一種高效防偽掩模式雷射打標裝置的製作方法
2023-05-30 00:41:46 2
專利名稱：一種高效防偽掩模式雷射打標裝置的製作方法
技術領域：
本發明涉及一種雷射打標裝置，特別是一種可同時打出正、負版標記的高效防偽掩模式雷射打標裝置。它適用於煙、酒、醫藥、化妝等商品的防偽打標。
通常使用的掩模式雷射打標機，其結構是由雷射發射、振蕩、放大電路、位於該電路輸出端的掩模板、與光軸成45°夾角的全反射鏡、位於光軸下部的透鏡所構成的雷射打標部分及電控、冷卻部分構成。而雷射發射、振蕩、放大電路主要由依次設置並位於同一水平軸線上的雷射器、後腔、調Q晶體、布儒斯特窗口、前腔、雷射振蕩器、雷射放大器、倍頻晶體、擴束鏡構成。該打標機工作時是將雷射器所發出的雷射束進行放大，並將透過掩模板空隙部分的高強度雷射經過反射、聚焦後將其打在位於透鏡下部的標記工件上，由於僅能打出一個標記，故防偽性能較差，又由於該類打標機中採用的為一與光軸垂直的金屬掩模板，故被掩模板遮擋部分的雷射因通不過也將會白白的損耗掉。
本發明的目的在於提供一種高效防偽掩模式雷射打標裝置，它既可充分利用雷射能量進行打標，提高打標效率，還可使打出的雷射標記具有較高的防偽性。
其具體解決方案是在擴束鏡後設置的為一掩模鏡，並且，該掩模鏡與光軸成45°設置，而掩模鏡後設置有一與該掩模鏡平行設置的全反射鏡，位於掩模鏡及全反射鏡下部分別設置有一透鏡，這樣可使透過掩模鏡的雷射束通過全反射鏡和透鏡將雷射標記打在工件上，而未通過部分可經掩模鏡反射並通過對應的透鏡將一與通過掩模鏡的雷射束形成的正板標記互補的負板雷射標記也同時打在工件上。
另則，當被打工件對雷射吸收率較高、雷射能量較大時，可將掩模鏡和與其對應的透鏡間、掩模鏡後設置的全反射鏡和與其對應的透鏡間分別設置一與光軸成45°的半透半反分光鏡，並在兩半透半反分光鏡的兩側分別設置一與光軸成45°的全反鏡，兩全反鏡的下部分別設置一與光軸正交並且下部可放置被打標記工件的聚焦透鏡。從而可利用雷射器射出的一束雷射同時打出兩個正版和兩個負版標記。
再則，所述掩模鏡雷射透射部位的鏡面上設置的為高增透膜，而掩膜鏡的雷射反射部位的鏡面上設置的為高反射膜。
本發明由於採用與光軸成45°設置的掩模鏡，以及在掩膜鏡的雷射束透射及反射部分的鏡面上分別設置有高增透膜和高反射膜，從而使該打標裝置的雷射能量既得以充分利用，又可在被打工件上形成可嚴格互補的正版及負版標記，大大提高了產品的防偽性能。又由於可通過打標裝置中設置的兩半透半反分光鏡將經掩模鏡反射或透射的雷射束分別分為兩部分，故利用一束雷射，可同時打出兩個正版以及與兩個正版嚴格互補的負版標記，既提高了打標效率，又大大降低了打標機的投入成本。
下面通過實施例結合附圖對本發明進行詳細描述
圖1為本發明實施例1的結構示意圖。
圖2為本發明實施例2的結構示意圖。
實施例1圖1中，打標裝置的電控及冷卻部分均安裝在下部機體(6)內，雷射器(1)、後腔鏡(2)、調Q晶體(3)、諧振器(4)、雷射振蕩器(5)、前腔(7)、雷射放大器(8)、倍頻晶體(9)、擴束鏡(10)、掩模鏡(11)、全反射鏡(13)依次固定連接在上部機體內，並由它們構成雷射發射、振蕩、放大電路，而掩模鏡(11)及全反射鏡(13)與雷射器發射的雷射光軸成45°設置，掩模鏡(11)和全反射鏡(13)的下部分別為一固定在支撐架上、並與雷射器光軸正交的透鏡(12)、(14)。並且，掩模鏡(11)上，雷射透射部分的鏡面上塗鍍的為高增透膜，雷射反射部分的鏡面上塗鍍的為高反射膜。
