體密封裝置。

【背景技術】
[0002] 磁性流體真空傳動裝置是一種把旋轉運動傳入真空容器的裝置，其基本構成為一 個永久磁場，兩個磁極，一個磁性轉動軸和磁性流體；傳動軸是一個多極結構，由磁極和轉 軸組成；在每級環形間隙中，充滿了磁性流體。磁流體密封具有：壽命長、可靠性高、無汙染 和密封效果好等特性；目前，現有的用於真空熔煉傳動結構的真空密封穩定性不高，由於真 空熔煉的溫度較高，導致磁性流體密封裝置的使用壽命較短，不易更換，大大增加了生產成 本。 實用新型內容
[0003] 本實用新型的目的是為了提供一種真空密封性能穩定，使用壽命長的用於真空熔 煉傳動機構的磁性流體密封裝置。
[0004] 為了達到本實用新型的目的，技術方案如下：
[0005] -種用於真空熔煉傳動機構的磁性流體密封裝置，包括同軸殼體、磁鐵、位於磁鐵 兩側的環形磁極、傳動軸以及用於固定傳動軸與同軸殼體的軸承，所述磁鐵設在傳動軸的 兩側，所述軸承設在環形磁極的兩端，其特徵在於：所述環形磁極與傳動軸之間低真空側的 密封間隙呈階梯式變動，所述高真空側的密封間隙是低真空密封間隙的1. 2倍，還包括散 熱環，所述環形磁極的側壁外表面設有2?4個散熱環。
[0006] 作為優選的技術方案：所述低真空側的密封間隙為0. 25mm，所述高真空側的密封 間隙為〇. 3mm。
[0007] 作為優選的技術方案：所述傳動軸表面覆有一層鋁鋅合金鍍層，所述鍍層的厚度 為 0· 01mm ?0· 02mm。
[0008] 作為優選的技術方案：所述磁鐵與同軸殼體之間的銜接位置設有臺階狀軸端，所 述軸端內設有冷卻水管道，所述冷卻水管道與同軸殼體的相對位置設有冷卻水進口和冷卻 水出口。
[0009] 本實用新型的有益效果為：真空密封穩定性高，磁性流體密封裝置使用壽命長，經 濟效益顯著。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0010] 圖1為本實用新型的結構示意圖；
[0011] 圖2為本實用新型的局部放大結構示意圖。
[0012] 圖中：1-同軸殼體、2-磁鐵、3-環形磁極、4-磁性傳動軸、5-軸承、6-密封間隙、 7_散熱環、8-鍍層、9-軸端、10-冷卻水管道、11-冷卻水進口、12-冷卻水出口。

【具體實施方式】
[0013] 下面結合實施例對本實用新型作進一步描述，但本實用新型的保護範圍不僅僅局 限於實施例。
[0014] 如圖1?2所不，一種用於真空烙煉傳動機構的磁性流體密封裝置，包括同軸殼體 1、磁鐵2、位於磁鐵2兩側的環形磁極3、傳動軸4以及用於固定傳動軸4與同軸殼體1的 軸承5,磁鐵2設在傳動軸4的兩側，軸承5設在環形磁極3的兩端，環形磁極3與傳動軸4 之間低真空側的密封間隙6呈階梯式變動，高真空側的密封間隙6是低真空密封間隙6的 1. 2倍，還包括散熱環7,環形磁極3的側壁外表面設有2?4個散熱環7。
[0015] 低真空側的密封間隙6為0. 25mm，高真空側的密封間隙6為0. 3mm ;傳動軸4表面 覆有一層鋁鋅合金鍍層8,鍍層8的厚度為0. 01mm?0. 02mm ;磁鐵2與同軸殼體1之間的 銜接位置設有臺階狀軸端9,軸端9內設有冷卻水管道10,冷卻水管道10與同軸殼體1的 相對位置設有冷卻水進口 11和冷卻水出口 12。
[0016] 最後應說明的是：以上實施例僅用以說明本實用新型而並非限制本實用新型所 描述的技術方案，因此，儘管本說明書參照上述的各個實施例對本實用新型已進行了詳細 的說明，但是，本領域的普通技術人員應當理解，仍然可以對本實用新型進行修改或等同替 換，而一切不脫離本實用新型的精神和範圍的技術方案及其改進，其均應涵蓋在本實用新 型的權利要求範圍中。
【權利要求】
1. 一種用於真空熔煉傳動機構的磁性流體密封裝置，包括同軸殼體（1)、磁鐵（2)、位 於磁鐵（2)兩側的環形磁極（3)、傳動軸（4)以及用於固定傳動軸（4)與同軸殼體（1)的軸 承（5)，所述磁鐵（2)設在傳動軸（4)的兩側，所述軸承（5)設在環形磁極（3)的兩端，其 特徵在於：所述環形磁極（3)與傳動軸（4)之間低真空側的密封間隙（6)呈階梯式變動，高 真空側的密封間隙（6)是低真空密封間隙（6)的1.2倍，還包括散熱環（7)，所述環形磁極 (3)的側壁外表面設有2?4個散熱環（7)。
2. 根據權利要求1所述的一種用於真空熔煉傳動機構的磁性流體密封裝置，其特徵在 於：所述低真空側的密封間隙（6)為0. 25mm，所述高真空側的密封間隙（6)為0. 3mm。
3. 根據權利要求1所述的一種用於真空熔煉傳動機構的磁性流體密封裝置，其特徵 在於：所述傳動軸（4)表面覆有一層鋁鋅合金鍍層（8)，所述鍍層（8)的厚度為0.01mm? 0. 02mm。
4. 根據權利要求1所述的一種用於真空熔煉傳動機構的磁性流體密封裝置，其特徵在 於：所述磁鐵（2)與同軸殼體（1)之間的銜接位置設有臺階狀軸端（9)，所述軸端（9)內 設有冷卻水管道（10)，所述冷卻水管道（10)與同軸殼體（1)的相對位置設有冷卻水進口 (11)和冷卻水出口（12)。
【文檔編號】F16J15/43GK203868342SQ201420253203
【公開日】2014年10月8日 申請日期:2014年5月16日 優先權日:2014年5月16日
【發明者】小林宏之 申請人:埃慕迪磁電科技(上海)有限公司