使用時，可將該打標裝置的輸出雷射部位透鏡(12)、(14)置於輸送被打工件傳輸機構的上部，當被打工件送至透鏡下部時，由雷射器發射、振蕩、放大電路射出的雷射束一部分可經掩模鏡的透射部分通過全反射鏡(13)和透鏡(14)將標記打在工件上，而另一部分經掩模鏡反射部分通過透鏡(12)聚焦後同時將其形成的雷射標記也打在工件上，從而構成一為正版、一為負版，並且可嚴格互補的兩雷射標記。
實施例2圖2中，在掩模鏡(11)與透鏡(12)之間、全反射鏡(13)與透鏡(14)之間的機架上安裝有一分別與透鏡(12)、(14)的光軸成45°設置的半透半反分光鏡(15)、(18)，兩半透半反分光鏡兩側的機架上分別固定有與半透半反分光鏡(15)平行的全反射(16)，與半透半反分光鏡(18)平行的全反鏡(19)。並且，在兩全反鏡(16)、(19)的正下方分別設置有一聚焦透鏡(17)和(20)，其餘結構與實施例1相同。
工作時，經掩模鏡(11)反射的雷射束可經半透半反分光鏡(15)分為兩部分，分別經透鏡(17)、(12)聚焦後將兩個相同的標記打在工件上，而經掩模鏡(11)透射的雷射束同樣也可利用半透半反分光鏡(18)將光束分為兩部分，在工件上同時打出兩個與經掩模鏡反射的雷射束打出的標記互補的雷射標記。
權利要求
1.一種高效防偽掩模式雷射打標裝置，包括雷射打標部分，其特徵在於雷射打標部分中雷射發射、振蕩、放大電路輸出端的擴束鏡(10)後設置的為一掩模鏡(11)，並且，該掩模鏡與光軸成45°設置，而掩模鏡後設置有一與該掩模鏡平行設置的全反射鏡(13)，位於掩模鏡(11)及全反射鏡(13)下部分別設置有一透鏡(12)、(14)。
2.根據權利要求1所述的一種高效防偽掩模式雷射打標裝置，其特徵在於掩模鏡(11)和與其對應的透鏡(12)間、掩模鏡後設置的全反射鏡(13)和與其對應的透鏡(14)間分別設置有一與光軸成45°的半透半反分光鏡(15)、(18)，並在兩半透半反分光鏡(15)、(18)的兩側分別設置一與光軸成45°的全反鏡(16)、(19)，兩全反鏡(16)、(19)的下部分別設置一與光軸正交並且下部可放置被打標記工件的聚焦透鏡(17)、(20)。
3.根據權利要求1或2所述的一種高效防偽掩模式雷射打標裝置，其特徵在於掩模鏡(11)雷射透射部位的鏡面上設置的為高增透膜，而掩模鏡的雷射反射部位的鏡面上設置的為高反射膜。
全文摘要
一種高效防偽掩模式雷射打標裝置,其特徵在於擴束鏡後設置的為一與光軸成45°設置、並且其上不同部位設置有高增透及高反射膜的掩模鏡,而經掩模鏡透射及反射的兩光路中分別設置有一半透半反分光鏡。工作時,由於雷射束可通過掩模鏡形成兩種可互補正、負雷射標記的雷射束,而該雷射束又可利用半透半反分光鏡使其同時打出兩個正版及兩個負版標記,故它不僅充分利用了雷射能量,大大提高了打標效率,而且所打標記的防偽性能較高。
文檔編號B65B61/02GK1277133SQ99108138
公開日2000年12月20日 申請日期1999年6月10日 優先權日1999年6月10日
發明者曲巖, 秦玉英, 吳建良 申請人:吳建良, 曲巖, 秦玉英